TWI246993B

TWI246993B - Water-removable coatings for LCD glass

Info

Publication number: TWI246993B
Application number: TW091109952A
Authority: TW
Inventors: He Lin; Adrienne M Powell-Johnson; Youchun Shi
Original assignee: Corning Inc
Priority date: 2001-05-08
Filing date: 2002-05-08
Publication date: 2006-01-11
Also published as: JP2003054998A; US20030110800A1; KR20020085841A; SG100791A1; CN1235823C; US6715316B2; CN1393419A

Description

1246993 五、發明說明（1) I.發明領域：本發明係關於辦# ^ , 時地保護使用於萝、1+保護玻璃片以及特別是關於暫發明有用於例如保示板（LCD)玻璃片之表面。本及研磨過程中避免姑螭片避免大氣污染以及在切割以護玻璃片避免受到刮=片彼此黏附。除此，本發明能夠保 I I ·發明背景：胃° 包含LCD玻璃>Ιτί> + ^ f i, i. ^ ^ Λ f/L f ^φ ； ^4 境時，曾經在數分鐘内、，可木物。*玻璃暴露於外界環所污染。不彳玻璃會快速地被有機污染物 -些mi:::,研磨玻璃表面以及邊緣所使用之大於嶋以及二生〇;= 附至乾淨的玻璃表面，使粒部份不可逆地黏在LCD玻璃表面情況中在弁夕應用上變為無用的。 W玻璃能夠藉由融亥合問:二為_ 程產生平坦的，光滑的破处理過程製造出，該處理過所需要的尺寸。由切割處理過程所=以：：或研磨至自於玻璃板之表面，在碎片及產生之一二玻璃碎片源積，而促使強烈地黏附。二面間存在大的接觸面間，玻璃碎片黏附至表面= 凝結於兩個表面之一項保護玻璃片特別早了 Γη 士 + 聚合性薄膜至玻璃兩個 ^片已知的方法為塗覆王要表面上以在劃線，分裂以及斜第5頁 1246993 t、發明說明（2) - — 切處理過程中保護玻螭。在一般方法中，一個主要表面具有黏ί妾劑黏附之聚合物薄膜，以及另外一個主要表面具、^ +用静電黏附之薄膜。在玻璃片邊緣修飾（切割或研 ^ 、後去除第一薄膜，同時在修飾處理過程前去除第二 r直將雖合然妾齊 1黏卩付薄膜保護表面避免受到處理過程刮：έ產生其他問題。例如，聚合物會捕獲在修飾處理 1二本所產生之玻璃碎片，其促使累積玻璃碎片以及刹損夕ρ”!： ’特別是接近表面邊緣處。另外一個關於該薄膜 μ暖古^於其會遺留下黏接劑殘餘物於玻璃表面上。利用德員問4為在將薄膜剝離玻璃表面過程中 =:，片特二 =、广或玻璃片。存在-項保護玻璃表於玻璃表面1 m需求，該黏附不會遺留殘餘塗膜具有乾淨不含涂膜表面之曰^ &保護玻璃表面之方法，因而進一步使用。土膑表面之玻璃物體能夠立即地得到以作更於可：：：暫m呆護lcd玻璃之任何塗膜的主要關鍵在雜製迕卢里二之製造商使用於⑽玻璃作為複過程，任何使用來保獅破：：；：：：：：響該心過程之前為立即可去除的。、义而在LCD製造處理鐘於先前說明，業界存在一插璃板方法之需求，其具有下列特：保4玻璃片特別是㈣ ⑴方法優先地應該立即地加入整個玻璃形成之處理

1246993 五、發明說明（3) 步驟中，特別是在玻璃形成處理過程之終，玻璃在形成後立即地加以保護以符合該因而新的形成該（a)能夠承受玻璃生產線之環境（=j，塗膜材料應王展境中塗覆材料之方法應該為安全的·门'皿）以及（b)在該 (2) 塗覆方法必需保護玻璃避免由於研磨所產生之碎片黏附，以及其他污毕物^螭片切割及/或在使用前之儲存以及運送過程中與破%接黏附，該污染物 (3) 塗膜必需相當強固以在暴露於相卷績性地提供保護，其通常在切割及/或研磨田數夏水份後連璃片接觸；处里過程中與玻 (4) 塗膜優先地應該保護避免玻璃，運中受到刮損（在此所謂刮損包含磨損）. 及儲存過程 (5) 塗膜必需能夠在最終使用前例如前完全地由玻璃去除；以及衣乂液晶顯示器 (6) 由於玻璃在處理運送以及儲存過塗膜，將使塗膜保持初始之玻填表面而不4 = 學性或光滑性。个㈢改^表面之化本發明解決以及滿足業界長發明大要： # | 本發明提供一種暫時地保護玻璃片表面免（1)大氣灰塵，（2)碎片黏附，以及（3)刮損。/，以避本發明第一項為提供—種暫時地 :，以避免玻璃碎片及/或刮損，該玻璃具有玻至离少片平坦之表面，該方法包含：貝貝 1246993 五、發明說明（4) (A )保護表面，藉由下列步驟達成·· - (i )塗覆水溶性溶液，其包含至少一種多_體（粉）至表面，該表面接觸角度在塗覆水溶液之前為小例如幾 (i i)由水溶液去除水份以遺留下含有多_體添於8度；表面上，其厚度至少為001微米（通常塗覆表面^^膜於度至少為2 5度，例如約為3 0度）；以及 ’角 (B)隨後使用水溶液由表面去除含有多醣體其中表面在步驟（B)後具有接觸角度為小於或等於’ 依據本發明，該方法在步驟（A)與（B)之間包人；8度。外的步驟：下列韻 (a) 切割玻璃；以及 (b) 研磨及/或拋光玻璃至少一個邊緣；其中：含有水份溶液或水份在步驟（a )及（b )之至少一驟中塗覆於含有塗膜表面上； ^ —項步在步驟（a)及（b)之前塗膜表面具有第一接步驟（a)及（b)後具有第二接觸角；以及以及在第一與第二接觸角相差小於5度。依據本發明第二項，本發明提供製造物含：，硪物體包 (a) 具有至少一個實質平坦表面之玻璃片· (b) 塗膜，包含至少一種多醣體於表面上，誃上厚度至少為〇·〇1微米；膜具有其中：以及

(i)塗膜保護表面防止破璃碎片及/或刮 Η 1246993 五、發明說明（5) (i X) $膜經由水溶性溶液塗覆由表面為可去除的。特定優先實施例中，含有多醣體之塗膜形成理過程之部份，其中製造處理過程在高溫下 == 及新形成之玻璃在與多醣體水溶浪产理：Γ ’皿：:、大於150。。。雖然優先地整合為玻璃製造處理J程’本發明在需要情況下亦能夠在離線地實施。

At J其他優先貫施例中，塗膜藉由噴灑而塗覆在玻璃上。月b夠使用其他塗覆塗膜燈心涂F哭莖/e曰A 列如浸潰，液灣塗覆器，過程日士 =二π屏一春疋田本發明使用作為部份玻璃製造處理守為較不棱先，因為熱玻璃在處理過程灶束時現出來回地移動，特別是使用向下抽拉；；：=通" 商掌i ΐ ΐ ί: ί例中’塗膜使用水溶性清潔劑溶液例如清理。通常，使用來去除塗膜之ϋ波 4〇 t至75 t範圍内。合『生π冻冷液將加熱至本發明其他項目詳細說明如下。附圖簡單說明：第一圖（圖1 )顯示出玻璃基板上水滴接觸肖（著性接觸角度)之量測。同獲觸角（已知為固，干ί Z t圖（圖2及3)為表面粗糙度儀器縱跡，罝 ”、、貝不出本發明塗膜刮損抵抗性。 - 詳細說明：在此實際地及廣泛地說可去除塗膜於玻璃片表面上 τ %风丨六一檀藉由g 之方法而暫時地保護玻璃

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關於液曰一別地重要因曰曰、器玻璃，不含顆粒之玻璃片（基板）為特之起點。’:為^其決定形成於玻璃片上LCD薄膜半導體品賀璃之長時^問!1所說明，玻璃顆粒黏附至基板為製造LCD球製造過程中J°特別是，在抽拉底部（B〇D)處刮痕為基相清理能夠去ί ί性顆粒之主要來源。超音波清理以及刷決理處理過程二二些短時間沉積於破璃上之顆粒。不過，清效用，特別θ /儿積於基板上超過一天以上之顆粒並不具有因特而別：：如儲存環境為高熱及潮濕的。

抽拉底部地需要保護性塗膜，其能夠保護顆粒避免在顆粒污染面。除此保護基板避免玻璃理的清理動六、，土膜必需為使用溫和清理步驟利用合結合利用一此L加以去除的，例如清理步驟包含在40 °c下 K)。由於健超音波清潔劑清洗（利用2%SEMICLEAN 的。、^ ’展兄以及女全因素有機溶劑清理並非優先許多商業化產品為水浪柯e ^ ,

條件為可清洗的並非必要的ϋ ^玻璃表面使用上述地交互作用所致。例如，嫌、將與玻璃表面強烈下具有良好的水溶性。、°午夕有機塗膜，其在較高溫度表面去除，40 °C清理㈤声不氧過，對於有機塗膜完全地由玻璃必需能夠在熱及潮渴皿太然良好的水溶^ 同時為了並不改變玻璃：::會減小塗膜之效用。潑。肖之表面化學性，塗膜化學性並不活

第10頁 1246993 五、發明說明（7) A.多醣體塗膜如先前所說明，本發明塗膜由至少一種多醣體所構成。特別是，本發明塗膜優先地主要包含多醣體成。所謂π主要包含”實質上排除影響塗膜之其他成份。因而”至少包含一種多醣體之塗膜π含有至少一種多醣體以及亦包含其他並不會實質影響塗膜之成份，例如黏接劑，溶劑等。

廣泛種類之多醣體的特性為已知的。一般所說明多醣體以及多醣體化學性能夠發現於下列參考文獻中，其相關部份在此加入作為參考：Greenway，Τ· Μ· "Water-Soluble Cellulose Derivatives and Their Commer i ca1 Use”，Cellulosic Polymers, Blends, and Composites， R.D.Gilbert, editor, Hanser Publishers, New York, 1 994，1 73-1 88; Evans，R.B_ and Wurzburg, 0·Β· 丨丨 Production and Use of Starch Dextrins”，Starch: Chemistry and Technology, Volume 2， R.L. Whistler and E. F. Paschall， editors, Academic Press, New York, 1967, 254-278; Kitamura, S., "Starch

Polymers, Natural and Synthetic▼丨，Polymeric Materials Encyclopedia， J. C. Salamone， editor, CRC Press， Boca Raton, Florida， 1996， 7915-7922;以及丨,Polysaccharides I: Structure and Function"及丨丨 Polysaccharides II: Chemical Modifications and Their Applications丨丨 Essentials of Carbohydrate Chemical, J.F. Robyt, editor, Springer, New York

第11頁 1246993 五、發明說明（8) 1998’ 157-227 and 228—244 。大部份原始多醣體之水溶性由酸或觸媒水解加以分解以及^相當低，但疋製造商藉工業應用，例如食物，紙張藥類;天然產物以配合不同的定於各種變化，具有不同水溶性以口人護*理’以，塗料。決場上可取得的。及黏滯性之多醣體為市殿粉衍生物例如玉半、、殿伞· 所銷lTH〇CEL纖:^ :::酉夕旨如使用於食物以及藥界中之這些材料例二材料製造出塗膜_ 基纖維夸V乃二列夕醣體包含兩種主要形式之纖維酯··甲

Dt葡葙1^1羥丙基甲基纖維素。類似於澱粉，纖維素由聚合性；：A =成，但是其具有不同的配糖連結構造，即與i於=產:凡王線性的点一1，4配糖鏈。該結構在纖維素 ::二ί 、不同的特性差值。例如，分子量高達2 0 0 0 0 0 0 天，、、、' 形成之纖維素為非水溶性的。決定於纖維素如何地加以改變，纖維醋產物廣泛不同的特性，例如水溶性，表面活性以及密 =咖！^物依據輕基替代程度（第一文字）以及黏滞性文子^後數目）加以命名。表1及2顯示該系統MOTHOCEL :、級之編號，其中表2之黏滯性例如為—^⑽仏。由於在一個糖蛋白環中只有三個羥基，最大替代度為3。 METHOCEL纖維酯為水溶性，但是當該材料溶液加熱高

第12頁 1246993 五、發明說明（9) 於預先決定溫度時將形成膠凝體。METHOCEL薄膜能夠由 METHOCEL溶液藉由蒸發水份製造出以及形成薄膜為清澈的，強固的，柔軟的以及非毒性的。在低溫水溶性中，薄膜能夠再脫水形成膠凝體以及再變回至溶液。除了先前所說明之澱粉以及纖維素產物，其他能夠使用於本發明之多聽體包含羥乙基纖維素衍生物，分泌膠體以及其衍生物，以及藻朊（a 1 g i n a t e )。單純多醣體或多醣體混合物能夠使用於本發明中，例如塗膜包含一種或兩種，二種，或多種多醣體。可加以變化，包含不同的多醣體之各種塗膜可依序地塗覆至玻璃表面。混合物及/或多種塗膜能夠為一種多醣體之種類（例如 ;殿粉混合物）或能夠為多種（例如為纖維酯以及澱粉之混合物）°最優先使用於本發明中之多醣體為澱粉。如在此所 0兒明，所谓π殿粉’’包含水溶性澱粉及水溶性澱粉衍生物。 Β ·殺粉塗膜：水溶性為天然產生之聚合物。馬玲薯，玉米，樹薯，小麥以及許多其他植物為商業化澱粉之來源。一些澱粉主要特性為水溶性以及生物可分解的，即微生物可分解的。 w +化學上，殿粉為藉由α -1，4 _或α -1，6配糖鍵連結之D -葡萄糖聚合物。存在兩種澱粉聚合物結構，即直鏈澱粉結構以及支鏈澱粉結構。直鏈澱粉為線性澱粉分子藉由α -1 ，4〜配糖體鍵結形成。支鏈澱粉為分支澱粉分子，其中數個短，線性直鏈澱粉鏈具有2 0至2 5個D-葡萄糖單元，每一單元藉由α〜1，6配糖鍵連結。

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天然澱叙存在為冷水不溶解之㈣。以及支鏈澱粉所構成，其藉由氫鍵直接地或藉由水合物= 結以形成方向性膠質粒子或晶質區域。當加入水份時, 粉顆粒吸收水份以及膨脹。利用提高溫度，顆粒更進二;又膨脹以及溶液黏滯度提高。在最大黏滯性點下，澱粉顆粒結構被破壞。因而，在溫度通過最大黏滯度之後黏滯性逐漸地減小以及清澈溶液形成。，天然澱粉比較，適合使用於本發明之澱粉具有較低分子量以及低黏滯度，此由於天然物質或由天然澱粉產生高分子量澱粉產物之酸或觸媒分解所致。這些較低分子量以及杈低黏滯度產生相當快速乾燥之塗膜以及容易利用水溶性清潔劑溶液由玻璃表面清掉。這些酸或觸媒分解澱粉在冷水中亦具有極良好的溶解性。這些分解澱粉產物有時稱為葡多St(dextrin)。以水負載之喷灑塗膜為優先方法以塗覆這些塗膜至玻璃基板以作為顆粒以及磨損之保護。對於該應用，水溶性溶液優先地具有黏滯係數在〇 · 1分泊及丨〇〇分泊之間。塗膜能夠在相當低溫度例如3 〇及7 5 °C間之水溶性清潔劑溶液中以合理的時間由保護性玻璃表面去除，通常在2至1 5分鐘之間。適當澱粉之範例為PURITY GUM 59,蠟質玉米澱粉產物，其利用觸媒加以分解以及利用丙烯氧化物以及酸水解玉米澱粉葡多醣而加以改變。這些產物能夠由Nat ional Starch and Chemical Company, Bridgewater, New

第14頁 1246993 五、發明說明（11)

Jersey供應。其具有低溶液黏滯度即在2· 5%濃度下至 2cps，其形成具有光澤以及非吸濕性之強固薄膜，以及其在塗膜去除所使用溫度即40 t下並不產生膠凝。’ ^ C ·附加性塗膜成份 ^ 如先前所說明，澱粉塗膜為生物可分解的，其係指其會受，微生物例如細菌以及黴菌侵蝕。其他多醣體亦會受^ 該微生物之侵蝕。因而，本發明塗膜優先地包含滅菌劑以消除或減少微生物在儲存以及運送期間對塗膜之侵蝕。商業化滅菌劑例如為KATH0N LX (R〇hm & Hass)以及d〇wic^ 75 (Dow Chemical Company)為滅菌劑之範例，其能夠使用於該用途。亦能夠使用硼酸以控制微生物之成長。塗膜亦包含一種或多種塑化劑，其能夠為聚羥化合物、、虽塑化劑之範例包含葡己六醇，甘油，乙二醇，聚乙二二，=及其混合物。該化合物能夠減小塗膜在低濕度下變脆之=向。此能夠改善塗膜光滑性，磨損抵抗性，及拉伸。嬙式二先地本發明塗膜並不包含強烈黏附至玻璃表面之有例^二他刀子以及因而將難以由玻璃表面去除。該分子範以5 t ί鏈離子界面活性劑（例如超過18個碳原子），矽烷，以及矽氧烷。值係^ t明一般水溶性塗膜溶液之濃度如下，其中列舉數值係依據溶液最終總重量計算：高釉=ϋ體成份：〇·1%至3〇%，假如多醣體（例如澱粉）產生 “占：！溶液優先地為之較低濃度。囷背丨· 5 0 ppm至〇 · 1 %，其決定於滅菌劑之效用。由於

第15頁 1246993 五、發明說明（12) 滅菌劑能夠改變塗膜化學及機妯拄穴片如虛 ^ ^ m 予汉械槭特性，滅囷劑應該不超消多_體成份重量之20%。 ^个巧過塑化劑：0至30%。上述所列選擇性成份並非況下其他成份能夠包含於本發 D ·塗膜塗覆：全部列舉出以及假如需要情明塗膜中。 @

本發明塗膜優先地藉由噴灑多醣體以及 =去離子水)之溶液至表面上以及蒸發水溶性溶劑= 、’、膜而塗覆於玻璃表面。例如，塗膜溶液能夠使用2 〇至 6 0psi壓力之喷霧搶塗覆至溫度在2〇_25〇它範圍内之玻螭、如先前所說明，塗膜優先地在形成處理過程之後立即 ^覆至新形成玻璃片。特別地，水溶性溶液塗覆至玻璃同時^璃表面溫度高於1〇〇它，優先地為高於15〇。〇，以及最^ 先咼於180 °c，其中玻璃溫度優先地利用一般玻璃製造業j 所使用之紅外線感測器量測。

多酶體特別是澱粉在高於250 t開始分解。因而，在塗膜塗覆點之玻璃溫度為小於2 5 0 °C，在例如融合抽拉玻璃製造設備中新形成玻璃相當快速地達成該溫度。不過由於塗覆多酶體/水份溶液以及水份具有高蒸發熱，在玻璃表面處水份療發將快速地冷卻玻璃。因而，塗膜溶液能夠塗覆於例如3 0 0 °c玻璃而不會顯著地分解。水溶液溫度優先地在2 0 °C至8 5 °C範圍内，即能夠使用加熱之溶液。使用加熱溶液一項優點為當玻璃基板溫度小

第16頁 1246993 五、發明說明（13) 性而低於至溫洛液，其能夠有盈於溶液達成噴霧化。水溶性溶液之溫度應該低於多醣體之膠凝點。、彳谷為部份玻璃製造處理過程之塗膜塗覆為有益的因玻璃為乾=的，以及塗膜將在其餘製造處理過程中保護玻璃。在提高溫度下塗膜塗覆至玻璃係指塗覆時間當t其/定於所形成玻璃之速率以及在塗覆處理過程結束日ΤΓ所品要之最低玻璃溫度（茶考底下說明）。玻璃能夠利用數種不同的處理過程形成，其處理，細縫抽拉處理過程，以及融合抽拉夂" 如=第，696及3關09號專利，該專利之說明在此閱加例入作為麥考。在細縫抽拉以及融合抽拉處理過程中 ίΐΪίί”之指向。在該情況下，水溶性溶液應該在 ^ 下塗覆，因為該碎片會干擾玻璃之切判 =碎片會促使玻璃破裂。通f，浸潰可藉由調整錢程’ I加以避米免以保持在整個塗覆處理過程中玻璃溫度高於要加以v二=如減小喷灑程度，心夜中多醣體濃度亦需以完全地塗覆玻璃表面。夕雕菔引違表面溶液用r麗，塗膜亦能夠由柔軟材料浸入塗膜材料 .、主後/、他可能方法包含浸潰，液灣塗覆，滾涂Ε1 I/面轉接塗觸覆，或任何其他處理過程而不會使塗膜溶二破。…麗為最優先方式，因為其立即地配合玻破 Ά處過程中產生之玻璃移動。通常，玻璃兩側將同時 mnn 第17頁 1246993 五、發明說明（14) — =噴壤，同時假如需要情況下能夠進行各別側邊依序地塗塗膜厚度應該小於〇· 01微米以及優先地小於 ^先地’塗膜厚度應該界於0.1與20微米二腺薄，很容易產生針孔，而並不會形成多醣體之塗= 料總使用量相當高。 *面去除塗《以及塗膜材 E·去除塗膜當需= ΐ = =於，理過程能夠保存以及第—次劃線前塗覆至玻璃以及在其餘 =土膑此夠在強固地能夠保存。其能夠藉由 =過程為相當，與刷洗及/或超音波清理加以去商除業 J，塗膜能夠單獨地採用氧化例外-項方其他去除技術，優先地利用去為《乳化或結合更優先地，水份為主超音波、、主理;#丨、± 式適合去除本發明之多醣體。/或刷洗清理或合併方 f除其他污染物例如油類材料以及；：面，—使用清潔劑以性清潔劑溶液使得濃度為2-M以月且古般情況，水溶 2〇 t與75 t：間之清理溫声 °及/、有鹼性之PH值。界於有效率去除塗膜，顆粒/皿二:f當的’越高溫度通常導致越 2至1 5分鐘之間。 ’ 有機巧'染物。清理時間通常在人們了解去除塗膜能約# 约運送到最終使用者例°稭由玻璃製造而達成或玻璃能，例如液晶顯示器裝置製造，以及使用第]8頁 1246993

者能夠由玻璃去除塗膜。為了驗證去除塗膜名表面之潤渔性。此能夠二^除之前及之後量測玻璃易地達成，其能夠利用掌V /測表面上液滴之接觸角而容角量測之示意圖顯示於圖熟甘知的各項技術達成。接觸界表示為固著性液滴接I ，八中心為接觸角，同時在業表面上固著性水、!ϋ 觸角。有益地，在去除塗膜後玻璃 I从+ 水滴之接觸角為小於或等於8产。处豹你田其他方法以測定出塗膜丄趴次寺於8度月匕夠使用 F.本發明代表性優ς膜去除包含MCA以及T0F-S IMS。本發明一項優A ^ ^ 送過程中被所暴露2 =保護玻璃片避免在儲存或運〜八虱 >可染。本务明另外一項優么之黏附。如先前所；Λ減小玻埚片切割或研磨時碎片過程為嚴重的問題料以^，碎片黏附在切割或研磨製造特別地，本發明製造⑽玻璃時。面上而減少碎片^^ 穩定可去除塗膜於玻璃片表膜”係指黏附至玻:之^ 中不會被去除或靖著上膜以及在處理’儲存以及運送過程上石夕石交互作地裂解之塗膜。塗膜藉由與玻璃表面之障壁層。由於塗=Ϊ璃，以及作^玻璃與玻璃碎片間面接：，:日而減少碎片黏附之發生。、玻“表相同=:'二卜：Γ憂點在於去除塗膜之後玻璃表面具有除淨膜德葬出语滑度如同塗覆塗膜之前。例如，在去 " 曰由原子顯微鏡（AFM)量測玻璃表面優先地具有

第19頁 1246993 五、發明說明（16) RMS表面粗糙度小於或等於〇· 36奈米。 G.範例：提供下列範例以詳細地列舉出本發明，以及這些範例並非作為限制本發明之特定實施例。範例1 四種澱粉（PURITY GUM 59，N-Tack，NADEX 772 以及 CRYSTAL TEX 627)由National Starch and Chemical Company (Bridgewater, NJ)提供以及第五種（EMSIZE CMS 60)由Kalamazoo Paper Chemicals (Richland，MI)提供。這些澱粉產物利用澱粉使用酵素或酸將澱粉水解。雖然這些產物全部由澱粉製造出，其具有不同的分子量，pH以及化學變化。其亦能夠由不同的原料製造出。表3說明這些產物間之一些差異。所有產物為廣泛分佈的以及具有相當廣泛分子量之分佈，其平均分子量小於天然澱粉以及大於5 0 0 0。EMSIZE CMS 60具有最高平均分子量，PURITY GUM 59為次高。最低平均分子问一刀 CRYSTAL TEX 62 7 以及NADEX 772。、'、由 Dow Chemical (Midland, MI)供應之七種 meth〇cel 品牌纖維酯亦加以測試。使用於測試之玻璃基板為本公司製 JL, / Γ U r Μ Λ rj 、— 、之 1737LCD 玻璃试樣（5 x5 x0. 7mm)。母一玻璃片藉由卖私锋梅萝茗认—士你口 L 乃精由黏接劑黏附之聚合物溥Μ覆盍於母一玻璃片上，另外一而餘丄ρ m错由靜電黏附薄膜。兩種塗膜加以去除以及利用靜電釉糾$ i % ^ 砰电黏附薄膜所覆蓋之一侧 β t 11。 π復風之 1貝j

第20頁 1246993 五、發明說明（17) 在試驗中所使用處理過程為：（丨）預先清理基板以及使用水滴接觸角測定乾淨程度；（2 )對基板加熱以及喷灑塗膜 ;(3 )量測塗覆基板之水份接觸角度；（4 )去除塗膜；以及（5 ) 再次使用接觸角方法測定去除塗膜後基板乾淨之程度。

基板預先清理及塗膜去除使用下列步驟“丨）2% SEMICLEAN K G喷灑於基板或塗膜上以及使用乾淨布進行人工刷洗；（2 ) 基板或塗膜作超音波清洗（4〇kHz， 2% SEMICLEAN KG，40 C - 5 0 C )歷時1 5分鐘；以及（3 )基板或塗膜使用刷洗清理器 (ULTRATECH 60 5 Photomask/Substrate Cleaner)進行刷洗清理以及旋轉乾燥。 _ 進行喷灑塗膜所在基板之溫度將影響塗膜特性。在較问/皿度下，塗膜材料變為較為乾燥以及具有較大傾向產生化學變化例如分解或氧化。這些變化強烈地影響玻璃表面與塗膜材料間之黏附力量。假如基板溫度太低，塗膜乾燥非常緩慢以及遺留下塗膜液滴於表面上。並不需要緩慢的乾燥以及塗膜液滴。。如先刖所說明，本發明塗膜能夠塗覆於溫度為2 0 0 °C - 、、主理W基Λ上/為了在實驗室設備中模擬這些溫度，預先 :二。土板在加熱板上預先加熱以及由熱板移除以進 :贺灑。由熱板移除前使用熱電偶量測基板溫度（Τ1)及噴灑W温度（丁2)顯千认主」士 , ; ^ 〇Γ齡Μ翻—二」、於表4中。假如在熱板上基板溫度為30ϋ 古於350 不喷凝溫度低於9Gt，以及假如基板溫度些微地问' 〇 C，賀灑溫度只高於2 0 0 t —些。由於人工摔作存

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在一些偏差，以及因而對於塗膜試驗，基板由熱板去除當溫度約為3 4 0 ± 1 0 C時，將使塗膜溫度約為2 〇〇它。

曰使用接觸角度作為塗膜去除主要特徵之工具，該方式最為快速以及為最容易之方法。澱粉以及meth〇cel為有機聚合物以及具有較低表面能量低於玻璃表面，因而這些塗膜可以觀察到較高的水滴接觸角。假如玻璃表面非常乾淨並無聚合物殘餘物，水份接觸角為非常低，此由於玻璃之高表面積能量所致。因而，由於塗膜去除水滴接觸角度變化所顯不之乾淨玻璃表面與聚合物塗膜間之表面能量差值能夠使用來巨觀地測定出是否塗膜被去除。亦能夠使用顯微鏡方法以補充接觸角資訊以決定是否塗膜完全地去除而不會有微量殘餘物（參閱範例2 )。表5概述出所測試澱粉以AMETH〇CEL水滴接觸角度之結果。能夠由儀器量測出之最小的水份接觸角度為8度以及因而使用該數值作為乾淨表面之指標。在塗膜塗覆至玻璃表面前，其具有接觸角度為小於或等於8度。所有五種低黏滯性澱粉產物發現能夠使用上述處理過程加以去除。N-TACK塗膜比其他塗膜黏，其通常並不是所

需要的。PURITY GUM 59以及N-TACK具有pH值接近中性。 GUM 59為純支鏈澱粉聚合物。與線性澱粉糖比較， ^支支鏈殿粉具有較佳之溶解性。emsize CMS 6〇具有較咼pH值，因為其為甲基羧酸鹽。該高pH值為並不需要的，因為其在長時期儲存以及運送過程中將促使表面受到侵蝕。表5中數據表示並&METH〇CEL塗膜完全地去除，甚至於

第22頁 1246993 五、發明說明（19) 這些產物之分子量相當於測試澱粉產物之情況。雖然並不希望受限任何特定操作理論，人們相信METH0CEL塗膜壁完全地去除，因為METHOCEL分子之分子間/分子内氫鍵所致。參閱J.E· Glass， Water-Soluble P〇iymers， American Chemical Society， Washington， D.C·， 1986， 14 。

所有測试殿粉包含超過7 〇 %直鏈殿粉。在直鏈殿粉骨架結構中，存在許多分支次結構。另外一方面纖維酯只具有線性之骨架。分支結構中斷澱粉分子間之氫鍵以及使得該產物比相同分子量METH0CEL產物更容易溶解。線性結構亦加入較強氫鍵於纖維酯分子與玻璃表面之間。所有這些效應相彳§歸諸於METHOCEL分子比殿粉更難以去除所致。當硼酸加入於METHOCEL溶液中，所有METHOCEL塗膜完全地由玻璃表面去除。人們相信添加硼酸將減少meth〇cel 分子與玻璃表面之相互作用位置。、為了測定滅菌劑是否影響塗膜之清理能力，兩種一般滅菌劑D0WICIL 由 Dow Chemical 製造以及KATHON LX 由 Rohm

以及Hass供應進行測試。在表6中數據顯示具有滅菌劑之塗膜利用上述所說明處理過程仍然為容易地加以去除。因而，能夠使用滅菌劑而不會對塗膜去除產生負面之影響。活性化玻璃表面之效果藉由在塗覆澱粉塗膜之前將預 $清理乾淨之玻璃基板作熱處理而加以檢視。特別地，基質在實驗室高溫爐中預先加熱至6 〇〇 ^歷時2 〇 _ 3 〇分鐘以及在由高溫爐移除前加以冷卻至35〇_38〇。基板再放置於熱板上以及依據先前所說明之處理過程加以塗覆。在試樣

第23頁 1246993 五、發明說明（20) 由向溫爐移除後之3 〇至9 〇分鐘内姦方式處理基板之水份接觸角；内=膜。则出以；膜能夠由活性化表面移除。在该表中所看到，澱粉塗極為顯：本ΐ明多醣體特別是本發明之澱粉具有位為良好的水溶性及遺留非常範例2 : 疋由井㊉ν里殘餘物於玻璃表面上。 m 例澱粉塗膜即PURITY GUM 59, c麵L ΤΕΧ 627’湖㈣CMS 60對其顆粒保護能力作測試。 j要地說明，所使用試驗處理過程包含下列步驟：⑴ 玻璃基板以及量測初始顆粒計數;⑺基板浸潰塗 ,、’、膜在空氣中乾燥；（3 )加熱基板歷時2分鐘；（4)藉 ::用刮損不含塗膜控制及含有塗膜基板上之兩片㈣玻之玻璃顆粒將基板污染；（5)受到污染基板在85%濕 "C下進行7天之老化；（6)清理基板；以及（7)計數乾、車基板上之顆粒。 # # 、，在基板上顆粒計數之變化藉由比較處理之前及之後顆粒=目而得到。塗膜顆粒保護之效果藉由比較含有塗膜及不含塗膜基板上之顆粒密度變化而估計出。、顆粒污染以及老化在正常化學實驗室中進行。清理，塗覆以及顆粒檢視在無塵室中進行。在無塵室中進行之目的在於保持玻璃基板遠離未知之污染源。喷灑塗膜具有較大潛在性地污染無塵室以及因而在無塵室中這些試驗以浸潰塗膜方式進行。基板為5" χ5”及〇.7mm厚之方形1737 LCD玻璃片。玻璃 1246993 五、發明說明（21)

基板使用人工擦洗預先加以清理，接著在2% SEMI Clean KG 溶液中利用超音波清理。在空氣中進行乾燥後，量測乾淨基板上最初顆粒之數目。乾淨基板一片接著一片浸潰於塗膜溶液（< 5秒），以及取出在空氣中乾燥至第二天。乾燥基板加熱至2 〇〇 t歷時 2分鐘以模擬噴灑塗膜之溫度。除了在預先決清理情況下各別地保持相同的控制（參閱底下），所有在第一開放pYREX 架上污染顆粒試樣以及在第二開放PYREX架上污染顆粒試樣放置於設定為1 〇〇烘箱中歷時5分鐘。進行該預先加熱以避免在高溫/高濕度槽中水份凝結於冷卻基板，其會洗掉些塗膜。基板立即地轉移至TEFL〇N架及放置於8濕度以及8 5 C濕度槽中。基板七天後由濕度槽取出進行清理。、γ進行清理藉由：（1)利用室溫去離子水份清洗基板，清洗後基板放置於去離子水份中以防止乾燥；（2)利用4〇。〇之

2、/〇 SEMICLEAN KG 人工擦洗；（3)在4〇°c 之2% SEMICLEAN KG 以超音波（72kHz)清洗歷時15分鐘；（4)利用去離子水份充 =α洗，（5)在40 C之去離子水中以超音波（4〇kHz)清洗3分、=6)在40°C之去離子水中以超音波（72kHz)清洗5分鐘；利用去離子水充份清洗；以及在空氣中乾燥。使用不同的超音波頻率以提供較大範圍顆粒尺寸之清洗。接桩1用CCD攝衫機计异顆粒數目以感測光線散射。儀器卜I於所有尺寸之顆粒以及大於或等於1〇微米顆粒的資使用四種不同控制试樣以辨識污染來源以及作為含有

1246993 五、發明說明（22) 塗膜試樣之標記（參考表7 )。、、主理t tH· ί塗膜以及並不# ;亏染。1亥控制保持於預先巧理之TEFLON盒子中。盒子只在無塵室中敞開。控制B ··不含塗膜但是被玻璃顆粒污染。使用該控制以測定塗膜提供顆粒保護之效用。、控制C ··不含塗膜以及並不被污染。該控制與控制人之差異在於該控制暴露於與含有塗膜/污染基板相同的環境。該控制能夠感測異於破裂玻璃顆粒之污染來源。才工制D . g塗膜但疋並不被顆粒污染。該控制提供避免塗膜本身污染之資訊。表8至11列出塗覆前（初始）至最終清理後不同基板顆，搶度之變化。標題為”巨大污染面積之增加π之欄位顯示高度污染面積之增加，即顆粒面積超過25顆粒/mm2之面積。緊鄰攔位顯示調整（改正）顆粒密度增加，其依據並無巨大污染面積中最終以及初始顆粒密度計算出。每一塗膜溶液或控制進行三次，以及調整密度增加之平均值以及標準偏差列出於第四攔位中。表中負值數字係指最終顆粒密度低於初始密度。又如上述所標示，顆粒計數裝置提供大於或等於1 〇微米（ g 1 0微米）顆粒之資訊以及所有感測顆粒之資訊（〉〇微米）。（>0微米顆粒之數目=界於〇微米及10微米間顆粒數目+ ^ 1 0微米顆粒數目）。所有巨大污染物數據依據〉〇微米顆粒。表8及10之數據為所有感測顆粒（>〇微米）以及表9及丨丨數據為大於或等於1 〇微米（-1 〇微米）之顆粒。第26頁 1246993 五、發明說明（23) 一些試樣具有巨大污染物以及具有巨大污染之試樣污染；效：具有該污染。。數值巨大污染具有巨大污染試樣：用周；=密度所建議具有巨大污染試樣作比較為困難的:尚：顆粒密度與不乎所有塗覆澱粉試樣（除了一件）技制A試樣及幾控制B及C試樣具有巨大、、亏汰人古有巨大污染，同時 Α試樣比較而不具有巨大污染之問題。在二樣因而與控制最大數值使用來作比較以說明與在:之況中密度密度之偏差。值比^ 4相當大顆粒控制結果：由=制A:樣保持於乾淨環境中， ;樣；在弟一喊驗操作(表8及9)中，到處理過二取束乾時二之數據列於㈣及llt。與控細試樣比較，控计 2等級以及210微米等級的控制八試樣較為乾淨。所有 J制B试樣具有巨大污染，同時控制A具有該情況。對於微米等級，控制A之最大調整顆粒密度增加為〇 24 + 〇 2卜 0.49顆粒/cm2，但是控制Bg 3 76 + 1 35 = 5. u顆粒/cm2(炎閱表1 0)。因而，控制A為丨0倍乾淨度。對於-i > 控制A最大顆粒密度為〇. 〇〇 + 〇· 〇6 = 〇· 〇6顆粒/^2,但是控、=’ 3為1.87 + 0.42 = 2.29顆粒/^112(參閱表11)。控制人為3〇倍 40倍之乾淨度。因為控制a並不存在巨大污染，巨大污^ 積並不對控制B之調整顆粒密度加以計算，控制B受到較面污染大於所顯示顆粒密度數目。 Λ

第27頁 1246993

甚至於控制c試樣並不直接地受到玻璃顆粒污染，其仍然呈現出巨大污染。理由在於並不對這些試樣作保護以及因而將由大氣環境收集污染物。忽略巨大污染面積，％這些試樣具有>0等級2倍顆粒以及-1 〇微米等級6倍顆粒一制A試樣。二 PURITY GUM 59:

統計上，塗覆PURITY GUM試樣對兩種顆粒尺寸等級為一樣乾淨。其並未呈現出巨大污染。通常與控制β試樣比較而並不考慮控制B試樣巨大污染面積，利用2· 5%澱粉溶塗覆於試樣上存在1 0倍至2 0倍較少顆粒。當塗膜溶液濃度由2· 5%提高至1〇%時，在含有塗膜基板上>0微米等級顆粒密度些微地增加以及-丨〇微米者保持約為相同。在污染以及未污染試樣上塗覆5%等級之顆粒密度幾乎相同，其建議小顆粒密度隨著塗膜溶液濃度提高會到較高濃度之塗膜材料殘餘物而產生。由於-1〇微米9等^及顆粒密度並不會改變，塗膜材料殘餘尺寸呈現出小於丨〇微米。能夠使用更進一步清理處理過程例如刷洗以去除殘餘物，雖然一般< 1 0微米之殘餘物並不是嚴重的問題。

如表10及11所示，與使用相同濃度澱粉但是並不使用界面活性劑比較時，添加十六烷基三甲基銨溴化物具有單一C16碳鏈之陽離子界面活性劑至5% PURITY GUM溶液致顆粒密度之增加。 ' # 表12及13之AFM及ESCA分別地表示在最終清理後，沴霜

第28頁 1246993 五、發明說明（25) 玻璃並未有明顯的化學變化 > 米以及ESCA數據為重量（。^表中，數據為奈相同基板在不同點處量.、則、刀有Μ數據表不多次對、處里測）。碳數據並不包含於砉1 q 士 m 為所有試樣並不在同一夭旦 ' 中，口及CRYSTAL TEX 妓η里測。不過，所有PURITY GUM以 γ * $ X樣共同利用控制A試樣量測以及這歧所有试樣石反浪度在相同的範圍内。 —听’ CRYSTAL TEX 627：

CRYSTAL TEX r0/ U 1 no/ ^ ^ , 々印係數低於PURITY GUM 59，其在 5/〇及10/G》辰度產生極為良好^ ^ ，”隹任何濃度下並未觀察到巨大的Λ拉保Λ(參閱表10及⑴，在 1¾ f等級α i > 1 η = $ Θ大乐。在表面所形成塗膜在>0 U米專級以及微米等級下與控制A —樣所示，在该塗膜上顆粒污染祐 _ 工 2 5% :熏产數攄夕八私4 不產生較面顆粒密度。對於 •'又刀政相^係由於該溶液超低#占、、帶性所较。 AFM以及ESCA顯示塗膜並不备改綠 > y 成份（參閱表12及13)。 θ改父表面粗棱度以及化學組 EMSIZE CMS 60：在測試中EMSIZE CMS 60為最黏滯性然有資格作為低m殿粉。 m雖然其仍一如表^及^所示，在2.5%濃度下，存在巨大污毕豆不塗膜提供良好的顆粒保護。在-U ^ 著增加顆粒密度，但是在>0微米等級下，顆粒：：’只亚比二產物較同为子罝所產生澱粉塗膜殘餘物情況下能夠使用更進一步清理處理過 y成假士而要 /处理過^例如刷洗清理以去

第29頁

1246993 五、發明說明（26) 除這些殘^物。不過，如先前所說明，<1〇微米殘餘物通並不特別嚴重。 '

表12之AFM數據顯示EMSIZE保護之基板與控制A 一滑，同日寸表1 3之E S C A顯示存在少量鈉殘餘物，其通常〔D 基板並不需要的。、 … 總之，上述數據顯示殿粉塗膜提供極良好的顆粒保每一測試塗膜保持LCD基板外觀上與保持於無粒環境；^ 之控制基板一樣乾淨。丁衣兄甲範例3 : 在塗覆CRYSTAL TEX 627( 5%溶液）玻璃表面使用範例 2技術進行奈米缺口刮痕測試。結果顯示於圖2中。每一曲線圖包含三條痕跡，其表示在刮損前，刮刮損程中（負載产況下），以及刮損後（移除負載後）。特別地，上部曲線為^ 面粗糙儀之蹤跡，其顯示預先刮痕表面外形，底部（最深）蹤跡顯不在刮痕過程中到痕端部之穿透，以及中間蹤跡顯示彈性回復後刮痕之最終深度。塗膜估計厚、、並無數據以及顯微檢視顯示任何完全穿透過玻璃界面二塗:Γ6:ΐ;。此為確實情況’甚至於圖3顯示在刮損測試前暴露於去離子水份丨〇分鐘塗膜之相對應一組蹤跡。由於所使用儀器特性，水份由塗膜去除以及開始測試之間只有數分鐘（2_4分鐘）之延遲。、暴露於水份改變塗膜可見之外觀，其中消除原先塗膜中可看到之圓形乾燥圖案。不過，如圖3所示，塗膜由於暴

第30頁

1246993 五、發明說明（27) 露於水份並不存在刮痕效應（刮痕抵抗）。如先前所指出，圖2及3結果初始塗膜厚度為i5〇〇nm。較厚塗膜預期提供較大刮損抵抗性以及越薄塗膜某些程度上為較小抵抗性。範例4 : 使用5% CRYSTAL TEX 62 7溶液重複範例2之處理過程以及保持於85%濕度/85 t槽中三個月，而非7天保存期。結果顯不於表14及15中，其中為21〇微米等級之顆粒密度。（在表15中AFM及ESCA數據分別為奈米以及％重量比單位）。些tn看到，澱粉塗膜提供極良好的顆粒保護以 f支甚上並不會改變玻璃表面化學性或表面特敛，甚至於在延長儲存期後。上述試驗只作為列舉以及並不作。熟知此技術者了解本發明處理，、、、々|本务明之範圍及對等情況。申明專利耗圍將含蓋這些變化，改變甲氧基％羥丙基替代 30 29 0. 23 28 0. 13 22 0. 21 羥丙基％ 8.5 5· 0 8. 1 表1 產物甲氧基替代 METHOCEL A 1·8 METHOCEL E 1. 9 METHOCEL F 1· 8 METHOCEL Κ l. 4 表2 黏滯係數mPa· s(2%，20。(：） I合平均程度平均分子量 1246993 五、發明說明（28) 5 53 1 0 0 0 0 10 70 1 3 0 0 0 40 110 2 0 0 0 0 100 140 26 0 0 0 400C4M) 表3 220 41000 PURITY N-TACK CRYSTAL NADEX EMSIZE GUM 59 TEX 627 772 CMS 60 來源蠟玉米蠟玉米樹薯玉米馬鈴薯澱粉形式支鏈殿粉混合物混合物（2 5 -27%直鏈澱粉；73-75% 支鏈澱粉混合物混合物改良物丙烯氧化無無無羧基-甲酯基取代 pH(10°/〇 4. 5-6. 5 5-6 3-4 3 9. 5-11.5 溶液）溶液顏色清澈清澈些微黃色淡褐色清澈製造商 ML· NAL. NAL. NAL. Ems1 and NAL·表示Nat i ona 1 Starch and Chemical Co.

E m s 1 a n d 表示 E m s 1 a n d S t a r k e G Μ Β Η 表4 基板 Tl(t) Τ2ΓΟ 1 300 186

第32頁 1246993 、發明說明 (29) 1 353 201 2 300 186 2 355 212 3 300 186 3 361 表5 207 塗膜溶液澱粉清理前接觸角清理後接觸角

2.5% PURITY GUM 59 31 <8 2.5% N-TACK 29 <8 2. 5% CRYSTAL TWX 627 31 <8 2.5% NADEX 772 30 <8 2. 5°/〇 EMSIZE CMS 60 28 <8 METHOCELS ( 甲基纖維素以及羥丙基甲基纖維 2. 5% E3LV 39 29 2.5% E6LV 45 29 2. 5% A15LV 54 16 0.5% A4M 56 15 2. 5°/〇 K35LV 42 19 2. 5°/〇 F50 49 20 0.5% F4M 57 18 METHOCEL + 硼酸 2. 5°/〇 E6LV + 硼酸 40 <8 0. 5°/〇 A4M + 硼酸 48 <8 第33頁 1246993 五、發明說明（30) 0. 5% F4M + 硼酸 57 <8 表6 塗膜溶液清理前清理後滅菌劑接觸角接觸角 5% PURITY GUM 59 + 50ppm KATHON 46 <8 5% PURITY GUM 59 + 0.1°/〇 DOWICIL 7 5 48 <8 基板在6 0 0 °C處理 5% PURITY GUM 59 + 50ppm KATHON LX 45 <8 5% CRYSTAL TEX 627 + 50ppm KATHON LX 8 <8 表Ί 試樣數目塗膜控制A 3 無控制B 3 無控制C 3 無控制D 3 是塗覆試樣 3 表8 是顆粒污染容器或固定器

無乾淨盒子是支架I 無支架II 無支架II 是支架I 試樣受到顆顆粒密度（#/平方公分）粒污染初始最終控制A 否 0. 71 1. 25 控制B 是 1. 50 3. 53 0. 75 5.37 第34頁

1246993

五、發明說明（31) 1. 08 4. 60 控制C 否 3. 24 4. 24 2· 82 3. 21 0· 65 2. 09 2·5% PURITY 是 1. 12 1. 34 GUM 59 1. 23 1. 29 1. 41 1. 83 5°/〇 PURITY 是 1. 01 1. 56 GUM 59 1. 16 1. 87 0. 57 1. 09 5% PURITY 否 0· 93 1. 74 GUM 59 1. 88 2.10 (控制D) 1. 44 2. 10 10% PURITY 是 1. 19 1. 36 GUM 59 1. 16 2.17 0· 76 2. 15 試樣增加巨大污改正密度平均密度染面積（c m2) 增加（# / c m2) 增加（# / c m2) 控制A — - 0 0. 54 0. 54 控制B 3 2. 19 4 4. 49 3. 65 ± 1 第35頁 1246993

第36頁五、發明說明（32) 3 3.83 控制C 2 1.19 1 0. 43 1. 03 土 0. 54 1 1. 47 2·5% PURITY 0 0. 22 GUM 59 0 0. 05 0· 23 土 0.18 0 0. 42 5% PURITY 0 0. 55 GUM 59 0 0.72 0· 60 土 0. 10 0 0. 53 5% PURITY 0 0. 82 GUM 59 0 0. 22 0· 57 土 0.31 (控制D) 0 0. 67 10% PURITY 0 0. 17 GUM 59 0 1. 01 0. 85 土 0. 62 0 1. 38 試樣受到顆顆粒密度（#/平方公分）粒污染初始最終控制A 否 - 一 0 • 21 0. 03 控制B 是 0 • 17 1. 54 0 .04 2. 80 1246993 五、發明說明（33) 0· 06 1. 84 控制C 否 0. 72 1. 00 1. 38 0· 48 0· 10 0. 33 2. 5°/〇 PURITY 是 0· 08 0· 22 GUM 59 0. 07 0· 11 0· 21 0· 14 5% PURITY 是 0· 07 0· 10 GUM 59 0· 22 0· 19 0· 11 0. 13 5% PURITY 否 0· 11 0. 15 GUM 59 0. 66 0· 66 (控制D) 0. 19 0· 19 10% PURITY 是 0· 08 0. 15 GUM 59 0· 10 0· 07 0· 25 0. 15 試樣增加巨大污改正密度平均密度染面積（c m2) 增加（# / c m2 ) 增加（# / c m2)

控制A

控制B 3 4 3 -0.18 1.44 2. 92 1.92 -0· 18 ± 0 2. 09 ± 0· 76

第37頁 1246993

第38頁五、發明說明（34) 控制C 2 0. 33 1 -0. 89 0· 11 土 0.68 1 0. 24 2.5% PURITY 0 0. 1 4 GUM 59 0 0.04 (h 04 士 0.10 0 -0· 07 5% PURITY 0 0. 03 GUM 59 0 -0.03 0· 00 土 0. 03 0 0. 0 1 5% PURITY 0 0. 04 GUM 59 0 0. 00 0· 01 土 0. 02 (控制D) 0 0. 00 10% PURITY 0 0. 07 GUM 59 0 -0.03 -0· 02 土 0. 08 0 -0. 1 0 表10 試樣受到顆顆粒密度（#/平方公分）粒污染初始最終控制A 否 0.51 0. 58 1. 05 1.47 0. 66 0. 50 控制B 是 1. 01 5. 34 1.15 3. 32 1. 09 5. 05 1246993 五、發明說明（35) 控制C 否 0. 87 1. 51 0. 93 0. 94 0. 72 1. 70 5% PURITY 59 + 是 0. 46 3. 61 0. 2%十六烷基三甲 0. 54 1. 41 基銨溴化物 1. 14 0. 79 2. 5°/〇 CRYSTAL TEX 是 0. 39 1. 36 627 1. 95 1.68 2. 85 3. 34 5% CRYSTAL TEX 是 0. 58 0. 82 627 0. 61 0.69 0. 64 0. 76 5% CRYSTAL TEX 否 0. 62 0. 94 627 (控制D) 1. 40 2. 05 0. 48 1. 00 10% CRYSTAL TEX 是 0. 97 1. 27 627 1. 43 1.37 1. 32 1. 23 2.5% EMSIZE CMS 是 0. 57 1. 63 60 0. 72 2. 49 1.30 1. 83 2.5% EMSIZE CMS 是 0. 79 1. 23 60(控制D) 1. 32 1. 47 0. 83 0. 76

第39頁 1246993 五、發明說明（36) 試樣增加巨大污改正密度平均密度染面積（cm2) 增加（#/cm2) 增加（# / c m2) 控制A 0 0. 07 0 0. 42 (K 24 ± 0· 25 0 -0.17 控制B 4 4.86 1 2.25 3. 76 ± 1. 35 2 4. 16 控制C 1 0. 66 2 0. 04 0. 57 ± 0· 49 1 1 . 02 5% PURITY 59 9 3. 67 0. 2%十六烷基 1 0. 89 1. 40 ± 1. 96 甲基銨溴化物 0 -0· 35 2.5% CRYSTAL 2 1 . 01 TEX 627 0 -0.28 0. 41 ± 0. 65 0 0.51 5% CRYSTAL TEX 0 0. 24 627 0 0. 08 0· 15 ± (K 08 0 0.12 5% CRYSTAL TEX 0 0. 32 627 (控制D) 0 0. 65 0· 49 ± (L 17 0 0.51 10% CRYSTAL 0 0. 30

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1246993 五、發明說明（37) TEX 627 0 -0.06 0· 06 土 0. 22 0 -0.08 2. 5°/〇 EMSIZE 0 1 . 07 CMS60 0 1.77 1. 1 1 土 0. 64 -2 0. 49 2.5% EMSIZE 0 0. 44 CMS60(控制D) 0 0.15 0· 18 土 0. 26 0 -0. 07 表 11 試樣受到顆顆粒密度（#/平方公分）粒污染初始最終控制A 否 0. 06 0. 06 0. 24 0.29 0. 15 0. 10 控制B 是 0. 03 2.15 0. 07 1. 58 0. 08 1. 73 控制C 否 0.08 0. 42 0. 01 0.21 0. 06 0. 36 5% PURITY 59 + 是 0. 07 1.19 0. 2%十六烷基三甲 0. 06 0. 14 基銨溴化物 0. 07 0. 04 2.5% CRYSTAL TEX 是 0. 04 0. 35

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1246993 五、發明說明（38) 627 0. 07 0. 00 0· 03 0. 18 5% CRYSTAL TEX 是 0· 07 0. 08 627 0· 06 0. 08 0· 04 0. 07 5°/〇 CRYSTAL TEX 否 0· 07 0. 13 627 (控制D) 0· 07 0.18 0· 10 0. 25 10% CRYSTAL TEX 是 0. 10 0. 06 627 0· 13 0.17 0· 04 0.01 2. 5°/〇 EMSIZE CMS 是 0· 07 0. 18 60 0· 06 0. 28 0· 03 0. 13 2. 5% EMSIZE CMS 否 0· 07 0. 04 60(控制D) 0· 06 0.13 0· 07 0. 10 試樣增加巨大污改正密度平均密度染面積（ cm2) 增加（# / c m2)增加（# / c m2) 控制A 0 0 • 00 0 0 .06 0· 00 ± 0· 06 0 -0 .06 控制B 4 2 .35 1 1 .55 1. 87 ± 0· 42

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1246993

第43頁五、發明說明（39) 2 1. 72 控制C 1 0.34 2 0. 20 0· 29 土 0. 07 1 0. 31 5% PURITY 59 9 1. 29 0 . 2 %十六：)：完基 1 0. 08 0· 45 土 0. 73 甲基銨溴化物 0 -0.03 2·5% CRYSTAL 2 0. 31 TEX 627 0 -0. 07 0· 13 土 0. 19 0 0.16 5°/〇 CRYSTAL TEX 0 0. 01 627 0 0. 03 0· 02 土 0. 01 0 0. 03 5°/〇 CRYSTAL TEX 0 0.01 627 (控制D) 0 0. 06 0· 1 1 土 0. 01 0 0.11 10% CRYSTAL 0 -0.04 TEX 627 0 0. 04 -0. 01 土 0. 04 0 -0.03 2. 5% EMSIZE 0 0.11 CMS60 0 0. 22 0· 14 土 0. 07 -2 0. 10 2· 5% EMSIZE 0 -0.03 CMS60(控制D) 0 0. 07 0· 02 土 0.05 1246993 五、發明說明（40) 0 0. 03 表12

第44頁試樣 RMS R a 控制A 0.325 0. 250 0.310 0· 242 2. 5% PURITY GUM 59 0. 308 0. 245 0.281 0· 222 5.0% PURITY GUM 59 0. 224 0· 178 0. 224 0· 176 5. 0°/〇 CRYSTAL TEX 627 0. 278 0· 222 0.260 0· 206 2. 5°/〇 CRYSTAL TEX 627 0. 272 0· 216 0. 272 0· 216 表 13 試樣 A1 Si Ba Ca N 0 Sr Na 控制A 6 . 5 27. 3 0. 6 0. 7 0. 6 64. 2 0 .3 — 2. 5% PURITY 7. 1 27. 70.60. 9 0. 9 62. 5 0 .3 - GUm 59 5.0% PURITY 6. 6 25. 90.60. 8 0. 4 65. 4 0 .3 - GUM 59 5.0% CRYSTAL 6. 5 27. 10.60. 8 0. 3 64. 4 0 .3 — TEX 627 2.5% EMSIZE 5. 9 24. 50.60. 7 0.8 67. 1 0 .20.2 CMS 60 1246993 五、發明說明（41) 表 14 試樣老化週期（週）巨大污染（％) 不含塗 4 3.2 膜控制 8 38.8 13 90· 6 5°/〇CRYSTAL 4 益 TEX 627 8 益 13 無表15 A1 Si Ba Ca N 基線 6. 2 26. 1 0· 6 0· 8 0· 9 4週 6.0 26. 3 0. 3 0· 6 1. 2 8週 5. 9 26. 3 0· 3 0. 6 1. 3 13週 5. 4 26. 2 0· 5 0· 6 1· 6 顆粒密度（顆粒/ c m2) 0· 56 ± 0. 27 -(K 1 2 ± 0. 44 17. 85 ± 14, 97 0· 02 ± (K 02 -0. 68 ± 0. 17 0· 05 ± (K 03

0 Sr B AFM 61. 7 0.3 3.5 0.27-0. 36 62· 8 <0· 3 2· 6 0. 30 62. 7 <0.3 2.8 0. 28 61.6 <0.3 4.1 0. 32

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Claims

1246993 六申請專利範圍脖里過転一點處藉由塗覆水溶性溶液至新形 ^進行，其中在與水溶性溶液接觸之成坡璃上同為向於15(TC及低於3〇(rc。成坡螭溫度 8雜依Ϊ申請專利範圍第7項之方法，其中在與水溶性洽、之刖新形成玻璃溫度為低於3 0 0 〇C及高於1 5 〇 t '奋'之妾觸SI請專利範圍第7項之方法，其中在與水溶性溶液接則新形成玻璃溫度為低於2 5 〇乞及高於丨5 〇 t。依據申請專利範圍第7項之方法，其中在步驟(a)中玻璃 ^直的以及玻璃溫度在整個步驟（A )中保持相當高，因而液滴並不會形成於表面上。 ’ 1 ^ ·依據申請專利範圍第丨〇項之方法，其中在步驟（A )結束 4玻璃溫度至少為1 〇〇它及低於3 〇〇 t。 1 2 ·依據申請專利範圍第1項之方法，其中在步驟（a )(丨）中水溶性溶液藉由喷灑塗覆至表面。 • 1 3 ·依據申請專利範圍第丨〇項之方法，其中在步驟（Α κ）中，水溶性溶液在塗覆至表面之前加熱。 1 4 ·依據申請專利範圍第1項之方法，其中在步驟（a )及（B) 之間包含額外的步驟： (a )切割玻璃；以及 (b)研磨及/或拋光切割玻璃至少一個邊緣；其中：含有水份溶液或水份在步驟（a )及（b)之至少一項步驟過程中塗覆於含有塗膜之表面上；在步驟（a)及（b)之前塗膜表面具有第一接觸角以及在

第48頁 1246993 六、申請專利範圍步驟（a )及（b )後具有第二接觸角；以及第一與第二接觸角相差大於〇及小於5度。 15. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中在步驟（A)(i)水溶性溶液中多醣體濃度在0. 1 %至3 0%重量比之間。 16. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中步驟（A)( i )之水溶性溶液之黏滯係數在0 . 1分泊至1 0 0分泊之間。 17. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中步驟（A)(i )之水溶性溶液包含滅菌劑。 18. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中步驟（A)(i )之水溶性溶液包含塑化劑。 19. 依據申請專利範圍第1項之方法，其中含有多醣體塗膜厚度在0. 1微米與50微米之間。 2 0.依據申請專利範圍第1項之方法，其中含有多醣體塗膜 •厚度為在0. 1微米及20微米之間。 _21.依據申請專利範圍第1項之方法，其中步驟（B)之水溶性溶液包含清潔劑。 2 2.依據申請專利範圍第1項之方法，其中步驟（B)包含一個或多個下列步驟：對步驟（b )水溶性溶液加熱，施加超音波能量至塗膜，及/或刷洗表面。 2 3.依據申請專利範圍第1項之方法，其中塗膜減少玻璃碎片黏附至表面之數目至少90%及小於100%，該減少係在相當條件下與黏附至不含塗膜表面玻璃碎片數目作比較。 2 4.依據申請專利範圍第23項之方法，其中黏附至表面之玻璃碎片之數目減少至少9 5%及小於100%。

第49頁 1246993 六、申請專利範圍 2 5.依據申請專利範圍第1項之方法，其中玻璃具有兩個平坦的表面以及塗膜在步驟（A)形成於兩個表面上。 2 6.依據申請專利範圍第1項之方法，其中在步驟（B)後，使用玻璃來製造液晶顯示器。

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