TWI253455B - New process for preparing polyimide - Google Patents
New process for preparing polyimide Download PDFInfo
- Publication number
- TWI253455B TWI253455B TW93134694A TW93134694A TWI253455B TW I253455 B TWI253455 B TW I253455B TW 93134694 A TW93134694 A TW 93134694A TW 93134694 A TW93134694 A TW 93134694A TW I253455 B TWI253455 B TW I253455B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- less
- cyclization
- polyamic acid
- reaction
- acid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1003—Preparatory processes
- C08G73/1007—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/0143—Using a roller; Specific shape thereof; Providing locally adhesive portions thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
- H05K2203/0759—Forming a polymer layer by liquid coating, e.g. a non-metallic protective coating or an organic bonding layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
1253455 二酐、1,4, 5,8-萘四羧酸二酐、2, 6-二氯萘-1,4, 5, 8-四羧酸 二酐、2, 7-二氯萘-1,4, 5, 8-四叛酸二肝、2, 3, 6, 7-四氯萘 -2, 4, 5, 8-四叛酸二奸、菲-1,8, 9,10-四魏酸二肝、 3, 3’,4, 4’ -二苯曱酮四羧酸二酐、1,2,,3, 3’ -二苯曱酮四 羧酸二酐、3, 3’,4, 4’ -聯苯四羧酸二酐、3, 3’,4, 4’ -二苯 曱酮四羧酸二酐、2, 2’,3, 3’ -聯苯四羧酸二酐、4,4’ -亞異 丙基二酞酸二酐、3, 3’ -亞異丙基二酞酸二酐、4, 4’ -氧基二 酞酸二酐、4, 4’ -磺醯基二酞酸二酐、3, 3’ -氧基二酞酸二 酐、4, 4’ -亞甲基二酞酸二酐、4, 4,-硫基二酞酸二酐、4, 4’ -亞乙基二酞酸二酐、2, 3, 6, 7-萘四羧酸二酐、1,2, 4, 5_萘四羧 酸二酐、1,2, 5, 6-萘四羧酸二酐、苯_1,2, 3,4-四羧酸二酐、 0比0秦-2, 3, 5, 6-四缓酸二肝等,其中較好為苯均四酸二奸 (PMDA)、4,4-二酞酸二酐(BPDA)、4,4-六氟亞異丙基二酞酸二 酐(6?0八)、1-(三氟甲基)-2,3,5,6-苯四羧酸二酐(卩3卩0八)、 1,4-雙(三氟曱基)-2, 3, 5, 6-苯四羧酸二酐(P6GDA)。 本發明中製備聚醯胺酸之二胺實例可舉例如(但不限於) 芳族雙胺例如4,4’ -氧基二苯胺(ODA)、5-胺基-1-(4’ -胺基 苯基H,3, 3-三甲基茚滿、6-胺基-1-(4’ -胺基苯基)-1,3, 3-三甲基茚滿、4, 4’ -亞甲基雙(鄰-氯苯胺)、3, 3’ -二氯二苯 胺、3, 3’ -磺醯基二苯胺、4,4’ -二胺基二苯曱酮、1,5-二胺 基萘、雙(4-胺基苯基)二乙基矽烷、雙(4-胺基苯基)二苯基矽 烷、雙(4-胺基苯基)乙基膦氧化物、N-(雙(4-胺基苯基))-N-甲基胺、N-(雙(4-胺基苯基))-N-苯基胺、4,4’ -亞曱基雙(2-曱基苯胺)、4,4’ -亞甲基雙(2-曱氧基苯胺)、5, 5’ -亞甲基 雙(2-胺基苯酚)、4,4’ -亞甲基雙(2-曱基苯胺)、4, 4’ -氧基 雙(2-甲氧基苯胺)、4,4’ -氧基雙(2-氯苯胺)、2,2’ -雙(4-胺基苯酚)、5, 5’ -氧基雙(2-胺基苯酚)、4,4’ -硫基雙(2-曱基苯胺)、4,4’ -硫基雙(2-甲氧基苯胺)、4,4’ -硫基雙(2-氯苯胺)、4,4’ -確醯基雙(2-甲基苯胺)、4, 4’ -磺醯基雙(2- 1253455 乙氧基苯胺)、4,4’ _磺醯基雙(2-氯苯胺)、5, 5,—磺醯基雙 (2-胺基笨盼)、3,3 _二甲基-4,4,-二胺基二苯曱酮、3, 3, 一 二曱氧基-4, 4,-二胺基二苯甲_、3, 3,-二氯一4, 4,-二胺基 二笨甲酮、4, 4,-二胺基聯苯、間-苯二胺、對一苯二胺、4,4,一 亞甲基二苯胺、4,4’ -硫基二笨胺、4,4,-磺醯基二苯胺、 4,4 -亞異丙基二苯胺、3, 3,-二甲基聯苯胺、3, 3,_二曱氧 基聯苯胺、3, 3’ -二羧基聯苯胺、2,4-甲苯基二胺、2, 5-曱苯 费二胺、2, 6-曱苯基二胺、間-二甲笨基二胺、2, 4一二胺基一5一 氯甲苯、2, 4-二胺基-6-氯曱笨等。較好為4,4,_氧基二苯胺 (ODA) 〇 該二酸酐與二胺之反應可在非質子極性溶劑中進行,非質 子極性溶劑之種類並無特別限制,只要不與反應物及產物反應 即可。具體實例可舉例如N,N—二曱基乙酿胺(DMc)、N一甲基 吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基曱醯胺(DMF)、四氫呋喃(THF)、 二噪烧、氯仿(CHCL·)、二氯甲烷等。其中較好使用卜甲基吡 嘻烧酮(NMP)及N,N-二甲基乙醯胺(dmac)。 、—該二酸酐與二胺之反應一般在室溫至70°C之溫度範圍内 進行,且該芳族雙胺及芳族雙酐之比值介於〇· 5至2· 〇之範 圍,較好在0· 75〜1· 25之範圍。 y依據本發明之方法,在二酸酐與二胺反應形成聚醯胺酸 後’將聚酿胺酸樹脂塗佈或鑄模等方法塗佈在支撐體上,再移 其内所含之溶劑藉由控制聚醯胺酸内之揮發份含量在10重 1%以下。隨後利用覆捲機將塗佈有聚醯胺酸之支撐物以塗覆 樹脂面朝内或朝外之方式,覆捲於覆捲機之綺上,將張力控 制於20kgf/cm2以下,隨後鬆捲使各層間留有間隔,使熱對流 進入各層間而達到環化之目的。覆捲長度可高達15〇米,較好 為20至120米之長度。 χ衣本發,方法中所用支撐物可使用例如Kapton、Upliex等 親亞胺薄膜、銅落、銘落、不錄鋼箔、鎳落等金屬猪,較通 1253455 常使用銅猪。 隨後將鬆狀鎌物移缝箱巾,舰H度梯度控制在 100至380°C之範圍,亦即自10(TC起始,以卜2t/ 严速度逐漸升溫至高達38(TC後’抑冷卻降溫。自16()至38〇 °0:之升溫姻’可分別核轉定溫度停㈣十分鐘,例如先 以160至180。(:起始並停留例如約3〇分鐘後,以2^/分鐘之 升溫度稍升溫觸至咖。(:又停_如約3G分鐘後, 再以2t/分鐘之升溫速度逐漸升溫至約27〇至29〇t:又停留例 如約洲分鐘’暖又以2t/分鐘之升溫速度逐漸升溫至約34〇 至350 C又停留例如約30分鐘’最後升溫至高達37〇〇c並停留 約10分鐘後,予以冷卻。 本發明t環化過程中,亦可添加觸媒例如三乙胺及乙酸酐 等,以加速環化反應。當於環化過程中使用觸媒時,所用之梯 度溫度可相對較低。 §支撐物使用銅箔時,為避免銅箔氧化,較好在烘箱中加 熱環化之過程中,吹入惰性氣體例如氮氣,使烘箱内之氧氣濃 度保持在1· 0體積%以下,較好〇· 5體積%以下,更好低於〇· i 體積%,可防止銅箔氧化變色。 —、· 、、本發明方法中,為使捲繞物之各層間留有間隔以利熱對流 通過’亦可在捲繞期間每隔數米插入一平滑桿,在捲繞完成後 再予以移除。 依據本發明之方法,可以高產率及高環化率獲得無皺紋之 外觀良好且機械性質優異之聚醯亞胺樹脂金屬箔軟膜。 以下將以實施例及比較例進一步說明本發明,該等實施例 及比較例中,揮發份之測量方法及環化率(醯亞胺化率)之測量 方法如下: 則量方法 取10公分*10公分之樹脂金屬箔樣品精確稱重為W1,將 該樣品置入2201烘箱中歷時20分鐘後,取出精確稱重為W2, 1253455 之綱麟之纖樣品稱重 揮發份(%)=(W1-W2)/(W1-W3) *100% 環化率(醯亞胺化率)之測量方法: 179广,iIR(傅里*紅外線光譜儀)測量細旨在溫度T之 =ISOOcnf1之吸收面積比值([面積 (1720cm-l)/ 面積 遗後以FTIR測量樹脂在溫度350°C歷時1小時後 cm與1500cm1之吸收面積比值([面積(m)/面積 ⑽_)]!\),以下式計算環化率(%): =匕率(%)’積⑽。cmW面積⑽◦㈣]τ/[面積 (1500cm-l)JTi *1〇〇% 實施例1 ,苯均四酸二酐(PMDA)與4,4, 一氧基二苯胺(0DA)使用 :甲土咖各烧酮(NMP)作為溶劑反應後獲得固成分為15%之聚 ^胺酸樹脂’利用塗佈機塗佈於18微米厚、寬52Q毫米之銅 泊上’^1用熱風或IR烘箱將_>溶劑蒸除,測支撐物樹脂之 溶J含量為3·2重量%,利用覆捲機將塗佈有聚醯胺酸樹脂之 ^祕繞於鋼管上,張力控制在2Qkgf/an2以下,在捲繞同時 每捲繞15米插入一平滑桿,共捲繞1〇〇米後,在最外圈以聚 醯^膠帶固定後,移除該平滑桿使該_鬆捲。隨後移入通 入氮氣且控佩氣含量在〇·版下之烘箱巾,以下列之溫度 梯度進行加熱環化反應。 環化條件: 1· 180C 30分鐘(以30分鐘升溫至22〇。〇) 2· 220 C 30分鐘(以30分鐘升溫至28〇。〇) 3. 280 C 30分鐘(以30分鐘升溫至35〇°c) 4· 350 C 30分鐘(以1〇分鐘升溫至幻 5· 370°C 10分鐘(冷卻降溫) 隨後利用上賴量環化率之方法進行環化賴量並檢查 !253455 外觀。結果如表1所示。 复施例2 使苯均四酸二酐(PMDA)與4,4,-氧基二苯胺(0M)使用 甲基吡咯烷酮(NMP)作為溶劑反應後獲得固成分為15%之聚 醯胺酸樹脂,於該樹脂中添加三乙胺及乙酸酐作為觸媒,利用 塗佈機塗佈於18微米厚、寬520毫米之銅箔上,利用熱風或 $烘箱將NMP溶劑蒸除,測支撐物樹脂之溶劑含量為5· 3重 里%,利用覆捲機將塗佈有聚醯胺酸樹脂之銅箔捲繞於鋼管 士、,張力控制在20kgf/cm2以下,在捲繞同時每捲繞15米插入 厂平滑桿,共捲繞100米後,在最外圈以聚醯亞胺膠帶固定 t移除該平辦使鞠祕。賴移人軌氮氣且控制氧 在〇·下之焕箱中,以下列之溫度梯度進行加熱環 化反應。 環化條件: 1· 120°c 30分鐘(以30分鐘升溫至180¾) 2· 180°C 30分鐘(以30分鐘升溫至25〇°c) 3· 250C 30分鐘(以30分鐘升溫至300¾) 4· 300°C 10分鐘(冷卻降溫) 外觀隨衫妓騎魏_量並檢查 f施例3及4 心施例1所述之條件進行,但樹脂之揮發份含量於奋 _ 3及實施例4中分別控制為3 3 Ί貝 結果示於表1。 至里及次5重罝%。所得 比較例丄 在3 Ϊ it:用所條件進行,但樹脂之揮發份含量控制 下表f重▲糊40 _之_作為_物,所得結果示於 一比較例2 11 1253455 如同實施例1所述之條件進行,但樹脂之揮發份含量控制 在3· 7重量%並利用Upi lex聚醯亞胺膜作為隔離物,所得結果 不於下表1。 比較例3 如同實施例1所述之條件進行,但樹脂之揮發份含量控制 在3· 5重量%並利用Kapton聚酿亞胺膜作為隔離物,所得結果 示於下表1。 比較例4 如同實施例1所述之條件進行,但樹脂之揮發份含量控制 在11重量%,所得結果示於下表1。 表1 實施例 1 實施例 2 實施例 3 實施例 4 比較例 1 比較例 2
比較例 3 比較例 4 銅箔長度 (瓜) 銅箔寬度 (mm) 隔開物 揮發份 (重量%) 外圈環化 率(%) 内圈環化 率(%) 外觀 100 250 3.2 >100% 98% 外觀佳 無皱紋 100 250 無 5.3 >100% 96¾ 外觀佳 無皺紋 50 520 無 3.3 96% 外觀佳 無皺紋 120 250 無 3.5 >100% 96% 外觀佳 無皺紋 50 50 50 50 250 250 250 250 40網目 之鐵網
Upilex 聚醯亞 胺膜
Kapton 聚醯亞 胺膜 3.4 >100% 98% 鐵網變 形因此 外觀差 有皺紋 3.7 >100% 98% 聚醯亞 胺膜膨 脹變形 外觀差 有橫皺 紋 3.5 >100% 98% 聚醯亞 胺膜膨 脹變形 外觀差 有橫皺 紋 11 >100% 98% 銅落表 面有沾 黏樹 脂,外 觀不佳 由表1之數據顯示,實施 12 1253455 樹脂之揮發份含量在10重量%以下,同時未介由間隔物進行環 化反應,可獲得外觀良好且無皺紋之聚醯亞胺薄膜。相反地, 比較例1至3,雖樹脂之溶劑含量亦控制在10重量%以下,但 由於其在加熱環化過程中利用如鐵網或聚醯亞胺之間隔物,由 ·, 於該等間隔物在加熱過程中與銅箔間之熱膨脹係數差異,導致 “ 環化所形成之聚醯亞胺樹脂薄膜產生外觀皺紋而不佳。又比較 : 例4中,雖未介由間隔物,但由於樹脂之溶劑含量高於1〇重 量%,因此導致環化過程中,銅箔有樹脂沾黏之現象因此外觀 亦不佳。 由上述數據可知,本發明之聚醯亞胺之新穎環化方法,可 以高產率及高環化率獲得無皺紋之外觀良好且機械性質優異 · 之聚醯亞胺樹脂金屬箔軟膜。 【圖式簡單說明】 【主要元件符號說明】 13
Claims (1)
- Ι253·3134694號專利申請,顏· 1 _JSfAt r«*aIR m Λ λ Π (y今工ρ δ 卜申請專利範,:,的年(Γ卿丨雜球酬 1 · 一種聚醯亞胺之裏务,包括使=酸酐貪二士反應形成聚醯胺 酸後’藉由將聚醯胺酸塗佈或澆鑄(casting)等方法塗佈於 支持,上’再移除溶劑藉由控制聚醯胺酸之揮發份含量在 10重量%以下,並以張力控制在20kgf/cm2以下進行捲繞後, 以^式方式進入高溫烘箱,以梯度升溫方式自1〇〇至380°C 之梯度加熱而使聚醯胺酸脫水環化成聚醯亞胺。 2· 方法,其中聚醯胺酸脫水環化成聚醯亞胺之反 應係於觸媒存在下進行。 3· 其巾綱媒係選自三乙胺及乙酸肝之至 銅^求=之方法,其中該支樓擔體係選自聚酿亞胺薄膜、 、不鏽鋼箱、鎳羯之至少-種。 6:如以項其中該,擔體係銅箱。 體積%之惰性氣體中、其中該壞化反應係在氧氣含量低於1· 〇 7·如請求項5之方生ϋ。四 體積%之惰十生氣靜也二中該環化反應係在氧氣含量低於〇· 5 8·如請求項5之方生。成 體積%之惰性氣體中進:巾該環化反應係在氧氣含量低於〇· 1
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW93134694A TWI253455B (en) | 2004-11-12 | 2004-11-12 | New process for preparing polyimide |
JP2005012866A JP4268943B2 (ja) | 2004-11-12 | 2005-01-20 | ポリイミドの新規な製造方法 |
US11/043,135 US20060105185A1 (en) | 2004-11-12 | 2005-01-27 | New process for preparing polyimide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW93134694A TWI253455B (en) | 2004-11-12 | 2004-11-12 | New process for preparing polyimide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI253455B true TWI253455B (en) | 2006-04-21 |
TW200615301A TW200615301A (en) | 2006-05-16 |
Family
ID=36386709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW93134694A TWI253455B (en) | 2004-11-12 | 2004-11-12 | New process for preparing polyimide |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060105185A1 (zh) |
JP (1) | JP4268943B2 (zh) |
TW (1) | TWI253455B (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100412111C (zh) * | 2006-09-05 | 2008-08-20 | 东华大学 | 一种含酚羟基聚酰亚胺粉末的制备方法 |
CN100413911C (zh) * | 2006-09-06 | 2008-08-27 | 湖北省化学研究院 | 一种无胶型挠性覆铝板及其使用的聚酰亚胺基体树脂 |
CN100441652C (zh) * | 2007-01-19 | 2008-12-10 | 东华大学 | 一种含酚羟基聚酰亚胺粘合剂的制备方法 |
JP5589384B2 (ja) * | 2007-05-24 | 2014-09-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 無色透明樹脂フィルムの製造方法及び製造装置 |
US20090053704A1 (en) * | 2007-08-24 | 2009-02-26 | Natalia Novoradovskaya | Stabilization of nucleic acids on solid supports |
US9141157B2 (en) * | 2011-10-13 | 2015-09-22 | Texas Instruments Incorporated | Molded power supply system having a thermally insulated component |
WO2014129464A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 新日鉄住金化学株式会社 | 積層体、太陽電池用部材、太陽電池、表示装置用部材、表示装置及び積層体の製造方法 |
JP6269373B2 (ja) * | 2014-07-29 | 2018-01-31 | 日立金属株式会社 | エナメル線の製造方法及び製造装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4839232A (en) * | 1985-10-31 | 1989-06-13 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Flexible laminate printed-circuit board and methods of making same |
JP2926509B2 (ja) * | 1990-05-21 | 1999-07-28 | 鐘淵化学工業株式会社 | 樹脂フィルム及びその製造方法 |
KR100942467B1 (ko) * | 2001-02-27 | 2010-02-12 | 가부시키가이샤 가네카 | 폴리이미드 필름 및 그 제조방법 |
TWI320046B (en) * | 2002-02-26 | 2010-02-01 | Polyamide-imide resin, flexible metal-clad laminate and flexible print substrate | |
EP1420048A3 (en) * | 2002-11-14 | 2005-09-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | Metal laminate |
US6949296B2 (en) * | 2002-12-31 | 2005-09-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide substrates having enhanced flatness, isotropy and thermal dimensional stability, and methods and compositions relating thereto |
KR101075771B1 (ko) * | 2003-05-09 | 2011-10-24 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 금속박 부착형 적층체 |
JP3952196B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2007-08-01 | 信越化学工業株式会社 | フレキシブル金属箔ポリイミド積層板の製造方法 |
JP2005015596A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリイミド系前駆体樹脂溶液組成物シート |
JP2005167006A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フレキシブル金属箔ポリイミド基板の製造方法 |
-
2004
- 2004-11-12 TW TW93134694A patent/TWI253455B/zh active
-
2005
- 2005-01-20 JP JP2005012866A patent/JP4268943B2/ja active Active
- 2005-01-27 US US11/043,135 patent/US20060105185A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200615301A (en) | 2006-05-16 |
JP4268943B2 (ja) | 2009-05-27 |
JP2006137918A (ja) | 2006-06-01 |
US20060105185A1 (en) | 2006-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4929405A (en) | Ultrathin polyimide polymer flims and their preparation | |
US5231162A (en) | Polyamic acid having three-dimensional network molecular structure, polyimide obtained therefrom and process for the preparation thereof | |
Hergenrother et al. | Polyimides from 2, 3, 3′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamines | |
JPH0320131B2 (zh) | ||
US4438273A (en) | Isoimide containing oligomers | |
JP4268943B2 (ja) | ポリイミドの新規な製造方法 | |
JPH01131241A (ja) | 熱的寸法安定性にすぐれたポリアミド酸及びそれからなるポリイミドの製造方法 | |
JP2009117192A (ja) | 絶縁型発熱体 | |
US20240002615A1 (en) | Polyimide film for graphite sheet, manufacturing method therefor, and graphite sheet manufactured therefrom | |
JP2007098904A (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP4406764B2 (ja) | ガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびそれを用いた金属積層体 | |
JPS59204518A (ja) | 共重合体フイルムの製造方法 | |
JPH047333A (ja) | 新規ポリイミド | |
JPS60257805A (ja) | ガス分離膜 | |
US4978573A (en) | Ultrathin polyimide polymer films and their preparation | |
JP4807073B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
US5061781A (en) | Polyimides from diaminobenzotrifluorides | |
JP2011131456A (ja) | ガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびそれを用いた金属積層体 | |
JPS61143435A (ja) | 耐湿性ポリイミド | |
JP2910796B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム並びにそれらの製造方法 | |
CN1305933C (zh) | 聚酰亚胺的制法 | |
JP2831867B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体、それからなるポリイミド共重合体、ポリイミドフィルム、並びにそれらの製造方法 | |
Mercer et al. | Synthesis and characterization of new fluorinated poly (imide benzoxazole) s | |
JP2809396B2 (ja) | ポリイミド共重合体膜の製造方法 | |
JP2022511459A (ja) | 配向性に優れたポリイミドフィルムから製造されるグラファイトシートおよびその製造方法 |