TWI242109B - Photosensitive insulating paste composition and photosensitive film made therefrom - Google Patents

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Kiminori Oshio
Tomoyuki Inoue
Hitoshi Setsuda
Hiroyuki Obiya
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Description

1242109
本發明係關於_種光敏性絕緣㈣彳組合物及由其之 光敏性薄膜。本發明更特別關 ^ 又竹W關於一種先破性絕緣糊劑組合 及-種由該組合物製成之光敏性乾燥薄膜，該組合物包 括-種有機成分及一種無機粉末，且在形成—種厚膜時， 具有用於精確模製圖案之高敏感性。 厚多層電路板及各種顯示器面板已由厚膜絲網印刷技 術製造’…字一種含無機顆粒之光熟化絕緣糊劑組合物 絲網印刷於一基材上，以形成圖t，或者由微影技術製造 ’其中將-種光熟化絕緣糊劑組合物施加於一基材上，用 紫外射線等照身十’並在基材上顯影形成一凹凸圖案。人們 對電漿顯示器面板（PDPs)已給予相當關注，因為其相對簡 單的結構、大螢幕能力、自發光性高顯示器品質及顏色可 订性。對PDPs尋求較大規模及較高精度已提出大量建議。 PDP為-種平板式顯示器、，此種顯示器由_對玻璃基材組 成其間排列有大量單元，並由絕緣材料製成的屏障肋分 離。各單元分別充當一個圖元，並含有碟光體，鱗光體由 電桌放私產生的紫外線激發，從而發射可見光。產生電漿 的電極、電阻器及介電質等係於基材上及單元中提供。為 增加PD:s精度，有必要形成具有高精度之元素結構面板， 即，屏P早肋、電極、電阻器、介電質、鱗光體、遽色陣列 及黑底（黑色基質）（後文中稱為屏障肋等）。因此，仍需要更 局精度核製圖案技術。習知厚膜絲網印刷技術（包括重複印
1242109 A7 ___B7 五、發明説明（2 ) 刷一種糊劑組合物）具有不良圖案位置準確度，且難以形成 南精度屏障肋等。在使用微影技術時，形成屏障肋等所用 之薄膜對在整個厚度保證足夠光敏性而言太厚，這一直為 實現高精度模製圖案的一個障礙。此外，顯影包括使用昂 貴有機溶劑，如三氣乙烷，這不僅增加製造成本，而且產 生棑放物，造成環境污染，且對人體有害。為提供解決與 用有機溶劑顯影有關問題之溶液，jP-A_63-265238 ("jp-A，， 在本文中指”未審查公開日本專利申請案，，）揭示一種可水 顯影性光熟化絕緣糊劑組合物，其包括一種水溶性纖維素 (如，甲基纖維素）、一種可光聚合聚合物、一種光聚合引 發劑及一種無機粉末。然而，所提出的組合物抗顯影性不 足，以致圖像區域在顯影時易於溶解。另外，由於該組合 物藉由絲網印刷以圖案方式施加，所以，圖案位置準確产 不良。因A，在製造屏障肋等日夺，不能將該組合物視為： 夠高精度模製圖案。 發明概要 在此等情況下，本發明人進行了廣泛研究。結果發現， 含有水溶性纖維素衍生物、可光聚合單體、具有經^之丙 烯酸系樹脂、光聚合引發劑及無機粉末之光敏性絕緣糊劑 組合物易於水性或鹼性顯影，沒有有機溶劑問題（如，環境 污染或對人體有害），對形成適用於製造屏障肋等之厚2 2 形成具有高精度之厚膜多層電路而言顯示足夠高敏感性。 本發明係基於此發現實現。 " 本發明一個目的為提供一種光敏性絕緣糊劑組合物，嗜 5- :未紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X 297公釐） 1242109
$合物易於水性或鹼性顯影，能夠形成-種厚但敏感性卻 々光敏(± <緣糊劑組合物層，且能夠以高精度形成圖案。 本七明另一目的為提供一種由上述光敏性絕緣糊劑組合 物製成之光敏性乾燥薄膜。 本兔明以上目的可由一種光敏性絕緣糊劑組合物及由該 組合物製成之光敏性薄膜實現，該組合物包括，一種有機 成刀°亥有機成分包括（A) —種水溶性纖維素衍生物，（B) ,一種可光聚合單體，（c)一種具有羥基之丙烯酸系樹脂， 及（D)—種光聚合引發劑；及一種無機粉末。 發明詳細說日 包含水溶性纖維素衍生物作為黏著劑樹脂之本發明光敏 性絕緣糊劑組合物對曝光(如，紫外輻射、激元雷射束、χ· 射線或電子束）顯不較高輻射透射率，且能夠比習知含丙烯 酉夂系樹月曰黏著劑之光敏性絕緣糊劑組合物以更高精度形成 圖案。 ，可將任何水溶性纖維素衍生物用作成分（A),沒有特別限 衣。所用水浴性纖維素衍生物之實例為羧，基纖維素、羥 乙基纖維素、μ乙基甲基纖維素、㈣基纖維素、乙基經 乙基纖維素、羧甲基乙基纖維素以及羥丙基甲基纖維素。 此等可單獨使用’或作為其兩種或多種之混合物使用。 能夠用作成分（Β)的可光聚合單體同樣沒有特別限制。適 用可光聚合單體包括，乙二醇二丙烯酸酯，乙二醇二甲基 丙烯酸酷，三乙二醇二丙烯酸酯，三乙二醇二甲基丙烯^ 醋’三羥甲基丙烷三丙烯酸醋’三羥甲基丙烷三甲基丙烯 -6 -
1242109 A7 ______ B7 _____ 五、發明説明（4 ) 酸酯，三羥甲基乙烷三丙烯酸酯，三羥甲基乙烷三曱基丙 烯酸酯，四級戊四醇二丙烯酸酯，四級戊四醇二甲基丙烯 酸酯，四級戊四醇三丙稀酸酯，四級戊四醇三甲基丙稀酸 酯，四級戊四醇四丙埽酸酯，四級戊四醇四甲基丙烯酸酯 ，二聚四級戊四醇四丙烯酸酯，二聚四級戊四醇四甲基丙 烯酸酯，二聚四級戊四醇五丙烯酸酯，二聚四級戊四醇五 甲基丙烯酸酯，二聚四級戊四醇六丙烯酸酯，二聚四級戊 四醇六甲基丙烯酸酯，丙烯酸甘油酯，甲基丙烯酸甘油酯 ，碳環氧基（carboepoxy)二丙烯酸酯；以及對應此等（甲基） 丙烯酸酯的富馬酸酯，衣康酸酯及馬來酸酯。 可用作成分（C)的具有羥基之丙烯酸系樹脂包括主要由 丙烯酸系酯單體和含羥基單體及（如需要）其他可共聚單體 組成之聚合物。適用丙烯酸系酯單體包括用具有1至20個碳 原子一元醇生成的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。適用含羥基 單體包括具有1至1〇個碳原子的二醇與丙烯酸或甲基丙烯 酸之單酯，如，丙烯酸羥甲酯，甲基丙烯酸羥甲酯，丙烯 酸2 -經丙醋，甲基丙稀酸2 -經乙S旨，丙烯酸2 -經丙S旨，甲基 丙婦酸2 -經丙S旨，丙稀酸3 -羥丙S旨，曱基丙嫦酸3 -經丙S旨’ 丙烯酸2-羥丁酯，甲基丙烯酸2-羥丁酯，丙烯酸3-羥丁酯， 甲基丙烯酸3-羥丁酯，丙烯酸3-羥丁酯及甲基丙烯酸4-羥丁 酯；丙烯酸甘油酯，甲基丙烯酸甘油酯，二聚四級戊四醇 單丙烯酸酯，二聚四級戊四醇單甲基丙烯酸酯，經ε-己内 酯修飾之丙烯酸羥乙酯，經ε-己内酯修飾之甲基丙烯酸經 乙酯及環氧酯化合物（如，2-羥基-3-苯氧丙基丙烯酸醋）° 3各紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐） 1242109 A7 B7 五、發明説明（5 ) 可與含羥基單體共聚的其他單體包括，α，β -不飽和羧酸 ，如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、檸康酸、馬來酸和富 馬酸及其酐或半酯：α，β-不飽和羧酸酯，如丙烯酸甲酯、 丙烯酸乙S旨、丙稀酸正丙g旨、丙稀酸異丙S旨、丙坤酸正丁 酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸環己酯、丙 烯酸2-乙基己酯、丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸f酯、甲基 丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲 基丙烯酸第二丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁 酯、甲基丙稀酸第二丁酯、甲基丙烯酸環己酯、曱基丙歸 酸2 -乙基己S旨、甲基丙稀酸硬脂醋、丙婦酸2，2，2 -三氟甲酉旨 以及甲基丙烯酸2,2,2-三氟甲酯：苯乙烯及其衍生物，如α-甲基苯乙細及對-乙婦基曱苯。亦包括丙稀腈、甲基丙晞腈 、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙酸乙烯酯、丙烯酸縮水甘 油酯及甲基丙烯酸縮水甘油酯。此等共聚用單體可單獨使 用’或作為其混合物使用。 包括含羥基之丙烯酸系樹脂之本發明光敏性絕緣糊劑組 合物顯示抗顯影性改良，從而提供高精度圖像。 以每100重量份（Α)和（Β)之全部成分計，該光敏性絕緣糊 劑組合物較佳包括1 〇至5 0重量份（特佳20至40重量份，尤佳 25至35重量份）之水溶性纖維素衍生物作為成分（Α)及5〇至 90重量份（特诖60至80重量份，尤佳65至75重量份）之可光 聚合單體作為成分（Β)。在此等成分之量小於或大於各較佳 範圍時，組合物傾向於不能保持足夠模製圖案精度，且對 曝光而言輻射透光率降低。例如，如果成分（Β)之比例小於 -8-
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5 〇份，組合物光聚合傾向於不充分，以致圖像區域在顯影 蛉/容解’導致形成圖像失敗。如果成分（Β)之比例超過9〇份 ’則降低精細線解析度。 以每100重量份（Α)和（C)之全部成分計，光敏性絕緣糊劑 組合物較佳包括50至90重量份（特佳60至80重量份，尤佳60 至70重量份）之水溶性纖維素衍生物作為成分（Α)及10至5〇 重量份（特佳20至40重量份，尤佳3〇至40重量份）之含羥基 丙烯酸系樹脂作為成分（C)。在此等成分之量小於或大於各 較佳範圍時，組合物傾向於在模製圖案時不能保持足夠精 度，且有效輻射透射率降低。例如，如果成分（c)之比例小 於1〇份，則抗顯影性不足，導致形成圖像失敗。如果組分 (C)之比例超過50份，則顯影能力降低，以致保留某些部分 非曝光區域。 · 可用任何已知光聚合引發劑作為成分（D)。其包括二苯甲 酮、苯偶姻（benzoin)、苯偶姻烷基醚、乙醯苯、胺基乙醯 苯、笨偶醯（benzil)、；基烷基縮酮、蒽醌、縮酮及嘧噸酮 (thioxanthones)。其實例為 2.4- 雙（三氣甲基）-6-(3-溴-4-甲氧基）苯基_均_三畊、 2.4- 雙（三氣甲基）-6-(2-溴-4-甲氧基）苯基_均_三畊、 2，4-雙（二氣甲基）-6-(3-溴-4-甲氧基）苯乙烯基笨基_均_三 畊、 ^ 2.4- 雙（二氣甲基）-6-(2·溴-4-甲氧基）苯乙烯基苯基·均·三 畊、2,4,6-二甲基甲醯基二苯基氧化膦、丨_[4气2_羥基乙氧 基）苯基]-2’基I甲基+丙烷]，、2,4_二乙基口塞噸酮、
1242109 A7 B7 五、發明説明（7 ) 2，4-二甲基噻噸酮、2-氯-嘧噸酮、1-氣-4-丙氧基噻噸酮、 3,3 - 一甲基-4-甲氧基二本甲3同、二苯甲g同、1-(4 -異丙基苯 基）-2-羥基-2-曱基丙烷-1-酮、1-(4-癸基苯基）-2-羥基-2-甲 基丙院、4-苯甲醢基-4、甲基二甲基硫醚、4-二甲胺基 笨甲酸、4·二甲胺基苯甲酸甲酯、4-二甲胺基苯曱酸乙酯 、4-二甲胺基苯甲酸丁酯、4-二$胺基笨甲酸2-乙基己酯、 4-二甲胺基苯甲酸2-異戊酯、2,2-二乙氧基乙醯苯、芊基二 甲基縮酮、芊基-β-甲氧基乙基縮醛' 1-苯基-1，2 -丙烧二酮 -2-(0-乙氧羰基）妨、鄰苯甲醯基笨甲酸甲酯、雙（4-二甲胺 基苯基）酮、4,4、雙二乙胺基二笨甲酮、苯偶醯、笨偶姻、 本偶姻甲基越、苯偶姻乙基趟、苯偶姻異丙基崎、苯偶姻 正丁基醚、笨偶姻異丁基醚、對-二甲胺基乙醯基、對-第 二丁基三氣乙醯笨、對-第三丁基二氣乙醯笨、嘍噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基4噸酮、二苯并環庚酮、α,α-二氣 笨氧基乙醒苯、4-二甲胺基苯甲酸戊酯及2-(鄰·氣苯基） -4,5-二笨基咪唑基二聚物。此等可單獨使用，或作為其兩 種或多種之混合物使用。 以100重量份全部成分（Α)和（Β)計，光聚合引發劑適合以 〇·1至10重量份之量使用，較佳〇.2至5重量份。在引發劑之 量小於0.1份時，組合物熟化性降低。而當引發劑之量大於 1 〇份時，引發劑吸收傾向於導致在基材附近欠熟化。 如需要’該光敏性絕緣糊劑組合物可包括添加劑，如紫 外線吸收劑、增敏劑、敏化助劑、聚合抑制劑、增塑劑、 增稠劑、有機溶劑、分散劑、消泡劑及有機或無機懸浮穩 -10- i禾紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4冗格(210 X 297公寶) 1242109 A7 B7 五、發明説明（8 ) 定劑 加入增敏劑用於改良敏感性，所用增敏劑之實例為 二乙基噻噸酮、異丙基嘍噸酮、 ' 2>4' 2.3- 雙（4-二乙胺基亞苄基）環戊酮、 2.6- 雙（4-二甲胺基亞苄基）環己酮、 2.6- 雙（4-二甲胺基亞苄基）-4-甲基環己酮、 4.4- 雙（二甲胺基）二苯甲_(米齊（{^(：11161*)酮）、 4.4- 雙（二乙胺基）二苯甲酮、 4.4- 雙（《一〒胺基）本基苯乙稀gisj(chalcone)、 4.4- 雙（二乙胺基）苯基苯乙烯酮、 對-二甲胺基亞肉桂基茚酮、 對一 f胺基亞卞基碎嗣、 2- (對·二甲胺基苯基伸乙稀基）異莕違σ坐、 1，3 -雙（4-二甲胺基亞爷基）丙_、 1，3-羰基-雙（4-二乙胺基亞芊基）丙酮、 3,3-羰基-雙（7-二乙胺基香豆素）、 Ν-苯基乙基乙醇胺、Ν_苯基乙醇胺、 Ν-甲苯基二乙醇胺、Ν-笨基乙醇胺、=甲胺基苯甲酸異戊 酯、二乙胺基苯甲酸異戊酯、 3- 苯基-5-苯甲醯基,塞四唑、及卜苯基_5_乙氧羰基。塞四唑。此 等增敏劑可單獨使用，或作為其兩種或多種之混合物使用。 加入聚合抑制劑用於改良貯存期間的熱穩定性所用實 例包括氫醌 '氫醌單醋、Ν_亞硝基二苯胺、吩㈣ 第三-丁基鄰笨二酚、Ν_苯基萘胺、2,6_二-第三丁基-對岬 -11 - 篇紙張尺度適用中國國家標準(C^4規格(⑽乂挪公心· 1242109 * A7 B7 五、發明説明（9 ) 基苯酚、四氯苯醌及焦掊酚。 加入增塑劑用於改良對基材的整合性，適用實例包括酉太 酸二丁酯（DBP)、S太酸二辛酯（DOP)、聚乙二醇、甘油及酒 石酸二丁酯。 加入消泡劑用於減少糊劑或膜中的氣泡，藉以在烘培時 減少空隙生成，其實例包括院二醇（例如，具有4〇〇至800之 分子量之聚乙二醇）、矽酮消泡劑及較高級醇。 可在本發明中使用的無機粉末沒有特別限制，只要對曝 光所用光線透明。其包括玻璃、陶瓷（例如，堇青石）及金 屬。其實例為，硼矽酸船玻璃、硼石夕酸鋅玻璃或硼矽酸絲 玻璃之粉末（即，Pb0-Si02玻璃、Pb0-B203-Si02玻璃、 ZnO-Si〇2玻璃、ZnO-B2〇3-Si〇2玻璃、BiO-Si〇2玻璃及 Bi〇-B2〇3-Si02玻璃）；Na、K、Mg、Ca、Ba、Ti、ZΓ、Al 等的粉末狀氧化物，如氧化鈷、氧化鐵、氧化鉻、氧化鎳 、氧化酮、氧化锰、氧化钕、氧化飢、氧化錦、二氧化鈦 (Tipaque Yellow)、氧化鎘、氧化釕、矽石、氧化鎂及尖晶 石；熒光性粉末，如 ZnO : Zn、Zn3(P04)2 : Mn、Y2Si05 : Ce、CaW04 : Pb、BaMgAlM023 : Eu、ZnS : (Ag，Cd)、Y203 :Eu、Y2Si05 : Eu、Y3A150 丨2 : Eu、YB03 : Eu、（Y，Gd)B03 :Eu、GdB03 : Eu、ScB03 : Eu、LuB03 : Eu、Zn2Si04 : Mn、BaAl 丨20丨9 : Mn、SrAl 丨30 丨 9 : Mn、CaAl 丨20 丨 9 : Mn、 YB03 : Tb、BaMgAl 丨4023 : Mn、LuB03 : Tb、GdB03 : Tb 、ScB03 : Tb、Sr6Si3〇3Cl4 : Eu、ZnS : (Cu，Al)、ZnS : Ag 、Y2O2S : Eu、ZnS : Zn、（Y，Cd)B03 : Eu及 BaMgAli2023 -12- 4 4#紙張尺度適用中國國家標準(CNS> A4規格(210 X 297公釐） 1242109
洛粉末狀金屬，如鐵、錄、纪、鶴、銅、！呂、銀、金 =。玻璃及㈣粉末因其高透明性特佳。玻璃粉末(玻璃 七瑕為有效。無機粉末理想不含氧化矽、氧化紹或氧化鈦 。存在此等雜質將減少透光率。 無機粉末之適合顆粒大小通常在微米之範圍内，較 佳在2至8微米之範圍内，但同時應根據將要形成的圖案構 型而變化。平均大於1〇微米之顆粒導致表面不平，這無益 於高精度模製圖案。平均小於m米之顆粒導致在烘焙時形 成微隙’這將導致絕緣故障。無機粉末可具有球形、塊形 、片形、•齒形或其混合形狀。 該光敏性絕緣糊劑組合物可包含作為無機粉末的黑色、 紅色、藍色、綠色等的無機顏料，以提供適合製造pDps* 用濾色陣列等的有色圖t。&無機粉末可為物理性質不同 的顆粒之混合物。例如，組合使用具有不同熱軟化點之 璃顆粒或陶究顆粒可有效控制烘焙時收縮。無機粉末的形 狀及物理性質應適當根據屏障肋等所需性能組合。 為防止顆粒大小在1至1〇微米範圍的無機粉末二次聚集 或改良其分散性，該顆粒可用有機酸、無機酸、矽烷偶合 劑、鈦酸鹽偶合劑、鋁偶合劑、表面活性劑或類似物進行 表面處理，在此等範圍内不會削弱無機粉末之性能。表面 處理進行較為便利，處理時，將處理劑溶於有機溶劑或水 加入無機粉末，並由在攪拌下將混合物加熱到約5〇至2〇〇艺 2小時或更長除去溶劑。否則，可在製備糊劑時加入處理 劑0 -13- k紙張尺度適用中國國家標準(CMS) A4規格(2i〇x297公爱) l242l〇9 A7
以每1 00重I份全部組合物計，該光敏性絕緣糊劑組合物 t佳包括10至35重量份（特佳15至3〇重量份，尤佳2〇至25重 蕙份）之有機成分（包括成分（A)至（]〇))及65至9〇重量份（特 佳70至85重量份，尤佳75至8〇重量份）之無機粉末。在有機 成分之比例小於15份時，光聚合不充分，以致圖像區域在 *’、、貝’?、/日丁 /谷解’導致形成圖像失敗。而在其比例超過3 5份時 ’則圖案傾向於在烘培時分離。 為製備該光敏性絕緣糊劑組合物，可將上述成分溶解及/ 或分散於溶劑。無機粉末具有良好親合力、溶解有機成分 粉末充分、能夠給予糊劑組合物適當黏性且易於由蒸發除 去的任何溶劑均可使用。適用溶劑包括，酮，如二乙基酮 、甲基丁基酮、二丙基酮及環己酮；醇，如正戊醇、4-甲 基-2-戊醇、環己醇及雙丙酮醇；醚醇，如乙二醇單甲醚、 乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單 乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲 _及二乙二醇二乙醚；飽和脂系單羧酸烧酯，如乙酸正丁 酷及乙酸戊酯；乳酸酯，如乳酸乙酯及乳酸正丁酯；及醚 酉旨，如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單 甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、 乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-曱氧基丁酯、乙酸4-甲氧基丁醋 、乙酸2-甲基-3-曱氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、 乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-乙氧基丁酯、乙酸乙 氧基丁酯、乙酸4-丙氧基丁酯及乙酸2-甲氧基戊酯。此等 溶劑可單獨使用，或作為其兩種或多之混合物使用。 14- 丨魏紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐）
裝 訂
1242109 -—______B7 五、發明説明(12 )"'' ' 以母1 00重量份總量有機成分及無機粉末計，用於保持該 糊劑組合物在適合黏度範圍之溶劑之較佳量為300重量份 或更小，特佳為10至70重量份，25至35重量份尤佳。 可將本發明之光敏性絕緣糊劑組合物作為液體施加於基 材上，為此，可根據用途鋪展塗層或絲網印刷。在需要高 精度可如幵》成P D P s之屏障肋等，用由糊劑組合物製成之 光敏性乾燥薄膜保證模製較高精度圖案較為便利。為製備 乾燥薄膜，可將該光敏性絕緣糊劑組合物施加於載體薄膜 達到10至100微米乾燥厚度，並將該塗層乾燥。載體薄膜包 括1 5至12 5微米厚合成樹脂之柔韌性厚膜，如聚對酞酸乙二 醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯及聚氨乙烯。如必要， 可對載體薄膜給予釋放處理，以便於薄膜轉移。可藉助於 塗板器、條式塗覆器、線條式塗覆器、輥式塗覆器、幕流 式塗覆器等施加該組合物。對於膜厚均勻性及形成厚膜效 率而言，使用輥式塗覆器較佳。乾薄膜由蓋片保護，直至 使用。具有矽酮釋放（經烘焙）塗層的約15至125微米聚對酉太 酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯等厚膜適用作為蓋片。 可如下用本發明之光敏性絕緣糊劑組合物形成圖案。將 由塗覆或轉移在一基材形成的光敏性絕緣糊劑組合物層以 圖像方式曝露於通過罩之紫外輻射、激元雷射輕射、X—射 線或電子束、並用鹼性顯影劑或水顯影，以除去未曝光區 域。如需要’將如此形成的凹凸圖案烘培。亦可使該光敏 層整個區域曝露於光路，且在不顯影下形成圖案，隨後視 需要烘培。在需要最高精度圖案之場合，可利用上述光敏 -15- 4#紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1242109 A7 ________— B7_ 五、發明説明(13 ) '~一----- f生乾燥薄月吴。將盍片剝去，並將該乾燥薄膜轉移到—基材 將該乾燥薄膜以圖像方式曝光或完全曝光，然後ς去 該載體薄膜。將以圖像方式曝光的薄膜顯影，以形成一圖 案。整體曝光的薄膜在不同顯影下提供一種經熟化薄膜， 然後視需要將該薄膜烘培。基材包括玻璃板、上面有電極 (例如’匯流排電極）形成的玻璃板及陶瓷板。乾燥薄膜便 利由使用熱輥式層合器等熱層合轉移到基材。用熱輥式層 合器熱層合在以下條件下進行，基材表面溫度：80至14曰〇 =;輥壓力：1至5千克/爱米2;運行速度：〇丨至1〇〇米/分 釦。可將基材預熱，例如，預熱到4〇至工〇〇艺。可用於曝光 之輻射發射器包括通常用於微影法之紫外發射器及用於製 造半導體及液晶顯示器（LCDs)之定位器。 能夠用於顯影的鹼性顯影劑之鹼成分包括，鹼金屬（如， 鋰、鈉及鉀）之氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽、磷酸鹽或焦 鱗酸鹽；一級胺，如芊胺及丁胺；，二級胺，如二甲胺、 一 τ月女及一乙醇胺；三級胺，如曱三甲胺、三乙胺及三乙 醇胺；環胺，如嗎啉、哌畊及吡啶；多元胺，如乙二胺及 六亞甲基二释;氫氧化銨；如四甲基氫氧化銨、四乙基氫 氧化銨、三甲基苄基氫氧化銨及三甲基苯基笮基氫氧化銨 ，氫氧化硫鏆，如三甲基氫氧化硫鏘、三甲基氫氧化硫鑌 、二乙基甲基氫氧化硫鑌及二甲基苄基氫氧化硫鑌；膽鹼 ;及含矽酸鹽之緩衝劑。應根據該絕緣組合物性質適當選 擇顯影方法（如，浸清顯影、搖擺式顯影、淋式顯影、噴霧 顯影或槳式顯影）、顯影裝置及顯影條件（如，顯影劑之類 -16- _張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 1242109 A7
型、組合物及濃度以及顯影時間和溫度）。 應選擇烘焙溫度，以燒盡經熟化組合物之 如，在400至600。(：溫度烘焙1〇至9〇分鐘。 ’勿質。例 本發明之光敏性絕緣糊劑組合物用於形成厚膜夕 及：種咖DPs及電聚定址咖之顯示器。特別 成需要南度精確模製圖案之PDps之屏障肋等， y 成PDPs之介電質。 '其用於形 實例 本發明現在將以有關實例說明，但應瞭解，本發明 :約束。除非另外指明，所有百分比、份數及比率均以； 實例1 製備光敏性絕緣糊劑組合物 將22份羥丙基纖維素作為成分（A)、14份苯乙烯_甲基丙 烯酸經乙酯（55/45)共聚物（Mw=：4〇,〇〇〇)作為成分（B)、㈧份 酞酸2-甲基丙烯醯基氧乙酯2_羥基丙酯（H〇 = Mpp，自卡約 沙化學公司獲得（Kyoeisha Chemical Co·，Ltd))作為成分 (C)、0.9份2,2-二甲氧基苯基乙醯苯（IR_651，自西巴蓋 吉公司購得（Ciba Geigy-Ltd·))作為成分（D)、3.9份酒石酸丁 酯作為增塑劑、〇· 1份偶氮染料（Dye ss，自代托化學公司 獲得（Daito Ghemix Corp·))作為紫外線吸收劑及100份3_甲 氧基-3-曱基丁醇作為溶劑在一攪拌器中混合3小時，以製 備具有50%固體含量之有機成分混合溶液。將4〇份該有機 成分混合溶液及80份玻璃料捏和，以製備一種光敏性絕緣 17- 本 =紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 :297公釐） 1242109 五、發明説明（15 ) 糊劑組合物。 評估 將所得糊劑施加於一玻璃基材達4〇微米軟燥厚度，並使 其以400毫焦耳/釐米2之劑量曝露於紫外射線，該紫外射線 係自一超高壓汞燈通過一具方形試驗圖案之光罩。用水在 3立〇t於3.0千克/楚米2喷射壓力下將經曝光層喷霧顯影卿、 鐘。取作圖案接著力檢測的最小線寬為6〇微米。 用具有200微米寬線圖案之光罩以上述相同之方法形成 圖案。將圖案藉由《1(rc/分鐘之速率加熱至52〇。〇且在此 溫度將圖案保持30分鐘進行烘培。結果，經供培圖案 滿意形狀。 ' ' 實例2 製備光敏性絕緣糊劑組合物 將22份羥丙基纖維素作為成分（A)、14份笨乙烯_甲基丙 烯酸羥乙酯（55/45)共聚物（Mw = 40,000)作為成分（B)、^份 酞酸2-甲基丙烯醯基氧乙酯羥基丙酯（H〇_Mpp ,自卡二 沙化學公司獲得）作為成分（c)、0.9份2,2_二甲氧基」·苯基 乙醯苯（IR-65!，自西巴·蓋吉公司購得）作為成分本〇^ 份偶1染料（Dye SS，自代托化學公司獲得）作為紫外線吸 收劑及100份3-甲ft基-3_f基丁醇作為溶劑在―授㈣中 混合3小時，以製備具有50%固體含量之有機成分混合溶液 。將50份該有機成分混合溶液及75份玻璃料捏和，以製備 一種光敏性絕緣糊劑組合物。 衣 製備光敏性乾燥薄膜 -18 绿紙張尺度適财@ ®家標準(CNS) A4規格(210X297公爱） 1242109
二覆器將該糊劑組合物施加於-聚對酞酸乙二醇 :(ΕΤΡ)載體薄膜上，並於1〇〇t乾燥6分鐘，以完全除去 ’從而形成-40微米厚度之光敏性乾燥薄膜。將一25 微米厚聚乙烯蓋片蓋在該光敏性乾燥薄膜上。 評估 ' 在剝去蓋片的同時，將所得乾燥薄膜藉由通過一設定於 105 c之熱輥式層合器轉移到一經預熱到8〇艽之玻璃基材 上玉氣壓力為3千克/爱米2，層合速度為10米/分鐘。將 經轉移乾燥薄膜以400毫焦耳/t米2之劑量曝露於紫外光 線，忒紫外光線係自一超高壓汞燈通過一方形圖案試驗罩 。然後將PETP載體薄膜剝去。在經曝光的乾燥薄膜上沒有 留下釋放痕跡。用水在3〇t於3千克/釐米2噴射壓力下將經 曝光之乾燥薄膜喷霧顯影30秒鐘，以除去未曝光區域，由 之留下一凹凸圖案。最小線寬度為6〇微米。 在將圖案藉由以10C /分鐘之速率加熱至580且在此溫 度保持3 0分鐘進行烘焙時，得到滿意烘焙圖案。 比較性實例1 用與實例2相同之方法製備及評估光敏性乾燥薄膜，但由 捏和1 0份該有機成分混合溶液及95份玻璃料製備該糊劑組 合物。在釋放PETP載體薄膜時，該光敏性乾燥薄膜自玻璃 基材分離。*· 比較性實例2 用與實例2相同之方法製備及評估光敏性乾燥薄膜，但由 捏和8 0份該有機成分昆合溶液及6 0份玻璃料製備該糊劑组 -19-丨本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 1242109 A7 B7 五、發明説明（17^ '一' -一 。物在將所侍圖案烘培時，觀察到圖緣處自基材分 離。 根據本發明之光敏性絕緣糊劑組合物可水性或鹼性顯影 ，從而留下具有高精度之圖案，且為敏感性，以致能夠以 極佳精度形成一種厚膜絕緣體圖案。該光敏性絕緣糊劑組 合物具有高工業值，使經濟製造需要高精度圖案之？1；){^成 為可行。 本案係以2001年5月1曰申請的曰本專利申請案第 JP_200 1-1338 1 1號為基礎，其全部内容係以引用方式併入 本文中’其最後闡述似乎相同。 -20- 4参紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8
    1· 一種光敏性絕緣糊劑組合物，其包含： 1242 108986號專利申請案 益 ' 中文申請專利範圍替換本(93年6月）C8 種有機成分’該有機成分包括（A) —種水溶性纖維素 衍生物，（B)—種可光聚合單體，（C)一種具有羥基之丙 稀酸系樹脂，及（D)—種光聚合引發劑； 及其中以該全部成分（A)及卩）為100重量份計，該有機 成分包含10至50重量份成分（A)及50至90重量份成分（b) ，及其中以該全部成分（A)及（C)為100重量份計，該有機 成分包含50至90重量份成分（A)及10至5〇重量份成分（c) 及一種具有1至1 ο μιη之平均顆粒大小無機粉末。 2.根據申請專利範圍第丨項之光敏性絕緣糊劑組合物，其 中該無機粉末為玻璃粉末。 3·根據申請專利範圍第丨項之光敏性絕緣糊劑組合物，其 中以該全部有機成分及無機粉末為1 〇〇重量份計，其包 含10至35重量份有機成分及65至90重量份無機粉末。 4.根據申凊專利範圍第丨項之光敏性絕緣糊劑組合物，其 係用於一種光敏性薄膜。 5·根據申请專利範圍第2項之光敏性絕緣糊劑組合物，其 係用於一種光敏性薄膜。 6.根據申响專利範圍第3項之光敏性絕緣糊劑組合物，其 係用於一種光敏性薄膜。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)八4規格^^公釐)
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