TWI243263B - Color filter formation method, luminous element layer formation method and manufacture method of color display device derived therefrom - Google Patents

Color filter formation method, luminous element layer formation method and manufacture method of color display device derived therefrom Download PDF

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TWI243263B
TWI243263B TW090125176A TW90125176A TWI243263B TW I243263 B TWI243263 B TW I243263B TW 090125176 A TW090125176 A TW 090125176A TW 90125176 A TW90125176 A TW 90125176A TW I243263 B TWI243263 B TW I243263B
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TW
Taiwan
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substrate
color
layer
light
emitting element
Prior art date
Application number
TW090125176A
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English (en)
Inventor
Hideki Matsuoka
Kazuyuki Maeda
Original Assignee
Sanyo Electric Co
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Description

1243263 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種彩色濾 彩色液晶顯示裝置或彩色^ 7 / ,特別係指在 /巴电/放發先顯示裝置箅 成數據線或切換元件及像素電 中’在开」 片或發光元件層的方法或該等顯示裝置。4成彩色濾光 【先前技術】 薄型的顯示裝置,現今有如液晶 面頻不裝置急遽的普及。在此類平面顯示 1寻千 液晶顯示裝置(LCD)中,在相對 形’言如在 第一及第二基板之間封入液曰而心刀^成有電極的 一 7八,夜日日而構成,此外,執杆彩名曰κ 不的LCD係形成對應各像素之R、G、Β中任一去沾貝 濾光片,並控制每個像素的顯示色。 者的彩色 第圖所示係在各像素形成連接於像素 晶體(TFT)等切換元件,利用此切換元件,控制各=令1 早土咖之_造。在此類主動型lcd 中,在乐一基板形成丁 F 丁及像素電極,而其相對向的第二 基板則形成共通電極。在彩色主動矩陣lcd中,雖在此米員 構造上更進一步設有彩色濾光片,但習知 、 多數設於上㈣成有共通電極的第二基板上。 片則 以此在第二基板上形成彩色遽光片的情況時,便必須 考慮與第一基板的位置對準,因此在第二基板上便必須形 成黑色矩陣以作為防止位置偏差對策。但是,此黑色矩陣 心為k成LCD開口率降低的較大原因,對強烈要求提昇開 313103(修正版) 5 !243263 口牛的LCD而言,便期待有所改善。 有提安:為去除上述黑色矩陣而使開口率提昇,現今便 的形成基板(第—基板)形成彩色遽光片 如為Γ I; 光片(⑽ChlP 仙,造的IXD。 第-:板Li:先片之構造,則不再需要考慮第二基板對 土板的貼“立置異動而設置黑色矩陣。 第2圖所示係、主動矩陣型Lcd的 基板1〇中,如上述第1圖所示,二= 極線(在第2圖中未圖示),並於該等 又相杨成TFT(在第2圖巾未圖示)2 形成閘極線盥TFT,if /孕-斗斤 販上瓦先 上〇 亚在覆錢等構件而形成之絕緣膜 5。。在彩色濾光片5。上,传、:::2形成_'光片 j妾的汀〇(1_聰Tm 0xlde,氧化銦錫)等所 不電極2 〇。此種第—其抬^ Ω么 。像 極叫二基板80二,夾置:二表:上形成有共通電 液It Λ I與像素電極2〇,而依每個像素控制對 Τ用:^加電屋,而驅動液晶而進行彩色顯示。_由 知用此種晶載彩色遽光片,便可執行顯示出鮮盤色彩曰由 n上㈣晶„色m料緩和顏色滲出 =疋在組合於對M、G、B各色彩色濾光片之像 行將已經形成於基板整面上的各彩色遽光片 W必要的像素位置,而由不需要的像素位. 除的程序。所以,此程序即各自施 去 J R G、Β彩色濾光 J丨31〇3(修正版) 6 1243263 片0 但是’在第一基板的該等彩色濾光片的下層中,如上 述在各像素電極上,形成有用以供給顯示數據電壓的 TFT、及將顯示數據信號、掃描信號供給於丁打的配線。 因此,在彩色濾光片的圖案化處理之際,下層的配線或TFT 笔層便產生易於被侵姓而氧化的問題。 特別在顯示像素間的邊界上,大多配設有數據線、間 極線,尤其是’如第2圖所示,數據線大多採用較容易受 侵蝕、氧化的高導電率的A1,此外,如第2圖所示,並位 於與依每個像素施行圖案化處理之彩色濾光片的鄰接像素 的邊界處。在晶載彩色濾光片構造中,當採用負型光阻材 料中混人顏料的彩色濾光片材料時,糊將該彩色濾光片 曝光、顯影,便可將彩色濾光片形成預期的形狀。^是, :產錄據線曝露於為此彩色濾光片圖案化處理的驗性顯 影液等之中,而較容易劣化的問題。 / 、再者,在採用觀景窗用等像素尺寸較小的lcd中,必 須注意彩色濾光片不能突出鄰接像素,彩色濾光片的圖案 化處理精度便相形重要,但是在彩色濾光片中,採用感光 =樹脂料原材料,因為膜厚亦較厚等理由,若僅依賴顯 衫、餘刻能力’較難獲得明銳.輪摩的彩色遽光片,而無法 防止彩色濾光片突出鄰接像素區域。 ^ 為解決上述課題,在本發明中,其目的在於形成不致 對下層配線等造成不良影響,且輪#明銳的晶載彩色遽光 3】3彳03(修正版) 7 1243263 減光H,另—目的在於提供在依轉印方式形成晶載彩色 了〜不致對τ層配線等造成不良影響,且轉印時可 貝防止办色渡光片與基板間發生間隙的方法。 【發明内容】 為達成上述目的,本發明係具有下述特徵。 光元月中’在將設於轉印薄膜的彩色濾光片層或發 有朝預:方二於被轉印基板的方法中,被轉印基板係具備 =頁:方向複數條排列延伸的配線,及覆蓋該配線且由 成為鳴的保護絕緣層;利用按壓機構將前1 轉印基板,再將該按二i!C接於前述被 土狨構/σ者則述保護絕緣層之延伸方 向移動,而將前述彩色遽光片層轉印於前述被轉印基板上。 本發明之另-態樣,係於基板上設置有 j::將數據信號供給至該切換元件的複數數據線;將選擇 u供給至所對應之前述切換元件的複數選擇線;直接或 間接地連接於所對應之前述切換元件的像素電極;以及形 成於该像素電極下方的彩色渡光片的彩色顯示裝置之製造 方法’其中’在基板上形成前述選擇線、前述切換元 前述數據線之後,形成八sf令$ — /成刀別復盍朝仃方向延伸之前述數據 -亚土板突出形成為田故狀的保護絕緣層,利用按壓機 構將轉印薄膜上的彩色渡光片層壓接於前述基板,缺後再 職壓機構沿著前述保護絕緣層的延伸方向移動,而將 w述彩色濾光片層轉印於前述基板上。 本發明之另-態樣,乃在基板上設置有複數像素,且 313103(修正版) 8 1243263 =象素係具備有:在第—電極與第二電 :層的發光元件;連接於數據線與選擇線的切換用, 二,::連接於驅動電源與前述發光元件之間:二 述切換用電晶體而對應由數據線所供給的數據 1則 晶體的彩色顯示裝置件:广元件驅動用電 行方向延伸的前述選擇;二,,基板上形成朝 板突出形成為田欲狀的數據線且由基 述保墁絕緣層所包挾的區域 之伸之刚 光元件之第-電m ^於基板上的前述發義 元件層壓接於該第—電極’缺' 、的务光 護絕緣層的延伸方向㈣;;ί再將5亥知塵機構沿前述保 述第-電極上。動’而^述發光元件層轉印於前 在本毛明中,因為數據線等配線利用佯该^矮JS 4 覆蓋,譬如將R、G、W W二用保▲緣層加以 4, , ^ 一 、 /色濾光片或具備該等顏色的於 先功此之电光元件層依序形成於基板上之際,、又 曝露於彩色濾光>1之處理液<料 /τ、防止配線_ 現象。此外,保護絕緣層為覆蓋 Μ的 畝壯,Ri + ^ 線亚朝仃方向形成為田 □此在❸色濾 、光片等轉印時,在基板上便 此保護絕緣層作為行方向之兩側壁的各像素空間、 發明中,朝此田畝延伸方向(行方向 — 由上诚傻丰处鬥 自 進订I印,藉此可 真“工間,一邊將環境氣體朝行方向前方逐出,一 达將彩_片等依與基板間無間隙狀態方式埋入。
本發明之另一能揭,廿分L _L 〇亚非依上述按壓機構進行彩色濾 3Π]03(修正版) 9 1243263 =層或發光元件層的轉印,而是將液狀彩色遽'光片材料 σ於破轉印基板的彩色遽光片形成方法,被轉印基板具 ::朝預定方向複數條排列延伸的配線,及覆蓋該配線且 土板突出形成田故狀的保護絕緣層;由吐出機構吐 光片材料或發光元件材料,並將該吐出機構沿著 处保墁纟巴緣層之延伸方向進行相對性的移動, 被轉印基板上形成前述彩色渡光片層或發光元件層在刚述 如此雖由吐出機構吐出液狀的彩色濾光片材料或發 因為將保護絕緣層當作側壁利用,並使:材彳 ’、彳用此保護絕緣層所構成的像素空間, 採用液狀材料,亦可碹每牯μ 44^丨ώ 口此即便 流入於鄰行之像素空夂==惻壁外側’亦即 ^ 間寺[月形發生。再者,因為將此吐出 絕緣層的延伸方向進行相對性的移動, 同顏色之材料附著的可能性,且即便在經 層°。再^可^層與基板平㈣角部’亦可確實形成材料 〇吐出機構對所對應的像素空間,選擇丨生^ 滴下所對應的顏声舳粗丄f k擇性地< 枓。如此,僅要選擇性地執行吐出, 更不致在不需要的區域 材料声的^门士成材料層,因此不需要此類去除 曰、王序,同恰亦具有削減材料費的功效。 本發明之另一能样,A 士 方法中,在使前述;;電二上::顯示裝置或其製造 連接之接觸孔的形:二 向侧邊的料”之間::^ §層作為行方 r θ "又有彩色濾光片阻擋層。 此彩色;慮光片阻於馬 、 母€ k於彩色濾光片轉印前,形成於 3 Πΐ〇3(修正版) 10 1243263 將前述像素電極與前述切換元件在層間作電性連接之接觸 孔形成區域周圍,在該彩色渡光Μ阻擋層與前述保護絕緣 層之間,在彩色濾光片轉印時,確保供將環境氣體朝行方 向逐出的通路。 彩色濾光片因為大多屬於較厚且一經形成之後便不易 ,除的材質,因此藉由具備上述彩色濾光片阻擋層,在對 顯示品質具重大影響之像素電極與切換元件之接觸區域周 圍’可以預先構成彩色濾光片材料形成時難以埋入的構造。 再者,即便在彩色濾光片阻擋層之形成區域中,可一 邊將環境氣體朝行方向逐出,—邊將彩色濾光片進行轉 印’即便此區域附近’亦可使彩色濾光片密接於基板的方 式埋入。所以’藉由該彩色遽光片阻擔層的存在,便可使 =多採用較厚ρ經形成便不易去除之材f的彩色遽光片 較不易埋入接觸區域周圍。 本發明之另一 態樣 係在彩色顯示裝置中,於基板」 具備有:矩陣配置的複數個切換元件;朝行方向延㈣ 數據信號供給至所對應之前述切換元件的複數數據線;車 =方=延伸亚將選擇信號供給至所對應之前述切換元件^ 複數l擇、4,配置於紅w述數據線與前述選擇線所劃分出 :象'τ、區3或亚边過所對應的前述切換元件,供給數據信 :雨素電極;以及覆蓋前述數據線而形成的保護絕緣 :,其中,亚在將前述保護絕緣層作行彳向的兩側邊所構 .ρ 有口像π中所分配之顏色的彩色渡 无片。 3ΠΙ03(修正版) 11 1243263 再者,本發明之另一能 第二基板之間封入、夜曰所::,蝴目對向配置的第-及 第-基板上,具備:構成的彩色顯示裝置中,在前述 , /、有·矩陣配置的複數切換元件;朝行方 向延伸並將數據 數數n $ 對應之前述切換元件的複 晏文數據、·泉,朝列方h 、, 、+ "中亚將選擇信號供給至所對庠之前
述切換元件的菇勃遁裡μ · I习' Κ月J # ^ ^ *1 .ν 、、、泉,配置於經前述數據線與前述選 _數攄" 域,亚透過所對應的前述切換元件 1、、、、口数據k唬,而在盥相 々— 動液曰^十向的罘一基板上的電極之間驅 缘:aa:l電極;以及覆蓋前述數據線而形成的保護絕《 所in久^在將丽述保護絕緣層作為行方向的兩側邊 所構成的各像素空間中,彡 彩色濾光片。 W有各像素中所分配之顏色的 本《明之另—態樣,係在上述彩色顯示裝置中,前述 ,護絕緣層之上面高度係具有與前述彩色遽光片的上面相 同程度或該上面以上的厚度。 …如上所述,在本發明中,雖將彩色濾光片設於數據線 =成區域附近’但因為數據線被保護絕緣層所覆蓋,所以 田在各像素依序形成所對應的R、G、B等彩色濾光片之 ,,可防止數據線曝露於彩色濾光片之處理液或^卜界氣體 專之中而發生劣化的情形。 再者,因為此保護絕緣層覆蓋著朝行方向延伸的數據 線,因此在行方向巾,構成利用保護絕緣層來界定兩側邊 之各空間的構造,若將彩色濾光片藉由如上述般埋入或滴 下該空間内而形成,便可輕易地防止配設有不同顏色之奢 313103(修正版) 1243263 色濾光片的相鄰像素間產生混色的情形。特別係利用將保 護絕緣層形成足夠厚度,藉此可利用此保護絕緣層形成各 :象:的行方向側壁’而可防止不同顏色的彩色遽光片逾越 保4絕緣層而進入相鄰像素區域内。 ★當然在本發明中,因為係為將彩色濾光片設置於像素 二:::::二4如在液晶顯示裝置中’便可將彩色濾光 /、 拴制牙透光之像素電極間的距離變小,而可防止 硯察者辨識到相鄰像素的穿透光。 ’ 在本發明之另一離枵φ, 素具備有-、、1 顯示裝置係於各像 元件的Μ 兀,且則述像素電極係為該電激發光 按照與供給至該第-電極之數據信號 色電好:控制爾激發光元件的發光強度之彩 巴电激發光顯示裝置。 本發明之另一態樣,传,其 各像素係具備有:在第—f基=上具備有複數像素,且 件層的發光元件 %逐與弟二電極之間設有發光元 體;以及連接於驅動電源二;擇:的切換用電晶 _電源供給至前述 體’·其中,以至少覆蓋朝行方向延==用電晶 形成保護絕緣+伸之别述數據線的方式 邊所構成的像;空::將 之像素所分配之顏色之發光功複數像素中所對應 力月匕的發光元件層。 本發明令,在形成於各像素内設有電激發光元 313丨〇3(修正版) 13 1243263 件之彩色顯示裝詈〜af .... 、节色濾、光片層或發光元件層之際,如 上所述,以覆蓋數攄砷 像丰 |、·表的保墁絶緣層為邊界,隔著鄰行的 可=!:或,而採用轉印方式或所謂的喷墨方式,藉此 =夜一示裝置,防止鄰接的其他顏色所 間,隨材料混淆而诰忐、曰# & 〜/丁、 成化色的6形發生,可獲得顏色純度 ^ ,、色重現性佳的彩色發光顯示裝置。 激發ΐ者杜本ί明之另—態樣,係在各像素内設有前述電 二;且二::色顯示裝置中’前述保護絕緣層之上面高 =度有㈣述發光元件層的上面相同程度或該上面以下 激發層:形成有如複數像素共通的電 度維持如上述關係的节,μf 述保5隻絕緣層的厚 平坦化。再去= 能的使第二電極形成面 因為發光兀件層的阻抗大多 即便保護絕緣層的古庐姑& ^ 入夕比季乂冋,所以 太心/ 聽低,亦不致產生短路等問題。 本發明之另-態樣,係在彩色顯 構成矩陣狀複數像素區域,且在各像在基板上 有—連私數據線與選擇線之切換元件;以 換兀件,直接或間接地供給數據芦梦的俨月处刀 分配的托h门 的像素電極;在將 =的顏色不同且形成為通過相鄰像素 間内,編Γ 向側壁所構成的像素空 形成有所分配之顏色的彩色濾光片。 在本發明之另-態樣中,係在彩色顯示裝置 -反具備有複數像素,且各像素係具備有:在第一電㈣ 313103(修正版) 14 1243263 第^電極之間設有發光元件層的發光元件;連接於數據線 與選擇線的切換用電晶體;以及連接於驅動電源與前述發 光元件之間’且透過前述切換用電晶體而對應由數據、㈣ 供給的數據信號,來控制由驅動電源供給於前述發光元件 之電力的元件驅動用電晶體;其中,在將所分配的顏色不 同且形成為通過相鄰像素區域間之邊界之形式的田故狀絕 緣層作為行方向的兩側壁所構成的各像素空間内,形成有 具備所分配之顏色的發光功能的發光元件層。 如上所述,藉由採用將田畝狀絕緣層配置成所分配的鲁 顏色不同且通過相鄰像素區域的邊界,並在將此田故狀絕 緣層作為行方向之兩侧壁所構成的像素空間内形成各自 分配之顏色的彩色濾光片或發光元件層的構成,亦可輕易 地使該等彩色遽光片或發光元件層不致與其他顏色混色而 形成。再者,該等彩色濾光片或發光元件層的形成方法, 可採用如上述的轉印方式、吐出方式等,不論何種情況, 均可確實且容易的防止不同顏色材料的混入等。 【實施方式】 · 以下’採用圖示針對本發明較佳的實施形態(以下稱 「實施態樣」)進行說明。 貫施態樣1 在本實施態樣1中,彩色顯示裝置中所採用彩色渡光 片層的形成方法,係採用將設在轉印薄膜的彩色遽光片層 轉印於被轉印基板的轉印方式。此外,在本實施態樣中i 在轉印之前’先於被轉印基板上,形成朝預定方向複數條 313103(修正版) 15 1243263 排列延伸的配線,以及覆蓋該配線並由基板突出成田软狀 的保護絕緣層。對於此種被轉印基板,採用例如轉印輥作 為按壓機構,並利用此轉印輥壓接形成於輥轉印薄膜的匕彩 色濾光片層,同時將輥朝此保護絕緣層的延伸方向移動办 猎此便可將彩色濾、光片層正確地轉印於經保護絕緣= 分出的像素區域。 《 $ 被轉印基板係如液晶顯示裝置的第一基板、或+气笋 光顯示裝置之元件基板等,在基板上係形成有·彩^慮二 片、複數切換元件(如TFT)、將數據信號供給至tf^複 數數據線、將選擇信號供給至所對應的TFT切換元件之複 數閘極線、以及連接於TFT的像素電極等。 以下’針對具備晶載彩色濾光片之本實施態樣!的彩 色LCD,參閱圖式進行說明。第3圖所示係實施態樣工之 衫色LCD平面構造;第4圖所示係沿第3圖之μ線的 剖面構造;第5圖所示係沿第3圖之Β_β線的了 剖面構造。 1 在弟基板10中,如第3圖所示,朝列方向形成開極 線⑴而朝行方向形成數據線3〇,在該等線的交叉點附 近則刀料成TFT1。TFT1係具有閘極u、二個導電區域 (源極與没極區)及通道區,並具備由利用雷射退火等而多 晶化的矽(P-S〇層等所構成的主動層16。 其中’閘極11係如第5圖中所示,形成於較TFT主 動層16更下層處,TFT1則形成底閉極型(_〇m ㈣TFT。此外,在本實施態樣中,主動層i6乃形成橫切 313103(修正版) 16 1243263 :=向二呈直線延伸之間極線π的型態,與閘極線 .At 相重疊的位置,便具有各Tm之間極的 功此,而閘極線11則兼具閘極之用。 =㈣間抑丨的基板整面上係形成有 極絕緣膜12上,如上述,形成如第3圖 的芦門=層16、然後再於其上形成覆蓋基板整面 的層間絕緣膜14。 如第5圖戶斤示,主動層16的沒極區⑹ 間絕緣膜14的接觸?丨Γι 、奈拉# I貝通層 J接觸孔ci,連接於形成於層間絕緣膜14 ( 上的數據'線30。另,源極區…係透過貫通層間絕緣膜μ 與平坦化絕緣層18的接觸孔C2,而連接於形成在平坦化 絕緣層18上的像素電極20。 數據線30係採用導電率較高的材料,譬如採用鋁⑷) 在基板上朝行方向複數排列而形成,並湘如上述的接觸 ^=2連接於位於下層的TFT1之汲極區i6d。此處在本實 轭恶樣中,為實現高精細彩色顯示之目的,如第3圖所示, 將同色像素依每列位置交錯,即所謂的三角排列方式。因 此,數據線30並非呈直線狀的行方向延伸,而是每列位 置父錯像素的間隙相互穿梭交叉的延伸。當然,本發明並 不僅限於三角排列,亦可採取同色非在行方向交錯,而成 條絞式排列,此情況下,數據線30便將像素間在一直線上 朝行方向延伸。 在本實施態樣1中,數據線30係由較厚的保護絕緣層 32所覆蓋。此保護絕緣層32形成用以隔開配置有不同顏 313〗03(修正版) 1243263 色之衫色遽光片的相鄰像素間之阻障,換言之,即具有各 像素之彩色濾光片形成區域之側壁的功能。換言之,此保 護絕緣層32係在行方向中,分別劃分出相鄰不口同顏色所 分配的像素區域。 再者’保護絕緣層32係當在各像素區域内形成彩色濾 光片的製程之際’保護數據線3〇避免受所採用的處理液 (自感光性彩色濾光片之驗性顯影液等)或外界氣體等的影 響,亚防止數據線的斷線、短路。為使彩色遽光片形成側 壁的功能,保護絕緣層32最好如第4圖所示,形成如同彩籲 色濾光片50上面位置相同程度的厚度(高度)。其中一例為 當數據線30的厚度為〇.5//m,R、G、6的彩色滤光片分 別為1.5 // m至2 # m之情況時,保護絕緣層3 2最好為^ β m左右或其以上的厚度。如此,如欲形成i,左右厚 度之絕緣膜’最好具有對上述驗性顯影液的抗性,同時採 用如光硬化型《丙烯酸樹脂等適於形成較厚膜的絕緣材 料。另,保護絕緣層32係在基板整面上形成上述丙烯酸樹 脂層等之後,再經選擇性地去除之後,便形成如第4圖所 示的覆蓋數據線之田故狀。 在形成保護絕緣層32之後,形成彩色濾光片。第6 圖所示係有關本實施態樣彩色濾光片之轉印方法。
衫色濾光片轉印時,在形成被轉印基板的第一基板丄〇 上’形成閘極線(閘極)11、TFT1、數據線3〇、及保護絕緣 層32。然後,如上述,保護絕緣層32形成覆蓋數據線3〇, 同時朝行方向呈田畝狀延伸,並構成相鄰保護絕緣層U 313〗〇3(修正版) 18 1243263 間的各像素空間。 面的彩色遽光片層42,配置於抵接於此類的 基板上,並利用配置於 46,而將彩/ 上端的轉印輥 -邊雄: 層壓接於第-基板!〇上。然後, 伸方延伸方向移動。如此沿保護絕緣層32的延 矛夕動轉印輥46,便可由像辛允η 進方向逐出,而轉印彩色滤光片;Γ2將核境氣體朝前 « 面^成為對應全部的R、G、B彩色遽光片之像素方 了個依序在基板上形成彩Μ光片'。第 、以H G、Β形成於對應此順序的像素時,彩色 ==!例的概念圖。另’彩色遽光片材料係在負型 ^此入顏料的材料’當採用此類材料時,由於對 材料進行曝光、顯影,而從不需要的位置去除彩色 无片材料。 敕如採用第6圖所作之說明,在朝行方向進行轉印時, 面基板上’如第7圖⑷所示,轉印R的彩色濾光片之 ^再於其上方配置僅在R像素位置處有開口之Cr等曝 ^罩幕所形成的罩幕基板,並施行曝光。經曝光後,再施 行顯影,將未被光照射的R用像素空間以外的埋入於G 一用像斤、工間中的r彩色濾光片5 〇予以去除。其次, 如同R般,如第6圖所示,譬如將G彩色遽光片轉印於基 板1 〇之正面上。此時,因為由R用像素以外的像素空間 中已絰去除R彩色濾光片50,因此如第7圖(b)所示, 313103(修正版) 19 1243263 在將G用與B用像素之保護絕緣層作為侧壁的空間内,埋 入G用彩色濾光片50G。 經轉印後,覆蓋R用與G用的像素位置,採用僅^用 像素位置開口的曝光罩幕進行曝光處理,並進行顯影而芦 此將轉印於除G用像素位置外之像素空間上的彩色遽光片曰 观予以去除。最後,將β用彩色遽光片則轉印於整面 =二!7圖⑷所示,經曝光、顯影後,在剩餘的B 用像素空間中埋入彩色濾光片5〇β。 7一經轉印後,在R用與〇用像素位置處殘餘光阻,並施_ 灯钱刻處理,藉此將埋入於B用像素空間的彩 50G予以去除。最後再將㈣彩色濾、光片观,:第6圖 :二=於基板整面,而在剩餘…像素空 %色濾光片50B。 由以上說明可知,如欲將彩色濾光片分別形成於第一 二:對應象素位置’當使用R、G、w色濾光片時, 因=订二〜、、1影⑽刻)處理。在數據線的形成位置處,_ ==行方向中相鄰像素間的邊界一致,因此在 · 濾光片形成程序中,名# 巴 可能性便較高。 置暴路於顯影液或外界氣體的 保2二t實施態樣中’此數據線3〇被具備足夠对性的 γ二、θ所覆盍,便可確實保護數據線30免於受到 ==氧化等。然後’如第4嶋 夠厚产,萨lit成如形色濾光片5〇之上面相同程度的足 又猎此在轉印時,利用此保護絕緣層32便輕易的將 313103(修正版) 20 1243263 可防止相二離並埋,各像素區域中。因此,便 發生。故,保護絕緣層=之二濾光片相互混淆的情形 出基板而突出成田讀 形成時,雖形成高 此保護絕❹彩色遽光片的轉印乃朝沿 體逐出,-邊日打^ 向前進’所以便可—邊將環境氣 佳的形成於第-2Γ。而將較厚的彩色濾W接性 成彩法/’“、°、β各像素位置處形· 平扭之… 後’再於整面基板上,形成用以使上面· 的^像丰位2、緣層18,然後再於此平坦化絕緣層18上 極20。1像^ ’形成採用1Τ〇等透明導電材料的像素電 化絕緣:Γ8及ΙΓ係如第5圖軸^ 對废的TFT1的 緣版14而所形成的接觸孔C2,與所 數ί後3 0 L 區丨6 S相連接,並透過T F T1接收來自 數據、、表30所供給的數據信號。 再者’在覆盖像素雷梅9 > μ 制洛曰、u τ电枉20的基板整面上,形成用以控_ 向的偏㈣22。已警部形成該等的第一基板 在第二、弟;基板80在其間保持—定間隙的方式貼合,並 得、、,弟一基板間所形成的間隙中封入液晶層70,而獲 =色CD晶胞。另’在第二基板8q之與第—基板1〇 f向的面上,形成由丨莖 向膜84。第一與第二基板1〇寺戶〇構上成的共同電極82與偏 未研磨的膜或已研磨的膜。 之偏向膜22、84係為 接著,針對彩色攄光片阻擔層36進行說明。如第5 313103(修正版) 21 1243263 二所二供連接像素電極2°與TFT主動層“的接觸孔 *為將平坦化込緣層ι8與層間絕 開口 ,所以旦宫士 & , 六J *寺一者形成 大的与Γ1Γ 接觸不良將對顯示不良造成較 和曰。此外,衫色濾光片係屬於較 便較不易去除的封晳m f 且 t形成後 易去除的材”因此在本實施態樣中於_ 先片(印程序之前,在靠近接職 : 置彩色遽光片阻擋層36彩色^成^域付近處设 現在罪近接觸孔C2處,彩 了便了貝 A巴應九月材科較不易滲入的構 4 彩色遽光片阻擋層36係在接觸孔 與彩色濾光“…相同程度的高 々色濾光片阻擋層36係在與 間’依可確保當轉印時 0保一、彖層32之 的方4 符P 了被逐出於刖方之環境氣體之通路38 而+ \ W縣護絕緣層32而配置。該阻播層36,舉例 圖;二::成:6圖所示之乙字型圖案’且朝該L字型 Γ:Γ的邊係隔離保護絕如^ 38!7 在隔離部分確保用以逐出環境氣體的通路 阻擋声=為防ΐ衫色渡光片進入接觸孔C2形成區域中,
字^〔的L子型圖案的行方向的邊,最好配置成由L =的列方向的邊,朝轉印進行方向延伸的狀態 3 6的圖案並非僅 — 曰 方向之通路⑽ 型·圖案’僅要確保行 〜的话’亦可形成將接觸孔C2周圍由三方位 安。i U字型圖案’或全方位包圍而中間開口的環狀圖 者放果雖降低,但亦可為朝列方向延伸的直線圖 3丨3】03(修正版) 22 1243263 案。 丹有,此彩 /、丨」乃问稱成田 畝的上述保護絕緣層32同時採用相同材料而形成,便可形 成足夠的厚度,且將程序增加抑制至最小極限。此外,並 非定要形成该阻擋層36,亦可視需要而予以省略。、, 在以上之說明中,所說明的TFT1之主動層16,如第
3圖所示,將直線延伸的閑極線^繞2次,”成電Z 閘極構造。惟,TFT1的形狀並未僅限於第3圖所示之开广 $ ’此外亦可非為雙閘極構造而為單閘極構造。再者,在< I^FT ^ Γ轉出在主動層下層存在有間極的底閘極型 ',,、列’但即便閘極在絲層上層的㈣ 況時,彩色濾光片的轉印方式亦不變。 之^ f施熊檨2 在以上實施態樣1中,俜斜斟 力,明,而在本實施能二十二色液晶顯示裝置為例
Lu_eSCence,電;^ ;;、t /,則在採用有機叫叫_ 彩色EL顯示壯ΓΓ 等當作各像素之顯示元件的讀 光片芦^才 使用如同實施態樣1的晶載彩色滹 分係標註相同符明。另’以下對於相對應部 備個別控财機EL元件各像素中具 型有機EL顯示穿^夂Μ刀換兀件之所谓主動矩陣 如第8圖所;::素之等效電路構造。 例,係分別具備有有^ 示裝置的各像素之其中一 脊有有機EL元件5〇〇、筮_ τγτ/丄^ 膜電晶體)100、第—弟TFT(切換用薄 —(兀件驅動用薄膜電晶體)2〇〇、以 313丨03(修正版) 23 1243263 持電容Cs。第-TFT 100係連接於其間極朝列方向延 、間極線(GL)3l〇 ’且當以nch型TFT構成時,及極係 於t供ί數據信號的數據線(DL)300上,而源極則連接 …、寸電容Cs之第-電極與第二TFT 的閘極。另, ==CS係在上述第一電極與第二電極之間,如後述 電容線絕緣膜而構成,第二電極係連接於共通的 接於I ^二TFT 係以_型啊構成時,其源極係連 ^由通的驅動電源Pvdd各自配線的驅動電源、線€
)3〇2’而没極則係連接有二極體構造之有機豇 500的陽極。在此第二TFT 跋而姑- 的雜上,當利用選擇信 I力:厂TFT100導通(⑽)時,便由數據線3()〇供給, 對應於且經保持電容保持之數據信號的電厂堅。缺 後,弟二TFT 200便由驅動電源線3〇 的陽極供仏斟庙„枚+ γ 百枝el凡件500 、,。對應間極電廢的電流,❿有機EL元件500 # 依對應供給電流的強度產生發光。
的夂係本實施態樣2之彩色有機扯顯示裝置4 〇各二之概略剖面構造圖。第10圖所示係上述第一 TFT 100的概略剖面構造圖’第u圖係上述第二TFT 機EL兀件500之概略剖面構造圖n /、 200,在此均具備頂間極型構造。另,夂m二# :0、 盥216始浐心 力谷TF丁的主動層110 ” 將形成在如破料透明基板⑻上 層’同時利用雷射退火處理 ' 首先,第…。係 乐圖所不,在主動層116 313丨03(修正版) 24 1243263 上形成閘極絕緣膜12,且於間極絕 極線—输,另,在第10、圖;上^ 100 W木雙閉極型構造。主動層116的閉極線训 道區’在此通道區二側分別形成有摻雜雜質的 产兼料=祕區116s。第—TFT1⑽的源極區116s ir、兼用保持電容Cs的篦一帝;κ田 工, S的弟兒極用,而保持電容Cs的第二 =在:極絕緣膜12上’採用與間極31〇相同材料而; ==問極31〇與保持電容Cs之第二電極與間極絕 4 L2之上,係形成有層間絕緣膜14, | 緣膜14與閘極絕绫膜12而犯+ 貝^續r日1系巴 ㈣心 成的接觸孔中,兼用没極的 據、,表(叫3 00係與第-TFT !⑽的汲極區⑽相 =外’在覆蓋該等的基板整面上係形成有平坦化絕緣層 在第二TFT 200巾,如第u圖所示,如同第—丁打 刚,在閘極絕緣膜12之上形成有閘極叫,此閘極叫 係電性連接於上述保持電容Cs的第一電極。在第二抓 中,係在貫穿層間絕緣膜14與閘極絕緣膜12而形彳 $接觸孔中’與驅動電源線(VL)3〇2形成一體的如源極係 、接於主動層216的源極區216s。此外,貫穿於覆芸 而形成的平坦化絕緣層丨8、層間絕緣膜丨4與㈣^緣膜 1_2而形成的接觸孔C2中’係將由IT〇等所構成的有機此 兀件500之陽極5〇2與主動層216的;及極區2咖相連接。 有機EL元件500係具備有陽極5Q2、發光元^ 及陰極520的構造。如第9圖所示,陽極5〇2係依每個像 3丨3丨03(修正版) 25 I243263 π而個別形成,而由 素共诵y 士 寺孟屬所構成的陰極520係依各像 構成^成呈發光元件層510係以有機材料為主要成分而 〜例“ 有包含有機發光材料的發光層鳩。且中 層^由陽極⑽㈣’依序疊層電洞輪送層綱、發光 5〇6、及電子輸送層508。另,在 知尤 光元件层ς ! Λ I 隹本貝知怨樣2中,於發 像辛猶= ,雖僅發光層506如同陽極502般形成各 ”獨立的圖案。有機EL元件5〇〇的?: &您、樣2中並無特別的限制 ^ " +貝 有機材料亦古八工么士, 4人所週知的低分子系 同功能的新;二:材料之外,亦可採用具備其他相· 鍍或2方=I ^各層則利用真空蒸 情況時,可如後述,利用噴墨;系有機材料之 當然,發光元件層51G的形成方光元件層510。
在本實施態樣2中=方上:=僅限於該等方法。 顯示壯η η 上述的主動矩陣型有機EL 陽極I下方It 1與第U圖所示,在形成於各像素之· ㈣5〇2下方的平坦化絕緣層18與層間絕緣膜 < 如同實施態樣1般,具備有各像素的個別彩色濟光片芦 5〇。然後’如第9圖概略所示,利用在基板上覆蓋行^ =置的各數據線300並呈田敗狀的保護絕緣層η而形成 衫色濾光片形成側壁’並在以此側/ 區域中,分別埋入對應的R、G、B之為^而形成的像素 另,在圖中雖省略,但當配置有平行二片層5〇。 該數據線300相同材料構成的 “湖且由與 取旳驅動電源線VL302時,以同 3 Ul〇3(修正版) 26 1243263 I:::禮广緣層32覆蓋,並在以覆蓋數據線300之伴·、 、表層32與覆蓋驅動 保一 的像素區域I埋人m之保统緣層32予以劃分 302亦可利用入傻= 片4 5〇。但是,驅動電源線 第12 a所/像素共通的層而财,在此種情況下,如 ^圖所不般,覆蓋數據線则的保護絕緣们2便形成 彩色遽光片層50的形成方法如同實 f斤不,將設於轉印薄膜4〇的彩色遽光片層42,利:: 二6=基板m,並將此轉印親46朝保護絕緣層· 2狀伸方向前進,將彩色濾光片層 際上係在層間絕緣膜14上)。 土才反上“ 所形成的彩色滤光片層5〇,因為形成於相鄰 仃曰、。又絕緣層32成為阻障而分離,所以不致與其他 顏^的々色遽光片層5()相混清,而可在各有機紅元件⑽ 之陽極502的下方形成明銳圖案。當在依此方式形成 機EL元件的基板上設置彩色遽光片層料,各像辛 的有機EL元件500係可採用如全像素共通的材料。若以丁孀 第9圖為例’每個像素依各自圖案所形成的發光層506, 可採用例如具備白色發光功能的有機材料。在此類呈備白 色發光功能的發光層506中,由陽極5。2透過二 504植入電洞,而由陰極52〇透過電子輪送層植入電 子,便可獲得白色光。然後,此白色光穿透過透明的陽極 502’並通過R、G、B&彩色渡光片層5〇’便可成為預期 的R、G、B光而穿透過透明基板1〇1,並射出於外部,而 3】3丨03(修正版) 27 1243263 進行全彩顯示。再者’若彩色濾光片層5 〇具備預期的顏色 轉換功能,就全像素而言,便可採用其他任意發光色的元 件。另’在第9圖中’各像素的有機EL元件5〇〇之陽極 5 02在與鄰接像素之有機EL元件5〇〇的陽極5〇2之間,乃 利用第二平坦化絕緣層518隔開。再者,即便本實施態樣 元件500的陽極502,係透過極深的接觸孔而相連接, :該㈣蜀孔C2形成區域附近’如第u圖所示,最好如同 貝施恶樣1,預先形成彩色濾光片阻擋層3 6。 ( t施態樣3 第13圖所示係實施態樣3之彩色濾光片層5i的形成 方法概念圖。在上述實施態樣中,如第6圖所示, 採用轉_ 46將已形成於轉印薄膜則彩色^片層42 轉印於基板側’並將彩色濾、光片層5〇埋入於各像素區域 中。相對於此,在本實施態樣3中,採用如同喷墨印表機 =出裝置47,並將液狀的彩色濾光片材料43,朝向像素 ;域吐出的喷墨印刷方式。其中,以形成田故狀並朝行方 。^開讀素區域的保護絕緣層32作為障壁,而形成彩 色濾光片層51的方面,係與實施態樣1與2共通。 錢=的吐出裝置47 _,具備有喷嘴頭,且在此並排 有車父小的贺嘴孔4 S> 4* + 〜 可由口賀鳴孔45選擇性地吐出液狀 形色遽光月材料的滴液43。在本實施態# 3中,喷嘴孔45 的排列’乃依直交於行方向延伸的保護絕緣層32之方 / "出衣置47位置對準於基板10,並在將保護絕緣 313103(修正版) 28 1243263 ==“亍之像素間之隔壁所構成的溝狀像素形成 衫色;慮光片材料4 3。 若僅對同一顏色的區域(溝區域)選擇性地由喷嘴孔45 吐出相對應之顏色之彩色濾光片材料43,利二; 度的彩色濾光片材料43,可右夂 而取小限 編層51。當然,亦可如上;所需的彩色 工XL弟/圖所不般,鐾 , 區域吐μ用彩色濾光片材料43,將其經^退火等 去除二則光片層51之後,由不需要的區域, 片声51曰片曰層51 ’再依序形成g、β用彩色濾光 曰、法,但疋就材料費的削減方面,最 =域’由喷嘴孔吐出相對應之顏色的嶋光: 域中依緣層32作為側壁的像素形成溝區 固化,即可獲得足夠厚度的彩色濾光片層51。再者,^ 配置的相鄰行之不同顏色之像素形成區域, 緣層32而隔開之外,在實施態樣3巾,此吐出裝置、二; 二出:色濾光片材料43’同時如同上述實施態樣$ =朝保護絕緣層32的延伸方向(行方向)移動(亦可移 =因而可確實防止由吐出裝置47朝鄰行之像心 區域所吐出之不同顏色之彩色濾光片材料43混入不
tJkAMA
在實施態樣4中’在實施態樣2所說明的彩色有機EL 313丨〇3(修正版) 29 1243263 顯示裝置等之中’將所採用的發光元件層,利用上述夂奋 施態樣所說明的彩色遽光片層相同的印刷方法而形成^ 14圖所不係實施態樣4之彩色有機弘顯示裝置自 之概略剖面構造圖。另,此顯示裝置之各像素的電:構: 係與上述第8圖共通。此外,第15圖所示係與各 據線300相連接之第一 tft 1 00夕私士广丄 、 造。 FT 100之形成區域附近的剖面構 在本實施態樣4中,如箆μ FI % - Li 攄^奴祕, ^ 14圖所不’對各像素供給數 據b虎的數據線3 0 0、與平行於此數據線3㈣驅動痛 線302,係由保護絕緣層332 ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ’、 電源線3〇2)。 “皿(弟^圖中省略驅動 :保護絕緣層332係如同實施態心的保護絕緣層U .又利用丙烯酸樹脂等而可確保形成足夠的厚度 數據線300與驅動電源線3〇2的 ,、口又 7 IJ日守,在鄰行間隔開不同 顏色的像素間。另,關於驅動電源線3〇2 由各像素共通形成,而非採用盥數 广,、他層 数據線300相同材料層所 構成的情況。在此情況下,禎翁 主〆 叙祕, 數個像素係利用對每行覆芸 數據線300的保護絕緣層332而予以割分。 再者,在層間絕緣膜14(亦可再开;成刀平坦化絕緣層) 上,如第14圖所示,形成有各 °有機EL兀件500的陽極
M2。然後’在此陽極502的行方6 AA工7 , A 7仃方向的兩側部,突設上述 仏護繞緣層332,而劃分出鄰行問 , 丨仃間的像素形成區域。然後, 言如取代第12圖的彩色濾光片屉4?二4一 ^ ^ a 疋月層42,而採用將各自構成 毛“件層训(此處指電洞輸送層5〇4、發光層5〇6及電 313103(修正版) 30 1243263 子輸送層508)之材料層分 轉印薄膜40利用轉印幸昆 以^者之轉印薄膜40,將此 , ,朝向基板1 〇 1 —邊按_, 邊朝保護絕緣層332的证仙+ 边扭I,一 板(陽極-)上。在不 黏考有對應不同材料的 、太令铋用 1,專肤40,而分別轉印。 雜/口上所述,利用採用足夠厚度之保護絕緣声339而以 轉印方式在像素形成區域中 、彖層33—而以 即使在鄰行之像素間,採用不门以兀件層的方法,藉此 止像f門產生材+4·、κ 同發光兀件材料時,亦可防 像素間產生材枓㈣的情形。 < 可明確地分離發光元件材料。% 仕此相ηΗ象素間, 中,#可蚪所以,在各有機EL·元件500 宁便了頒不色純度較高的發光。 係t上所述,至少含有發光材料(發光層^另當兀 =二7^ MO的發光色相異時,每個發光色將採;不 缘声33:。而因:’至少關於發光層,如上述係利用保護絕 、”彖層3 3 2,而在將所分两?夕方 造成的效果較高。顏色互相不同的鄰行間分離所 再者’在本實施態樣4中,闵发 > 1 形成發光元件請之時,構成緣層332係在 最好維持各像素的發光元件声素的邊界,所以 ^ 仟層510的上面與該保護絕緣層 3 3 2的上面大致一致的厚度較 ..,1Λ 子度孕乂仏右過厚的話,在發光元 =;上,各像素共通形成的有機EL元請的陰 極520便肸產生高度差,所以較 朽:在本實施態樣4中,在各有機el元件的陽 極502之下方,如第9圖所示,依實施態樣2形成彩色遽 313103(修正版) 31 1243263 光片層5〇,針對有機EL元件5〇〇的 利用同;A尤凡件層5 1 0亦可 利用门松的保瓊絕緣膜332當作側 了 再者,發光元件層別亦可利用如上=法而形成。 所說明之所謂嘴墨印刷方式印刷形^施態樣3中 元件層510利用f w 1 圖所不係發光 ^ 貝墨方式而形成狀態的概念圖。 —言〇,切光元件層採用高分子系發光材料等日士士 弟16圖所示,利用吐出裝置47,將此古八早/ 在液體狀態下,以所阿刀子系發光材料 另,亦有多數是僅:二 出,便可形成於基板上、 件層510。 J用此^刀子系發光材料層構成發光元塌 ¥,此種十月況時,如上述的错矣刀 〆 數據線300,並以此^崔 、又、巴、·’ ^ 2係形成覆蓋 π ^ 正以此保護絕緣膜332為側壁,朝— π 同色行劃分出的像素形成區 朝向依母個 件材料430,即可非堂1。。 土出衣置叨吐出發光元 510。通當雖女夕且不會渗出地形成發光元件層 k吊雖大多將數據線 亦包含此驅動電料侧土 /皇成駆動电源線302時, 素,但即使此情況下,亦 ^界、,而配置不同顏色的像痛 流出於鄰行的像素了::防止液狀發光元件材料 丨文土出衣置47朝保護絕緣# 方向)進行相ff ft . 曰 、乙伸方向(此處為行 顏色的發光元件材料II的=性多車交低’可更加防止與其他 裝置47的前進 ^現=生。再者’因為吐出 ,、1木"又《巴緣層3 3 2的拉#方合 μ α 以利用此保護絕緣肩3 3 的I伸方向—致’所 曰332所構成的像素形成區域的側壁與 3】3]〇3(修正版) 32 1243263 基板(陽極502)101表面的角區域中,亦可確實滴下發光元 件材料430,而亦可防止發光元件圖案發生缺陷等現象。 再者’如上;4,若採用由噴嘴孔45選擇性地 :位置:同時或分別依每個R、g、b,形成吐出對應之1 门等七光兀件材料之方法的話’便可依形成發光元件 ::敢低所需量的材料’分別形成r、g、b的發光元件層, 而有助於大幅削減材料費。 曰 在上述各實施態樣中’雖針對保護絕緣層m 盍數據線而構成者推广^ ^ Λ 進 明,譬如隨製造程序的情況,在_ 於保護絕緣層32、332之形成面之情況等在 义疋要直接覆蓋數據線。但是,即使此情況,上 迷保護絕緣層得# 士、 ’、^成田久狀絕緣層,所分配的顏色不同, 且依通過相鄰像素區凡 緣層係構成各像幸1方式配置’再者,此田敗狀絕 中,开j点义I ’、工s之行方向的兩侧壁,在此像素空間 便在此種;況ΐ配=色的彩色濾光片或發光元件層。即 他顏色混色而米成:各實施態樣,可容易的不與其 彩色濾光片或發光:件:t片或發光元件層。再者,該等 轉印方式、吐;方气的形成方法’可採用如上所述之 防止不同顏色材料何種方式’均可確實且容易 間絕缘膜]4丨"/tCW有寺。4如在上述第15圖中,覆蓋層 絕緣層IΓ方數ΓΓ开=而形成如第11圖所示的平坦化 情、兄# # 方。、上形成有機EL·元件500之陽極5〇2的 丁 ^成具備足夠高度的田畝狀絕緣層。然 313103(修正版) 33 1243263 t再乂此田 < 狀絕緣層用作為發光區域的側壁,並採用噴 墨方式或轉印方式形成發光元件層。 [發明功效] 、’、不上所4,根據本發明,朝覆蓋配線的田畝狀保護絕 $層的延伸方向,進行彩色濾光片之轉印或彩色遽光片材 土出形成。藉此便可在轉印行進方向或吐出裝置行進 σ 、升y成邊將裱境氣體逐出,一邊無空隙地將彩色濾 一片或發光凡件層埋入於保護絕緣層中。 再者’因為以保護絕緣層來覆蓋配線,形成彩色濾光 ^斤在〜色濾光片的圖案化程序中,便可防止配線暴 路於處理液或外界氣體等之中,而造成劣化的情形。 鄰接5間= = ㈣絕緣層’該絕㈣形成 k’l 土’而可確實防止在邊界附近產生不同 顏色之彩色遽光片材料或發光it件層混淆的情形。 们=者’依照本發明,利用保護絕緣層覆蓋數據線,便 色參出情形較少的晶載彩色濾光片方式,同時在 爲你Γ $成衣&中防止數據線劣彳b ’且在將保護絕緣 界的㈣像素間,可確實防止不同顏色之彩色濾 ;:々/tcw肴。所以,可形成顯示品質較高的彩色顯示。 1’在本發明中,利用將上述形成為田故狀的保護 作為像素形成區域的邊界壁,在此將有機EL元件 二兀::料等’採用上述轉印或吐出等方法形成,藉 σ不致混淆其他顏色材料而形成發光元件層。 丨03(修正版) 34 1243263 [產業可利用性] ^發明可使用於如彩色液晶顯示裝置或彩色EL顯示裝置 等彩色顯示裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖係液晶顯示裝置之一般電路構造圖。 第2圖係習知晶載彩色濾光片構造圖。 第3圖係本發明實施態樣1之彩色液晶顯示裝置之第 一基板側的平面構造圖。 第4圖係沿第3圖之A-a線的概略剖面構造圖。 第5圖係沿第3圖之B_B線的概略剖面構造圖。 第6圖係本發明實施態樣1之彩色濾光片形成方法的 說明圖。 乐7圖(a)至(c)係本發明實施態樣丨之彩色濾光片形 程序的說明圖。 战 一壯弟8圖係本發明實施態樣2之主動矩陣型有機此錢員 不衣置的各像素之等效電路圖。 、 第9圖係本發明實施 的概略剖面構造圖。 心色有機此顯示裝置 第1 〇圖係本發明實施態樣2之彩 之各像素構成要件之第〜 ”、貞不衣置 剖面構造圖。 TFT1GG及保持電容&的概略 第係本發明實施態樣2之彩 之各像素構成要件之第二 ⑽ ”、、員不衣置 剖面構造圖。 TFT2QG及有機肛元件的概略 313103(修正版) 35 1243263 第1 2圖係本發明實施態樣2之彩色有機el顯示裝置 之各彩色濾光片形成方法說明圖。 第13圖(a)至(b)係本發明實施態樣3之彩色濾光片形 成方法說明圖。 第14圖係本發明實施態樣4之彩色有機El顯示裝置 的概略剖面構造圖。 第1 5圖係本發明實施態樣4之彩色有機El顯示裝置 之各像素構成要件之第一 TFT 1〇〇及保持電容Cs附近的 概略剖面構造圖。 | 第16圖係本發明實施態樣4之彩色有機EL顯示裝置 之發光元件層形成方法之一例的說明圖。 【主要元件符號說明】 I 2 TFT 1〇 第一基板 II 閘極線(閘極) 12 閘極絕緣膜 14 層間絕緣膜 16 主動層 16d、116d、216d汲極區 16s ' 116s、216s源極區18 平坦化絕緣層 像素電極 22、84偏向膜 30 3 6 40 43 46 50 保護絕緣層 通路 51彩色濾光片層 喷嘴孔 30〇數據線 彩色濾光片阻擋層3 8 轉印薄膜 u 彩色遽光片材料 45 轉印輥 47 吐出裝置 彩色渡光片(層)5〇B B用彩色濾光片 36 3】3】03(修正版) 1243263 50G G用彩色濾光片(層) 70 液晶層 80 第二基板 82 共同電極 100 第一 TFT 101 基板 116、 216 主動層 200 第二丁FT 211 閘極 302 驅動電源線 310 閘極 312 電容線 332 保護絕緣層 430 發光元件材料 500 有機EL元件 502 陽極 504 電洞輸送層 506 發光層 508 電子輸送層 510 發光元件層 518 第二平坦化絕緣層520 陰極 Cl、 C2接觸孔 Cs 保持電容 37 313] 03(修正版)

Claims (1)

1243263 十、申請專利範圍: 1·:種衫色;慮光片形成方法,係將設 滤光片層轉印於被轉印基板者;其特徵在=的-色 被轉印基板係具備有朝預定方向複數條排列延 、配線,及覆蓋該配線且由基板突出 的保護絕緣層; 风馮田畝狀 利用按壓機構將前述轉印薄膜上的彩 述,轉印基板,再將該按壓機構沿㈣述 燄 —k之延伸方向移動,而將前述彩色濾光片層( 轉印於前述被轉印基板上。 2·種%色濾光片形成方法,係將液狀彩色濾光片材料 吐出於被轉印基板者,其特徵在於: 被軏印基板係具備有朝預定方向複數條排列延 伸的配線,及覆蓋該配線且由基板突出形成為田故狀 的保護絕緣層; 由吐出機構吐出前述液狀彩色濾光片材料,並將 該吐出機構沿著前述保護絕緣層之延伸方向進行相鲁 對性的移動,而在前述被轉印基板上形成前述彩色濾 光片層。 3· —種發光元件層形成方法,係將設於轉印薄膜的發光 元件層轉印於被轉印基板者,其特徵在於: 被轉印基板係具備有朝預定方向複數條排列延 伸的配線,及覆蓋該配線且由基板突出形成為田故狀 的保護絕緣層; 利用按壓機構將前述轉印薄膜上的發光層壓接 38 313103(修正版) 1243263 方^岫述被轉印基板,然後再將該按壓機構沿著前述保 瘦^緣層的延伸方向移動,而將前述發光元件層=印 於前述被轉印基板上。 s ^ 4. :種發光元件層形成方法,係將液狀發光元件 出於被轉印基板者,其特徵在於: 被轉印基板係具備有朝預定方向複數條排列 申的配線’及覆蓋該配線且由基板突出形成為 的保護絕緣層; 狀 由吐出機構吐出前述液狀發光元件材料,並 吐出機構沿著前述保護絕緣層之延伸^進行相對 =的移動,而在前述被轉印基板上形成前述發光元件 層0 1 5. =種彩色顯示裝置的製造方法,係在基板上設置 複數切換兀件;將數據信號供給至該複數切換元件中 所對應之切換元件的數據線;將選擇信號供給至前 所對應之切換元件的選擇線;直接或間接地連接於前 述所對應之切換元件的像辛+彳 ㊆Μ女… 及形成於該像素 电° 、衫濾光片的彩色顯示裝置之製造方 法,其特徵在於: f基板上形成前述選擇線、前述切換元件及前述 數據線之後,形成至少分別覆蓋朝行方向延伸之前述 數據線且由基板突出形成為田畝狀的保護絕緣層, ❹按Μ機構將轉印薄膜上的彩色遽光片層愿 接於前述基板,然後再將該按麼機構沿著前述保護絕 緣層的延伸方向移動,而將前述彩色溏光片層轉印於 3 ΠΗ)3(修正版) 39 1243263 $述基板上。 &如申請專利範圍第5項 3 其令,在前述彩色據光片轉置的製造方法, 在使4述像素電極鱼 性連接的接觸孔之形成區域:刀:元件在層間作電 擋層; 周圍形成彩色濾光片陡 且在該彩色濾光片 間,確保在進行彩色渡光“曰印^述保護絕緣層史 行方向逐出的通路。 $用以將環境氣體朝 7·如申請專利範圍第5項或第6項 < 造方法,其中, 、&色鮮員示裝置的製 則述彩色顯示裝置係利 之對應於數據信“ H 加^述像素電極 示裝置。 电土工制液晶的彩色液晶|貝 8·如申請專利範圍第5 ^ 造方法,其中, 、/項之彩色顯示裝置的製 則述彩色顯示裝置係於 元件,前述像素-心…一素具備有電激發光1 極,且按照與供給5兮笛一带 &先兀件的弟一電 電力,來押制二口千μ 兒極之數據信號相對應的 ^ 制則述電激發光元件的發光強+ 激發光顯示裝置。 &尤强度之办色電 9· 一種衫色顯示裝置的製造方 數像素;且 去知在基板上設置有複 有4='具備有:在第—電極與第二電極之間設 又九7L件層的發光元件; 313】03(修正版) 40 1243263 =:方、數據線與選擇線的切換用電晶體,及 述切二,與前述發光元件之η 號,來η二曰…編數據線所供給的數據信 元件動電源供給至前述發光元件之電力的 用電晶體之彩色顯示裝置的製造方法; 其特徵在於: 在基板上形成朝; 後,升彡点变-月仃方向延伸的前述選擇線之 保護絕=據線且由基板突出形成為田故狀的 在利用排列延袖$、+、 域巾_ j述保瘦絕緣層所包挾的區 上利=成於基板上的前述發光元件之第一電極 該第構將轉印薄膜上的發光元件層壓接於 層的延:方向=再將該按壓機構沿著前述保護絕緣 第—電極上動,而將前述發光元件層轉印於前述 iQ.數:色,置的製造方法,一 有發Γ象::具備有:在第—電極與第二電極之間設 令毛先70件層的發光元件; f接於數據線與選擇線的切換用電晶體;及 切換二妾::動電源與該發光元件之間,且透過前述 制广"豆而對應由數據線所供給的數據信 夺工制由驅動電源供給 驅動用電晶體之… 光元件之電力的元件 日日之杉色頒示裝置的製造方法; 其特徵在於: 313103(修正版) 41 I243263 行方向延伸的前述選擇線之 且由基板突出形成為田敗狀的 ^ 在基板上形成朝 後’形成覆蓋該數據線 保邊絕緣層; 由吐出機構吐出前述液狀發光元件材料,並將兮 吐出機構沿著前述保護絕緣層之延伸方向移動,而將 前述發光元件層形成於前述發光元件的第一電極上。
42 313】03(修正版)
TW090125176A 2000-10-12 2001-10-12 Color filter formation method, luminous element layer formation method and manufacture method of color display device derived therefrom TWI243263B (en)

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