TWI254342B - Apparatus for mounting semiconductor chips - Google Patents

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TWI254342B TW092106019A TW92106019A TWI254342B TW I254342 B TWI254342 B TW I254342B TW 092106019 A TW092106019 A TW 092106019A TW 92106019 A TW92106019 A TW 92106019A TW I254342 B TWI254342 B TW I254342B
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Description

1254342 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) (一) 發明所屬之技術領域 本發明關於安裝半導體晶片之裝置。 (二) 先前技術 對於許多應用,半導體晶片要安裝到稱做引線框架的金 屬基板上。爲此,引線框架存放在儲料容器或堆疊(stack) 中存放時,通過機械手從其中移走引線框架並供應到稱做 晶片焊接機的自動組裝設備的輸送系統,輸送系統將引線 框架一個接一個地輸送到塗覆黏接劑或焊料的分配和安裝 半導體晶片的黏接台。 當引線框架堆疊存放時,通常移走時,兩個引線框架黏 接在一起,而不是單個引線框架,兩個引線框架係被移動 並輸送到輸送系統。爲了檢測出這種錯誤,測定輸送到輸 送系統的引線框架的厚度。這通常藉採樣針以機械方式測 定。當測量的厚度超過預定的最大値時,此即意指移動了 兩個引線框架。由此,機械手被命令從輸送系統移動引線 框架並將它們送到廢料箱。這種類型的檢查具有檢測出錯 誤滯後的不足之處。需要花費時間從輸送系統上移動黏接 在一起的兩個引線框架,並提供一個新的引線框架,會降 低生產量。 (三) 發明內容 本發明的目的是改善引線框架的移動和檢查。 本發明包括所給申請專利範圍第1項之特徵,及由附屬 1254342 項中顯示有利再設計。 根據本發明,使用感應感知器確定移動的一個基板或多 個基板的厚度。爲此,本發明利用了感應距離測量,當金 屬物體在它的磁場附近移動時,施加有交流電流的線圈的 歐姆電阻及/或電感改變。對於本發明,感知器包括以一定 ' 間距排列的兩個線圈。從裝載台移走之後立刻測量移走的 -一個基板或多個基板的厚度。以此方式,基板的一端移動 穿透兩個線圈之間形成的間隙。線圈優選使用平線圈,測 量從它們的區域到面向平線圈的基板表面的平均距離。兩 ® 個線圈可以相互獨立工作,由此每個線圈可以同時作爲激 磁線圈和接收線圈。然後將來自兩個線圈的信號相加並計 算共同信號。或者兩個線圈以串聯電氣連接。此時,僅產 生一個信號,然後被進一步處理並計算。當計算得出僅有 一個基板被拾取時,基板被輸送到輸送系統,輸送系統依 次(in steps)將基板輸送到塗覆黏接劑或焊料的分配或焊 接台並輸送到安裝半導體晶片的黏接台。當計算得出不止 φ 一個基板被拾取時,基板被輸送到廢料箱。 高頻交流電施加到每個平線圈,因此產生了高頻磁場。 將交流電的頻率f選擇得較高,以便基板的面對金屬表面 中的磁場穿透深度明顯小於基板的厚度。穿透厚度(5由表 面效應得到,可以根據以下方程計算
其中μ表示導磁率,σ表示金屬表面的導電性。施加高頻f 1254342 用於以下電技術原因:由於,通常平線圈的感應率L很低 ,平線圈和電容器一起形成振盪電路,只有當振盪電路的 諧振頻率很高時電容器的電容値C才可以獲得的合理値。
實際上,1 Ο Μ Η z區域中的頻率f本身已證實。平線圈的輸 出信號例如爲由平線圈和電容器形成的振盪電路的諧振頻 ' 率,或者爲施加到平線圈的交流電壓的振幅,或者爲施加 · 到平線圈的交流電壓的相移或者爲直接來自平線圈的另一 信號。一方面,平線圈因此用於產生磁交流場以及獲得由 面向平線圈的基板表面施加到磁場的效果。 I 如果兩個線圈以串聯電氣連接合倂一起類似於單個線圈 工作,僅產生一個輸出信號是由於在本實施例中串聯連接 的兩個線圈得到’’總和形態’’。 也可以利用本發明以便簡化對於新產品晶片焊接機的改 裝。之後晶片焊接機與資料庫相互交換資料記錄,每個資 料記錄表示晶片焊接機上要處理的產品。每個資料記錄具 有表徵屬於產品的基板的特性資料,由此學習階段期間藉 φ 感知器獲取這些資料。此外,每個資料記錄具有設置用於 產品的機器參數。當從一個產品轉換爲資料記錄已存在於資 料庫中的新產品時,現在晶片焊接機設置爲初始化模式以便 a)藉感知器獲取屬於新產品的基板的特性資料, b )建立資料記錄,它的特性資料對應於已測量基板的確 定的特性資料,以及 c)下載用於建立的資料記錄的機器參數。 現在可以開始製造。 1254342 (四)實施方式 第1圖示出了用於安裝半導體晶片的裝置的示意性平面 圖,就便於理解本發明而言,稱做晶片焊接機。晶片焊接 機包括裝載台1,在其上存放有要裝配半導體晶片的基板2 。在例子中,基板2相互堆疊。此外,晶片焊接機還包括 廢料箱3、第一和第二輸送系統4和5、分配或焊接台6、 黏接台7以及用於確定從裝載台1移走的基板2數量的感 知器8。第一輸送系統4具有在y方向中可向前或向後移 動的夾持器9,夾持器將基板2 —個接一個地從裝載台1 移走,並在y方向中輸送它們穿過感知器8並將它們輸送 到廢料箱3或第二輸送系統5。第二輸送系統5將基板2 依次輸送到塗覆部分黏接劑或焊料的分配或焊接台6並輸 送到黏接半導體晶片的黏接台7。 第2圖示出了沿第1圖的線I -1的感知器8的剖面圖。 感知器8具有以間距D相互排列的兩個線圈1 0和1 1。線 圈1 0和1 1優選由習知的印刷電路板1 2或1 3上印刷的導 體形成的平線圈。印刷電路板1 2或1 3由間隔物1 4隔開。 由裝載台1 (第1圖)輸送到第二輸送系統5時,基板2的一 端穿過兩個線圈1 〇和1 1之間存在的間隙。第一線圈1 〇 測量從線圈1 0到基板2下表面1 5的距離A。第二線圈1 1 測量從線圈1 1到基板的上表面1 6的距離B。然後得到基 板2的厚度T : T = D-A-B = D-(A + B) 第3圖示出了感知器8的線圈1 0的平面圖。螺旋形印刷 -9- 1254342 的導體1 7形成線圈1 0的繞組,從而形成平線圈。線圈1 Ο 的直徑通常約爲1到2 c m。然而平線圈的繞組可以是其它 任何形狀,例如矩形或三角形。印刷電路板1 2也含有電路 1 8,以操作線圈1 0並計算由線圈1 0傳遞的測量信號。這 種線圈1 〇產生正比於從線圈到金屬表面的距離的信號的 操作是已知的並且已在上面進行了介絕。類似地,第二印 刷電路板1 3含有用於操作線圈1 1的電路。在下面,接收 來自第一線圈1 〇的測量信號表示爲UA,接收來自第二線 圈1 1的測量信號表示爲UB。 稱做引線框架的金屬基板和由塑料製成例如稱爲B GA® 的基板2被用作基板2。塑料基板在它的上表面和下表面 上含有金屬結構。引線框架也如此構成。結構的形狀影響 了兩個線圈1 0和1 1的測量信號U a和U b。由於線圈1 0、 1 1的直徑稍大於由金屬結構形成的線和表面,兩個線圈1 〇 、:Π沒有直接測量到基板2下表面1 5的距離A或到基板 2上表面2的距離B。然而可以從兩個測量信號UA和UB 獲取各種信息。 在輸送期間,伸入感知器8間隙內的基板2端部可以晃 動,由此距離A和B也"晃動”。然而,距離A + B的總和保 持不變。因此將兩個測量信號U a和U b相加成爲一個信號 u s = U A + u B比較有利。 對於延伸線1 9,第4圖示出了當如第2圖所示基板2的 端部輸送穿過兩個線圈1 〇和Π時信號U s的級數。信號 U s具有幾個局部最大値,由幾個局部最小値隔開。在例子 -10- 1254342 中,有三個局部最大値Μι、和M3。最大値Mh大於其 它兩個最大値M2和M3,因此爲整體最大値。當兩個基板 接合在一起並一起輸送穿過感知器8時,那麼信號Us改變。 在學習階段,一個信號基板2輸送穿過感知器8,並由 信號Us確定參考値WRef。在晶片焊接機的製造操作中, 由信號Us以相同的方式確定値W。由| W-WRef|的差値的絕 對値量確定控制信號,該差値的絕對値量表示是否第一輸 送系統或夾持器9應將拾取的基板2輸送到第二輸送系統 5。如果| W-WRef|的量小於預定的公差値R,那麼這意味著 夾持器9僅拾取了一個基板2。然後命令夾持器9將基板2 輸送到第二輸送系統5。然而,如果|W-WRef|的量大於公差 値R,那麼這意味著夾持器9拾取了一個以上的基板2。 因此命令夾持器9將拾取的基板2輸送到廢料箱3。在下 文中,給出兩個例子介紹如何從信號U s獲取需要的信息。 例1 整體最大値Mh的値確定爲値W。這表示在第4圖中。 例2 信號Us(t)對時間的積分被作爲値W : w= |us(t)dt5 t: (1) 由此,時間t a和t b的點表示基板2進入感知器8的靈敏 度範圍和離開感知器8的靈敏度範圍。 當基板2相對於它的縱軸不對稱時,那麼信號U s的級數 也不對稱。進一步分析信號U s,因此可以確定裝載台1中 -11- 1254342 的基板2是否存在於正確的方向中。在第4圖的例子中, 整體最大値Μ 1發生在時間點t !,位於時間點13的局部最 大値Μ 3之前。因此,計算信號U s時,如果可以確定局部 最大値Μ3發生在整體最大値Μι之前,即,那麼這意 味著基板2存在於裝載台1中錯誤的位置處。由此,晶片 ' 焊接機的製造操作停止,相應的信息發出報警。 · 在製造中,也可能不同類型的基板錯誤地存在於裝載台 1中。這可以用感知器8檢測出。當|W-WRef|的量大於公差 値R時,與以上介紹的例子相比,可以認爲是夾持器9拾 ® 取了多於一個基板。然而,可以進一步以不同的方式更細 致地分析: A) 當連續測量例如兩次或三次測量時,得到| W-WRef|的 量大於公差値R,那麼這也意味著不是拾取了兩個基板2 ,而是不同類型的基板錯誤地存在於裝載台1中。由此, 晶片焊接機的製造操作停止,相應的信息發出報警。 B) 當| W-WRef|的量大於第二公差値R2時,由此第二公差 φ 値R 2大於公差値R,那麼可以認爲不同類型的基板錯誤地 存在於裝載台1中。因此,晶片焊接機的製造操作停止, 相應的信息發出報警。 C) 當到| W-WRef|的量大於公差値R時,在某些情況下, 也可以由W-WRef的差値推斷出,是否存在錯誤類型的基板。 在下文中,介紹本發明的另一改進:使用由感知器8輸 送的信號U s (t ),以便當改變成不同的產品時,自動地設置 用於新產品的晶片焊接機。爲此,晶片焊接機具有一個資^ 1254342 料庫,其中一方面設置用於產品製造的機器參數,另一方 面,存儲表徵屬於產品的基板的資料。這些特性資料從感 知器8輸送的信號Us (t)得到。這種特性資料的例子爲: -信號U s (t)的級數,及/或 -由信號U s (t)推導出的至少一個値,例如最大値Μ !或 , 根據方程式(1 )的積分値,或者局剖最大値Μ 2等。 · 當產品Ρ首次在晶片焊接機上處理時,在學習模式中, 屬於該產品Ρ的一個基板2從以上介絕的第一輸送系統4 輸送穿過感知器8的線圈1 0和1 1之間的間隙。之後,由 ® 感知器8輸送的信號Us (t)確定特徵資料。此外,確定處理 產品P需要的機器參數。所有這些資料都存儲在資料庫中 作爲屬於產品P的新貧料s5錄。 當製造轉換爲已在晶片焊接機上製備的不同產品P 2時 ,那麼可以使用存儲在資料庫中的資料記錄以便自動地爲 產品P 2設置晶片焊接機。這可以在初始化模式中完成,其 中屬於該產品P 2的基板由第一輸送系統4輸送穿過感知器 φ 8,然後確定來自感知器信號Us (t)的特徵資料。然後建立 資料庫中的資料記錄,該資料記錄的特性資料對應於爲剛 輸送的基板2確定的特性資料。該資料記錄包含了處理屬 於被測基板的產品P 2的處理需要的所有機器參數。晶片焊 接機現在加載這些機器參數,這樣做是爲了設置用於要製 備的新產品P 2,由此現在可以由初始化模式轉變爲製造模 式並開始製造。 * 爲了可靠地進行所有這些任務,在某些情況下,可以有~ -13- 1254342 利地減少感知器8的尺寸。感知器的尺寸越小,空間分辨 率越高。分辨率越高,更有可能可靠地檢測不同類型的基 板之間的較小結構差異。 另一可能形式爲如第5圖所示使用幾個較小感知器8, 每個感知器也包括兩個線圈,每個感知器一個接一個地排 列,並與第一輸送系統4的輸送方向成直角。每個感知器 8覆蓋基板2的不同區域。在例子中,存在三個感知器8 、8 ’和8 ”。對應線圈用參考數字1 0、1 0 f和1 0 ”或11、1 1 ’ 和1 Γ’表示。 (五)圖式簡單說明 在下文中,根據附圖更詳細地介紹本發明各實施例。 第1圖示出了根據本發明具有感知器的安裝半導體晶片 的裝置; 第2圖示出了沿第1圖的線I -1的感知器的剖面圖; 第3圖示出了感知器的線圈; 第4圖示出了感知器信號的級數(progression);以及 第5圖示出了具有數個感知器的例子。 主要部分之代表符號說明 1 裝載台 2 基板 3 廢料箱 4 第一輸送系統 5 第二輸送系統 6 分配或焊接台 -1 4- 黏接台 感知器 夾持器 線圈 線圈 印刷電路板 印刷電路板 間隔物 基板之下表面 基板之上表面 導體 電路 延伸 -15-

Claims (1)

1254342 拾、申請專利範圍 1 . 一種用於安裝半導體晶片之裝置,包括: 用於存放基板(2)的裝載台(1), 第一和第二輸送系統(4; 5),該第一輸送系統(4)用於 把基板(2)—個接一個地從裝載台(1)移走並將移走的基 板(2 )輸送到第二輸送系統(5 ),第二輸送系統(5 )用於將 基板(2)分步驟地輸送到分配或焊接台(6),在焊接台處 施用一部分黏接劑或焊料,然後將基板(2)輸送到安半導 體晶片的黏接台(7)^以及 感知器(8 ),該感知器包括相互間隔一定距離設置的兩 個線圈(1 0,1 1 ),感知器(8 )係以當第一輸送系統(4 )輸送 基板(2 )時,基板(2 )的一端部穿透兩個線圈(1 0,1 1 )之間 形成的間隙之方式設置,該裝置適用於由感知器的輸出 信號形成第一輸送系統(4)是否應將基板(2)輸送到第二 輸送系統(5 )的一控制信號。 2 .如申請專利範圍第1項之裝置,該裝置適用於由表示基 板(2 )是否存在於裝載台(1 )中正確方向的感知器(8 )的信 號級數確定信息。 3 .如申請專利範圍第1項之裝置,該裝置與具有資料記錄 之資料庫相連,每個資料記錄表示裝置上要處理的產品 ,其中每個資料記錄具有表徵屬於產品的基板(2)的特性 資料,由此學習階段期間借助感知器獲取該特性資料, 其中各資料記錄還包括設置用於產品製程的機器參數, 且其中當從一個產品轉換的資料記錄已存在資料庫中的 -16- 1254342 新產品時,裝置處於初始化模式, 藉感知器(8 )獲取屬於新產品之基板(2 )之特性資料, 建立記錄該特性資料之資料,其特性資料對應於爲已 測量基板(2 )確定的特性資料,以及 下載已建立的資料記錄的機器參數。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108151638A (zh) * 2017-11-20 2018-06-12 珠海格力节能环保制冷技术研究中心有限公司 信号处理系统、方法、装置、存储介质和处理器
CN107946219B (zh) * 2017-12-11 2024-01-30 扬州扬杰电子科技股份有限公司 一种用于贴片二极管组焊的一体化生产设备

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4302721A (en) * 1978-05-08 1981-11-24 Tencor Instruments Non-contacting resistivity instrument with structurally related conductance and distance measuring transducers
JPS59172731A (ja) 1983-03-22 1984-09-29 Toshiba Corp リ−ドフレ−ム搬送装置
US4851902A (en) 1986-10-29 1989-07-25 Electroplating Engineers Of Japan, Limited Auatomatic inspection system for IC lead frames and visual inspection method thereof
JP2794486B2 (ja) 1990-11-30 1998-09-03 株式会社新川 リードフレーム搬送装置
JPH07137886A (ja) 1993-11-11 1995-05-30 Toshiba Seiki Kk 薄板供給装置
US5511005A (en) * 1994-02-16 1996-04-23 Ade Corporation Wafer handling and processing system
US5851929A (en) 1996-01-04 1998-12-22 Micron Technology, Inc. Controlling semiconductor structural warpage in rapid thermal processing by selective and dynamic control of a heating source
JP3289633B2 (ja) 1997-02-26 2002-06-10 松下電器産業株式会社 リードフレームの転送方法
JP3642160B2 (ja) 1997-07-18 2005-04-27 松下電器産業株式会社 基板の2枚取り検出装置および2枚取り検出方法
KR100827871B1 (ko) 2000-05-19 2008-05-07 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 화학 기계 폴리싱을 위한 인시츄 방식의 엔드포인트 검출및 공정 모니터링 방법 및 장치

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Publication number Publication date
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