TWD167987S - 反應管之部分 - Google Patents

反應管之部分

Info

Publication number
TWD167987S
TWD167987S TW102308333F TW102308333F TWD167987S TW D167987 S TWD167987 S TW D167987S TW 102308333 F TW102308333 F TW 102308333F TW 102308333 F TW102308333 F TW 102308333F TW D167987 S TWD167987 S TW D167987S
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
design
opening
reaction tube
article
gas
Prior art date
Application number
TW102308333F
Other languages
English (en)
Inventor
Keishin Yamazaki
Masahiro Miyake
Kosuke Takagi
Yasuaki Komae
Shinya Morita
Naonori Akae
Masato Terasaki
Original Assignee
日立國際電氣股份有限公司
Hitachi Int Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日立國際電氣股份有限公司, Hitachi Int Electric Inc filed Critical 日立國際電氣股份有限公司
Publication of TWD167987S publication Critical patent/TWD167987S/zh

Links

Abstract

【物品用途】;本設計的物品是反應管，為應用在基板處理裝置的反應管。;【設計說明】;本物品具有用來收容處理基板的開口，在該開口的周緣設有凸緣；本物品，是在側面具備：形成設置有氣體噴嘴之空間的略矩形狀之突出部；和排出從該氣體噴嘴被噴出的氣體的開口部，於本物品的內部，將氣體從上述氣體噴嘴供給到上述處理基板之後，從上述開口部排出，進行上述處理基板的處理。;圖式中以實線所示為「主張設計之部分」，以虛線所示為「不主張設計之部分」，一點鏈線為界定部分設計之邊界線。
TW102308333F 2013-06-28 2013-12-24 反應管之部分 TWD167987S (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013014833 2013-06-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWD167987S true TWD167987S (zh) 2015-05-21

Family

ID=52002031

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102308333F TWD167987S (zh) 2013-06-28 2013-12-24 反應管之部分

Country Status (2)

Country Link
US (1) USD719114S1 (zh)
TW (1) TWD167987S (zh)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USD739832S1 (en) * 2013-06-28 2015-09-29 Hitachi Kokusai Electric Inc. Reaction tube
USD748594S1 (en) * 2014-03-12 2016-02-02 Hitachi Kokusai Electric Inc. Reaction tube
USD742339S1 (en) * 2014-03-12 2015-11-03 Hitachi Kokusai Electric Inc. Reaction tube
JP1534829S (zh) * 2015-02-23 2015-10-13
JP1535455S (zh) * 2015-02-25 2015-10-19
JP1546345S (zh) * 2015-09-04 2016-03-22
JP1548462S (zh) * 2015-09-04 2016-04-25
JP1546512S (zh) * 2015-09-04 2016-03-22
JP1563524S (zh) * 2016-03-30 2016-11-21
JP1605460S (zh) * 2017-08-09 2021-05-31
JP1605461S (zh) * 2017-08-10 2021-05-31
JP1605462S (zh) * 2017-08-10 2021-05-31
JP1605982S (zh) * 2017-12-27 2021-05-31
JP1644260S (zh) * 2019-03-20 2019-10-28
JP1731673S (zh) * 2022-05-30 2022-12-08
JP1731674S (zh) * 2022-05-30 2022-12-08
JP1731675S (zh) * 2022-05-30 2022-12-08

Also Published As

Publication number Publication date
USD719114S1 (en) 2014-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWD167987S (zh) 反應管之部分
TWD167986S (zh) 反應管之部分
TWD168774S (zh) 反應管之部分
TWD167985S (zh) 反應管之部分
TWD180125S (zh) 反應管之部分
TWD166332S (zh) 基板處理裝置用晶舟之部分
TWD169004S (zh) 反應管之部分
TW201611915A (en) Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus
TWD175663S (zh) 置物架之部分
TWD174924S (zh) 反應管
TWD163542S (zh) 基板處理裝置用晶舟
MY172257A (en) Non-contact transfer hand
MX2017002357A (es) Accesorio para dispositivo de vaporizacion.
TWD171078S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分
MX2016012660A (es) Dispositivo y metodo para limpieza de cabezal de inyeccion de tinta.
TWD162302S (zh) 攜帶型終端機用充電底座之部分
TWD183003S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分
TWD183009S (zh) 基板處理裝置用加熱器之部分
TWD163770S (zh) 反應管
TWD187000S (zh) 基板處理裝置用加熱機之部分
CA2939388C (en) High pressure reactor for the synthesis of melamine
TWD163771S (zh) 反應管
JP2016525403A5 (zh)
TWD166710S (zh) 反應管
TWD174919S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴