TW538345B - Semiconductor device designing method and apparatus, and memory medium that is stored with macro information - Google Patents
Semiconductor device designing method and apparatus, and memory medium that is stored with macro information Download PDFInfo
- Publication number
- TW538345B TW538345B TW089110338A TW89110338A TW538345B TW 538345 B TW538345 B TW 538345B TW 089110338 A TW089110338 A TW 089110338A TW 89110338 A TW89110338 A TW 89110338A TW 538345 B TW538345 B TW 538345B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- circuit
- macro
- layout
- semiconductor device
- pads
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 74
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 47
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 15
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 claims description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 36
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 2
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 229910017435 S2 In Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 210000003625 skull Anatomy 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Geometry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Analogue/Digital Conversion (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Description
^38345 五、發明說明(1) (背景說明) 儲亡本發明係關係於一種半導體装置設計方法與設備’及 用子有巨集資訊之記憶媒體,其係作為設計半導體裝置之 。本發明尤關係於藉由合併巨集來設計不同尺寸大小之 半導體裝置的技術。 之說明 、 日本專利公開公報平10-261 718號中描述了一特定用 途積體電路(ASIC,Application Specific Integrated Circuit) ’其為半導體裝.置的一種型態。更具體而言,該 專利案藉著在半導體晶片上對各種型態之電路的巨集單元 加以佈局一一例如一中央處理單元(cpu,Central Processing Unit)核心、一隨機存取記憶體(RAM, Random Access Memory)、和一唯讀記憶體(R〇M,Read
Only Memory),且接著將其互相連接的方式,來描述“^ 的設計技術。 圖1係為一顯示運用巨集的半導體裝置之一般設計流 程的流程圖。如該圖所示’在步驟31中設計了功能規格和 即將產生之半導體裝置的特徵。之後,為了滿足這些規格 要求所需的小型電路區塊也被規劃設計,接著並登&為^ 式庫中的巨集。在步驟S2中,這些小型巨集的其中一二入 併以設計一較大型的功能區塊,接著並將其登錄在該 庫中。然後在步驟S3,這些小型和大型的巨集以及電= 件、輸入/輪出端子等接著分別在預定區域中而配置, 538345 五、發明說明(2) 決定其在半導體晶片上的粗略佈局。 中2 I f 2在有硬性巨集和軟性巨集。在各個硬性巨隼 中,組成各個巨隼的雪故-^ '^衆 件之内連& ^ ,路7°件和必須用來連接這些電路元 二i:ii 固定在半導體晶片·l。反之,軟性 2 ίί硬性巨集般將其電路元件的佈局固$,而是固 ,電:::間的相對互連關係,其係以網表等的型態表 不功能性層級的說明來表示。…的半導體ΐ置 元件之-,且社成一硬性巨集或一軟性巨集的 外豆你尸丨剂m 導體裝置以一種分層結構的方式來設 I :舻:二5巨集互相合併來產生大型巨•,而且基層設 計係根據這些型態的巨集來決定 土層"又 步:以:rr計來製造的半導體裝置的晶 晶片的封裝套件用該晶片,小來安置半導體 ΐ片大別相鄰焊藝間之間隔,係根據該 的間隔以這種方式U :。接下來’-旦個別焊塾間 肩則根據上述步巨r體;片上的電路元件之佈 以決定在各個巨华間^固曰片上之母個巨集的配置’也可 .^Λ/^. m1各個巨集和電路元件間、以及以上 和輸入/輪出端子間的内連線配置。 路的Ξ:之八/])轉,器為眾所皆知的形成半導體裝置之電 信號轉換到數位作於 /▲包含有.一主體’其將類比 —參考電壓產生器,其提供參考電 538345 五、發明說明(3) 壓給主體;以及單一或多波道輸入電路,其提供類比電壓 予主體。欲設计此等類型之A/D轉換器的佈局,a/d轉換器 係藉由使主體、參考電壓產生器、和輸入/輸出電路三^ 間彼此比鄰而配置,並且令其接近對應於該A/I)轉換器之 焊墊的方式, ' ϋ 而被改變為巨集型態。上述元件間的内連線接著遂自動形 成。
之後,該巨集和關係於形成半導體裝置之其它電路的 巨集間的連接,執行了遍及整個半導體裝置的;連線配 置,並完成佈局的設計。藉由這種方式來完成佈局設計, 則内連線長度和其寬度的決定、對内連線的寄生電阻和寄 生電容的計算、以及半導體裝置性能的測言式、乃是在步驟 S8中由一模擬裝置來執行。接著若有性能上的缺陷存在, 上述没計程序中的每個程序都必須被重新檢視,並執行設 在此等型態之半導體裝置的習知設, 試㈣果中發現半導體裝置的性能缺陷υ回到^ ΐ缺ί ϋ Ϊ序亚重新檢視上述設計程序中的每個一個程 ^奴到延遲的規格,關係於其它電路的佈局必須
夂老雷颅Λ 體也必須隨之改變,接著來 吝t时生态的電壓輸出也會改變。因為如此,在參 線長度而改變n ;隨著更新佈局中的内 而右所綱敕 =卜,參考電壓產生器必須隨著重新佈 。且虽A/D轉換器嵌進另一種產品或一半導 538345 五、發明說明(4) ^和置間的功能差異則需要有不同大小 运都包括各個半導體裝置的新設計操作。彳’翰出水 因此,在半導體裝置的 i分各^ ^ ^ ^ ^夏的省知5又计中,設計的效能係極 ^貝乏。近年來尤其明顯的是朝向半導體裝置各式模式之 微產品結構的趨向,且欲符人缩、^ ^ ^ ^ ^ 、 體設計的效能亟需突飛猛進。丰導 等 μ达f^ , 千导體裝置之设計效能的改 善為一必須馬上解決的技術課題。 另外,在單晶片微電腦等產品中,一A/D轉換器係用 來輸入類比信號,而一 D/A轉換器係用來輸出類比信號。 此等型態的A/D和D/A轉換器分別將類比信號轉為數位信 號,以及將數位信號轉為類比信號,並包含有協助以上轉 換器來執行信號轉換之參考電壓產生器。 <丨 圖2為一顯示此等型態之參考電壓產生器的實施例之 電路圖。如該圖所示,參考電壓產生器的產生方式使得: 參考電壓Pavrei從外側被接收;包含有電阻R1,R,…⑸的 電阻梯係用來將介於Pavref和間的電壓加以劃分;以及 經由這種結構所獲得的任何部分電壓(其代表作為比較用 ,參考電壓)經由開關之一而被提供至比較/轉換電路。 每個作為比較用的參考電壓係藉由比較/轉換電路來跟一 類比輸入信號相比較,故可將類比輸入信號量化。 當一半導體裝置具有此等型態的參考電壓產生器,即 存在有一伴隨習知半導體裝置之設計方法的問題,&參考 電壓產生器之性能在每個半導體裝置中皆不相同。亦即,
538345 五、發明說明(5) 因為在半導體晶片上之相鄰焊墊間的間隔係由上述方式的 晶片大小來決定,相對於各個焊墊的參考電壓產生器之配 置係根據晶片大小而改變。另外,因為參考電壓產生器在 半導體晶片上的配置區域係根據其它電路的配置情形來決 定’故參考電壓產生器和焊墊間的距離隨著各產品或各半 導體裝置而有所不同。
此導致參考電壓pavw的焊墊和參考電壓產生器間的内 連線長度’以及pagnd (類比接地端)的焊墊和參考電壓產 生器間的内連線長度不同。因此,寄生電阻rl和“如圖2 所示般互為不同,故參考電壓產生器的性能係與晶片大小 有關’換句話說,即該性能在每個半導體裝置中會有所不 5 °因此’即使電路的形成和每個參考電壓產生器的佈局 兀全相同,因為上述寄生電阻rl*r2基於不同晶片大小而 有所不同,各個作為比較的參考電壓亦將有所不同。以習 知的慣例而言,隨寄生電阻rl和^的變化而產生的問題可 藉著調整電阻R1和(或)電阻R2而解決。到目前為止,問 題點已經利用A/D轉換器的實施例而加以說明,然而即使 在D/A轉換器、PLL電路中的相位比較器、定電流產生電路
和其它類似之設備中,相同的問題還是會隨著佈局的改 而發展出來。 舉例來說,在移動性通訊裝置的領域中,封裝套件 (如晶片)的尺寸縮小和能量效能是如單晶片微^腦般的 核心半導體裝置所要求的。欲應付這些需求,存在有一可 進一步增加半導體晶片集積度和降低操作電壓的對策。然
第10頁 538345 五、發明說明(6) - - 而’當半導體晶片變為高度集積化後,雜訊可從數位電路 輕易地進入類比電路中,於是類比信號的品質將會惡化。 (發明之綜合說明) 1. 2. 3. 4. 藉由對上述問題的考量,本發明遂具有下列目的: 改善半導體裝置的設計效能。 設計一小尺寸的半導體裝置。 設計一具有高度集積化的半導體裝置。 抑制由來自數位電路的雜訊所導致的類比信號之性能 惡化。 5 ·避免參考電壓電路的性能在製作成新產品的各個半導 體裝置中有所差異。 6 ·避免A / D轉換器和])/ a轉換器的性能在每個產品或每個 半導體裝置中有所差異。 根據本發明的一實施樣態,一種設計半導體裝置的方 法於焉被提供並包含有··指定焊墊(a2到a4)的步驟,其 焊墊間的間隔在一硬性巨集(A)的半導體晶片上係為固定 的;及將該硬性巨集(A)佈局於該半導體晶片上,以和 該焊墊(a£到a〗)的位置一致;其中該硬性巨集(A)包括 一電路(A,B)之對佈局敏感部分(A)的佈局/内連線 資料,並令其相對應之焊墊(a2到&4)間的間隔固定。此 等方法的範例在圖4、6、7、8和1 0中皆有說明。 根據本發明的一實施樣態,提供一半導體裝置設計設 備且其包含有··一巨集儲存單元(2到6),其儲存有一巨
第11頁 538345 五、發明說明(7) 集,而該巨集包括在電路(Α,β)中對佈局敏感部分(A) 以及其相對應焊墊(其焊墊間隔固定)^到^的佈局/内 連線資料;及一佈局設計單元(7,1〇〇〇),其在半導體晶 片上依该硬性巨集來佈局,並儲存於該巨集儲存單元中, 藉由此方式,使得在該半導體晶片上之間隔固定的焊墊可 以在該硬性巨集中對應到焊墊(^到^)。一種該設備的範 例係在圖3和1 0中有所說明。 根據本發明的一實施樣態,提供一藉由在資料處理系 統上執行的應用程式來儲存供資料存取的記憶媒體,且其 包含有·硬性巨集資料,其被儲存於該記憶媒體中並包括 :電路之對佈局敏感部分和其相對應焊墊的佈局/内連線 資料;其中該焊墊間的間隔係為固定的。 (較佳實施例之詳細說明) 此後,依據本發明之一實施例而實施的半導體裝置設 計設備、其設計方法、和儲存有該半導體裝置之巨集資訊 的儲存媒體,將參考附圖而加以說明。本發明之該實施例 特別被用在設計一單晶片微處理器上,更具體而言係用在 一設計A/D (類比到數位)轉換器的佈局上。 首先,將闡明根據本發明之一實施例來實施的設計設 備之結構。使用該設計設備可有效地支援單晶片為處理器 的設計。圖3係說明了設計設備的功能性結構。在該&圖" 中,數字標號1指一控制/顯示單元;數字標號2,/裝置檔 案的儲存單元;數字標號3,電路互連資訊的儲存單<元;
538345 五、發明說明(8) 數字標號4,巨集互連警却沾紗六w 佈局資訊的儲存單元;數字V/早:t字標號5 ’巨集 元·,數字標號佈局Λ單元/局f訊的儲存單 單元;數字標號9,數字標號8,内連線確認 4⑽—· η扯〜 ^遲確為早凡·,數字標號10,遮罩設 ;Π而號11 ’匯流排線。該設計設備從以上各 建構’但實質上,該設計設備乃由-ΐ 月成,該電腦系統係載入 能的每個程式。此等電腦系統將參考圖1。而;1: 干二元1係用來供操作者輸入控制指令並顯 二器所需的各種資訊,其係由-鍵盤、 成。裝^荦^=器或滑鼠)、或一顯示單元等所組 柊和^ ::子早兀2儲存有單晶片微處理器的各種規 處理器之電路單元的規格,且其為-個如硬碟 微處;;元?分層地儲存有組成 的眘却甘々、及微處理器的整個電路妗潘 具“二U ?以二闡述之電路設計工作件來提供:更 早係健存有巨集間的互連資訊,以及 例:▲集和:卜部互連端子(例如,焊墊)間的互連資π。及 元,兄,電路互連資訊儲存單元為一如硬碟單元的磁碟二 集之ϊίϊϊίΓΐίΐ元?被用來儲存某些如軟性巨 東路早兀的貝㉛。更明確地,其係儲存有某些上 $ 13頁 五、發明說明(9) _________一 述電路單元的連接, 性巨集。更具體而十°,j且各個電路單元皆被描述為一軟 電路之軟性巨集:能m單元4儲存有A/D轉換器輪入 …、以及組成=====發明的實施 巨集佈局資^{# + σα 所表示之上述電ii存早元5係用來儲存某些由硬性巨隼 用。更明確地:::=訊,其係為單晶片微處理器所 二内連線資訊。更具體:工各個硬性巨集電路單元的佈局 集的相對佈局資訊, :,該儲存單元5儲存有硬性巨 :壓產生器(例如,"二V a/d轉換器的主體和-參考 =為本發明的實施例轉換盗硬性巨集)而組成,且1 集的電路單元的特徵二二及組成該A/D轉換器硬心 為—吾如人硬^單立元的磁碟牛單元來說,巨集佈局資訊儲存單元 每個電路單元&乃t ^巨集或一硬性巨集是否必須使用 j特徵(如,上升JC電路單元,其特徵為:切 .考電壓等,係根據 :^時間)、傳導延遲時間 =改變。另-方面;之個別電路元件的相 娬的電路單元,其特 軟性巨集一般係用在具有以了 形半導體晶片 的佈局 70件的位置變化來進行修改a以根據組成電路翠元之電路 如果只使用硬性巨ί於長方 中 第14頁 «月i兄明(10) ^ ^ f生巨集可l無法半導體晶片的某些區域中發生尺寸不 小。然而,主庶減夕了佈局的自由度和增加晶片的大 適:地安裝於半導體晶片上之預先決電m 件之數目為最少的情況下集僅被推廣使用於必要電路元 計摔單元6係儲存有透過單晶片微處理器設 碟單=碟=個=二佈:資訊,且其為-如硬 儲存有組成半導俨駐罢—々7 貝Λ錯存早兀6係 佈局資= 之各個電路元件的佈局資訊,而其 佈設計操作的每個進展階段進行更新。 佈局权计単元7係藉由從上述各订更新 Γ::二::在7半導體晶片中每個電路元件= 序來實施,該程二作Λ遵 件加以佈局。由嗲佑A n,千等體曰曰片上對每個電路元 之佈局資訊結果接、2:ί::7Λ提供的各個電路元件 之單晶片微處理器的互連資連=矾儲存單元3中 的操作則遵循一内連線確序;J線確認單元8 早tl9計算由佈局設計單元7 來實施。延遲確認 阻和寄生電容,接著對半導體曰布°之::内連線之寄生電 由將該特徵與儲存於裝置檔荦儲曰‘單九特徵的確認係藉 檑案儲存早702中的個別規格或 538345 五、發明說明(11) 參考值相比較來實施。 遮罩設計單元1 0係利用已佈局之半導體曰 接者,一種利用上述設計設備來設計半導 法將被詳加說明。該設計設備具 的方
轉換/存 5儲存有%別為每個輸入電路和A/D 轉換裔的硬性巨集。該設計設備也具 ^和A/D 的:徵,該儲存單元3儲存有A/D轉換哭中ιΛ二館 (h〇 achl 1)、A/D轉換器硬性巨隹m 集 輸入電路之輪入軟性隼 I. (A)、和A/D轉換器的 自每個硬性M隹1 ^ # ( 參考圖6而詳述於後。來 原點fi集的資訊之組成係包括:水平和垂直尺+ 向和相對Ϊ原Ϊ成每個硬性巨集的各個電路元件之配置方 點的位址資訊的輸出端子之相辦於原 的互=等=所 (w:入1伴t/D轉換器的主體(ai);參考電壓產“ 塾(二)t護電路(戰麵,和…⑷:及焊 Ϊ輪和一磁場阻斷材料等。上=ίϊ 及====" chll)間的互連資訊: ’烊墊('到a16)和硬性巨集間的互連 538345 五、發明說明(12) 資訊。 用末”又u十上述A / ])轉換器硬性巨集、輸入電路硬性巨 集/、和輸入軟性巨集的程序將參照圖4到6來加以說明。圖 4% 係。為一用來說明如何根據本發明之實施例來設計巨集的 程圖。首先’在圖4的Sa 1步驟即設計好每個電路。接著 在步驟Sa2 ’組成每個電路的電路元件之功能性互連資訊 在巨集互連資訊儲存單元4中登錄。 ^ >在建立A/D轉換器硬性巨集(圖6中的A)的範例中, 汉计有—A/D轉換器電路的主體。組成該A/D轉換器電路主 ,$ 2路元件之互連資訊接著在巨集互連資訊儲存單元4 >且、、<。、依循相同的方式,欲建立輸入電路硬性巨集,設 =有-代表各個輸入電路(ch〇到chll)的一般輸入電 接荖=時組成一般輸入電路之内部電路元件的互連資訊也 計包括产訊儲存單元4中登錄。另-方面,在設 =2入電路(圖6中的ch0到ch⑴的輸入軟性巨集 之二妒I,在標有B之區域内的整個電路係利用上述設計 (ch。至:二路遠ΐ組成輸入軟性巨集的輸入電路 單元4中登錄1的連 >訊,接著在巨集互連資訊儲存 虽上述設計的A/D轉換器電路主體為卜 建立為-硬性巨集,因為步糊的计 在步驟sa4中該組成A/D轉換器主 電路元^ 接者 被設計。依循相同的…組成上述局於焉 至)吡⑴的電路元件被予以佈局,且導致的
第17頁 538345 五、發明說明(13) 互連資訊接著在巨集佈局資訊儲存單元 在步驟Sa3,當設計輪入軟性 ",此時如圖4所示的程序即已=集時’其答案變為"否 接者’在设叶具有谭塾(至,丨、 (A)之主體的硬性巨集時,對^ 4 ° D轉換器電路 對v鄉S a 6的欠索氣"真Η。 接著在步驟Sa7,焊墊(a I。。系馬疋 路之主妒的德月缺★ 2 4)的佈局係與A/D轉換器電 路之主體的佈局一致。在步驟Sa8中, 路間的互連資訊於巨集佈局資訊儲存單元;;登』Ί電 換器硬性巨集、輸入電路硬性巨隼 a 舛铖y # a丄Ά 更性巨集、和輸入軟性巨集的設 =在此'、’口束。如果不需將焊塾埋置在A/D轉換器硬性巨 的答案即為"否"。結果,A/D轉換器硬 集在沒有设什焊墊佈局的情況下結束。 使用注ϊί有焊塾彻轉換器硬性巨集係被允許 使用在母個不同大小的半導體裝置中,而這些 具有參考電壓產生器的數個固定位址焊墊 A/D轉換器。 q 具有 該具有數個固定位址焊墊的半導體裝置( ::轉角不考慮晶片大小的:If形下而備置)被設置以'便: 注入/密封的程序步驟。更詳細而[每個樹脂密 曰i怨的半導體裝置係藉著下列步驟來完成··將一半導體 =^女裝到一引線框;引線接合;夾斷在模具間之安裝有 2冷體晶片的引線框;及在模具間注入並密封樹脂。因為 一 7始樹脂係被注入在每個半導體晶片的轉角,在轉角上 的烊墊若彼此間的間隔太短,會阻礙樹脂注入的進行。
第18頁 538345 五、發明說明(14) 又,在轉角上的焊墊或彼此間的間隔太長,則會導致所施 加的樹脂流施壓於接合的引線,結果會造成接合的缺陷。 欲解決這個問題,在轉角之相鄰焊墊間的間隔一開始需在 不同大小的套件中較成相同的長度,或者是設定為相同 的最佳長度。藉由考慮此特徵,依據本發明來實施之同時 包括A/D轉換器電路和其相對應固定位址焊墊的硬性巨集 於焉被提供設置。 圖5為一根據本發明來說明A/D轉換器硬性巨集佈局的 鳥瞰圖;而圖6係用來說明其詳細電路之範例的圖式。在 圖5和6中,符號A表示在半導體晶片上的A/D轉換器硬性 巨集;標號ai,為A/D轉換器的主體;標號%到&,為a/d 轉換器主體的固定間隔/固定位址焊墊;標號、到〜,為 A/D轉換器其它部分的不固定間隔/不固定位址焊塾;標 號AGND,一類比接地線保護電路;標號AVDD,一類比電 源供應線保護電路;標號AVref,一類比參考電壓線保護 電路;和標號chO到chll,用來輸入類比信號的輸入電 路。 焊塾%係用來將A/D轉換器主體ai之類比電路的接地線 與一外部類比接地(未顯示於圖中)相連接;焊墊化係用 來將類比電源從外侧提供到主體ai中的類比電路;^焊塾 a4則用來提供參考電壓給主體〜中的參考電壓產生器。 焊墊〜到〜係被A/D轉換器主體ai用來接收來自ϋ外侧的 類比輸入彳§號。焊塾as到a”和位於輸入軟性巨隼區域β内 的輪人電路chO到chll係利用前述的軟性巨'集被配
第19頁 538345 五、發明說明(15) 置在半導體晶片上。 A/D轉換器的基本結構乃是眾所皆知的。然而,根據 本實施例而實施的A/D轉換器有一個能從類比輸入信號的 - 十二個波道中選擇其一的附加功能,而這些信號已經先從 外側進入焊墊as到ale。如圖6所示,a/D轉換器包含有:開 關4,其從類比輸入信號中選取其一;參考電壓產生器 ~ N ’其藉由電阻梯h來產生供比較用的參考電壓;及比 車父/轉換電路b4,其將所選取的類比輸入信號與各個參考 電壓相比較,並將信號予以量化。 A/D轉換器的主體ai包含有參考電壓產生器匕和比較/ 轉換電路比。參考電壓產生器b3的接地線和比較/轉換鲁 電路b4係藉由輸入線保護電路“〇和焊墊a2連接到一外部 的類比接地(未顯示於圖中);而一類比電源係藉由焊墊 a;3和輸入線保護電路AVDD而被供應到參考電壓產生器匕和 比較/轉換電路匕。參考電壓(AVref)係經由焊墊提 供給參考電壓產生器匕。被供應的參考電壓在參考電壓產 生N中被一系列的電阻(亦即,電阻梯)b2劃分, 故可提供期望的參考電壓供作比較之用。 類比接地線保護電路AGND、類比電源供應線保護電 路/VDD、和參考電壓線保護電路AVref的結構係由二極鲁 體等所組成,且其結構乃是普遍為人所知的。這些結構被 用來保護内部電路以對抗不正常電壓施加的可能性。輸入 -電路chO到Chl 1各個都是由一切換開關]^和保護電路匕 所組成。每個輸入電路經由焊墊a5到^來選取被供應的類5
第20頁 538345 五、發明說明(16) 比輸入信號之一,以和在A/D轉換器外侧所備置之控制電 路(未顯示於圖中)所提供的控制信號一致,且接著將被 選取的信號輸出到A / D轉換器主體a 。 如先前所述,焊墊%到~在半導體晶片的轉角上 被予以佈局。根據本發明之本實施例,焊墊〜係為類比接 地所用;焊墊七,為類比電源供應之用;焊墊 ,壓所用;焊墊%染16,類比輸人信號的個別波道之用; a 硬/生^集* ’焊塾9為、A/D轉換器的主體 Λΐ)/、^也線保遵電路AGND、類比電源線保護電路 σ多考電壓線保護電路AVref全部都被予以佈 Ϊ電中,由A/D轉換器硬性巨集所定義之上 、、/、同集體結構係被稱之為” A/j)核心”。 入軟路:,11的結構是相同的,上述的輸 連資訊,=: 電路硬性巨集而設計並包含其互 存單元5中?、局Μ連線資訊儲存於巨集佈局資訊儲 焊墊位址來予W局生。巨集可依照所需的輸入電路數目和 入軟^集好的A/D轉換器硬性巨集和輸 將參照圖7來闡'述 毁處理器之半導體裝i的程序, 術規格的所右二驟Sbl中,符合單晶片微處理器之既定技 登錄。SC電路互連資訊儲存單元3中被設計並 2中的各個規^ #〜工/係在參考儲存於裝置播案儲存單元 夺儿成,以和操作者經由控制/顯示單元工 第21頁 538345
所給定的指令一纟。每個電路元件 資訊儲存單元3中的電路元件,和符合±述4存於電路互連 件在這個階段被選取。被選取的每個電路元件。接電路兀 互連接,因此完成了單晶片微處理器的設計。 ^ 目 之後,在步驟Sb2,操作者藉由操作控制 :吏得- -軟性巨集或一硬性巨集),其相對不應早二 個,成早晶片微處理器的電路元件,可從巨集互; 存單7L4或巨集佈局資訊儲存單元5中被擷取出來。+驟 Sa3,微處理器的基層設計係粗略地設計。更明確地每' 個已設計好的電路元件(其佈局已被決定)之硬性巨集係 在適當的地方被大略地安置;而軟性巨集的概略面積^系從 軟性巨集所包括的硬性巨集大小來估計,藉 大略地被安置在適當的地方。 巨集亦 在步驟Sb4中,操作者將基層設計細分,以估記半導 體晶片的大小。在步驟Sb5中,與預估晶片大小適稱的相 鄰焊墊間之套件和間隔被決定。步驟讥6中,其位址取決 於上述基層設計的巨集係經由内連線工具的協助而彼此連 接。在步驟Sb7中,所形成的内連線係藉由内連線確認單 元8來進行確認。更精確地,該確認工作係藉由將單晶片 微處理器中的整個電路群組(藉由内連線工具的協助來建 構)’與步驟Sb 1中所設計的整個電路群組(已先被儲存 於電路互連資訊儲存單元3中)相比較來進行。如果該確 認程序顯示沒有缺陷存在(在步驟Sb8 ),步驟Sb9中的 操作即可實施運作。否則,如果有缺陷存在,則步驟Sb6
第22頁 538345 五、發明說明(18) 中的操作就會再次重複。該重複動作一直持續來更正所發 現的互連缺陷,直到步驟Sb8的答案變為,,是”為止; 亦即直到沒有互連缺陷存在為止。 在步驟Sb9中’完成硬性巨集(已經先根據上述的 基1設計而大略地予以佈局)的最終配置。另外,有關各 個軟性巨集之每個電路元件的佈局被予以精確地固定。圖 8係據本發明之實施例來說明微處理器tA/])轉換器佈局 =設計的詳細流程。首先,在步驟Scl,佈局設計單元7將 變數1初始化為〇,該變數代表類比輸入信號的波道數 目〇
在步驟Sc2,A/D轉換器硬性巨集經由控制/顯示單 來被選取與設計。又,焊墊%到a4被設計成此般而 得以配置由焊墊&到' 所組成的A/D轉換器核心、A/D轉換 器的^體ai、類比接地線保護電路AGND、類比電源供應 線保遵電路AVDD、和參考電壓線保護電路AVref。以上 這些皆如圖5所示,被安置在半導體晶片中之角落上的指 在A/D核心被加以佈局後,由輸入軟性巨集所表示 的輸入電路ch〇到chll以變數i增加的順序來佈<局^ 欲如此進行,在步驟Sc3中,頻道或輸入電路的總數 η經由控制/顯示單元1被輸入。舉例來說,如圖^ 示^因為A/D轉換器係由十二個輸入頻道所組成/ 二這個資料係透過控制/顯示單元丨來給定為全部= 數目。吾人需注意這個總數目可從裝置檔案儲存1單元1中 538345
被讀取。 f步驟Sc4中’佈局設計單元7在焊塾%的周圍配置輸 入電路chO。在步驟Sc5,變數i增加j。步驟Sc6 * 決定變數i是否等於或大於總數目„。如果,,否",步驟J 和Sc5中的操作必須重複到步驟Sc6的答案為π是”為止 果"是",所有輸入電路ch0到chll的佈’、、局則已完成如 每個輪入硬性巨集或每個輸入電路chx的輪入端子係以 常接近其相對應焊墊的方式來配置,其使得每個即將 =内連線將不會有寶曲的情形。因此,晶片的面積將
此輸入電路ch〇到Chll的佈局流程將焊墊^到3 以成一直線的方式配置在半導體晶片周邊,並令該焊墊6a 與步驟Sc5中所更新的變數土相對應。該流程也在^ 靠近個別焊墊as到〜的區域處配置有輸入電路ch〇到 chll所有A/D轉換器所需的電路元件則已經透過上述程 序而配置於半導體晶片之頂部。附帶一提,圖5係為一說 明以相同間隔來配置焊塾的例子。然而,焊墊的配置也允 許某些不規則間隔的存在。
吾人需注意,因為對於單晶片微處理器而言,其對套 件大小的尺寸縮小需求較ASIC來得強烈,故每個半導體晶 片的集積化程度需要改善。該集積化程度可藉由在極靠近 個別知墊七到七6的區域配置輸入電路chO到chi 1以獲 斗于改良’而這些焊墊係配置在半導體晶片的周圍。藉由如 此配置’介於焊墊a5到316和輸入電路ch〇到chll間的
第24頁 538345 五、發明說明(20) -- 區域為可利用的。 在所有的電路元件都被配置後,輸入電路ch〇到 c、hl 1的輸出端子透過一類比輸出信號線χι而彼此連 並在步驟Sc7中連接到A/D核心(見圖6 )的輸入端子。在 二,Sc8,控制輸入電路ch〇到以丨}切換開關的數位 信號線X2分別連接到切換開關的控制端子(見圖6 )。 二驟S c 9中 磁场阻斷材料被配置在數位信號線和類比 輸出信號線XI的每個交叉處Χ4,且A/D轉換器佈局的設 計亦告完成。 廿Η 9 (a)和9 (b)係分別說明磁場阻斷材料的放大鳥峨圖 矛棱σ j面圖。圖9 (b )的橫剖面圖係藉由在圖g (a)中沿著直 線AA所取之剖面而得之橫剖面圖。如圖g(a)和9(b)所示, 在類比線X1和數位線X2的交叉處,數位線X2為此般形成 而使得其經由連接線X3來和類比線χι構成多層交叉。一磁 場阻斷材料X4係夾在類比線χι和連接線乂3中間。 兹%阻斷材料X4被研磨成多塊碎片以有效地發揮阻斷 的功能。舉例來說,該材料X4由鋁所製成,其與一般内連 線的材質相同。嵌入磁場阻斷材料χ4的多塊碎片可使磁場 (由流過數位信號線Χ2之數位信號的震幅之劇烈變化所導 ,)得以避免對於流過類比輸出信號線χ丨的小震幅類比信 不利的影響。結果,在類比信號中S/N比值的可能惡 化情形即可避免。 假如輸入電路chO到chll已被登錄為一軟性巨 集,其將不可能藉由任何自動佈局/内連線程序來形成前
第25頁 538345 五、發明說明(21) __ 述之磁場阻斷材料的多塊碎片。缺 — 到chll所組成的電路a样兔…’將由輸入電路chO 阻斷材料Χ4的多塊碎片,這此 I王乜集,則可配置磁場 的形狀,因此可以降低在特足的區域具有特定 另外,因為類比信號線χι可:及 入硬性巨集(亦即’輸入電路ch〇到U使;ί越輸 電路間穿梭之類比信號線X1的長 c=;:在輸入 促成高性能輸入電路的形成,其且最小值。此將 小且雜訊干擾的機率大幅降低的;寺:。連線電阻控制在最 A/D轉換器佈局的設計係經由前述程序 相同的方式,組成單晶片微處理器的另成用 ”種軟性巨集(其儲存於巨集互連資訊儲存=局可利 硬性巨集(其儲存在巨集佈局資訊儲d 虽組成単晶片微處理器的所有電路元件之佈局以 於A/D核心的方式來決定時,延遲性能延遲則在圖7中# 驟SclO來確認。該確認工作乃是藉由延遲確認單元9 ν 施,該確認單元9係沿著每條内連線(其用來將電路元^ 彼此相連)來模擬延遲的預期量,且接著決定在步驟sbu 中的微處理器之規格是否合乎要求?如果步驟讥^的答 是"否"’其相對應的巨集則會被修正,俾使延遲量可符' 合上述步驛Sbl2中規格的要求。巨集的佈局接著依據步驟 Sb9中的巨集修正而改變。此外,如果步驟1的夂案為 "是π ’因為延遲量合乎規格的需求,遮罩設計單元1 〇'遂 '根
538345 五、發明說明(22) 據步驟Sbl 3的最新佈局設計=訊來為單晶片 遮罩;於是完成了單晶片微處理器的整為:。十 後,由遮罩設計單元H)所設置的遮罩被用來製 =
處理器的半導體晶片。 + 5 K 在上述說明中,以A/D轉換器來設計單晶片 的案例已經蘭述過。然而,本發明的範圍絕不 - 制。本發明Μ被用來作為施料導體裝i的類 用,例如PLL電路、定電流源、和D/A轉換器。在pu
的案例中’由PLL電路中對佈局敏感的部分所組成硬性巨 i U列如:⑽電路和迴圈濾波器,電路的電源供應線, 電源供應線的焊墊)皆根據本發明來以相似於a/d核心的 方式而設置。Μ電流源的案例中,設置有同時 供應線焊墊和定電流源核心焊墊的硬性巨集。 电I 1 2 2上述說明中,對配置在類比線X1和數位㈣ 父叉處的磁%阻斷材料X4之案例有所闡述。然 =材《4也可被配置在類比線X1和數位㈣彼此靠近^區 域0 另外一 ’ > 用來儲存内連線/佈局資訊的儲存單元2到β, 如圖3所示係代表任何種類之可暫時或永久紀錄半導體 置之内連線/佈局資訊的記錄媒體,亦即,一 & 移動的記錄媒體,例如:磁帶、磁碟、或光碟、或一内 有如半導體記憶裝置或硬碟的電腦系統。 據本發明纟實施的電腦硬體結構(其施行如 圖3之糸統的刼作)之範例將參照圖1〇而詳加說明。在圖 538345 五、發明說明(23) 1 〇中’根據本發明,電腦系統的組成係包含有· cpu 1 0 0 0、ROM 1001、硬碟 1〇〇3、軟碟機 1〇〇4、匯漭 1 0 0 6,這些構件係用來傳遞彼此間的指令和資料,·一 1虚 片,其儲存有上述硬性巨集的互連線/佈局資訊,I ” A/D核心’·及一軟性巨集,例如輸入軟性巨集。舉口 二兒二依序獅M _或硬碟1〇〇3讀 私式,並加以解譯,錢予以執行。RM係 以骽 域,舉例來說,其儲存有軟體程式中所定義:數— 值工或 圖3中的:連線確認單元8、延遲確認單元 =早兀7、和遮罩設計單元1〇之操作可全部藉由二 私式的協助而實施,該程式係表示執行個别操作人 廷些程式係儲存於圖1〇中所示 机,二 根據本發明而實施的半導體裝Λ ’、. “仃 有巨集資訊之記憶媒體,已經::〉肖設備及儲存 明。吾人需暸解的β ^協问成個較佳實施例來說 在特定的實施例範ϊ中。涵七主題内容並未询限 ;;神和範鳴之各種形式二u:以 現為本發明所包括的範圍。 等效λ计白了 538345 圖式簡單說明 (圖式之簡單説明) 、有關本發明之以上所逑和其它目的、特性、和優點在 =下結合圖式之詳細說明中,將變得更為顯著,其中: 為一顯示設計半導體裝置之習知流程的流程圖; =為用_來說明習知參考電壓產生器的圖式; 二顯不一根據本發明之實施例來實施的半導體裝置設 叶故備之功能性結構的方塊圖; ΓΛ顯Λ根據本發明來設計-a/d轉換器硬性巨集和-輸 入季人性巨集之流程的流程圖; 之基顯二二本::圖之實施例來實施的a/d轉換器硬性 圖7為一顯示赧摅 塾產生器和輸入電路之電路圖; 流程圖;,據本x明來設計半導體裝置的整體流程之 :圖為-顯示根據本發明來設計輸入電路佈局之流程的流 片段結;冓9的(\):: J :據本發明而實施的磁場阻斷材料之 統係依據本發明而執二丄 施例之圖式’該電腦系 程序。 月而執订那些如同圖3所示之系統中的操作 (符號之說明) βπβ 第29頁 538345 圖式簡單說明 1〜控制/顯示單元 2〜裝置檔案的儲存單元 3〜電路互連資訊的儲存單元 4〜巨集互連資訊的儲存單元 5〜巨集佈局資訊的儲存單元 6〜佈局資訊的儲存單元 7〜佈局設計單元 8〜内連線確認單元 9〜延遲確認單元 1 0〜遮罩設計單元 11〜匯流排線 1 0 0 0〜佈局設計單元
10(Π 〜ROM
1002〜RAM 1 0 0 3〜硬碟 1 0 0 4〜軟體機 1 0 0 6〜匯流排線 AGND〜類比接地線保護線路 AVDD〜類比電源線保護電路 AVref〜參考電壓線保護電路 a卜A/D轉換器的主體 a 2到a 4〜焊墊 a5到al6〜焊墊 b 1〜切換開關
538345 圖式簡單說明 b2〜電阻梯 b3〜參考電壓產生器 b 4〜比較/轉換電路 b 5〜保護電路 chO到chi 1〜輸入電路 Pavref〜參考電壓 P a g n d〜類比接地端 r 1〜寄生電阻 •r2〜寄生電阻 R1〜電阻 R2〜電阻 S1〜功能設計 S2〜針對每個功能來設計巨集 S3〜晶片的基層設計 S4〜決定晶片大小 S5〜決定套件 S6〜決定焊墊間隔 S7〜以巨集為基礎的佈局設計 S8〜藉由模擬來確認性能
Sal〜巨集的電路設計
Sa2〜登錄巨集互連資訊
Sa3〜是否為硬性巨集? S a 4〜設計佈局
Sa5〜登錄佈局/互連資訊
538345 圖式簡單說明
Sa6〜焊墊是否存在?
Sa7〜設計焊墊的佈局
Sa8〜登錄焊墊和保護電路的佈局/互連資訊
Sbl〜設計半導體裝置的電路
Sb2〜選擇一巨集
Sb3〜適切地配置巨集的佈局
Sb4〜半導體晶片的基層設計
Sb5〜決定焊墊間的套件和間隔
Sb6〜巨集間的互連 S b 7〜確認内連線
Sb8〜内連線是否沒問題? S b 9〜設計佈局
Sbl 0〜確認延遲和性能
Sbll〜規格是否合乎要求?
Sbl2〜修正巨集
Sbl 3〜設計遮罩
Sc 1〜i = 1
Sc2〜配置A/D核心
Sc3〜輸入全部數目的頻道
Sc4〜配置輸入電路
Sc5〜i = i+1
Sc6〜i -n?
Sc7〜電路間的互連 Sc8〜數位信號線的互連
第32頁 538345 圖式簡單說明 S c 9〜配置磁場阻斷材料 X1〜類比輸出信號線 X2〜數位信號線 X3〜連接線 X4〜磁場阻斷材料
I1I1I
Claims (1)
- 六、申請專利範圍 1β 一種半導體裝置設計方法,包含有: 在硬性巨集(Α)的半導體晶片上配置焊塾( )並令其間隔為固定;及 2iJa4 在該半導體晶片上對該硬性巨集(A )予以佈局, 更其位置和該焊墊(a2到34 ) —致; 感部該硬性巨集(A)包括電路(A,B)之對佈局敏 〜。卩刀(A )的佈局/内連線資料,並令其相對應焊墊 / \到)彼此間的間隔為固定。 埠如申請專利範圍第1項之半導體裝置設計方法,其中嗲 3塾(\到h )的位址在該半導體晶片上亦為固定的。乂 含.申請專利範圍第1項之半導體裝置設計方法,更包 1==晶進片行= 4電路7二利由?广項之半導體裝置設計方法,其中該 局敏:Ut;到數位的轉換器(A,B);且該對佈 心的口P刀匕括一參考電壓產生器(b3) 〇 電路7Λ專Λ?括第1項之半導體裝置設計 )。八 Ρ刀包括一類比信號輸入電路(chO到chll ^ 6硬::Λ專,圍第1項之半導體裝置設計方法,其中該 2巨集的建構係藉由如下方式:設計該電路(ΑΒ)之 )f敏感部分(Α )的結構;設計該對佈局敏感部分(A 、成電路元件的佈局;及設計相對應於該對佈局敏感Η 第34頁 538345 六、申請專利範圍 部分(A )的焊墊(如到a4 )之佈局。 7·如申請專利範圍第1項之半導體裝置設計方法,其中該 電路是一PLL電路之對佈局敏感部分。 8 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置設計方法,其中該 電路係為一定電流源之對佈局敏感部分。 9 · 一種半導體裝置設計設備,包含有: 巨集儲存單元(2到6) ’其儲存有一硬性巨集,該 硬性巨集係包括電路(A,B )中對佈局敏感部分(A )之佈 2/内連線資料以及其相對應之具有固定間隔的焊墊(^ J a4 ),及 2 —佈局設計單元(7,1 000 ),其對儲存於半導體晶片 此儲存單元中的硬性巨集加以佈局’其佈局方式為 性^焦:°亥半導體晶片上之既定間隔的固定焊墊可和該硬 集中的焊墊(a2到a4 )相對應。 ^申請專利範圍第9項之半導體裝置設計設備,其中 :軟二更儲存有一該電路(a,b)中之其它部分 上的該軟性巨集⑴予以佈局。早7°更對料導體曰曰片 ΙΓ生Γΐί;範圍第10項之半導體裝置設計設備,其中 代表在該其它部分中的電路元=互連n #硬性巨集 3表ΪΓΐί利範圍第11項之半導體裝置設計設備,其中 括:-數㈣:t 件的硬性巨集,其組成係包 數位和-類比電路元件;及一磁場阻斷材料,其可第35頁 六、申請專利範圍 避免由數位線所導致的磁 # 13.如申請專利範圍第二::;比線有不利的影響。 該磁場阻斷材料係配置在兮半導體裝置设汁设備,其中 上。 你琢數位線和該類比線的交又處 14·—種記憶媒體,藉由名次刺占 丄 程式來儲存供存取之在理系統中所執行的應用 儲存在該記憶媒體中= 1資料’其係 該焊墊間的間隔係為ΪΚ枓和其相對應的焊墊;其中, :·亦利範圍第14項之記憶媒體,其中該焊塾的位 係兔申5月專利範圍第14項之記憶媒體’纟中該應用程式 係為協助半導體電路設計的程式。 用私式 =复ΐ申請專利範圍第14項之記憶媒體,更包含有該電路 ,、它部分的軟性巨集資料,其儲存在該記憶媒體中。 •如申請專利範圍第1 4項之記憶媒體,其中該電路為一 類比到數位的轉換器;且該對佈局敏感的部分包括一炎 考電壓產生器。 , t申請專利範圍第17項之記憶媒體,其中該電路的其 b部分包括一類比信號輸出電路。 如申請專利範圍第1 7項之記憶媒體,其中該軟性巨集 二貝料包括硬性巨集間的互連資訊。 21 ·、如申請專利範圍第20項之記憶媒體,其中每個硬性巨 集代表一類比信號輸入電路,該電路包含有—類比和一數 第36頁 538345 六、申請專利範圍 位電路。 22. 如申請專利範圍第21項之記憶媒體,其中磁場阻斷材 料之一片段係配置於該類比信號輸入電路的一個區域上, 該區域係為類比信號線和數位信號線互相接近處。 23. 如申請專利範圍第22項之記憶媒體,其中該區域為該 類比信號線和該數位信號線的交接處。第37頁
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15305799A JP3304920B2 (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 半導体装置及びその設計装置と設計方法並びに半導体装置の配線情報を記憶した記憶媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW538345B true TW538345B (en) | 2003-06-21 |
Family
ID=15554049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089110338A TW538345B (en) | 1999-05-31 | 2000-05-26 | Semiconductor device designing method and apparatus, and memory medium that is stored with macro information |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6505329B1 (zh) |
JP (1) | JP3304920B2 (zh) |
KR (1) | KR100376093B1 (zh) |
CN (1) | CN1179409C (zh) |
TW (1) | TW538345B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002124572A (ja) * | 2000-10-18 | 2002-04-26 | Mitsubishi Electric Corp | 自動配置配線装置及びそれを用いる配置配線方法 |
US6751783B1 (en) * | 2001-10-30 | 2004-06-15 | Lsi Logic Corporation | System and method for optimizing an integrated circuit design |
JP3887260B2 (ja) * | 2002-04-09 | 2007-02-28 | 沖電気工業株式会社 | 分圧抵抗のレイアウト方法 |
JP2004327960A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-18 | Nec Electronics Corp | ハードマクロ及びこれを備える半導体集積回路 |
US20060184726A1 (en) * | 2005-02-11 | 2006-08-17 | Nokia Corporation | Flexible access and control of Dynamic Random Access Memory |
JP2008085019A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Nec Electronics Corp | マクロセルブロック及び半導体装置 |
US7603642B2 (en) * | 2006-09-27 | 2009-10-13 | Cadence Design Systems, Inc. | Placer with wires for RF and analog design |
CN102024072B (zh) * | 2009-09-16 | 2013-08-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 高速串行信号撷取系统及方法 |
CN102831255B (zh) * | 2011-06-15 | 2014-12-24 | 扬智科技股份有限公司 | 芯片布局方法 |
CN103077272B (zh) * | 2012-12-31 | 2015-11-25 | 华为终端有限公司 | 一种屏蔽罩封装库的创建方法及装置 |
US10509757B2 (en) * | 2016-09-22 | 2019-12-17 | Altera Corporation | Integrated circuits having expandable processor memory |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62101047A (ja) | 1985-10-28 | 1987-05-11 | Toshiba Corp | ハ−ドマクロセルを有するlsi |
US4768016A (en) * | 1987-08-17 | 1988-08-30 | General Electric Company | Timing and control circuitry for flash analog to digital converters with dynamic encoders |
JPH079973B2 (ja) | 1990-11-07 | 1995-02-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体集積回路装置 |
JPH0547973A (ja) | 1991-08-08 | 1993-02-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体チツプモジユール |
US5744991A (en) * | 1995-10-16 | 1998-04-28 | Altera Corporation | System for distributing clocks using a delay lock loop in a programmable logic circuit |
JPH09162661A (ja) | 1995-12-06 | 1997-06-20 | Denso Corp | 増幅回路 |
JP2968741B2 (ja) * | 1996-12-25 | 1999-11-02 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 半導体集積回路装置の配置方法 |
US5883814A (en) * | 1997-03-13 | 1999-03-16 | International Business Machines Corporation | System-on-chip layout compilation |
JPH10261718A (ja) | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Hitachi Ltd | 半導体素子および設計支援装置 |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP15305799A patent/JP3304920B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-05-25 US US09/579,303 patent/US6505329B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-26 TW TW089110338A patent/TW538345B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-05-29 KR KR10-2000-0028998A patent/KR100376093B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-05-30 CN CNB001093606A patent/CN1179409C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1179409C (zh) | 2004-12-08 |
KR20010029756A (ko) | 2001-04-16 |
KR100376093B1 (ko) | 2003-03-29 |
JP3304920B2 (ja) | 2002-07-22 |
US6505329B1 (en) | 2003-01-07 |
CN1275803A (zh) | 2000-12-06 |
JP2000340753A (ja) | 2000-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW538345B (en) | Semiconductor device designing method and apparatus, and memory medium that is stored with macro information | |
US6925627B1 (en) | Method and apparatus for power routing in an integrated circuit | |
US9633162B2 (en) | Method and system for the modular design and layout of integrated circuits | |
US7904864B2 (en) | Interconnect layer of a modularly designed analog integrated circuit | |
JP2002334933A (ja) | タップ・セルを有する集積回路及び集積回路にタップ・セルを配置するための方法 | |
TWI528500B (zh) | 包裹式記憶體和用於製造具有一外部輸入輸出匯流排的包裹式記憶體 的製造方法 | |
TWI492353B (zh) | 使用外部驅動器ic之雙電力轉換器封裝 | |
JPH04216175A (ja) | 半導体集積回路のモジュールセル生成装置 | |
JPH0274046A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
CN1501242A (zh) | 半导体集成电路及其制造方法、相关电路、仪器和程序 | |
JPS60112327A (ja) | Mos集積回路のdaコンバ−タ | |
JP4363227B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP4237611B2 (ja) | 半導体集積回路のレイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 | |
JP4319426B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2656840B2 (ja) | チャネル配線装置 | |
JPH0629501A (ja) | ゲートアレイ製造装置及び製造方法 | |
JPH11251529A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH04318956A (ja) | 自動配置配線装置 | |
JPH1051308A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH0362553A (ja) | 半導体集積回路 | |
TWI269406B (en) | Flexible capacity memory IC | |
JPH10256378A (ja) | 半導体集積回路装置の配線方法および半導体集積回路装置 | |
JPH07153926A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPS5945249B2 (ja) | 電荷転送装置を用いたフイルタ | |
JPH04133461A (ja) | 混成集積回路装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |