TW541678B - Lead frame and method for fabricating resin-encapsulated semiconductor device using the same - Google Patents

Lead frame and method for fabricating resin-encapsulated semiconductor device using the same Download PDF

Info

Publication number
TW541678B
TW541678B TW090126708A TW90126708A TW541678B TW 541678 B TW541678 B TW 541678B TW 090126708 A TW090126708 A TW 090126708A TW 90126708 A TW90126708 A TW 90126708A TW 541678 B TW541678 B TW 541678B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
section
lead frame
lead
resin
packaging
Prior art date
Application number
TW090126708A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaki Utsumi
Masashi Funakoshi
Tsuyoshi Hamatani
Takeshi Morikawa
Yukio Nakabayashi
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Ind Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Ind Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW541678B publication Critical patent/TW541678B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/561Batch processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/568Temporary substrate used as encapsulation process aid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

541678 A7 B7 五、發明説明( 發明背景 本發明係關於一種引線框,使引線框在封裝於一樹脂内 之後可曝露底表面,以及一種用以製造一樹脂封裝之半導 體裝置之方沐,甘& 乃/2: 其可使用此一引線框而將表面安裝於一基 板上。 近年來’對於半導體元件之高密度安裝有增大之需求, 以便取得較高功能性之較小電子裝置,據此,一樹脂封裝 之半導體裝置(即藉由_體成型地封裝一半導體晶片及引線 於一樹脂模具内而取得之裝置)之整體尺寸及厚度已快速減 小。再者’目前已發展出多種技術,以降低生產成本及增 加生產率。 用於製造一樹脂封裝之半導體裝置之一習知方法將參考 圖11以說明之。 圖11說明用於製造一樹脂封裝之半導體裝置之一習知方 法,較特別的是,圖u係一截面圖,說明將樹脂封裝之複 數半導體裝置彼此分離至一引線框上之一步驟。如圖丨丨所 不’一引線框1 0 1係供複數半導體裝置i 〇〇個別地在其上封 裝於一樹脂内,其固定於一細切片2〇〇上,隨後引線框1 〇 i 利用一切削刃20 1沿著一延伸於相鄰半導體裝置i 〇〇之間之 切削區而切削。切削刀2〇1切削後,一鑿紋(切削引線 框101後留存之一粗邊)會產生於引線框1〇1之端表面上。 發生於半導體裝置100底表面上之攀紋l〇la係不必要者, 若半導體裝置100為一表面安裝式裝置,即引線曝露於其底 表面上’則半導體裝置100與供其安裝於上之基板之間黏性 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678
A7 B7 _ 、發明説明(2 ) 會因鑿紋101a而呈不足,致使其間之電力連接不良。 儘管一般係以金剛石粉末或類似物施加於切削刀2〇 1之切 削表面上,但是當切削刃20 1反覆用於切削金屬製成之引線 框101時,切削表面即易負荷有金屬粉末。一旦切削刃2 〇 1 負荷時’切削製程無法利用負荷之切削刃20 1持續進行,必 須以新的刀刃更換負荷之切削刀20 1,此一更換過程即降低 生產率。 發明概要 本發明用於解決先前技藝中之諸項問題,且具有一目的 以減少發生於一引線框之切削表面上之鑿紋,藉此增進一 树月曰封裝之半導體裝置之品質,同時延長一切削刃之壽命 ’因而增加生產率。 為了達成此目的,本發明提供一金屬引線框且具有切削 區供引線框沿此切削成複數半導體裝置,其中切削區係局 部凹入,以減少沿著切削區之金屬量。當製造一樹脂封裝 之半導體裝置時,引線框之各切削區之凹入部可填以封裝 樹脂。 特別是’本發明之一第一引線框包括:一外框段;複數 晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體晶片於其 上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供相互連接及 支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶片安裝段由一 封裝樹脂封裝於其内。一開孔提供於外框段之複數區域内 ,其位於封裝區外側且沿著其中一連接段之延伸部。 在第一引線框中,一開孔提供於外框段之複數區域内, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678
A7 _____B7 ___ 、發明説明(3 ) 其位於封裝區外側且沿著其中一連接段之延伸部。因此, 當引線框係由一切削刃沿著連接段切削時,欲由切削刃切 削之引線框量即在封裝區外側之一部分外框段内減少。依 此’可以減少引線框之鑿紋發生及抑制切削刃之負荷,藉 此增進樹脂封裝之半導體裝置之品質,同時延長切削刃之 壽命,因而增加生產率。 在第一引線框中’較佳為開孔之一寬度係大於供沿著連 接段以切削引線框之切削裝置之一厚度。依此,切削裝置 不會接觸開孔内之引線框,藉此穩定地抑制引線框之鑿紋 發生及切削刃之負荷。 本發明之一第二引線框包括:一外框段;複數晶片安裝 段’係由外框段支承且安裝複數半導體晶片於其上;引線 段’係圍繞晶片安裝段;連接段,供相互連接及支承内引 線段與外框段;及一封裝區,供晶片安裝段由一封裝樹脂 封裝於其内’其中一凹入部係提供於外框段之複數區域内 ’其各位於封裝區外側,係在供封裝樹脂於此流動之一流 迢段之相反側上,且沿著其中一連接段之延伸部。 在第二引線框中,一凹入部係提供於外框段之複數區域 内,其各位於封裝區外側,係在供封裝樹脂於此流動之一 流迢段之相反側上,且沿著其中一連接段之延伸部。因此 ,當引線框係由一切削刃沿著連接段切削時,欲由切削刃 切削之引線框量即在封裝區外側之一部分外框段内減少。 依此’可以減少引線框之鑿紋發生及抑制切削刃之負荷。 此外,凹入部可填以一封裝樹脂,由於一封裝樹脂通常混 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678
口夕土(乳化硬)做為填料,故可利用混合於封裝樹脂内之石夕 土成分而提供自-負荷狀態中恢復切削刀等等之俗稱,,修飾 效果”。結果’馨紋之發生即減少,藉此增進樹脂封裝之半 導體裝置之品冑’同時延長切削刃之壽命,因而增加生產 率。 、在第二引線框中,較佳為凹入部之一寬度係大於供沿著 連接段以切削引線框之切削裝置之一厚度。依此,切削裝 置不會接觸開孔内之引線框,藉此穩定地抑制引線框之鑿 紋發生及切削刃之負荷。 在第一或第二引線框中,較佳為各連接段包括一薄化部 ,其厚度小於外框段之厚度。依此,封裝樹脂之厚度係在 連接奴之上方或下方增加,因此,當引線框係由切削刀沿 著連接段切削時,欲由切削刃切削之引線框量即減少,同 時欲由切削刃切削之封裝樹脂量增加,減少引線框之鑿紋 及增進切削刃上之修飾效果。 在第一或第二引線框中,較佳為另一開孔提供於封裝區 之一周邊部之複數區域内,其各沿著其中一連接段之一延 伸部而設。依此,由於其他開孔設於引線框之封裝區中, 故其他開孔即填以封裝樹脂,藉此進一步增進切削刀上之 修飾效果。 在第一或第二引線框中,較佳為各連接段之一寬度係小 於供沿著連接段以切削引線框之切削裝置之一厚度。依此 ’籌沿者連接段切削引線框成複數裝置時,切削裝置可以 完全切離連接段。此外,切削裝置相關於連接段之對準邊 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 541678 A7 B7 五、發明説明(5 ) 距增加。 在此一例子中,進一步較佳為各連接段係在接近於引線 段處截角,藉此減小接近於引線段處之連接段之一厚度。 此即進一步減少欲由切削刃切削之引線框量,同時增加欲 甴切削刃切削之封裝樹脂量,藉此減少引線框之鑿紋及增 進切削刃上之修飾效果。 導體晶片於引線框之 晶片安裝段上之一第二步驟;將各安
其中第四步驟包括一 本發明用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之一第一方法 包括:提供一引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框 段;複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供相 互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶片安 裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一開孔係提供於外框 段之複數區域内,其位於封裝區外側且沿著其中一連接段 之一延伸部,及各連接段包括一薄化部;分別安裝複數半
封裝樹脂。 樹脂封裝之半導體裝置之第 片包含於封裝樹脂内之一第五步驟, 封裝引線框及半導體晶片之步驟,使 之一凹穴係填注以 用以製造一 一方法使用本發 -8 - 541678 A? B7 五、發明説明( 明之第一引線框,其中各連接段包括一薄化部,且定義於 /專化部上方或下方之凹穴係填注以封裝樹脂。因此,封裝 樹脂之厚度即在連接段上方或下方增加,因此,欲由切削 刃切削之引線框量即減少,同時欲由切削刃切削之封裝樹 月曰置增加。結果’引線框之鑿紋減少且切削刃上之修飾效 果增加,藉此增進一樹脂封裝之半導體裝置之品質,同時 延長一切削刃之壽命,因而增加生產率。 本發明用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之一第二方法 包括:提供一引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框 段;複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供相 互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶片安 裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一凹入部係提供於外 框段之複數區域内,其各位於封裝區外側,係在供封裝樹 脂於此流動之一流道段之相反側上,且沿著其中一連接段 之延伸部,及各連接段包括一薄化部;分別安裝複數半導 體晶片於引線框之晶片安裝段上之一第二步驟;將各安裝 後之半導體晶片以電氣性連接於圍繞半導體晶片之引線段 之一第三步驟;將引線框及半導體晶片一體成型地封裝於 一封裝樹脂内之一第四步驟’·及利用一切削刀沿著連接段 切削封裝後之引線框,以利取得複數半導體裝置,且各具 有至少一半導體晶片包含於封裝樹脂内之一第五步驟,其 中第四步驟包括一封裝引線框及半導體晶片之步驟,使得 定義於引線框之各薄化部上方或下方之一凹$係填注以封 -9 - 541678 A7 B7 五、發明説明( 裝樹脂。 用以製造-樹脂封裝之半導體裝置之第二方法使用本發 明之第二引線框,#中各連接段包括一薄化部,且定義於 薄化部上方或下方之凹穴係填注以封裝樹脂。結果,本發 明用以製造-樹脂封裝之半導體裝置之第二方法亦提供如 同本發明用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之第一方法者 之效果。 本發明用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之一第三方法 包括:提供-引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框 段;複數晶m段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係、圍繞晶片安裝段;連接段,供相 互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶片安 裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一凹入部係提供於外 框段之複數區域内,其各位於封裝區外側,係在供封裝樹 脂於此流動之一流道段之相反側上,且沿著其中一連接段 之延伸邛,刀別女裝複數半導體晶片於引線框之晶片安裝 段上之一第二步驟;將各安裝後之半導體晶片以電氣性連 接於圍繞半導體晶片之引線段之_第三步驟;將引線框及 半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂内之一第四步驟 ;及利用’削m連接段切肖彳封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含於 封裝樹脂内之-第五步驟,其中第四步驟包括—封裝引線 c及半‘體a曰片之步驟,使得引線框之凹入部未填注以封 裝樹脂。 -10-
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4^¥(2T〇 X 297^^'T 裝 訂
541678 A7 B7 五、發明説明(8 用=製造-樹脂封裝之半導體裝置之第三方法使用本發 、、第引線框因此,欲由切削裝置切削之引線框量即 咸v、、、. I弓|線框之馨紋減少且切削裝置:麵荷減少, 藉此增進樹㈣裝之何體裝置之品質,㈣延長-切削 刃之壽命,因而增加生產率。再者,由於提供於流道段内 之凹入部並未填注封裝樹脂,凹入部可以做結構性簡化。 本發明用以製造-樹脂封裝之半導體裝置之—第四方法 包括:提供-引線框之一第一步·驟,引線框包括:一外框 段;複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上H線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供相 互連接及支承内引線段與外框段;及_封裝區,供晶片安 裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一凹入部係提供於外 框段之複數區域内,其各位於封裝區外側,係在供封裝樹 脂於此流動之一流道段之相反側上,且沿著其 之延伸部;分別安裝複數半導體晶片於引線框之晶片安^ 段上之一第二步驟;將各安裝後之半導體晶片以電氣性連 接於圍繞半導體晶片之引線段之一第三步驟;將引線框及 半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂内之一第四步驟 ;及利用一切削刃沿著連接段切削封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含於 封裝樹脂内之一第五步驟,其中第四步驟包括一封裝引線 框及半導體晶片之步驟,使得引線框之凹入部係填注以封 裝樹脂。 用 以製造一樹脂封裝之半導體裝置之第四方法使用本發 -11 - 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678 A7 B7 五、發明説明(9 明之第二引線框,其中引線框之凹入部 。因此,欲由切削裝置切削之引線框量^I、以封裝樹脂 切削裝置切削之封裝樹脂量增加。、结果同日"人由 少且切削刀上之修飾效果增加,藉此一始框之鑿紋減 導體裝置之品質,_長切削刀…:封裝之半 率。 · αρ,因而增加生產 圖式簡單說明 圖1係一圖表,說明本發明相關於_封裝樹脂厚度之一引 線框厚度比及切削製程中發生之一鑿紋高度間之關係。 圖2係一局部底視圖,簡示本發明實施例之一引線框。 圖3係一放大底視圖,說明圖2所示之一部分引線框。 圖4Α係沿圖3之線IV-IV而取之截面圖,說明封裝於一樹 脂内之後之一部分引線框。 圖4Β係沿圖3之線IV-IV而取之截面圖,說明本發明實施 例之一變換型式。 圖5 A、5Β係截面圖,依序說明本發明實施例中使用_引 線框以製造一樹脂封裝之半導體裝置之方法中之二步驟。 圖6係一局部底視圖,說明本發明實施例之引線框之一切 削區。 圖7係沿圖6之線VII-VII而取之截面圖,說明一凹入部。 圖8係沿圖6之線VIII-VIII而取之截面圖,說明一連接段 及一内引線段。 圖9係一局部底視圖,說明本發明實施例之一變換型式之 引線框之一切削區。 12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678 A7 B7 五、發明説明(1(3 圖10係沿圖9之線χ.χ而取之載面圖,說明一連接段及— 内引線段。 圖丨1如局邛截面圖,說明製造一樹脂封裝之半導體裝 置之習知方法中之—半導體裝置分離步驟。 發明之詳細說明 本發明人已在-藉由切削裝置例如一切削刀(細切刀)切 削-單-引線框以取得樹脂封裝半導體裝置之方法上進行 多項研究,其上已封裝複數半導體裝置。較特別的是,本 叙明人已在如何抑制刀刃所生之馨紋及如何增進因刀刀負 荷而減低之生產率,結果,本發明人已取得以下發現。、 圖1說明相關於封裝樹脂厚度之引線框厚度比及馨紋值, 亦即切削製程產生之馨紋高度,之間之關係。在此,引線 樞係由一銅(CU)合金製成,切削刃具有(U毫米至0.9毫米厚 度及引線框之切削部寬度為〇」i毫求至〇·99毫米。切削條 件如下,切削刀之進刀速度大約為1〇毫米/秒至大約⑽毫 米/秒,其轉速大約為100〇〇 _至6_ —,冷卻與潤滑 水之流動率為大約0 7井/八$ Ο» A i ^ ’幵/刀至大約1.7升/分,及引線框之厚 度大約0.2毫米。 一如圖1所當切削不含封農樹脂之單獨引線框日夺,塞紋 南度係大到⑽微米,此為-半之引線框厚度。反之,當切 削含有一封裝樹脂之_ 3丨綠士 引線框日可,相關於封裝樹脂厚度之 引線框厚度比為亦即當裝樹脂之厚| μ㈣^ n arT ) ’馨紋兩度減小复 又夙】至60彳政未。當比率為^夺(亦即當裝樹脂 之厚度大致等於引線框者時)’ $紋高度即進一步減小至” -13- 541678 A7 B7 五、發明説明(13 ) 圖4B係沿圖3之線IV-IV而取之戴面圖,說明引線框1〇封 裝於一樹脂内之後之一凹入部17變換型式。如圖4β所示, 變換型式之凹入部1 7係形成使其可填注以封裝樹脂2〇a,依 此,欲由切削刀切削之引線框10量可以減少,同時增加欲 由切削刃切削之封裝樹脂量,藉此改善切削刃上之修飾效 果0 請注意圖4B所示之凹入部17需要一組件以將封裝樹脂部 20 A或流道封裝樹脂部21A連接於凹入部17,亦即其間用於 封裝樹脂20a之一通道,使其可填注以封裝樹脂2〇a。關於 此方面,圖4 A中具有未填注以樹脂之凹入部17之引線框工〇 係在結構上較圖4B所示者簡易。 一種使用一具有上述結構之引線框以製造一樹脂封裝之 半導體裝置之方法將參考圖5 A及圖5B說明於後。 第一步驟為提供如圖3所示之引線框1 〇,其中第一開孔i 6 係提供於封裝區20外側且沿著連接段14延伸部之外框段i 1 之一區域内’而凹入部17係提供於沿著連接段14延伸部之 流道段2 1相反側上之一區域内,且連接段14大致沿著其中 線薄化’以利定義一薄化部14a及一設於薄化部14a上方之 凹穴。 隨後,如圖5 Α所示,一半導體晶片31安裝於各晶片安裝 段12上,且安裝後之半導體晶片31利用薄金屬線32以連接 於圍繞半導體晶片3 1之内引線段13。隨後,内引線段1 3、 晶片安裝段12、半導體晶片31及薄金屬線32係一體成型地 封裝於一封裝樹脂内’使各内引線段丨3之底表面曝露,藉 -16 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裴 η
線 541678 A7 B7 五、發明説明(14 ) 此衣成封裝樹脂部2〇A。請注意,引線框丨〇之底表面在此步 驟中係面朝上。 ^後’樹脂封裝之引線框1〇係固定於一細切片⑴乂片)22 上且封裝樹脂部20A之晶片安裝側係面向細;刀片22。請注 意,引線框10另可固定於細切片22上,而相對立於晶片安 裝側之另一側係面向細切片22。 酼後,如圖5B所示,固定於細切片22上之引線框1〇係在 上述切削條件下,利用一切削刀23沿著連接段14切削,以 利取得複數半導體裝置3〇,且各具有至少一半導體晶片31 包含於封裝樹脂部2〇a内。 切削步驟期間,由於定義於薄化部14a上方之凹穴係填注 以一封裝樹脂2〇b,切削刃23之負荷即得以抑制,且切削刃 2 0上之修飾效果得以改善。 依本實施例之引線框10之連接段14所示,連接段14之薄 4匕部14a及凹入部17現在將參考圖式詳細說明於後。 圖6說明封裝於一樹脂内之後之引線框丨〇底表面,特別是 ,圖6說明封裝區2〇,以及凹入部丨7提供於沿著連接段丨斗延 伸部之流道段21之一區域内。圖7係沿圖6之線VII-VII而取 之截回圖’說明凹入部17,及圖8係沿圖6之線VIII-VII]^ 取之截面圖,說明連接段14及内引線段π。 如圖6、7所示,凹入部17之寬度係設定為大於欲由切削 刀切削之一切削區23 A之寬度,依此,其可減少欲切削之引 線框10量,同時增加欲切削之封裝樹脂2心量,藉此抑制引 線框10切削表面上之鑿紋量且改善切削刃上之修飾效果。 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 541678 A7 B7 五、發明説明(15 ) 儘管諸圖中未示,但是第一開孔16之寬度及第二開孔1 8之 寬度亦設定為大於切削區23A之寬度。 再者,如圖6及圖8所示,連接段14之寬度係設定為小於 欲由切削刃切削之切削區23 A之寬度,可以確定當引線框i〇 係沿著連接段14切削時,切削刃可以完全切除連接段丨4, 亦可相關於連接段14而增加切削刃之對準邊距,藉此增進 生產率。 依本發明之一變換型式所示,連接段14係載角以提供 一斜切面14b於接近各内引線段1 3處,如圖9及圖丨〇所厂、 。提供斜切面14b之結果,欲填注入薄化部〗4 1 上万所定 義凹穴内之封裝樹脂20b量即增加,藉此減少欲切削之 線框1 0量,同時增加欲由切削刃切削之封裝樹脂旦 此可進一步減少引線框1 〇之鑿紋,且進_牛 步改善切削刃 上之修飾效果。 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. 541678 8 8 8 8 A B c D 申请專利範圍 • 一種引線框,包含: 一外框段; 複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數丰導 晶片於其上; ' 引線段’係圍繞晶片安裝段; 連接段’供相互連接及支承内引線段與外框段;及 一封裝區,供晶片安裝段由一封裝樹脂封裝於其内, 其中一開孔係提供於外框段之複數區域内,其位於封 裝區外側且沿著其中一連接段之一延伸部。 2·如申請專利範圍第1項之引線框,其中開孔之一寬度係大 於供沿著連接段以切削引線框之切削裝置之一厚度。 3 ·如申請專利範圍第1項之引線框,其中各連接段包括一薄 化部’其厚度小於外框段之厚度。 4·如申請專利範圍第1項之引線框,其中另一開孔係提供於 封裝區之一周邊部之複數區域内,其各沿著其中一連接 段之一延伸部而設。 5.如申請專利範圍第1項之引線框,其中各連接段之一寬 度係小於供沿著連接段以切削引線框之切削裝置之一 厚度。 6 ·如申請專利範圍第5項之引線框,其_各連接段係在接近 於引線段處截角,藉此減小接近於引線段處之連接段之 一厚度。 7. —種引線框,包含: 一外框段; -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678
    8 8 8 8 A B c D 後數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上; 引線段’係圍繞晶片安裝段; 連接段’供相互連接及支承内引線段與外框段;及 一封裝區’供晶片安裝段由一封裝樹脂封裝於其内, 其令一凹入部係提供於外框段之複數區域内,其各位 於封裝區外側,係在供封裝樹脂於此流動之一流道段之 相反側上,且沿著其中一連接段之延伸部。 8. 如申請專利範圍第7項之引線框,其中凹入部之一寬度係 大於供沿著連接段以切削引線框之切削裝置之一厚度。 9. 如申請專利範圍第7項之引線框,其中各連接段包括一薄 化部’其厚度小於外框段之厚度。 10. 如申請專利範圍第7項之引線框,其中另一開孔係提供於 封裝區之一周邊部之複數區域内,其各沿著其中一連接 段之一延伸部而設。 11 ·如申請專利範圍第7項之引線框,其中各連接段之一寬 度係小於供沿著連接段以切削引線框之切削裝置之一 厚度。 12_如申請專利範圍第1丨項之引線框,其中各連接段係在接 近於引線段處截角,藉此減小接近於引線段處之連接段 之一厚度。 13· —種用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之方法,該方法 包含: 提供一引線框之一第一步驟,引線框包括··一外框段 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) A B c D 541678 申請專利範圍 :複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,^ 相互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供曰 片安裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中—開孔係提Z 於外框段之複數區域内,其位於封裝區外側且沿著其中 一連接段之一延伸部,及各連接段包括一薄化部; 分別安裝複數半導體晶片於引線框之晶片安裝段上之 一第二步驟; 將各文裝後之半導體晶片以電氣性連接於圍繞半導體 晶片之引線段之一第三步驟; 將引線框及半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂 内之一第四步驟;及 利用一切削刃沿著連接段切削封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含 於封裝樹脂内之一第五步驟, 其中第四步驟包括一封裝引線框及半導體晶片之步驟 ’使得定義於引線框之各薄化部上方或下方之一凹穴係 填注以封裝樹脂。 14· 一種用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之方法,該方法 包含: 提供一引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框段 ;複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供 相互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶 -21 - 本紙張足度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公董)
    541678 A8 B8 C8 D8
    六、申請專利範圍 片安裝段甴一封裝樹脂封裝於其内 ,其中一凹入部係提
    一第二步驟; / 晶片之引線段之一第三步驟; 將各女裝後之半導體晶片以電氣性連接於圍繞半導體 内之一第四步驟;及 將引線框及半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂 利用一切削刃沿著連接段切削封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含 於封裝樹脂内之一第五步驟, 其中第四步驟包括一封裝引線框及半導體晶片之步驟 ’使得定義於引線框之各薄化部上方或下方之一凹穴係 填注以封裝樹脂。 15· —種用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之方法,該方法 包含: 提供一引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框段 ,複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 曰曰片於其上,引線段’係圍繞晶片安裝段;連接段,供 相互連接及支承内引線段與外框段;及_封裝區,供晶 片安裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一凹入部係提 供於外框段之複數區域内’其各位於封裝區外側,係在 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 541678 A8 B8 C8 申請專利範圍 供封裝樹脂於此流動之一流道段之相反側上,且沿著其 中一連接段之延伸部; 刀別文裝複數半導體晶片於引線框之晶片安裝段上之 一第二步驟; 將各安裝後之半導體晶片以電氣性連接於圍繞半導體 晶片之引線段之一第三步驟; 裝 將引線框及半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂 内之一第四步驟;及 利用一切削刃沿著連接段切削封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含 於封裝樹脂内之一第五步驟, 其中第四步驟包括一封裝引線框及半導體晶片之步驟 ’使得引線框之凹入部未填注以封裝樹脂。
    i6· 一種用以製造一樹脂封裝之半導體裝置之方法,該方法 包含: 提供一引線框之一第一步驟,引線框包括:一外框段 ;複數晶片安裝段,係由外框段支承且安裝複數半導體 晶片於其上;引線段,係圍繞晶片安裝段;連接段,供 相互連接及支承内引線段與外框段;及一封裝區,供晶 片安裝段由一封裝樹脂封裝於其内,其中一凹入部係提 供於外框段之複數區域内,其各位於封裝區外側,係在 供封裝樹脂於此流動之一流道段之相反側上,且沿著其 中一連接段之延伸部; 4別女裝複數半導體晶片於引線框之晶片安裝段上之 -23- ^紙張纽適财 § S 家料(CNS) A4祕(21GX 297公釐)"~ ---------- 54!678 A B c D 中請專利範圍 一第二步驟; 將各安裝後之半導體晶片以電氣性連接於圍繞半導體 晶片之引線段之一第三步驟; 將引線框及半導體晶片一體成型地封裝於一封裝樹脂 内之一第四步驟;及 利用一切削刃沿著連接段切削封裝後之引線框,以利 取得複數半導體裝置,且各具有至少一半導體晶片包含 於封裝樹脂内之一第五步驟, 其中第四步驟包括一封裝引線框及半導體晶片之步驟 ’使得引線框之凹入部係填注以封裝樹脂。 -24-
TW090126708A 2001-02-15 2001-10-29 Lead frame and method for fabricating resin-encapsulated semiconductor device using the same TW541678B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001038220A JP3628971B2 (ja) 2001-02-15 2001-02-15 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW541678B true TW541678B (en) 2003-07-11

Family

ID=18901240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090126708A TW541678B (en) 2001-02-15 2001-10-29 Lead frame and method for fabricating resin-encapsulated semiconductor device using the same

Country Status (7)

Country Link
US (2) US6603194B2 (zh)
EP (1) EP1239517B1 (zh)
JP (1) JP3628971B2 (zh)
KR (1) KR100559653B1 (zh)
CN (2) CN1219321C (zh)
DE (1) DE60136525D1 (zh)
TW (1) TW541678B (zh)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3628971B2 (ja) * 2001-02-15 2005-03-16 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2003023134A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2003100782A (ja) * 2001-09-20 2003-04-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2003338587A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法
EP1549472B1 (en) * 2002-08-05 2008-09-24 Nxp B.V. Method for manufacturing a packaged semiconductor device, packaged semiconductor device obtained with such a method and metal carrier suitable for use in such a method
US6872599B1 (en) * 2002-12-10 2005-03-29 National Semiconductor Corporation Enhanced solder joint strength and ease of inspection of leadless leadframe package (LLP)
US7008825B1 (en) * 2003-05-27 2006-03-07 Amkor Technology, Inc. Leadframe strip having enhanced testability
JP2006261525A (ja) * 2005-03-18 2006-09-28 Disco Abrasive Syst Ltd パッケージ基板
US7943431B2 (en) * 2005-12-02 2011-05-17 Unisem (Mauritius) Holdings Limited Leadless semiconductor package and method of manufacture
JP2008171864A (ja) * 2007-01-09 2008-07-24 New Japan Radio Co Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置用基板
JP5122835B2 (ja) * 2007-02-27 2013-01-16 ローム株式会社 半導体装置、リードフレームおよび半導体装置の製造方法
JP2008235557A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Rohm Co Ltd リードフレームおよび半導体装置
CN101241894A (zh) * 2007-09-20 2008-08-13 三星电子株式会社 智能卡金属载带及其制造方法和包括该载带的封装模块
JP5144294B2 (ja) * 2008-02-06 2013-02-13 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド リードフレームおよびそれを用いた回路装置の製造方法
JP5247626B2 (ja) * 2008-08-22 2013-07-24 住友化学株式会社 リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法
US8609467B2 (en) 2009-03-31 2013-12-17 Sanyo Semiconductor Co., Ltd. Lead frame and method for manufacturing circuit device using the same
JP2011077092A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 New Japan Radio Co Ltd リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法
JP5215980B2 (ja) * 2009-10-30 2013-06-19 株式会社三井ハイテック 半導体装置の製造方法
WO2012037728A1 (en) * 2010-09-25 2012-03-29 Huawei Technologies Co.,Ltd. Electric device and method of bonding chip to external electric circuit
CN102593092A (zh) * 2012-03-22 2012-07-18 天水华天微电子股份有限公司 一种引线框架
KR101905526B1 (ko) * 2012-03-29 2018-10-08 해성디에스 주식회사 수지가 충진될 수 있는 리드 프레임 스트립 및 그 리드 프레임 스트립과 반도체 패키지 기판을 제조하는 방법
JP6525835B2 (ja) * 2015-09-24 2019-06-05 Towa株式会社 電子部品の製造方法
CN107346763B (zh) * 2016-05-06 2020-04-17 无锡华润安盛科技有限公司 一种ipm模块的引线框

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5977613A (en) * 1996-03-07 1999-11-02 Matsushita Electronics Corporation Electronic component, method for making the same, and lead frame and mold assembly for use therein
TW393748B (en) * 1997-08-22 2000-06-11 Enomoto Kk Manufacturing of semiconductor devices and semiconductor lead frame
JP3837215B2 (ja) * 1997-10-09 2006-10-25 三菱電機株式会社 個別半導体装置およびその製造方法
US6143981A (en) * 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US6281568B1 (en) * 1998-10-21 2001-08-28 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit device package and leadframe having partially undercut leads and die pad
JP4809957B2 (ja) * 1999-02-24 2011-11-09 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 半導体装置の製造方法
JP2001077265A (ja) 1999-09-01 2001-03-23 Matsushita Electronics Industry Corp 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2001077235A (ja) 1999-09-06 2001-03-23 Mitsui High Tec Inc 半導体素子搭載用基板
US6198163B1 (en) * 1999-10-18 2001-03-06 Amkor Technology, Inc. Thin leadframe-type semiconductor package having heat sink with recess and exposed surface
JP3751496B2 (ja) 2000-03-02 2006-03-01 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2001320007A (ja) 2000-05-09 2001-11-16 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置用フレーム
JP4840893B2 (ja) 2000-05-12 2011-12-21 大日本印刷株式会社 樹脂封止型半導体装置用フレーム
JP3547704B2 (ja) 2000-06-22 2004-07-28 株式会社三井ハイテック リードフレーム及び半導体装置
US6400004B1 (en) * 2000-08-17 2002-06-04 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Leadless semiconductor package
JP4416067B2 (ja) 2000-09-26 2010-02-17 大日本印刷株式会社 樹脂封止型半導体装置の製造方法
US6448107B1 (en) * 2000-11-28 2002-09-10 National Semiconductor Corporation Pin indicator for leadless leadframe packages
US6424024B1 (en) * 2001-01-23 2002-07-23 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Leadframe of quad flat non-leaded package
JP3628971B2 (ja) * 2001-02-15 2005-03-16 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1767185A (zh) 2006-05-03
EP1239517A3 (en) 2004-09-22
CN1219321C (zh) 2005-09-14
DE60136525D1 (de) 2008-12-24
EP1239517A2 (en) 2002-09-11
US20020109973A1 (en) 2002-08-15
CN100459113C (zh) 2009-02-04
EP1239517B1 (en) 2008-11-12
CN1371127A (zh) 2002-09-25
KR100559653B1 (ko) 2006-03-10
US20030203541A1 (en) 2003-10-30
US6835600B2 (en) 2004-12-28
JP2002246530A (ja) 2002-08-30
JP3628971B2 (ja) 2005-03-16
US6603194B2 (en) 2003-08-05
KR20020067414A (ko) 2002-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW541678B (en) Lead frame and method for fabricating resin-encapsulated semiconductor device using the same
US8410585B2 (en) Leadframe and semiconductor package made using the leadframe
US7242076B2 (en) Packaged integrated circuit with MLP leadframe and method of making same
CN102931094B (zh) 具有增大焊接接触面的晶圆级封装结构及制备方法
US9190387B2 (en) Method for fabricating quad flat non-leaded package structure with electromagnetic interference shielding function
US20010042904A1 (en) Frame for semiconductor package
TW201010036A (en) Advanced quad flat non-leaded package structure and manufacturing method thereof
US20020074672A1 (en) Semiconductor package without substrate and method of manufacturing same
CN106711113B (zh) 具有集成散热片的半导体封装体
CN105185781B (zh) 半导体器件
JP2005079372A (ja) 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
TW202127606A (zh) 半導體封裝件及半導體封裝件之製造方法
JP2002134677A (ja) 半導体装置およびその製造方法
US11862479B2 (en) MCM package isolation through leadframe design and package saw process
JP2005026466A (ja) 半導体装置およびリードフレーム
US9171740B2 (en) Quad flat non-leaded semiconductor package and fabrication method thereof
US8110447B2 (en) Method of making and designing lead frames for semiconductor packages
JP2011077092A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法
US8410587B2 (en) Integrated circuit package system
CN107611095A (zh) 晶圆级芯片封装结构及其制备方法
TWI230452B (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
US9184120B1 (en) Nonleaded package and leadframe strip and method
CN207250482U (zh) 晶圆级芯片封装结构
TW201041059A (en) Fabrication method of leadframe and semiconductor package
CN110957285A (zh) 集成电路封装体及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees