TW578013B - Light diffusion protective film - Google Patents

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TW578013B
TW578013B TW091102252A TW91102252A TW578013B TW 578013 B TW578013 B TW 578013B TW 091102252 A TW091102252 A TW 091102252A TW 91102252 A TW91102252 A TW 91102252A TW 578013 B TW578013 B TW 578013B
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plastic film
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Tadahiro Masaki
Fumihiro Arakawa
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Dainippon Printing Co Ltd
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578013 A7 B7 五、發明説明(4) (1 )該凹凸層之凹凸面的十點平均粗糙度爲0 . 5 # m - 2 . 0 /z m, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (2 )測定該凹凸層之凹凸面的粗糙度曲線,設置對 該粗糙度曲線之中心線,由該中心線於垂直方向上寬度土 〇 · 1 // m之位置處設置平行於該中心線之線的上側及下 側之波峰計數位準,於以中心線之長度〇 · 8 m m觀察該 粗糖度曲線時,該粗糙度曲線與下側波峰計數位準交叉後 ’於與下一下側波峰計數位準兩交叉爲止之間,以該粗糖 度曲線與上側波峰計數位準交叉時之次數在1以上作爲「 」計算時之積算値爲1 6〜6 0次者。 若依本發明之另外態樣時,則提供含有透明塑膠薄膜 及經予層合於該表面上而成的凹凸層而成之光擴散保護膜 之製造方法,其製造方法係包含 準備透明塑膠薄膜, 將該透明塑膠薄膜導入該凹凸層之凹凸形狀及逆形狀 之凹凸形狀以噴砂加工所形成的型板上, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於該型板及該透明塑膠薄膜之間使層合電離放射線硬 化性樹脂, 照射電離放射線至該電離放射線硬化性樹脂上並於該 透明塑膠薄膜之表面上形成該電離放射線硬化性樹脂之硬 化物, 由該型材剝離該電離放射線硬化性樹脂之硬化物經予 層合的該透明塑膠薄膜, 而得該光擴散保護膜而成者。 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 578013 A7 B7 五、發明説明(7) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 體而言,測定該凹凸層之凹凸面之粗糙度曲線’設置對該 粗糙度曲線之中心線’由該中心線於垂直方向寬度土 〇 . 1 // m之位置處設置平行於該中心線之線的上側及下 側之波峰計數位準,在中心線之長度(測定長)〇 _ 8 m m處觀察該粗糙度曲線時,該粗糙度曲線與下側波峰計 數位準交叉後,於與下一下側波峰計數位準交叉爲止之間 ,以該粗糙度曲線與上側波峰計數位準交叉時之次數在1 以上爲「1次」予以計算。 關於(2 ),積算値係對測定値0 . 8 m m爲1 6〜 6〇次。 積算値若未滿下限時,由於凹凸之數較少,遮蔽機能 成爲不足。又積算値若超過上限時,則遮蔽機能成爲高至 必要以上的結果,介經光擴散保護膜觀看影像之際之影像 之鮮艷性受損。 a)透明塑膠薄膜 於本發明,至於透明塑膠薄膜2之材料,宜爲具有透 明性,平滑性、無異物混入者,又加工上及製品之使用上 的理由宜爲有機械強度者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至於透明塑膠薄膜2之較佳的具體例,有纖維素二醋 酸酯,纖維素三醋酸酯、纖維素醋酸酯丁酸酯、聚酯、聚 醯胺、聚醯亞胺、聚醚硕、聚硕、聚丙烯、聚甲基戊烯、 聚氯乙烯、聚乙烯基乙縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯 、聚碳酸酯或聚胺酯等。 聚酯之熱塑性樹脂薄膜,在機械強度或被覆適合性之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) — -10- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 578013 A7 B7 五、發明説明(8) 點係較宜的,纖維素三醋酸酯之熱塑性樹脂薄膜係透明性 較高,光學上無異向性,且低折射率係較宜的。聚碳酸酯 之熱塑性樹脂薄膜具有透明性及耐熱性,故較宜。 且,此等熱塑性樹脂薄膜係具有柔軟性者或板狀者亦 可。 熱塑性樹脂薄膜之厚度宜爲8〜1 0 0 0 // m程度, 較宜爲5 0〜2 0 0 // m程度。且爲板狀時,超過此範圍 者亦可。 爲使經予層合於透明薄膜2之單面或兩面上的凹凸層 間之接著性提高,事先進行電暈放電處理,氧化處理等的 物理處理,錨固劑或底漆之塗布,使形成底塗層(未予圖 示)亦可。 b )電離放射線硬化性樹脂組成物 於本發明,電離放射硬化性樹脂組成物係使用含有紫 外線硬化性樹脂組成物及電子線硬化性樹脂組成物者。 因此,若依本發明之較佳的態樣時,則以本發明之光 擴散保護膜之凹凸層3爲含有電離放射線硬化性樹脂之硬 化物者爲宜。又若依本發明之較佳的態樣時,則本發明之 光擴散保護膜係以透明塑膠薄膜之兩面以前述凹凸層3予 以層合者爲宜。 至於電離放射線硬化性樹脂組成物,係使用已適當混 合分子中有聚合性不飽和鍵結或有環氧基之預聚物,寡聚 物及/或單體者。至於供硬化而照射的電離放射線,在電 磁波或荷電粒子線之中可使用聚合或交鏈分子而得的能量 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) ^ 578013 Α7 Β7 五、發明説明(9) 夏子者,通常採用紫外線或電子線。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 至於電離放射線硬化性樹脂組成物中之預聚物,寡聚 物之例,可舉出不飽和二羧酸及多元醇之縮合物等的不飽 和聚酯類、聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、多元 醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯等甲基丙烯酸酯 類、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸環氧酯、胺酯丙烯酸酯、聚醚 丙烯酸酯、丙烯酸多元醇酯、三聚氰胺丙烯酸酯等丙烯酸 酯類、或陽離子聚合型環氧基化合物。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至於電離放射線硬化性樹脂組成物中的單體之例,可 舉出:苯乙烯、α -甲基苯乙烯等苯乙烯系單體,丙烯酸 甲酯、丙烯酸- 2 -乙己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸 丁氧乙基酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧丁基酯、丙烯酸苯 基酯等丙烯酸酯、甲基丙烯酸曱酯、曱基丙烯酸乙酯、甲 基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧 基甲酯、甲基丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲 基丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸月桂基酯等甲基丙烯酸酯類 、丙烯酸一 2 — (Ν,Ν -二乙基胺基)乙基酯、丙烯酸 一 2 -(Ν,Ν -二甲基胺基)乙基酯、丙烯酸一 2 —( Ν,Ν -二苄基胺基)甲基酯、丙烯酸一 2 -(Ν,Ν -二乙基胺基)丙基酯等的不飽和取代之取代胺基醇酯類、 丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等不飽和羧酸醯胺、乙二醇二丙 烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸新戊基醇酯 、二丙烯酸1 ,6 -己二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯等的 化合物,二丙烯酸二丙二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二甲 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210Χ297公釐) 578013 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____ B7五、發明説明(切 基丙烯酸丙二醇酯、二甲基丙烯酸二乙二醇酯等的多官能 性化合物,及/或分子中有二個以上的硫醇基之聚硫醇化 合物,例如三羥甲基丙烷三硫醇鹽、三羥甲基丙烷三硫代 丙基鹽、季戊四醇四硫醇鹽等。 至於電離放射線硬化性樹脂組成物中之單體,視必要 時混合一種或二種以上並採用上述化合物。於電離放射線 硬化性組成物內爲賦與通常的塗布適合性,前述預聚物或 寡聚物宜爲設成5重量%,前述單體及/或聚硫醇化合物 9 5重量%以下。 電離放射線硬化性樹脂組成物被要求柔軟性時,減少 單體量,或使用官能基之數1或2之丙烯酸酯單體即可。 電離放射線硬化性樹脂組成物之硬化物被要求耐磨耗性、 耐熱性、耐溶劑性時,使用官能基之數3以上的丙烯酸酯 單體等,藉由電離放射線硬化性樹脂組成物之設計可使該 等成爲可能,在此,可舉出丙烯酸2 -羥基酯、丙烯酸苯 氧基乙酯作爲有一種官能基者。至於官能基二種者,可舉 出二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1 ,6 -己二醇酯。至於 官能基三種以上者,可舉出三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三 丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、六丙烯酸二季 戊四醇酯等。 電離放射線硬化性樹脂組成物之硬化物被要求柔軟性 或表面硬度等之物性的調整時,於電離放射線硬化性樹脂 組成物內,亦可添加以電離放射線照射亦不硬化的樹脂。 至於其樹脂之具體例,可舉出聚胺酯樹脂、纖維素樹脂、 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210X 297公釐) -13- 578013 Α7 Β7 五、發明説明(1)1 聚乙烯基縮丁醛樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸酯系樹脂、聚氯 乙烯樹脂、聚醋酸乙烯酯等熱塑性。在圖謀聚胺酯樹脂、 纖維素樹脂、聚乙烯基縮丁醛樹脂等之添加方面以圖謀柔 軟性之增加較宜。 電離放射線硬化性樹脂組成物之硬化係藉由光照射, 尤其紫外線照射進行時,添加光聚合引發劑或光聚合促進 劑。至於光聚合引發劑,在具有游離基聚合性不飽和基之 樹脂系時,單獨或混合使用苯乙酮、二苯酮、米希拉苯甲 醯基苯甲酸酯、α -戊肟酯、噻噸酮、苯偶因、苯偶因甲 基醚等。又於具有陽離子聚合性官能基之樹脂系時,至於 光聚合引發劑。可單獨或採用芳香族重氮鏠鹽、芳香族锍 鹽、芳香族鎭鹽、/夕七口 >化合物,苯偶因磺酸酯等。 光聚合引發劑之添加量,對電離放射線硬化性樹脂組成物 100重量分,爲0 · 1〜10重量分。 此外,至於增感劑,可採用正丁胺、三乙胺、或三正 丁基膦等。 電離放射線硬化性樹脂組成物,合倂使用下述的有機 反應性矽化合物。 至於有機矽化合物之第一例,係以一般式 R m S i (OR3) η表示者。式內,R及R3係表示碳數1 〜1 0之院基,m及η係各自表示滿足m + η = 4之關係 的整數。 具體而言,可舉出:四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、 四-異丙氧基矽烷、四-正丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨,訂
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 578013 A7 B7 五、發明説明(货 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基矽烷、四五乙氧基砂 烷、四五異丙氧基矽烷、四五-四-丙氧基矽烷、四五-正丁氧基矽烷、四五-第二丁氧基矽烷、四五第三丁氧基 矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、曱基三丁 氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、 二甲基乙氧基矽烷、二甲基甲氧基矽烷、二甲基丙氧基矽 烷、二甲基丁氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、甲基二乙氧 基砂院、己基二甲氧基石夕院等。 至於可倂用於電離放射線硬化性樹脂組成物之有機矽 化合物之第二例,係矽烷偶合劑。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 具體而Η,可舉出有:7" -( 2 —胺基乙基)胺基丙 基三甲氧基矽烷、τ 一(2 -胺基乙基)胺基丙基甲基二 曱氧基矽烷、/3 — (3 ,4 —環氧基環己基)乙基三甲氧 基矽烷、r -胺基丙基三乙氧基矽烷- r -甲基丙烯氧基 丙基三甲氧基矽烷、N- /3 — (N -乙烯基苄基胺基乙基 )- r -胺基丙基甲氧基矽烷·鹽酸、r環氧丙氧基丙基 三甲氧基矽烷、胺基矽烷、甲基甲氧基矽烷、乙烯基三乙 氧基5夕院、T -疏基丙基二甲氧基石夕院、T -氯丙基二甲 氧基矽烷、六甲基二矽氮烷、乙烯基參(/3 -甲氧基乙氧 基)矽烷、氯化十八烷基二甲基〔3 -(三甲氧基甲矽烷 基)丙基〕銨、甲基三氯矽烷、二甲基二氯矽烷等。 至於可合倂使用於電離放射線硬化性樹脂組成物之有 機矽化合物之第三例,爲電離放射線硬化性矽化合物。 具體而言,由電離放射線之照射而反應交鏈的多數官 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X29?公釐) -15- 578013 A7 B7 五、發明説明(贷 能基,例如可舉出具有聚合性雙鏈鍵結基之分子量 5,0 0 0以下的有機矽化合物,較具體的可舉出:單側 終端乙烯基官能性聚矽烷、兩終端乙烯基官能性聚矽烷、 單側終端乙烯基官能聚矽氧烷、兩終端乙烯基官能聚矽氧 烷、或使此等化合物反應的乙烯基官能性聚矽烷或乙烯基 官能性聚矽氧烷等。 較具體而言,係以下式(A)〜(E)表示的化合物 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -16- 578013 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(炉 (A) CH2=CH-(R1R2Si)n-CH=CH2 CH2 -(rR2Si)2 — CH=CH2I CH2 CHa CH3 I I I (B) (CH3)3-Si0 —(SiO)a —(SiO)b — Si-CH3 I I I CH3 CHa CHa CHa CHa CHa I I I (C) (CH2=CH-(R1R2Si)n~CH2CH2-SiO-(SiO)c-Si-CH3 I I I CHa CHa CHa CHa CHs CHa I I I (D) H —(rR2Si)n — CH2CH2-(SiO) —(SiO)c — Si — CH=CH2 I I I CH3 CHa CHs CHa CHa CHa I I I (E) CH2 =CH2 — (SiO) — (SiO)d — Si —CH=CH2 I I I CH3 CH3 CHa (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 578013 A7 B7 五、發明説明(乍 不裝置1 0 0爲液晶顯示裝置。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 光擴散保護膜之製浩卞法 若依本發明之另外態樣時,則可提供本發明之光擴散 保護膜之製造方法。若依本發明之製造方法時,可將有機 質或無機質之微小的珠粒未予配合的凹凸層賦與至透明塑 膠薄膜。此種凹凸層之賦與,對經予成膜的樹脂層,或成 膜中之樹脂層’視必要時加熱壓附至壓花板,宜爲輥輪狀 的壓花輥輪之所謂壓花法可予進行。較宜爲使用已形成所 期待的凹凸逆型形狀至模型面之凹凸模,塗布紫外線硬化 性樹脂等的硬化性之優越的樹脂組成物,以透明塑膠薄膜 被覆後,照射紫外線,使凹凸模內的紫外線硬化性樹脂等 硬化,伺時使與透明塑膠薄膜一體化,其後藉由剝離可予 進行。 後者的方法,尤其模型之再現性較壓花法亦優越,故 可得所期待的光學特性。又由壓花法而得的製品之凹凸, 可消除所謂經時變形的缺點,可得微細且有硬度之凹凸層 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第4圖係使用上述的紫外線硬化性樹脂等,表示採用 壓花裝置10進行的製造方法之圖。 首先,由左方捲出透明塑膠薄膜2,朝壓花輥輪1 2 供給並予導入。此壓花輥輪1 2之背面,係所期待的形狀 之逆型形狀之凹凸1 2 a經予形成的凹凸模型面。 於壓花輥輪1 2之下部,設置有被覆頭1 3,藉由管 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -19- 578013 Μ Β7 五、發明説明(1)8 護膜1之際,亦可採用平板狀之壓花板。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 壓花輥輪1 2或平板狀之壓花板等的模型之凹凸模型 面,可由各種方法形成。例如,噴砂法係凹凸之形狀(R 2 或波峰計數)之再現性優越,有於用性,故爲較宜的形成 方法。 至於爲形成凹凸模型面而用的模型材,可舉出金屬, 塑膠或木或此等的複合體。於強度或重複使用時較難磨耗 之點,至於金屬官爲鉻,在經濟性之觀點,宜爲鐵製輥輪 之表面上已鍍鉻者。 至於噴塗粒子,係採用金屬粒子或二氧化矽、氧化鋁 或玻璃等的無機質粒子。此等粒子之粒徑(直徑),例如 係#60〜#35〇程度者。 於噴塗此等粒子於模型材上之際,與高速的粒子同時 噴塗此等粒子亦可。於此際利用液體,例如已合倂使用水 的液體噴砂法亦可。利用液體噴砂法時,再現性較不合倂 使用液體之乾燥方式優越,有作業環境上亦較宜的優點。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於已形成凹凸的凹凸模型面上,使提高使用時之耐久 性的目的,施以鍍絡等,並予硬膜化,且使耐腐鈾性提局 予以使用爲宜。且鍍著處理對凹凸形狀給予若干的影響時 ,考慮此影響,進行噴砂法爲宜。 實施例 例1 於鐵製之輥輪表面上,準備已鍍鉻厚度2 0 // m之鍍 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) -21 - 578013 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明説明(1)9 鉻輥輪,於此鍍鉻輥輪之表面上,同時噴塗2 5 0筛目之 鐵離子及水,於表面上已形成凹凸後,於凹凸面上鍍鉻, 可得表面上具有微細的梨皮狀之壓花輥輪。 採用以第4圖說明的裝置,將紫外線硬化性樹脂(大 日本油墨化學工業(股)製,RC 1 9 - 9 4 1 )塗布於 壓花輥輪上,於塗布面上層合以透明塑膠薄膜之聚對苯二 甲酸乙二酯樹脂,接著由塑膠側採用紫外線光源(Fuj ho η 公司製造,D燈泡)照射紫外線後,剝離而得具有本發明 之凹凸層的光擴散保護膜。 所得的光擴散保護膜之凹凸層的凹凸面之十點平均粗 糙度爲1 _ 15//m。 又以波峰計數水準爲粗糙度曲線之中心線之± 0 . 1 // m,測定長爲0 . 8 m m時之波峰計數之積算値爲2 3 次。 使用上述而得的光擴散保護膜取代第1圖中1 0 7, 作爲透鏡板片1 0 6,以相等的節距排列截面爲直角二等 邊三角形之溝槽者(住友3M (股)製造,BET)二片 ,任一者均以透鏡面朝上,且溝槽之方向呈正交的重疊並 予使用,至於透鏡板片1 0 6之下面之光擴散保護膜 1 0 5,係使用(股)Tsuziden製的品級:D 1 2 1並組 裝面光源裝置。 比較例 比較例係採用具含有玻粒之樹脂層的習用者((股) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
訂 im 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -22-

Claims (1)

  1. 578013 8 888 ABCD 六、申請專利範圍 彳 1 · 一種光擴散保護膜,係經予配置於面光源裝置而 成的光擴散保護膜, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其特徵爲由含有透明薄膜及於其表面上經予層合而成 的凹凸層而成, < (1 )該凹凸層之凹凸面的十點平均粗糙度爲〇 · 5 // m 〜2 · 0 // m, (2 )測定該凹凸層之凹凸面的粗糙度曲線,設置對 該粗糙度曲線之中心線,由該中心線於垂直方向上寬度土 〇.1 // m之位置處平行於該中心線之線的上側及下側之 波峰計數位準,於以中心線之長度0 . 8 m m觀察該粗糙 度曲線時,該粗糙度曲線與下側波峰計數位準交叉後,於 與下一下側波峰計數位準兩交叉爲止之間,以該粗糙度曲 線與上側波峰計數位準交叉時之次數在1以上作爲「1次 」計算時之積算値爲1 6〜6 0次者。 2 .如申請專利範圍第1項之光擴散保護膜,其中前 述透明塑膠薄膜之兩面係以前述凹凸層予以層合者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 .如申請專利範圍第1項之光擴散保護膜,其中前 述透明塑膠薄膜之兩面係以前述凹凸層予以層合者。 4 · 一種面光源裝置,係由光源、光擴散薄膜、透鏡 板片及申請專利範圍第1至3項中任一項之光擴散保護膜 依順序予以配置而成。 5 .如申請專利範圍第4項之面光源裝置,其中前述 光擴散薄膜係與申請專利範圍第1至3項中任一項之光擴 散保護膜相同者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -24- 578013 A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 2 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 6 . —種顯示裝置,係由申請專利範圍第4項或第5 項之面光源裝置及經予配置於其上部而成的顯示嵌板予以 構成而成。 7 ·如申請專利範圍第6項之顯示裝置,其中前述顯 示裝置係液晶顯示裝置。 8 · —種光擴散保護膜之製造方法,係由含有透明塑 膠薄膜及經予層合於該表面上而成的凹凸層而成之光擴散 保護膜之製造方法,其特徵爲包含 準備透明塑膠薄膜, 將該透明塑膠薄膜導入該凹凸層之凹凸形狀及逆形狀 之凹凸形狀以噴砂加工所形成的型板上,於該型板及該透 明塑膠薄膜之間使層合電離放射線硬化性樹脂, 照射電離放射線至該電離放射線硬化性樹脂上並於該 透明塑膠薄膜之表面上形成該電離放射線硬化性樹脂之硬 化物, 由該型板剝離該電離放射線硬化性樹脂之硬化物經予 層合的該透明塑膠薄膜而得光擴散保護膜而成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 .如申請專利範圍第8項之製造方法,其中該型材 係具有輥輪形狀,於該型材內導入前述透明塑膠薄膜而成 〇 1 0 · —種光擴散保護膜,其特徵爲係以申請專利範 圍第8項或第9項之製造方法予以製造而得。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -25-
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