KR101141918B1 - 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법 - Google Patents

패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 기재층의 상,하부면에 상부표면층 및 하부표면층을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 있어서, 전술한 기재층을 형성하는 제1원료 및 전술한 상부표면층 및 하부표면층을 형성하는 제2원료를 준비하는 원료준비단계, 전술한 제1원료를 3층 T-다이의 메인수지통로에 투입하고, 전술한 제2원료를 3층 T-다이의 서브수지통로에 투입하여 기재층, 상부표면층 및 하부표면층이 형성된 3층 시트로 압출하는 시트압출단계 및 전술한 시트압출단계에서 압출된 3층 시트를 외주면에 패턴무늬가 형성된 패턴롤과 외주면에 엠보무늬가 형성된 엠보를 사이로 통과시켜 상부표면층에는 패턴이 형성되고, 하부표면층에는 엠보가 형성된 3층 시트를 제공하는 패턴엠보형성단계를 포함하여 이루어진다.

Description

패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법 {MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-DIFFUSING FILM HAVING PATTERN AND EMBO}
본 발명은 기재층의 상,하부면에 상부표면층 및 하부표면층을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원료준비단계, 시트압출단계 및 패턴엠보형성단계를 포함하여 이루어진다.
본 발명은 기재층의 상,하부면에 상부표면층 및 하부표면층을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원료준비단계, 시트압출단계 및 패턴엠보형성단계를 포함하여 이루어진다.
종래에 액정 디스플레이의 광확산 방식은 대부분 광투명도가 비교적 높은 아크릴수지가 사용되는 도광판이 광확산층의 역할까지 겸하고 있으므로 가격적으로는 유리한 측면이 있으나, 더욱 선명한 화상이 요구되는 TFT-LCD에서는 기존의 도광판에 광확산을 부여한 방식으로는 한계가 있으므로 도광판 위에 별도의 광확산 필름 또는 광확산 판을 사용한 방식이 각종 노트북 컴퓨터와 퍼스널 컴퓨터, 벽걸이 텔레비젼 등의 TFT-LCD의 백 라이트 유니트에 사용되고 있다.
도광판 위에 별도로 사용되는 광확산 필름은 일반적으로 투명한 플라스틱 시트에 광확산 입자를 혼합하거나 플라스틱 시트에 광확산 입자를 코팅하여 이루어진다.
광원램프로부터 조사되어 도광판을 투과한 빛을 손실 없이 통과시키면서도 균일하게 확산시키는 기능을 가지는 광확산 필름이 가져야 할 가장 중요한 특성으로는 높은 전광선 투과율과 높은 광확산율이다.
최근에는 액정 디스플레이의 크기가 점차 넓어지고 있어, 고효율의 전광선 투과율과 확산율을 나타내며, 외부로부터 전달되는 열 및 충격 등에 강한 물성을 나타내는 액정 디스플레이용 광확산 필름이 요구되고 있다.
또한, 연속공정에 의한 대량생산이 가능하며, 제조과정에서 이물, 기포, 흑점 및 패턴의 전사율저하, 두께편차 등이 발생하지 않는 광확산 필름이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 고효율의 전광선 투과율과 확산율을 나타내며, 외부로부터 전달되는 열 및 충격 등에 강한 물성을 갖는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 연속공정에 의한 대량생산이 가능하며, 제조과정에서 이물, 기포, 흑점 및 패턴의 전사율 저하, 두께편차 등이 발생하지 않는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 기재층의 상,하부면에 상부표면층 및 하부표면층을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 있어서, 상기 기재층을 형성하는 제1원료 및 상기 상부표면층 및 하부표면층을 형성하는 제2원료를 준비하는 원료준비단계, 상기 제1원료를 3층 T-다이의 메인수지통로에 투입하고, 상기 제2원료를 3층 T-다이의 서브수지통로에 투입하여 기재층, 상부표면층 및 하부표면층이 형성된 3층 시트로 압출하는 시트압출단계 및 상기 시트압출단계에서 압출된 3층 시트를 외주면에 패턴무늬가 형성된 패턴롤과 외주면에 엠보무늬가 형성된 엠보롤 사이로 통과시켜 상부표면층에는 패턴이 형성되고, 하부표면층에는 엠보가 형성된 3층 시트를 제공하는 패턴엠보형성단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법을 제공함에 의해 달성된다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제1원료는 폴리카보네이트를 포함하여 이루어지며, 상기 제2원료는 폴리카보네이트 100 중량부, 광확산제 0.1 내지 15 중량부 및 대전방지제 0.3 내지 5 중량부를 혼합하여 이루어지는 것으로 한다.
본 발명의 더 바람직한 특징에 따르면, 상기 기재층은 150 내지 170 마이크로미터의 두께로 형성되며, 상기 상부표면층 및 하부표면층은 30 내지 50 마이크로미터의 두께로 형성되는 것으로 한다.
본 발명의 더욱 바람직한 특징에 따르면, 상기 엠보는 표면의 평균거칠기(Ra) 값이 1 내지 3 마이크로인 것으로 한다.
삭제
본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법은 고효율의 전광선 투과율과 확산율을 나타내며, 외부로부터 전달되는 열 및 충격 등에 강한 물성을 갖는 광확산 필름을 제공하는 탁월할 효과를 나타낸다.
또한, 연속공정에 의한 대량생산이 가능하며, 제조과정에서 이물, 기포, 흑점 및 패턴의 전사율저하, 두께편차 등이 발생하지 않는 광확산 필름을 제공하는 탁월한 효과를 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명에 사용되는 3층 T-다이를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명에 사용되는 3층 T-다이를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조과정을 나타낸 공정도이다.
도 5는 본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법으로 제조된 광확산 필름을 나타낸 분해사시도이다.
이하에는, 본 발명의 바람직한 실시예와 각 성분의 물성을 상세하게 설명하되, 이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이지, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.
본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법은 기재층(10)의 상,하부면에 상부표면층(20) 및 하부표면층(30)을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 있어서, 전술한 기재층(10)을 형성하는 제1원료 및 전술한 상부표면층(20) 및 하부표면층(30)을 형성하는 제2원료를 준비하는 원료준비단계(S101), 전술한 제1원료를 3층 T-다이(100)의 메인수지통로(123a)에 투입하고, 전술한 제2원료를 3층 T-다이(100)의 서브수지통로(123b)에 투입하여 기재층(10), 상부표면층(20) 및 하부표면층(30)이 형성된 3층 시트로 압출하는 시트압출단계(S103) 및 전술한 시트압출단계(S103)에서 압출된 3층 시트를 외주면에 패턴무늬가 형성된 패턴롤(102)과 외주면에 엠보무늬가 형성된 엠보롤(101) 사이로 통과시켜 상부표면층(20)에는 패턴(21)이 형성되고, 하부표면층(30)에는 엠보(31)가 형성된 3층 시트를 제공하는 패턴엠보형성단계(S105)를 포함하여 이루어진다.
전술한 원료준비단계(S101)는 전술한 기재층(10)을 형성하는 제1원료 및 전술한 상부표면층(20) 및 하부표면층(30)을 형성하는 제2원료를 준비하는 단계로, 상기 제1원료는 폴리카보네이트를 포함하여 이루어지며, 상기 제2원료는 폴리카보네이트 100 중량부, 광확산제 0.1 내지 15 중량부 및 대전방지제 0.3 내지 5 중량부를 혼합하여 이루어진다.
이때, 전술한 광확산제는 빛을 확산하는 역할을 하며, 메틸메타크릴레이트 50 내지 100 중량부, 스티렌 1 내지 50 중량부로 이루어지며, 평균 입경 5 내지 200㎛의 비드인 것을 사용한다.
전술한 대전방지제는 전술한 상부표면층 및 하부표면층의 표면에서 발생하는 정전기를 차단하여, 미세먼지 등이 전술한 패턴 및 엠보의 표면에 달라붙는 것을 억제하는 역할을 하며, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 양친성 계면활성제 및 비이온계 계면활성제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상을 포함하여 이루어지는데, 전술한 양이온계 계면활성제는 탄소수가 2 내지 50인 테트라알킬 또는 테트라아릴 암모니움염이 바람직하고, 전술한 음이온계 계면활성제는 탄소수가 2 내지 30인 포화 및 불포화 알킬 또는 아릴 설포네이트, 알킬 또는 아릴 포스포네이트가 바람직하며, 전술한 양친성 계면활성제는 탄소수가 2 내지 30인 포화 및 불포화 알킬 또는 아릴 베테인이 바람직하고, 전술한 비이온계 계면활성제는 탄소수가 2 내지 30인 포화 및 불포화 알킬 또는 아릴 글리세롤에스테르가 바람직하다.
전술한 폴리카보네이트는 제1원료 및 제2원료의 재료로 사용되기 전에 호퍼건조기에서 건조하여 습기를 제거하는 것이 바람직하다.
전술한 시트압출단계(S103)는 전술한 제1원료를 3층 T-다이(100)의 메인수지통로(123a)에 투입하고, 전술한 제2원료를 3층 T-다이(100)의 서브수지통로(123b)에 투입하여 기재층(10), 상부표면층(20) 및 하부표면층(30)이 형성된 3층 시트로 압출하는 단계다.
이때, 전술한 3층 T-다이(100)는 바닥면에 상부메인수지통로(121a)가 형성되고 내부에 상부서브수지 통로(121b)가 형성되며 상측에 상측히터고정홈(121c)이 형성된 상부 다이 바디(121)와, 상기 상부 다이 바디(121)와 바람직하게는 볼트 결합되며 상면에 상기 상부서브수지통로(121b)와 상응되는 하부메인수지통로(122a)가 형성되고 내부에 하부서브수지통로(122b)가 형성되며 하측에 하측히터고정홈(122c)이 형성된 하부 다이 바디(122)와, 상기 상?하부 다이 바디(121,122)가 결합된 상태에서 상?하부 다이 바디(121,122)의 상측에 볼트 결합되며 내측에 메인수지통로(123a)와 서브수지통로(123b)가 형성된 수지유입 커넥터(123)와, 상기 상?하부 다이 바디(121,122)의 각각에 볼트 결합되는 히터(124)와, 상기 히터(124)의 일측에 볼트 결합되는 냉각부(125)와, 상기 냉각부(125)의 하측에 볼트 결합되는 시트두께 조절부(126)를 포함하여 구성된다.
전술한 패턴엠보형성단계(S105)는 전술한 시트압출단계(S103)에서 압출된 3층 시트를 외주면에 패턴무늬가 형성된 패턴롤(102)과 외주면에 엠보무늬가 형성된 엠보롤(101) 사이로 통과시켜 상부표면층(20)에는 패턴(21)이 형성되고, 하부표면층(30)에는 엠보(31)가 형성된 3층 시트를 제공하는 단계로, 전술한 패턴(21)은 높이가 20 내지 30 마이크로미터고, 전술한 엠보(31)는 표면 평균거칠기(Ra) 값이 1 내지 3 마이크로미터를 나타낸다.
이러한 패턴엠보형성단계(S105)를 거치게 되면, 150 내지 170 밀리미터 두께의 기재층(10), 전술한 기재층의 상부면에 패턴(21)이 형성된 30 내지 50 밀리미터의 두께의 상부표면층(20) 및 전술한 기재층(10)의 하부면에 엠보(31)가 형성된 30 내지 50 밀리미터의 두께의 하부표면층(30)이 형성되어 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름이 제공된다.
전술한 패턴(21) 및 엠보(31)가 형성된 광확산 필름은 고효율의 전광선 투과율과 확산율을 나타내며, 외부로부터 전달되는 열 및 충격 등에 강한 물성을 가지며, 연속공정에 의한 대량생산 과정에서 이물, 기포, 흑점 및 패턴의 전사율저하, 두께편차 등이 발생하지 않는 효과를 나타낸다.
10 ; 기재층 20 ; 상부표면층
21 ; 패턴 30 ; 하부표면층
31 ; 엠보 100 ; 3층 T-다이
101 ; 엠보롤 102 ; 패턴롤
121 ; 상부 다이 바디 121a; 상부메인수지통로
121b; 상부서브수지통로 121c; 상측히터고정홈
122 ; 하부 다이 바디 122a; 하부메인수지통로
122b; 하부서브수지통로 122c; 하측히터고정홈
123 ; 수지유입 커넥터 123a; 메인수지통로
123b; 서브수지통로 124 ; 히터
125 ;냉각부 126 ; 시트두께 조절부

Claims (5)

  1. 기재층의 상,하부면에 상부표면층 및 하부표면층을 형성하여 이루어지는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 있어서,
    상기 기재층을 형성하는 제1원료 및 상기 상부표면층 및 하부표면층을 형성하는 제2원료를 준비하는 원료준비단계;
    상기 제1원료를 3층 T-다이의 메인수지통로에 투입하고, 상기 제2원료를 3층 T-다이의 서브수지통로에 투입하여 기재층, 상부표면층 및 하부표면층이 형성된 3층 시트로 압출하는 시트압출단계; 및
    상기 시트압출단계에서 압출된 3층 시트를 외주면에 패턴무늬가 형성된 패턴롤과 외주면에 엠보무늬가 형성된 엠보롤 사이로 통과시켜 상부표면층에는 패턴이 형성되고, 하부표면층에는 엠보가 형성된 3층 시트를 제공하는 패턴엠보형성단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1원료는 폴리카보네이트를 포함하여 이루어지며, 상기 제2원료는 폴리카보네이트 100 중량부, 광확산제 0.1 내지 15 중량부 및 대전방지제 0.3 내지 5 중량부를 혼합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재층은 150 내지 170 마이크로미터의 두께로 형성되며, 상기 상부표면층 및 하부표면층은 30 내지 50 마이크로미터의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법.
  4. 삭제
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 엠보는 표면의 평균거칠기(Ra) 값이 1 내지 3 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법.
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