TW588485B - Semiconductor laser device - Google Patents

Description

588485 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係相關於半導體雷射裝置。 【先前技術】 近年，在 DVD (Digital Versatile Disc)系統等，廣 泛使用著作爲照射雷射光線於光碟面上的半導體雷射裝置 。習知的半導體雷射裝置的構成如第4圖所示。第4A圖 係顯示本裝置的平面圖，第4B圖係第4 A圖沿C - C線之 縱向截面圖，第4圖相當於左側視圖。 在由形成半導體雷射元件載置用床台和受光元件1 04 的矽等的材料形成的基板105上，載置半導體雷射元件 103。半導體雷射元件103面向前方（圖中，左方向）射 出雷射光線1 08，又面向後方射出監視用光線1 09。形成 於基板105的表面部分的受光元件104接受監視用光線 109。 半導體雷射元件103藉由前導框架104和連結線 10 7a連接，受光元件1〇4藉由連結線107b連接於與前導 框架1 0 1分離的前導物1 0 1 a，基板1 0 5藉由連結線1 0 7 c 連接於前導物1 0 1 b。 更且，由樹脂等的材料形成的外圍器1 02以包圍半導 體雷射元件1 03的後方和兩側面而形成於前導框架1 〇 1上 ，外圍器102a設於前導框架101的下面。 此種半導體雷射裝置裝設於設在未圖示的拾起頭的支 -5- (2) (2)588485 架的內部的孔。在此裝設之時，前導框架ιοί的前截面 201形成作爲進行前後方向（圖中，左右方向）的位置決 定的基準面，側截面202形成作爲進行橫方向（圖中，上 下方向）的位置決定的基準面。 但是在上述的裝置，有如下的問題。半導體雷射裝置 裝設於拾起頭的支架內時，半導體雷射元件103和支架的 相對位置關係變得重要。此場合，形成前後方向的基準的 ： 前截面201和半導體雷射元件103如第4圖所示在幾乎相 φ 同的位置，兩者的相對位置關係只有一種含意的被決定， 設計上自由度非常低。以依照需要將半導體雷射元件103 往後方（圖中，右方向）挪，提高設計自由度。但是，此 場合裝置全體的前後方向的尺寸變長，因爲產生所謂引起 裝置大型化的問題，故不希望採取此種手段。 【發明內容】 依照本發明的一觀點，本發明之半導體雷射裝置係具 φ 備半導體雷射元件、載置上述半導體雷射前導框架和安裝 在前述前導框架的外圍器的半導體雷射裝置，在從前述半 導體雷射元件射出主光線的方向定義爲前方向的場合，前 述前導框架在較載置半導體雷射元件的部分更後方，具有 ~ 形成對前述半導體雷射元件前後方向基準的基準面。 依照本發明另一觀點，本發明半導體雷射裝置具備半 導體雷射元件、載置前述半導體雷射元件的前導框架、安 裝在前述前導框架外圍器和放出前述半導體雷射元件產生 -6 - 588485 Ο) 的熱的散熱器，將從前述半導體雷射元件射出光線的方向 定義爲前方向的場合，前述散熱器具有形成對前述半導體 雷射元件的前後方向基準的基準面，更且，對前述前方向 將垂直方向定義爲橫方向的場合，具有形成對前述半導體 雷射元件的橫方向基準的基準面。 【實施方式】 (1 )第1實施例 依據本發明的第1實施例的半導體雷射裝置的構成顯 示於第1圖。第1A圖係顯示除了本裝置的外圍器2的蓋 2a的狀態的平面圖，第1B圖係沿著第1A圖的A— A線 的縱截面圖，第1 C圖相當於左側視圖。 在陶瓷等的材料做成的基板6上載置半導體雷射元件 3，在前導框架1上載至此基板6和半導體基板4。半導 體雷射元件3向著前方（圖中，左方向）射出主雷射光線 8，更且向後方射出監視用光線9。在半導體基板4的表 面部分形成未圖示的受光元件，藉由設在外圍器2的蓋 2a的光反射面1 0接受監視用光線9被反射的反射光線9a 〇 半導體雷射元件3藉由連結線7a與前導框架1連接 ，受光元件藉由連結線7c連接於與前導框架1分離的前 導物1 b，基板6藉由連結線7b連接於前導物1 a，更且藉 由連結線7d連接於前導物lc。 而且，從樹脂等的材料製成的外圍器2，除了載置於 (4) (4)588485 前導框架1上的半導體雷射元件3的前方，以包圍後方、 兩側面和上面，設置在前導框架1上。 此半導體雷射裝置裝設於設在未圖示的拾起頭的支架 的內部的孔。在此裝設之時，將由半導體元件3射出主光 線8的方向定義爲前方向的場合，設在前導框架1的缺口 的前截面301形成作爲進行前後方向（圖中，左右方向） 的位置決定的基準面。又，將垂直於前方向且平行於前導 框架1的半導體雷射元件3的載置面的方向定義爲橫方向 的場合，側截面3〇2形成作爲進行橫方向（圖中，上下方 向）的位置決定的基準面。更且，將垂直於前導框架1的 半導體雷射元件3的載置面的方向定義爲上下方向，將半 導體雷射元件3的載置面作爲前導框架1的表面的場合， 將前導框架1的內面作爲上下方向基準面。 如此在本實施例，形成前後方向的基準的前截面3 0 1 位於較半導體雷射元件更後方（圖中，右方向）。而且可 將前截面3 0 1和半導體雷射元件3的相對距離X1設爲預 期値。藉此，有關在支架內裝設半導體雷射裝置之時的支 架和半導體雷射元件3的相對距離的設計上的自由度大幅 提昇。又，以將前導框架1的內面作爲上下方向基準面， 前導框架的內面側較顯示於由外圍器所包覆的第4圖的裝 置更可實現更高精度的裝設。 以下，針對製造本裝置的順序說明。首先，在壓製成 型加工爲預期形狀的前導框架1上，藉由射出成型形成包 圍半導體雷射元件3的載置部。前導框架的母材，雖然考 -8- (5) (5)588485 慮動作時的散熱性使用例如銅系的材料，但依照場合使用 42合金等的鐵系的材料亦可。在前導框架丨，考慮組裝性 ’預先鑛以金、鎳或鈀等，施予適當的外裝亦可。 其次，在成型的前導框架上，載置形成受光元件的半 導體基板4和搭載半導體雷射元件3的基板6。此處在基 板6 ’使用於半導體雷射元件3線膨脹係數相近且比矽等 熱傳導率更高的氮化鋁的陶瓷材料。因此在此基板6，預 先蒸鍍金等的電極材料進行圖案結構，形成電極於其表面 〇 到前導框架1上之半導體基板4及基板6之載置之際 ’例如確保金錫銲錫等之接著劑加熱到攝氏約3 00度熔解 後接著導通。或者是，使用銲錫的替代品如含銀環氧樹脂 接著劑等較佳。 前導框架1的內面側，考慮黏著劑的加熱和實際裝載 支架內的散熱性等，形成不以外圍器2覆蓋而露出的狀態 。特別是，隔著前導框價1半導體雷射元件3或半導體基 板4受光元件被載置的位置的內側當中的部分，希望是前 導框架露出。 在如第4圖的裝置，前導框架1 0 1的內面側爲外圍器 102的一部份l〇2a所覆蓋，散熱性不好。對此，於本實 施例在裝置前導框架1的內面側不以外圍器2覆蓋而露出 。藉此，裝著本裝置於拾起頭的支架內的場合，前導框架 1的內面側直接接觸支架。此結果，來自半導體雷射元件 3的發熱經由前導框架1和支架散熱到外部，所以散熱性 -9 - (6) (6)588485 提昇。 形成於半導體基板4的表面部分的受光元件，在前導 框架1的表面上，載置往與半導體雷射元件3平行的平面 上。此係爲了使在環狀線等的一連串的前導框架流動的步 驟的作業性和生產性提昇。半導體雷射元件3和半導體基 板4加熱接著於此成形完畢的前導框架1上。如此進行加 熱處理，所以使用耐熱性工程塑膠（例如，PP A等的材料 )和液晶多分子等的材料於外圍器2亦可。或者，使用 PSF、PES、PPS、PEEK、PAR、PAI、PEI、PI、FR ( PTFE)等的材料於外圍器2亦可，但是綜合性考慮耐熱 性、耐化學品性、機械強度、前導密著性、成形性、除氣 性、價格等，在本實施例採用PPA。 其後，爲取得電氣連接，各自對前導框架1或前導物 la〜lc藉由連結線7a〜7d接線於半導體雷射元件3、半 導體基板4、基板6。 此處，爲得到裝置的小型化，前導框架1上的連結空 間非常有限。特別是，在如具備射出不同的二波長的二波 長半導體雷射元件3的本實施例的裝置，因爲連結線的條 數相對增加，連結空間的確保是重要的。又，特別是一端 連接於半導體雷射元件3的線7 a，有必要以不接觸基板6 而連接另一端於前導框架1上。但是，做成在中途彎曲成 線環的形狀時，會導致組裝良率和組裝速度的降低。因而 ’在本實施例如第1A圖和第1B圖所示，在前導框架1， 在較搭載基板6的位置更前方側設有作爲連接線7a的另 -10- (7) (7)588485 一端的連結空間。 藉此，可縮短線7a的環，或以做成比較直和單純的 形狀，可實現組裝性的提昇。 但是另一方面，形成半導體雷射元件3的雷射光線射 出點位在較前導框架的前頭端（圖中，左端）更後方（圖 中，右側）的構造。而且，爲了雷射光線在前導框架1的 前頭端被遮蔽干涉等的不良影響不產生，在前導框架1， 在較搭載半導體雷射元件3的範圍更前方部分設置缺口的 窗部3 03，做成不產生不良狀況的構造。 作爲搭載半導體雷射元件3時的基準，認識窗部3 03 可搭載半導體元件3和半導體基板4於前導框架1上。特 別是，如從單一的半導體雷射元件3射出複數條雷射光線 的本實施例的場合，有必要配合基板6上的電極形態搭載 半導體雷射元件3。因而，有必要高精度載置基板6於前 導框架1上，故搭載位置的認識是重要的。 這種組裝完畢之後，對外圍器2本體藉由黏著劑和熱 溶接、超音波溶接、壓入和嵌合等高精度裝著蓋2a。例 如，塗敷矽系黏接劑於黏接面裝設蓋2a於外圍器2，以 約攝氏200度使硬化黏著亦可。在此蓋2a的內面的一部 份如上面所述設置光反射面1 0，形成反射從半導體雷射 元件3的後方所射出的監視用光線9而使射入受光元件的 構造。因此，蓋2a爲了光反射面1 0的光反射率提高有必 要選定其材料和表面處理。 在本實施例，不僅黏著劑還考慮超音波溶接和熱溶接 -11 - (8) (8)588485 ’與外圍器2本體一樣，選用ppa作爲蓋2a材料。其他 材料·而言’例如PBT和電鍍於金屬、樹脂之上的材料等 可使用於蓋2a。對蓋2a亦與前導框架一樣，爲了不遮蔽 來自半導體雷射元件3的主雷射光線8，在前面側設置同 樣的缺口亦可。 或者’在外圍器2的本體側設置單數或複數個突起部 ’設置對應此突起部的孔於蓋2a側，嵌合之後，以加熱 突起部的頭端且加壓變形，安裝蓋2a於外圍器的本體， 亦即可採用所謂熱接的手段。 針對此手段，應用第2A至2C圖說明。如第2A圖所 示，在蓋400形成孔401。又如第2B圖所示，在外圍器 410的表面上設置突起部411。此處，在前導物415,搭 載基板412於以未圖示之線所連接的前導框架416上，搭 載射出雷射光線的半導體元件於其表面上。此雷射光線在 形成於半導體基板414的受光元件被接收。外圍器410設 在前導框架410的表面上。 突起與孔以預期的精度形成，如第2C圖所示，可高 精度安裝蓋400於外圍器410。突起部41 1例如係PPA的 場合，以加熱於150〜300°C程度且變形，可得到非常高 的安裝強度。在直接加熱且不加工的蓋，可大幅度選擇耐 熱溫度比較低的材料和塑膠以外的例如金屬系材料等。 在採用這種熱接的場合，因不使用黏接用材料可簡化 步驟且節省材料費，雜質向半導體雷射元件和光學系統的 黏著之對特性的不良影響可不必擔心。 -12- 588485 Ο) 在第1A〜1C圖，搭載複數個元件（在本實施例，半 導體雷射元件3和受光元件）於前導框架1上的場合，因 前導物的數量增加，所以如本實施例切斷而分離前導框架 1和前導物1 a〜1 c。 如第1A圖所示，本裝置將形成缺口部的前後方向的 基準面的前截面3 0 1作爲界限形成前半部寬度窄而後半部 寬度寬。在實際安裝側的拾起頭的支架，設置對應半導體 雷射裝置的前半部的窄寬度部分的插入用的孔，插入安裝 本雷射裝置於該孔。 半導體雷射裝置的安裝精度，給予例如安裝側的拾起 頭等的性能顯著的影響。因此，在本實施例如上所示，將 前導框架1的缺口部的側截面302作爲橫方向位置決定用 的基準面。但是，不限定將缺口的端面（截面）單獨作爲 基準面，藉由彎曲端面等將截面以外的部分作爲基準面可 增加基準面的面積。 又如上述，將產生於前導框架1的缺口部的窄寬度部 分和產生於寬寬度部分的交界線的段差部分的前截面作爲 前後位置決定用的基準面。藉此插入本裝置於支架孔時， 此基準面（前截面301)突出碰到支架內的面可決定前後 方向的位置。對此位置決定用的基準面，設置突起狀的部 分設定其前端部爲基準位置亦可，或如第1 A圖所示將前 導框架1的前截面301的直線部分作爲基準面使用亦可。 或又，將前導框價1以外的例如外圍器2的一部份設定爲 前後方向的位置決定用的基準亦可。 -13- (10) (10)588485 (第2實施例） 其次，針對本發明的第2實施例半導體雷射裝置說明 。本半導體雷射裝置的構成顯示於第3圖。第3A圖係顯 示除了本裝置的外圍器2的蓋2a的狀態的平面圖’第3Β 圖係沿著第3 A圖的A — A線的縱截面圖’第3 C圖相當於 左側視圖。此處，與顯示於第1圖的第1實施例相同的構 成元件具同一件號省略說明。 本實施例，對依照第1實施例的裝置，相當於裝設散 熱器11。就由裝設散熱器11於前導框架1，可使從半導 體雷射元件3的發熱良好地散熱於外部。 更且，確保小型化，且可提升使裝設本裝置於拾起頭 的支架內的時候的強度性。在顯示於第4圖的半導體雷射 裝置，實際壓入裝設本裝置於支架內的時候，形成位置決 定用的基準面的前導框架101的前截面201和側截面202 承受大壓力和應力。因而，因爲防止該外力引起的變形， 前導框架1 〇 1有必要某種程度的加厚，或對其材質亦有大 限制產生。 對此，在本實施例，在對從半導體雷射元件3射出主 光線8的前方向將垂直方向定義爲橫方向的場合’散熱器 1 1的圓弧狀的側面1 1 2作爲橫方向的位置決定的基準面 。更且，將散熱器11的前側的表面111作爲前後方向的 基準面。藉此，裝設於支架內之時散熱器11的大面積的 面1 1 1、1 1 2承受壓力和應力，所以不加厚前導框架1亦 -14- (11) (11)588485 可確保充分的強度性。 更且，在如第4圖顯示的構造，爲了散熱性提昇要裝 設散熱器，良好精度的裝設是困難的。 在本實施例’與上述第1實施例同樣在前導框架1設 置缺口部，以碰到在形成該缺口部的前後方向的位置決定 用的基準面的前截面301和形成橫方向的位置決定用的基 準面的側截面3〇2般裝設散熱器11。因此，對前導框架1 可容易且高精度裝設散熱器11。 此處，在散熱器11的材料考慮散熱性，雖使用銅系 和鐵系等金屬材料，但散熱性未嚴格要求的場合亦可使用 塑膠等的其他材料。 本實施例的散熱器1 1的形係直線剪斷具有預定厚度 的圓盤的下端1 1 4和上端1 1 5而形成，其側面1 1 2形成由 圓筒面的一部份所構成的圓弧狀。因而，此側面1 1 2的圓 弧的中心軸P位於來自半導體雷射元件3的主雷射光線8 的射出位置的近旁，設定爲與射出方向略平行。 因而，在實際安裝本裝置的支架內開有圓孔，在圓孔 的內部側面藉由散熱器1 1的圓弧狀的側面1 1 2密接在圓 孔的內壁側面而插入本裝置，容易且高精度決定主雷射光 線8的射出方向。又，以插入本裝置於圓孔，對主雷射光 線8垂直方向的位置決定亦藉由下端1 1 4和上端1 1 5容易 進行，在插入後亦可容易調整本裝置的旋轉方向。 此處，要剪開散熱器1 1的下端1 1 4和上端1 1 5係爲 了半導體雷射裝置的小型化，可向薄形拾起頭等裝設，因 -15- (12) (12)588485 爲依照上述第1實施例的裝置可薄形化，所以依照裝設散 熱器11的本實施例的裝置亦可薄形化，又，配合拾起頭 的設計，可自由設計散熱器11的上下方向的尺寸和形狀 。但是，裝設於非薄形的一般的拾起頭的場合，沒必要剪 斷散熱器1 1的上下端。 在散熱器11的一部份，形成作爲前導框架1等的缺 口部1 1 6。因而，如上述，來自半導體雷射元件的主雷射 光線8的射出位置，如第3 C圖所示設定爲與散熱器1 1的 圓弧狀的側面11 2的中心軸p —致。此乃係因爲在調整裝 設本裝置於拾起頭的支架內之時的旋轉方向之際，半導體 雷射元件3的光線射出點經常來至一定的位置之故。又， 散熱器11的前面側的表面111對側面112係垂直，如上 述此面1 1 1的一部份或全部份形成前後方向的位置決定用 的基準面。 此處，本實施例雖利用形成基準的側面1 1 2和表面 111於直接基準面，但在這些面111和112上以其他途徑 設置基準部亦可。例如，設置突出部於側面1 1 2和/或表 面111上，將該突出部的前端作爲基準位置亦可。在此場 合，以將突出部的前端碰到支架內的孔的內壁，進行位置 決定。 散熱器I1向前導框架1的裝設，在載置前導框架1 的半導體雷射元件3的最內面的近旁和最內面，希望以熱 接合或熱接觸而裝設。藉此’可提高散熱性。在本實施例 ，散熱器11的突出部113被接合於載置半導體雷射元件 -16- (13)588485 3的部分的最內面。如第3 C圖所示，此突出部1 : 以不突出於較圓弧狀的側面112的直徑D更外部 形成。藉此，可確保小型化且裝設於支架。 散熱器1 1，例如藉由銲錫、銀環氧和銀臘黏 裝置於前導框架1。但是，使用黏著劑和油脂，或 住可確保散熱性而裝設。藉此，從半導體雷射元件 的熱經由前導框架1、散熱器1 1和實際裝置側的 外部散熱。 上述實施例任何一例都不能限定本發明。例如 述第1和第2實施例，以元件而言除了搭載半導體 件亦搭載受光元件。但是，對不搭載半導體雷射元 的元件的裝置本發明可適用，或除了半導體雷射元 光元件更搭載其他元件的場合亦可適用本發明。又 件等的材料等按照必要可自由選擇。 更且在第2實施例，在載置較散熱器的半導體 件的部分更後方，設置形成對半導體雷射元件的前 基準的基準面。但是，按照拾起頭的支架的形狀等 於前後方向，在與半導體雷射元件3的主光線8的 置幾乎相同的位置可設置形成前後方向基準的基準 即，在從與半導體雷射元件3的主光線8的射出裝 相同位置後方的範圍內，按照支架的形狀等可設置 向的基準面於散熱器。 如以上所述，依據上述實施例的本發明的半導 裝置，在前導框架，在較載置半導體雷射元件的部 .3希望 尺寸而 著等可 單以壓 3產生 支架向 ，在上 雷射元 件以外 件和受 ，各要 雷射元 後方向 ，相關 射出裝 面。亦 置幾乎 前後方 體雷射 分更後 -17- (14) (14)588485 方具有形成對半導體雷射元件的前後方向基準的基準面， 相關於裝設裝置於支架等時的位置決定，可提高設計上的 自由度。 又具有散熱器的場合，藉由不以前導框架而以散熱器 承受裝設時的應力，排除提高前導框架的強度性的必要性 ，不限制前導的材質和厚度而可確保裝設時強度性。 【圖式簡單說明】 第1A圖、第1B圖和第1C圖係顯示根據本發明的第 1實施例的半導體雷射裝置的構成的平面圖、縱截面圖和 側視圖。 第2 A圖、第2B圖和第2C圖係依步驟顯示在半導體 雷射裝置使用熱接安裝蓋於外圍器的場合手段的斜視圖。 第3A圖、第3B圖和第3C圖係顯示依據本發明的第 2實施例的半導體雷射裝置的平面圖，縱截面圖和側視圖 〇 第4A圖、第4B圖和第4C圖係顯示習知的半導體雷 射裝置的構成的平面圖、縱截面圖和側視圖。 主要元件對照表 1 :前導框架 la、 lb、 lc:前導物 2 =外圍器 2a :蓋 -18- (15) (15)588485 3 :半導體雷射元件 4 :半導體基板 6 :基板 7a、 7b、 7c、 7d:連結線 8 :主雷射光線 9 :監視用光線 9a :反射光線 1 〇 :光反射面 1 1 :散熱器 1 1 1 :前側的表面 1 1 2 :圓弧狀的側面 1 1 3 :突出部 1 1 4 :下端 1 1 5 :上端 1 1 6 :缺口部 3 0 1 :前截面 3 02 :側截面 3 0 3 :窗部 400 :蓋 401 :孔 4 1 0 :外圍器 4 11 :突起部 41 2 :基板 414 :半導體基板 -19- (16) (16)588485 415 :前導物 416 :前導框架 101 :前導框架 101a、101b:前導物 102 :外圍器 102a :外圍器 103 :半導體電射元件 104 :受光元件 105 :基板 107a > 107b、 107c ：連結線 1 0 8 :主雷射光線 1 0 9 :監視用光線 201 :前截面 202 :側截面 -20-

Claims (1)

1. (1) (1)588485 拾、申請專利範圍 1. 一種半導體雷射裝置，係具備半導體雷射元件、 搭載前述半導體雷射元件的前導框架和安裝前述前導框架 的外圍器的半導體雷射裝置，其特徵係： 將從前述半導體雷射元件射出主光線的方向定義爲前 方向的場合，前述前導框架在較載置前述半導體雷射元件 的部分更後方，具有形成對前述半導體雷射元件的前後方 向基準的基準面。 2. 如申請專利範圍第1項所記載的半導體雷射裝置 ’其中將對前述前方向垂直且平行於前述前導框架的前述 半導體雷射元件的載置面的方向定義爲橫方向的場合，更 具有形成對則述半導體雷射兀件的橫方向基準的基準面。 3. 如申請專利範圍第2項所記載的半導體雷射裝置 ’其中前述外圍器具有作爲取出從前述半導體雷射元件所 射出的光線至前方向的窗部。 4. 如申請專利範圍第2項所記載的半導體雷射裝置 ’其中形成前述前後方向基準的基準面形成於前述前導框 架的缺口部。 5. 如申請專利範圍第2項所記載的半導體雷射裝置 ’其中形成前述橫方向的基準面係前述前導框架的側面， 前述側面係垂直於載置前述前導框架的前述半導體雷射元 件的面’形成於較形成前述前後方向基準的基準面更前方 向。 6·如申請專利範圍第1項所記載的半導體雷射裝置 -21 - (2) (2)588485 ，前述半導體雷射元件的載置面爲前述前導框架的表面的 場合，將垂直於前述前導框架的前述半導體雷射元件的載 置面的方向定義爲上下方向，前述前導框架的內面爲對前 述半導體雷射元件的上下方向基準。 7·如申請專利範圍第6項所記載的半導體雷射裝置 ，其中前述前導框架的內面從前述外圍器露出。 8·如申請專利範圍第6項所記載的半導體雷射裝置 ，其中前述外圍器具有作爲取出從前述半導體雷射元件所 射出的光線至前方向的窗部。 9·如申請專利範圍第6項所記載的半導體雷射裝置 ，其中形成前述前後方向基準的基準面形成於前述前導框 架的缺口部。 10. —種半導體雷射裝置，係具備半導體雷射元件、 載置前述半導體雷射元件的前導框架、安裝於前述前導框 架的外圍器和散熱器的半導體雷射裝置，其特徵係： 前述散熱器，將從前述半導體雷射元件所射出的方向 定義爲前方向的場合，具有形成對前述半導體雷射元前後 方向基準的基準面，更且，對前述前方向將垂直方向定義 爲橫方向的場合，具有形成對前述半導體雷射元件的橫方 向基準的基準面。 11. 如申請專利範圍第10項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述散熱器在較載置前述半導體雷射元件的部分 更後方具有形成對前述半導體雷射元件的前後方向基準的 基準面。 -22- 588485 Ο) 12. 如申請專利範圍第1 1項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述散熱器對前述前方向平行的側面具有圓弧狀 的形狀，相當於形成對前述半導體雷射元件橫方向基準的 基準面， 對前述前方向垂直的面相當於形成對前述半導體的前 後方向基準的基準面， 前述側面的圓弧的中心軸略平行於來自前述半導體雷 射元件的主光線的射出方向， 將前述前導框架的前述半導體雷射元件的載置面定義 爲表面的場合，在前述前導框架的內面，相當於前述半導 體雷射元件的載置位置的內側的部份或相當於內側的部分 的近旁部分與前述散熱器接觸。 13. 如申請專利範圍第1 1項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述散熱器具有平行於前述側面的圓弧的中心軸 且以較前述圓弧的直徑小的間隔分離的上面與下面。 I4·如申請專利範圍第12項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述散熱器在較形成前述前後方向基準的基準面 的更前方側具有突出部，此突出部不接觸相當於前述前導 框架的內面的前述半導體雷射元件的載置位置的內側的部 分。 1 5 .如申請專利範圍第1 2項所記載的半導體雷射裝 置，中前述散熱器具有平行於前述側面的圓弧的中心軸且 以較前述圓弧的直徑小的間隔分離的上面和下面。 16.如申請專利範圍第1 〇項所記載的半導體雷射裝 -23- (4) (4)588485 置，其中前述散熱器對前述前方向平行的側面具有圓弧狀 的形狀，相當於形成對前述半導體雷射元件橫方向基準的 -fcf- 777Τ 基準面， 對前述前方向垂直的面相當於形成對前述半導體的前 後方向基準的基準面， 前述側面的圓弧的中心軸略平行於來自前述半導體雷 射元件的主光線的射出方向， 將前述前導框架的前述半導體雷射元件的載置面定義 爲表面的場合，在前述前導框架的內面，相當於前述半導 體雷射元件的載置位置的內側的部份或相當於內側的部分 的近旁部分與前述散熱器接觸。 17.如申請專利範圍第16項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述散熱器在較形成前述前後方向基準的基準面 的更前方側具有突出部，此突出部不接觸相當於前述前導 框架的內面的前述半導體雷射元件的載置位置的內側的部 分。 1 8 .如申請專利範圍第1 6項所記載的半導體雷射裝 置，中前述散熱曹具有平行於前述側面的圓弧的中心軸且 以較前述圓弧的直徑小的間隔分離的上面和下面。 19. 如申請專利範圍第10項所記載的半導體雷射裝 置，中前述散熱曹具有平行於前述側面的圓弧的中心軸且 以較前述圓弧的直徑小的間隔分離的上面和下面。 20. 如申請專利範圍第1〇項所記載的半導體雷射裝 置，其中前述半導體雷射裝置，較形成前述前後方向基準 -24 - (5) (5)588485 的基準面更前方部分具有容置於具有與前述側面的圓弧相 同的中心軸且具有與前述圓弧相同的直徑的圓筒的內部的 形狀和尺寸。 -25-