TW525419B - Manufacturing method of electronic component and manufacturing material suitable for the same - Google Patents

Manufacturing method of electronic component and manufacturing material suitable for the same Download PDF

Info

Publication number
TW525419B
TW525419B TW091108094A TW91108094A TW525419B TW 525419 B TW525419 B TW 525419B TW 091108094 A TW091108094 A TW 091108094A TW 91108094 A TW91108094 A TW 91108094A TW 525419 B TW525419 B TW 525419B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
ink
aforementioned
scope
manufacturing
patent application
Prior art date
Application number
TW091108094A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Nakao
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Ind Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Ind Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW525419B publication Critical patent/TW525419B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/005Electrodes
    • H01G4/008Selection of materials
    • H01G4/0085Fried electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4867Applying pastes or inks, e.g. screen printing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1208Pretreatment of the circuit board, e.g. modifying wetting properties; Patterning by using affinity patterns
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1241Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing
    • H05K3/125Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing by ink-jet printing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0104Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
    • H05K2203/013Inkjet printing, e.g. for printing insulating material or resist
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • H05K2203/0783Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1163Chemical reaction, e.g. heating solder by exothermic reaction
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49401Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Description

525419 A7
525419 A7 、 -----—-----_B7_ 五、發明説明(2 ) 邛無孔洞,更要求為均勻厚度及高精度之精細圖案,因此 第11B圖中電極圖案i係於基座薄膜2上方之未加工陶瓷薄 片上以均句之厚度形成。 以習知之噴墨形成之電極圖案之一例顯示於第1 lc 圖。如第11C圖所示,以噴墨形成於未加工陶瓷薄片上之 電極圖案,因被印刷體之未加工陶瓷薄片無墨水接受性, 故噴墨於其表面上不沾附而變形。又第UD圖係第uc圖之 截面圖,即習知之藉喷墨形成之電極圖案之截面圖。如第 11C圖及第11D圖所示,電極圖案4因不沾附而變形。這是 因作為被印刷體之未加工陶瓷薄片之可潤濕性不佳,亦即 起因於墨水接受性之不佳,產生如同在經防水防油加工之 基材上,水滴呈水珠狀而不沾附之相同現象。又,這樣的 電極墨水之不沾附現象,一旦發生在電極圖案中,即容易 在不沾附之電極圖案4内部形成孔洞5,其結果,如第丨1D 圖所示,不沾附之電極圖案4具有不均勻之厚度。 如此’於被印刷體表面落下之噴墨如第丨lc、丨1D圖所 不變形之理由係由於喷墨墨水之黏度係自〇〇1到〇1泊時 之低黏度,極容易受到被印刷體之表面張力之影響。因此, 洛下之噴墨在乾燥或硬化之前即變形。相對於此,使用網 版P刷時,墨水之黏度為夠高之數百泊,因此不容易發生 每種變形。又,市面上賣的紙用噴墨印刷機,由於落下之 墨水滲透到紙張中,因此不會發生這種印刷不均勻。可是, 若為如本發明中揭示之陶瓷電子零件,一旦噴墨滲入未加 工陶瓷薄片中,則會大幅降低成品之電性絕緣性及可靠 本紙張尺度適财關家標準(CNS) M規格(2獻297公楚) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .訂— -5- 525419 五、發明説明(3 ) 性。因此可考慮使落於被印刷體表面之噴墨急速乾燥之方 法來作為這個課題之對策。然而,當噴墨為速乾性時,由 於噴墨會乾燥固疋於噴墨裝置之印刷頭之前端,使印刷頭 容易堵塞,導致長時間安定之印刷變得很困難。 如此,即使想利用噴墨來高精度地形成電極等之預定 囷案亦會如苐UC圖或第iiD圖所示,由於電極圖案之截 面形成不規則之凹凸,因此無法製造符合要求之電子零件。 +最近,市面上販售藉由多次重複以雷射光等使感光性 樹脂感光、硬化以形成預定之三次元結構體之裝置。可是 這樣的三次元結構體,由於完成之三次元結構體係由樹脂 形成’故即使燒結也無法形成電子零件。χ,當添加電極 或陶甍等電子零件形成構件於這樣的感光性樹脂時,要使 之光硬化很困難。在特開平2_4157〇2號公報中,揭示了一 使用噴墨之三次元結構體之形成方法,即,將粉體材料之 第1層沉積於限制之領域,接著將結合材料沉積於業經粉末 村料層選擇之領域,藉由在該領域形成#經接合之粉末材 料而作成7L件之方法。上述方法中,儘可能以所選擇之次 體 反複上述步驟’且在業經接合之粉體材料之選擇領域來 成繼續層以形成預定之元件。之後, / 子 之 材料,形成三次元結構體。然而,上述方法中未二: 射出的是粉體之結合材料,並不含粉體。又,為了取出 次70結構體,必須拂落多餘之粉體。另,要形成作為電 零件必要之,例如,由陶⑽極等多數不同零件二 二次元結構體是困難的。 本紙張尺糊中_鮮規格&〇Χ29_· -6- 525419 五、發明説明(4 ) [發明之揭示] 本發明之電子零件之製造方法,係於未加工陶变薄片 或陶竟生链積層㈣燒固前之構件之表面,形成—藉燒固 而燒去之底層。藉由該底層,可改善未燒固《構件方 對於如嘴墨之低黏度墨水之墨水接受性,可防止渗入、 流或厚度不均勻等之發生。 [發明之實施形態] (實施形態1 ) 實施形態1中,說明有關電極圖案於未加工陶莞薄片 之形成。第1A〜1C圖係說明有關電極圖案朝形成有底層〜 未加工陶兗薄片表面之形成方法。第1A圖係藉截面圖說明 猎噴墨方法於形成有底層之未加工陶变薄片形成預定之尤 ★圖案之If ;兄。又’第1B圖係顯示如此形成預定形狀之 極圖案。第1A圖中,在喷墨裝置7中安置有預定之電極里 水,按照外部信號噴射液滴8。依據外部信?虎,不僅可控制 液滴8之有無噴射,還可調整液滴8之大小(體積、量或、 徑)等。另一方面,基座薄膜2上面形成有未加工陶瓷薄尸 該未加工陶瓷薄片3之表面,形成有本發明之特徵所在之乃 去性底層11。本發明中,自喷墨裝置7噴射之多數液滴以 在燒去性底層11上,而形成預定之電極圖案i。 如此形成之未加工陶瓷薄片上之電極圖案形狀之一会 顯示於第1B圖。第1B圖中,電極圖案!亳無污垢,照設詞 之形狀正確地形成。第1C圖係第1B圖於任意位置之截适 圖,如第1C圖所示,本發明之電極圖案j在燒去性底層工 ------------ 本紙張尺度適用中國國家標準(⑽〉A4規格(21〇><297公董) 面 滴 上 之 電 墨 直 片 525419 五、發明説明(5 ) 上以均勻之厚度形成。 而 影 (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) :、陶瓷薄片3之表面,形成本發明之燒去性 、=,舍液滴8在落於未加工陶兗薄片3上之後,這此液 重,張力(電極墨水之表面張力或底層 、之衫響,而流動或不沾附。又,本發明之特 徵所在之燒去性底層11,由於在之後之燒固步驟中燒去 不存在因此不會對製品之電子零件之可靠性等帶來 響。 以下更具體地呪明之。本發明之實施形態i中使用之未 加工陶竞薄片3,係於樹脂薄膜上,塗覆陶究裝料使其固體 成分厚度為數微米,其中該陶竟漿料係於含乙酸丁 6旨、鄰 苯二甲酸系可塑劑及丁搭樹脂等之混合溶液中,使以欽酸 鋇為主體之在EIAJ規格中顯示溫度特性為B特性之陶瓷粉 混合分散作成者。 接著,使用市面上販賣之噴墨裝置,以市面上販售之 水溶性黑墨水試驗印刷預定之電極圖案丨於前述未加工陶 瓷薄片3上,結果顯示於第llc圖。落下之墨水立刻在未加 工陶瓷薄片上如水珠般不沾附,無法形成目的之電極圖案 1 °可以說這是因為未加工陶瓷薄片不具親水性,故落下之 水溶性墨水不滲透被印刷體表面,且因底層之表面張力而 不沾附。 於是,使用水溶性樹脂,溶解該水溶性樹脂於水中, 塗覆於前述未加工陶瓷薄片上,使之形成乾燥厚度〇.5微米 作為燒去性底層。又,在此使用市面上販售之聚乙烯乙縮 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 五、發明説明(6 ) ㈣月日(例如積水化學株式會社製之勝丨或請3)作為水 /合ϋ樹月曰&形成有燒去性底層U之未加工陶瓷薄片3上, 寺市面上販售之噴墨裝置’同樣以市面上販售之水溶性愛 墨水進行預定之電極圖案1之印刷,結果如㈣圖所示Γ 可得到不變形之高精度之電極圖案卜且,藉由導入具親水 性之燒去性底層11於親水性低(防水性高)之未加工陶究 薄片上使用水性電極,可防止電極圖案工之變形。 、為了做比較’以使用水溶性樹脂作成之未加工陶究薄 片進订同樣之研究。將水溶性之聚乙烯乙縮駿樹脂溶解於 水㈤可塑劑之乙二醇、乙醇(添加乙醇係用以調整乾燥 速度)中作成水溶性樹脂溶液,使前述H粉混合分散其 内作成陶瓷漿料。使用塗覆機塗覆上述陶瓷漿料於樹脂薄 膜上使形成數微米之厚度。同樣使用市面上販售之水溶性 黑墨水於其上試著印刷預定之電極圖案丨,結果落下之水溶 ^黑墨水溶解了底層之水溶性未加m薄片,電極圖案 變形,同時未加工陶瓷薄片本身也開了孔。 +總之,得知了在不具水溶性之未加工陶瓷薄片上,水 性噴墨不沾附’而在水溶性之未加工陶变薄片i,水性喷 墨溶解了未加工陶瓷薄片。 另一方面,如本實施形態丨中所示,即使是不具水溶性 (即墨水接受性低)之未加工陶竟薄片,#由在該未加工 陶瓷薄片之表面形成薄薄一層具親水性之燒去性底層n, 即可得到對水溶性噴墨之墨水接受性,同時可防止喷墨參 透未加工陶瓷薄片。 525419 五、發明説明(7 ) 接著,試做喷墨用之電極墨水,進行同樣的實驗。噴 墨用之電極墨水係使用特開平!卜102615號記載之水溶性 電極墨水之I法,將鎳微粒噴墨化者。再使用噴墨裝置7 印刷作成之電極喷墨於前述未加工陶瓷薄片3上,及未加工 陶瓷薄片3上之燒去性底層u兩者之表面。在不具水溶性之 未加工陶瓷薄片3上面,電極墨水因被印刷體表面之防水性 而大大不、沾附以致變形。χ,使用水溶性之未加工陶曼薄 片寺未加工陶瓷薄片被電極墨水所溶解。相對於此,在 化成有燒去性底層1丨之表面上,電極墨水無*沾Ρ寸現象, 且以高精度及高均勻膜厚形成,即使長時間放置,圖案仍 可亳不變形地保持。 ^ 準備數百片錢去性底層i i上以喷墨形成有電極圖案 1之未加工陶瓷薄片,使電極圖案1以一定尺寸錯位,積層 3〇〇片。將延些以2.5mmX1 6mm之大小切斷、燒固,最後 形成電極而作成積層陶竟電容器。如此做成之積層陶竟電 容器之初始特性、可靠性皆良好。以掃描型電子顯微鏡觀 察,積層陶究電容器之截面,並未觀察到燒去性底層U。 、了疋因本發明揭示之底層具有燒去性。以樹脂等燒去性材 料為主體之燒去性底層丨丨在燒固過程巾消失、揮發掉,並 不殘留在完成之電子零件中,不會給予不良影響。 又,當只藉樹脂形成燒去性底層時,燒去性底層之厚 又L且在2G微米以下。在5微米以下則更佳。以樹脂為主體 之:^去底層U之厚度一超過2〇微米,則依製品種類,會 發生製品内部層間剝離等不良之情況。又,為防止這樣的 本紙張尺度適财關家標準(CNS) A4規格(21()><297公复) 525419 A7 五、發明說明(8 層間剝離,如後所述於燒失性底層u之内部,添加陶瓷構 件等也很有效。 …丨:;--------------0—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (實施形態2 )減少不均勾之效果 在上述實施形態1中,說明了有關電極圖案丨朝形成有 燒去性底層n之未加工陶瓷薄片表面形成時之形狀,在實 施形態2中,將敘述關於依據前述燒去性底層n之有無之電 極塗膜之厚度不均勻。 -訂_ 第2A圖係僅未加工陶究薄片3之表面之一部分形成有 燒去性底層11者,在此使用這個說明有關燒失性底層之效 果。如第2 A圖所示,在形成有燒去性底層丨i之範圍内,電 極圖案1之厚度均勻,而在無燒去性底層下直接形成於未加 工陶兗薄片上之電極圖案4則發生很嚴重的厚度不均勻。 第2B圖係使用螢光X射線測定第2A圖之電極圖案i、4 之電極厚度之結果,X軸表示圖案幅度(mm) ,γ軸表示 Ni之每單位面積之塗著量(mg/平方mm)。另,榮光又射 線之點徑係〇· lmm $,以提高測定時之解析能力。又,第 2B圖中,黑圓點φ係具本發明揭示之燒去性底層時之電極 圖案’相當於第2 A圖之電極圖案1。又白圓點〇係無燒去 性底層11者,相當於第2A圖中有不均勻現象之電極圖案4。 如第2B圖所示,具本發明之燒去性底層丨丨時,可得到 及於圖案幅度整體之均勻之塗膜厚度。另一方面,不具燒 去性底層11之部分,電極圖案4之周邊部分Ni塗著量很少, 但另一方面電極圖案4之中央部分之Ni塗著量增高,在寬产 方向產生很大的塗著不均勻。 -11- 525419 A7 B7 五、發明説明(9 接著,利用圖說明有關這樣的塗著不均勻發生之情 況。第3圖係以截面圖顯示第2 A圖之電極圖案1、4逐漸乾 燥之情況。第3 A、B、C之左側(具燒去性底層丨丨之側)中, 自喷墨裝置(未圖示出)喷射出之液滴(未圖示出)如第 3 A圖所示’滴落於燒去性底層丨丨之上而形成圖案1之形 狀,隨時間之經過墨水中之溶劑成分揮發,仍保持第3B、 3C圖及其截面狀態’亦即保持均勻之膜厚而逐漸乾燥變 薄。 相對於此’未形成燒去性底層1 1之圖右侧之範圍内, 如第3A圖所示,滴落於具防水性之未加工陶瓷薄片上之液 滴(未圖示出)因表面之防水性而呈水珠狀且不沾附,顯 示出中央隆起之截面形狀。然後,電極圖案4自厚度最薄之 周邊部分開始逐漸乾燥,厚度最厚之中央部分到最後都未 乾燥而殘留下來。這時,由於未乾燥之液狀電極墨水因其 表面張力而被中央部分拉張,於是周邊部分與中央部分之 間很容易發生裂縫12或小孔(未圖示出)。理所當然^這 種發生厚度不均勻之電極圖案4無法製造市場上要求之高 特性之電子零件。 接著利用圖說明有關利用燒去性底層吸收墨水中之溶 劑成分之原理L第6圖係顯示藉由燒去性底層吸收 墨水中之溶劑成分使墨水固定之情況。第5圖中,自噴墨裝 置(未圖示出)喷射之液滴8落於燒去性底層11±,妒成: 下液滴U。這時’如箭頭所示,自液滴8有一部分之溶劑成 分被吸收人燒去性底層llt。第6續、第沾圖係顯示印刷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(2〗〇><297公复) 525419 A7 -------B7_____ 五、發明説明(K);) 之情況。在實際的喷墨中,液滴8 (未圖示出)係以每秒數 千到數百萬發之多量液滴自噴墨裝置(未圖示出)噴射出, 在被印刷體上,落下液滴13如第6A圖所示複數地重疊,而 得到預疋之厚度。這時,也如箭頭所示地,多數落下液滴 13有一部分之溶劑成分被吸收入燒去性底層11中。如此, 失去一部分溶劑成分之落下液滴13隨著黏度之上升而互相 一體化’形成如第6B圖所示之電極圖案i。藉喷墨朝一般 紙張印刷時,由於墨水是染料,故完全被吸收入紙中。然 而’遇使用本發明揭示之加入粉體之墨水,且被印刷體本 身之墨水吸收性很低時,藉由形成本發明所揭示之燒去性 底層’始能得到高精度圖案形狀。 (實施形態3 ) 上述實施形態2中,說明了有關依據燒去性底層丨丨之有 無來減少電極塗膜之厚度不均勻。而在實施形態3中,更說 明有關利用燒去性底層U與電極墨水間之化學反應以抑制 塗膜厚度不均句之情形。實施形態3中,說明有關燒去性底 層中含有機叛酸時之情形。 首先,使用(株)庫拉雷製之陰離子系聚乙烯醇樹脂 作為燒去性底層11之材料,將之溶解於純水中,塗覆於未 加工陶瓷薄片3上面使其乾燥厚度為〇·5微米。如此而形成 陰離子系之燒去性底層H。接著,將(株)庫拉雷製之非 離子系聚乙烯醇樹脂溶解於純水中,更使用若干非離子系 为散劑、非離子系可塑劑(使用丙三醇或聚乙二醇等)Υ 同時添加Ni粉,而作成非離子系電極墨水。將作成之非離 本紙張尺度翻巾關家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) ---'— -- -13-
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 525419 A7 I--------— B7 ___ 五、發明説明(11 ) 子系電極墨水安裝於市售之易普生製MJ5丨〇c印刷機,以 720dpi之印刷膜印刷。該情況顯示於第4圖。第4圖中,由 於業經印刷之未加工陶瓷薄片係以傾斜狀態自印刷機排
Hi ,目此通常墨水會在電極圖案内流冑,而造成印刷厚度 不均勻。 在實施形態3中,當電極圖案形成於燒去性底層"上 時,則不會產生因電極流動引起之印刷不均勻。這是因為 非離子系之電極墨水在落於陰離子系燒去性底層之瞬間, 墨水中之非離子成分與陰離子性質之燒去性底層u之間開 始一種膠化反應,而防止了滴落之電極墨水流動。 這種型悲可利用第4圖作詳細之說明。如第4圖所示, 作為被印刷體之未加工陶瓷薄片3僅左半邊形成有燒去底 層11。這種型悲下,藉印刷裝置7同時於未加工陶瓷薄片3 之形成有燒去性底層11之部分及未形成之部分形成電極圖 案。第4B圖係形成於燒去性底層!丨上面之電極圖案i,即 使在墨水未乾燥之狀態下垂直放置被印刷體,也完全不會 發生滴流,亦即,不會產生厚度不均勻。另一方面,第4c 圖係無燒去性底層11之狀態,未乾燥狀態之墨水圖案在被 印刷體垂直放置時,即往下滴流。 當燒去性底層與電極墨水以相同非離子系樹脂作成 時’電極圖案雖可高精度地形成,但將未乾燥狀態之電極 圖案如第4A圖所示,在或垂直立起或將被印刷體垂直立起 之狀態下,藉噴墨直接形成預定之圖案時,就會如第化圖 所示,由於電極墨水自身之重量,電極墨水在圖案内往下 ~' — 1 —— ......... ' 本紙張尺度翻巾關家標準(⑽)A4規格⑵QX297公幻 ~ ~ -14- ----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、可I 五 、發明説明(12 , 滴流,而在圖案内產生厚度不均句。另一方面,燒去性底 層^陰離子系樹脂形成時,則如第犯圖所示,在將未乾燥 狀態之電極圖案垂直立起或將被印刷體垂直立起之狀態 下’即使藉喷墨直接形成預定之圖案,電極墨水不會在圖 案内滴流,電極圖案内不會產生厚度不均勻。 本發明中,由於使燒去性底層中所含成分與墨水方面 所含成分互相反應,因此燒去性底層上形成之圖案自溶劑 成分揮發之前起,即可高精度地保持該圖案形狀。亦即, 就算料於燒去性底層上之墨水,在未乾燥狀態下放入乾 燥機中’且以高速吹多量之熱風,印刷圖案或其截面形狀 皆不會受到不良影響。因此,藉本發明之製造方法可設置 乾燥機與喷墨裝置連結,節省製造裝置之空間。又藉由活 用本發明之特徵,藉由利用市售之使用多數個各種高速印 刷頭之局速噴墨印刷機,在數m/分到數百m/分之高速印刷 中,也可使各種電子零件用噴墨在不對其截面形狀等造成 不良影響之下乾燥。且,藉由本發明,即使將被印刷體豎 立,由於可不產生厚度不均句地印刷電極圖案,故可抑制 印刷设備之佔地面積,同時由於可輕易地將印刷機本身組 裝入其他設備中,而很容易設備簡便化、低成本化、環境 清4化’具製品之低成本化及高成品率化之效果。 如此,藉由使加入電極墨水之材料與加入燒去性底層 11之材料互相接觸產生膠化反應,可使電極在瞬間硬化。 又’遺硬化反應並不要求需高強度,只需不會液狀滴流之 程度的輕微硬化或膠化即可。上述兩種類材料之組合有: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -15- 525419 五、發明説明(13 ) 陰離子系與非離子系、陰離子系與陽離子系、非離子系與 陽離子系等,這樣的反應會在實施形態4之後,作為給予體 及文體之反應說明之。藉本發明發現,為引起膠化反應, 可使用分散劑。例如,使用花王製或山諾普克製等市售之 聚羧酸系之陰離子系分散劑作成電極,另一方之燒去性底 層即使使用非離子系樹脂,也可進行同樣的反應。上述化 學反應可視之為與使市售之聚乙烯醇系《合成洗條裝與侧 y此a時產生之水;谷性樹脂特有之膠化反應相同。只是, 電子零件之情況,若遇如硼砂般含有鈉或硼酸之材料時, 燒固後會留下使可靠性存疑之殘渣成分,故不適用於本發 明之燒去性底層11。為了本發明中揭示之電子零件之製造 方法之目的,以使用燒固後不會出現殘渣之有機酸或有機 驗為佳。這樣的有機物,有數萬種類以上,只要具一般之 有機化學之知識者,皆可很容易地進行這些材料之最適當 化。在發明人之實驗中,以有機酸來說,自可靠性這點觀 之,以至少一部分含有羧基(-COOH )者最有效。 這些膠化反應,例如電極墨水或燒去性底層之任一者 使用含羧酸之樹脂,另一者使用陽離子系或非離子系之樹 脂或有機物,可使之產生膠化反應。含羧酸之樹脂,只要 是具有羧基之有機化合物R-COOH醛皆可使用於本發明之 目的。在此,R係烴基。 這種反應可視之與一種鹽析(Salt out )反應相同。本 發明之情況,遇生成鈉等鹼金系、或鹼土類系之金屬鹽之 情況,自可靠信觀點來看,由於燒固後之殘渣會形成問題, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂丨 -16- 525419 五、發明説明(14 ) 故有析出鹽之情況時,宜 之附加化合物、或是有機物等較佳而是有機驗及酸 又,燒去性底層除陶竟構件以外’亦可夢、日 體或磁性粉體,使其更具機能。例如,可將導電粉 去性底層所使用之構件’添加於形成未 零件墨水反應之材料於未加,薄 中’可作成提兩墨水接受性之未加工㈣薄片。 又’本發明中’電子零件墨水之黏度以不滿2泊為佳。 黏度在2泊以上則藉由市售之噴墨褒置可能會堵塞。 防止噴墨裝置易於堵塞,將墨水以水或乙二醇等水溶性溶 劑稀釋為最佳,不過越是稀釋,被印刷體上之印刷厚度不 均勻就越容易發生。本發明之製造方法,由於利用與=印 刷體之間之化學反應,故即使如上述稀釋墨水,仍可抑制 印刷厚度不均勻之發生,也可高速乾燥。 (實施形態4 ) 在實施形態4中,利用第7、8圖說明關於藉噴墨落於燒 去性底層產生之膠化反應。本實施例如第7圖所示,事先於 墨水及底層中加入反應性構件。接著墨水中之反應性構件 與燒去性底層中之反應性構件互相接觸後,產生反應而膠 化並使墨水固定。如第7圖所示,構成液滴8之墨水中,具 有事先添加且相當於反應性構件之給予體14。另一方面, 燒去性底層11之中則具有事先添加之反應性構件受體丨5。 第7圖之情況,含有給予體14之液滴8落於含受體15之燒去 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)
•心:·, ......---- . -· (請先閱讀背面之注意事靖再填寫本頁) .、一吓| -17- 525419 A7 ---—--— 67 —___ 五、發明説明(15 ) 性底層11上。接著,落下滴液i 3中之給予體丨4與燒去性底 層11中之文體1 5互相反應,互相形成業經反應之給予體J 6 及業經反應之受體17。該反應給予體丨6及反應受體丨7使墨 水膠化。另,如第7圖所示,落下之液滴13在膠化後,當中 仍殘存有未反應狀態之給予體14或未反應狀態之受體丨5。 如此藉由留下未反應之給予體14或未反應之受體15,可如 第6圖所示,增加落下液滴13之厚度、體積、量或重量。 接著,關於本發明中揭示之減低厚度不均勻之原理, 利用圖說明之。第8圖係說明有關利用有機成分之反應之情 況。本實施例中,如第8圖所示,藉由添加於墨水中之有機 成为與事先添加於底層之有機成分互相反應而膠化來固定 墨水。第8圖中,在樹脂或分散劑等有機物18當中,液滴8 中所含樹脂18a含有給予體14以作為官能基。又,有機物i8b 係存在於燒去性底層1丨中,並含有受體15作為官能基。在 本實施形態4中,液滴8落於燒去性底層u、落下液滴13 , 此時,存在於落下液滴13之樹脂18a之給予體14與燒去性底 層11中所含有機物18b之受體15互相形成膠化反應。 (實施形態5 ) 實施形態5中,說明有關使用添加非燒去材料之噴墨 (以下稱非燒去墨水)及添加燒去材料之噴墨(以下稱燒 去墨水)這種多數墨水時之情況。實施形態5中,多次重複 在一個基片上使用非燒去墨水及燒去墨水交互地藉噴墨形 成預定之圖案,以形成三次元結構體。特別在本發明中, 藉由互相添加具反應性之構件(例如給予體及受體)於非 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公茇)
. .« (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂— -18- 525419 A7 ----~____B7 五、發明說明(16 )~~~ 燒去墨水及燒去墨水中,即使不使墨水乾燥,由於墨水藉 接觸而膠化,故可不互相混合、又可不滴流、不渗透地形 (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 成預疋之一 _人元結構體。如此形成之三次元結構體藉著乾 燥固,於是藉前述燒去墨水所構成之部分即燒去、揮 發。另一方面,存在於三次元結構體中之非燒去墨水中之 非燒去材料保持原狀殘留下來且被燒固,形成預定之結構 體。 第9圖係顯示於喷墨添加反應性構件,而形成三次元結 構體之狀態。第9圖中,底液滴19於落下後形成燒去性底層 11。自喷墨裝置(未圖示出)噴射出之液滴8落下並形成電 極圖案1。同樣地,自噴墨裝置喷射出之底液滴19落下後形 成燒去性底層11。在本實施形態中,藉由落下後液滴8與底 液滴19接觸,由於產生本發明所說明之膠化反應,因此各 個圖案彼此不會滲透。又,在如此膠化之圖案上,如第9 圖所示地,更藉新的圖案,即藉喷射裝置(未圖示出)形 成液滴8及底液滴19,來形成三次元結構物。如此形成之三 次元結構物最後乾燥、燒固,於是由液滴8形成之部分以三 次元結構體而留下來,而由底液滴19形成之部分即燒去。 如此而可製造出預定之三次元結構體。特別是,本發明中 直到即將燒固前’燒去性底層11可成為保護材料來保護燒 固前之三次元結構體。或者,三次元結構體可以埋入燒去 性底層中之狀態來形成。因此,即使是更複雜細微之形狀 之三次元結構體也可尺寸精度毫不遺漏、高精度地製造。 又’燒固三次元結構體時’依燒固條件會有丨0〇/〇到50〇/〇之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210X297公釐) -19- 525419
五、發明説明(Π )
Ul%。此時’只要配合收縮率再次進行 案修正即可。特別s茲 人凡CAD圖 寺別疋猎由本發明,由於可不使用金屬握且 ,直接以噴墨形成三次元結構體,因 ':、 :AD之尺寸,即可補正燒固收縮率,可形成需::::: 度之結構物n由事総加燒錢低 间精 化1呂或氧化料陶«件於燒去性底層巾,亦可防1= 70結構體於燒固中途滴流、變形。 人 (實施形態6 ) 在實施形態6中’添加彼此互異之非燒去材料於彼此具 有反應性之墨水中,使用該墨水於-個基片上多次反覆# 贺墨,成預定之圖案’形成三次元結構體。特別在本發明曰 中,藉由添加具反應性之構件於彼此之墨水中,即使不使 墨水乾燥,仍可在墨水彼此不混合、又残流滲透下形成 未乾燥或凝膠狀態之三次元結構體 '然後,藉由將如此形 成之二次元結構體乾燥、燒固,可形成由前述不同之非燒 去材料形成之三次元結構體。 第10圖係說明本實施形態中形成之三次元電子零件之 截面之例子。如第10圖所示,藉噴墨陶瓷墨水(未圖示出) 落下後开> 成陶瓷20,電極墨水(未圖示出)落下後形成電 極21 ’通孔墨水(未圖示出)落下後形成通孔22。如此形 成之三次元結構體接著以預定溫度燒固、形成外部電極而 形成預定之電子零件。另,在實施形態6中,陶瓷墨水或電 極墨水、通孔墨水等互相添加了給予體或是受體。如此藉 由落下後彼此之墨水膠化,可在各種墨水不會混合下形成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -20- 525419 A7 — ______B7 五、發明説明(18 ) 所要求之印刷結構體。 又,形成陶瓷20之陶瓷墨水可以是玻璃、介電體、磁 性體、陶瓷等,不過只要有氧化物,即可藉本發明中揭示 之製造方法作成。 (實施形態7 ) 實施形態7中’說明有關形成使用墨水與燒去性底層、 或是多數墨水之三次元結構體時所使用之反應性材料。本 實施形態中,添加給予體於電子零件墨水中,添加受體於 燒去性底層中。給予體與受體係互相具有反應性之物質。 本發明中’含有給予體之電子零件墨水於落在含有受體之 燒去性底層之同時’由於給予體與受體反應,防止了落下 後之墨水之滴流。又,就鼻是電子零件墨水中含受體,燒 去性底層中含給予體,實質上同樣具有防止滴流之效果是 理所當然的。本實施开> 態為方便說明,於是稱自印刷頭喷 射出之墨水中所含反應性物質為給予體,而接受該墨水之 方面所含之反應性物質則稱為受體。 (實施形態8 ) 實施形態8將說明有關於對受體與給予體膠化反應之 組合使用鹽析反應之構件之情況。 首先,可塗覆陰離子系之PVA水溶液並乾燥之,以作 為燒去性底層。具體而言係PVA中添加有羧基等者,可自 庫拉雷購人。X,電極墨水可使用預定之粉末、非離子或 陽離子系添加劑作成。接著,於前述陰離子系之燒去性底 層上,使用嘴墨裝置使電極墨水形成預定之圖案。電極墨 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(2]〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、IT— -21- 五、發明説明(19 ) 水一滴落,即同時與底層之陰離子系樹脂反應而膠化。這 時,陰離子系之pvA水溶液可使用溶解陰離子系 P^VAlg〜5〇§於100§純水中者。若*滿^,會有樹脂溶液之 f度過低而無法得到需要<膜厚之情形。X,超過%則樹 脂溶液之黏度過高而難以塗覆。$,若使燒去性底層薄至 〇.1U米以下,或^使電極墨水之厚度厚達1G微米以上時, 結果燒去性底層中所含陰離子㈣脂之絕對量過少,而會 有與電極墨水之反應降低之情況。這時,藉由添加有機酸 於陰離子系之燒去性底層中,可強化膠化反應。例如,溶 解市售之陰離子系PVA1〜4〇gM純水i,中,更添加擰檬酸 或乳酸等有機酸0.1〜1〇§並溶解之,藉由將所得之物塗覆、 乾燥而可得到燒去性底層。有機酸除陰離子系樹脂之外, 還可使用甲酸、乙酸、乙二酸、檸檬酸、乳酸等有機酸。 每些有機酸藉由單獨或與其他水溶性樹脂組合,可利用同 樣的反應。添加如此之有機酸在〇1§〜1〇§之範圍很有效 果。又,有機酸之分子量宜在100以上。若分子量不滿1〇〇, 添加於燒去性底層時,會有自然揮發而消失之情況。又, 對陰離子系PVA水溶液添加有機酸,會有使陰離子系pvA 膠化之情形。因此,對弱酸性水溶液樹脂宜添加弱酸性之 有機酸。強酸、弱酸係依官能基之種類區分,可自一般文 獻簡單調查到。 另’陰離子系之材料宜自含·· NH2-、OH-、C03—、 HC03-、CH3C02-等官能基者中選出。s_jHS-、HS〇4或 燐酸系之分散劑或樹脂由於容易吸著於粉之表面,可提高 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -22- 525419 A7 ' ^--^ B7 五、發明說明(20 ) ~------— 刀政女疋性,故作為電極墨水之添加劑非常有效。 ^這些材料若添加量過多,則會有燒固時破壞爐'損害 ,DD之可靠性之情形,故相對於電極墨水1〇〇g ,宜控 不滿lg。 又,使用水溶性樹脂作為燒去性底層時,可使用聚乙 稀乙縮酸樹脂、聚乙稀醇樹脂、甲基纖維素樹脂、叛曱基 纖維素樹脂、輕丙基纖維素樹脂、丙稀基樹脂等。將這些 樹脂添加於噴墨或燒去性底層之其中一方,另一方則添加 有機酸或有機鹼,藉此可使膠化反應產生。 特別疋鎳等金屬材料藉羧酸系樹脂或分散劑墨水化 時,完成之墨水由於係弱酸,故會有鎳作為離子而溶出, 幵y成深、、表色π澄溶液(鎳離子)之情形。墨水之pH值若大 於3時,溶出之鎳之量變少,不會有大問題,但若值在3 以下(尤其在2以下),鎳之溶出量將過大,會有例如降低 以鎳作為内部電極之積層陶瓷電容器等之特性之情形。 (實施形態9 ) 實施形悲9中,將說明有關藉受體與給予體之組合引起 膠化反應之構件。 可利用燒去性底層與喷墨之pH之差異作為如此之膠 化反應。例如’令一方係顯示pH不滿7之酸,而另一方係 pH大於7之鹼,即可利用酸鹼反應。酸性物質或鹼性物質 之分子量小時,將不產生膠化而保持水溶液狀態,而當分 子量大到例如1000以上時,藉由酸-鹼中和反應,由於該物 質之溶解濃度變低’將不會水合,且其一部份如凝膠般析 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) ….....----- ·齡 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •、訂— -23- 525419 五、發明説明pi ) 背J中又可使用市售之pH計很容易地分析出墨水或 燒去性底層為酸性、驗性或者中性。亦可將墨水本身安裝 :離。刀m》則定使墨水中之微離子沉澱所^乍成之清澄 合液之pH X,要知道燒去性底層之,只需測定將燒去 性底層浸潰於純水中、離心分離而作成之清澄溶液之pH即 可。又,亦可依需要濃縮得到之清澄溶液。 發明人發現,燒去性底層與噴墨之1)11差異宜在〇·5以上 (最好在1以上)。ΡΗ之差若有〇 5以上,則遇分子量至少 在1000以上甚且宜在數千乃至數萬以上之高分子材料時, 藉其官能基之酸、驗之差異,可引起膠化反應。 (實施形態10) 實施形悲10中將說明有關藉受體與給予體之組合使用 引發化學反應之構件之情況。 相對於鹼性之電極墨水,藉由選擇酸性或中性之燒去 f生底層彳利用同樣之化學反應。例如,藉由在電極墨水 中混合具胺基之分散劑,或陽離子系之分散劑來使用,可 作成鹼性之電極墨水。又,藉由於如此之墨水中添加卿 (一甲基甲醯胺)或各種胺系鹼性之水溶液有機溶劑,可 改善分散安定性,同時可提高與燒去性底層之反應性。 接著,詳細說明有關使用胺作為鹼性材料之例子。電 極墨水或燒去性底層之任一方為胺(第i胺係RNH2、第2 胺係R^NH、第3胺係R^N,本發明任一系統之胺皆可使用, 又R係表示碳氫基)系或醯胺(本發明中無論第丨胺、第2 胺、第3胺任一者)系皆可有同樣之膠化反應。或者係胺基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公楚) ..... (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •訂— -24- 五 、發明説明(22 醇(具有醇式0H基且係胺衍生物即 ^ π , 王初ΡΤ用於本發明之用途) 亦同樣可有膠化反應。例如,乙醇 〇恥妝之情況,由於係水溶 性,因此可用於電極或燒去性底層 曰又任一方。又雖然使墨 不或燒去性底層之任一方係鹼性, ,^ 1糸鹼R樣可引起膠化反應, 但無論是哪一方,pH以在12 為 下為佳。PH大於12時,依據 處理方式會有腐蝕皮膚等之虞。 (實施形態11 ) 實施形態11中將說明有關在受體與給予體之組合中使 用蛋白質之凝固反應之情況。 本發明亦可使用蛋白質之凝固反應。該種反應係自豆 腐之製造中實用化者。本發明之情況,可使用清蛋白、球 蛋白等早純蛋白質、明谬、腺或角蛋白、膠原等作為蛋白 質。這些蛋白質由於最進生物化學之進步,可很廉價地得 2各種種類,同時可得到對粉體表面之吸著性優異者或適 且作為墨水中之黏合劑成分者。亦即,於墨水中混合蛋白 質成分,且於燒固底層中配合葡糖酸等凝固劑,則可藉墨 水及底層之接觸進行凝固。 進一步,可使用生物化學性的抗原抗體之一之凝聚反 應作為同樣的反應。這是血液中的紅血球因對抗原之抗體 反應而凝聚之現象。又,本發明之情況,不必在墨水中添 加紅血球,只要使用能使抗原或抗體覆蓋結合於合成樹脂 粒子等之表面者,藉有效利用凝聚反應之高靈敏度性,即 使是極少量,也可使用於本發明之用途。這些材料由於最 進生物化學之進步,可很廉價地得到各種種類,同時可得 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱)
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、盯丨 -25- 五、發明説明(23 ) 異者或適宜作為墨水中之黏合劑 到對粉體表面之吸著性優 成分者。 (實施形態12) 實知形悲12中將說明有關在受體與給予體之組合中利 用脫水反應時之情況。 為了使外、加有聚乙烯等水溶液樹脂之墨水膠化, 可事先於燒去性底層i!中添加作為脫水化劑之甲醇、乙醇 或其他高級_或丙酮等。如此,水溶性墨水在落於含有 脫水化之燒去性底層上之同時,由於電極墨水内之水分 被除去,I業經水合之墨水形成構件之一料析出且增 黏’因此可高精度地保持落抵之墨水形狀。又,如以上所 說明的,本發明巾揭示之燒去性底層與電極墨水之反應只 要伴隨膠化或黏度上升即可。因此,亦可於電極墨水使用 市售之牛乳,燒去性底層使用市售之醋。如一般所知的, 一旦牛乳與醋混合,牛乳即膠化。這種情況係由於牛乳中 業經乳化分散之成分之分散遭到破壞,不過本發明亦可利 用這種乳膠之凝聚反應。 (實施形態13 ) 貫施形恶13中將說明有關使非水溶性之樹脂代替水溶 性樹脂在水中乳化使用時之情況。例如,使用乳化劑使聚 乙烯基丁縮醛等非水溶性之樹脂乳膠化,使在水中乳化之 物在市場上販賣。如此乳膠化時,依據該乳化劑可製造區 分為非離子系、陽離子系或陰離子系。又,藉由利用如此 作成之乳膠化之極性之差異,可引發同樣的膠化反應。例 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -26- 525419 五、發明説明(24 ) 如,混合非離子系之乳膠及陰離子系之乳膠,則會發生乳 膠之破壞’樹脂成分會自水溶液中析出。X,如此之膠化 或析出反應,例如於非離子“乳膠中添加有機酸或有機 驗或者陰離子系或陽離子系之水溶性樹脂亦會發生。 因此’藉由於墨水或燒去性底層之其中一方添加上述 乳膠’另-方添加上述與乳膠反應之材料,即會發生膠態 溶液之凝結反應、或是凝固反應。藉由使用如此之反應(膠 化、樹脂析出、黏度上升、沉澱等),可使藉喷墨印刷之 墨水形狀高精度化。 又,使用乳膠樹脂或乳化共聚合樹脂於燒去性底層11 時,該粒子徑宜在5微来以下(2微米以下更佳)。若使用 粒子徑5微米以上之乳化共聚合粒子於電極墨水時,則印刷 頭溶液堵塞,若添加於燒去性底層時,則溶液成為燒去性 底層之厚度不均勻之發生原因,因此不適宜用在電子零件 之製造上。 如上所述’即使係非水溶性樹脂,仍可藉使用聚乙烯 醇等水溶性樹脂作為乳化劑(或是保護劑)使之膠化而用 於本發明。又,藉由使用羧基等陰離子系材料作為乳化劑, 可作成陰離子糸之乳化共聚合樹脂。又,如此作成之陰離 子系乳化共聚合樹脂,藉由與陽離子系樹脂或有機鹼、陽 離子系之乳化共聚合或非離子系樹脂之接觸,可誘發一種 膠化反應。 又,藉由使用乳膠,在墨水或燒去性底層之製造步驟 中,由於可減少有機溶劑之使用量,因此在製造現場可不 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -27- 525419 A7 B7 五、發明説明(25 受消防法等之限制,可實現安全且關懷環境之物品製造。 (實施形態14) 實施形恶14中,說明有關使用物理膠化作為本發明之 夂體與給予體之情況。此處所謂物理膠化係指藉高分子間 之氫鍵、離子鍵或螯合形成等之物理性交鍵之膠化。這種 膠化可藉熱、溶劑之種類、離子濃度或pH之變化使之發 生。或者’洋菜或明膠之水溶液藉溫度下降而膠化,藉溫 度上升而溶膠化,如此之可逆性膠化反應亦可利用於本發 明之用途。 又’如上述所說明的,混合兩種具有相反電荷之高分 子電解質溶液,亦可形成稱為聚離子複合膠(p〇lyi〇n complex gel )之膠化。這種膠化會受到溶劑之種類、離子 濃度、pH、聚合物濃度等各式各樣之要因之影響,不過藉 由使這些參數達最適當化,可製造出能保持更高精度之三 次元形狀之結構物。例如,藉由於墨水及燒去性底層中各 自以比例1 · 1添加聚陽離子與聚陰離子,可於落抵之墨水 中形成中性之凝膠。 又,藉由使聚丙烯酸等聚羧酸或聚苯乙烯磺酸等強酸 性聚合物與鹼土類金屬結合,也可合成凝膠。由於這種結 合並非金屬離子與配位子直接結合,而是經由水合離子形 成,故可輕易地形成所要求之墨水之凝膠狀態。又,這些 反應之情況,藉由使聚合物之分子量、濃度、溶劑之種類 或鹽濃度等達最適當化,可得到適用於各自之用途之墨水 固定狀態。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) ---------#…: -*· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、可 -28- 525419 A7 五、發明説明(26 ) 又,洋菜、明膠、瓊脂、褐藻酸、鹿角菜膠等之凝膠 係藉其螺旋形成之溶膠凝膠反應。這時,藉明膠水溶液先 作成電子零件墨水,再以加熱後狀態自喷墨裝置噴射出, 使之落於冷卻之被印刷體上,仍可得到墨水之固定狀態。 而使用明膠時,由於在25艺左右,容易引起溶膠凝膠轉移, 故很實用。又,使用褐藻酸等電解質多醣類時,由於藉添 加鈣離子等可很容易製作凝膠,故藉由在墨水或燒去^底 層其中一方添加多醣類、另一方添加鈣離子等,可得到適 用於各自之用途之墨水固定狀態。使用鈣則無燒固後對製 品造成不良影響之虞。又,亦可利用洋菜或瓊脂糖等。 又,在本發明中,所謂膠化,係指墨水之流動性顯現 出不佳之狀態,例如,像洋菜、明膠或蛋白,其内部雖含 有大量溶劑成分,但絲毫無法維持。只要有在溶劑成分消 失為止這段期間,能保持住該形狀之強度即可。 又,藉由種類不同之高分子間之氫鍵也可達到如此之 膠化。例如,藉由聚丙烯酸、聚丙烯胺、聚乙烯醇等質子 給予性聚合物,及聚乙二醇、聚乙烯基砒喀烷酮等質子受 纟性聚合物之組合,亦可形成凝膠。如此利用高分子系之 凝膠或複體時,藉由調整質子給予性官能基與質子受容性 官能基之組成比為近乎丨··丨,可使膠化反應安定化。又, 依據必要,藉由使聚合物濃度、離子濃度或pH達最適宜 化,可使所要求的墨水固定狀態達最適宜化。 I / x ’聚魏酸、多元醇、聚胺等可形成錯合物之配位子 係位於側鏈上之高分子時,可藉添加多價金屬離子膠化。 II 丨丨· ' ' - 本紙張尺錢财關家群iCNSO Μ規格(210X297公釐) " --- -29-
、茗 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525419 A7 I----------B7___ 五、發明説明;) ~' —' - 例如,以聚乙烯醇之乙酸銅水溶液作為燒去性底層,並使 含有nh3基之電子零件墨水落於其上,則落抵之墨水瞬間 膠化1者,使㈣子等二價之金屬離子於褐藻酸鹽、果 膠、嫡篛甘露聚糖等親水膠體内反應,可形成膠化。又如 此膠化時,依據需要添加EDTA(二胺四乙酸)等螯合劑, 除去㈣子,藉此使之再度溶膠化。藉由如此自由控制膠 化溶膠化反應,可使各種電子零件之製造方法依用途別〔 製品別而達到最適宜化。 又,作為食品之增稠劑或膠化劑來使用之多醣類黃原 | 膠也可用於本用途。又,透明質酸也因其吸水性高而可用 於本用途。又,多醣類之卡德蘭熱凝膠也因其自身不溶於 水但在54 c時膠化,更在80°C時產生熱不可逆膠化,故可 用於本用途。如此,天然高分子系例如澱粉、洋菜、鹿角 菜膠、芥藍等,係藉其氫鍵之膠化(特別是藉冷卻之膠化), 褐藻酸、果膠、羧甲基纖維素或筠篛甘露聚糖等係藉添加 夕4貝金屬離子之膠化,甲基纖維素或經丙基纖維素係藉防 水性相互作用之膠化(藉加熱等之膠化,例如於羥乙基纖 維素中添加數%之碳原子量6、12、16之烷基側鏈可引起膠 化)’黃原膠、透明質酸係藉冷卻之膠化,卡德蘭熱凝膠 係藉加熱之膠化,可將如此之反應使用於本發明。又,透 明質酸(hyaluronic acid)可取自化妝品製造廠、食品製造 廠藉發酵法或雞冠抽出法製造出者。 另,蛋白質系之情況,可使用:明膠或膠原之藉冷卻 之膠化,卵清蛋白、大豆蛋白質或酪素等之藉加熱之膠化 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) #訂 * « ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 525419 五 、發明説明(28 ) (或是蛋白質之締合),血纖維蛋白單體、彈性素、角蛋 白等可視為藉共價鍵之膠化反應。 進一步,可使用紙尿布、生理用品、皮膚保養品(skin care)、毛髮保養品(hair care)等所開發出之各式各樣之 材料又,藉由於燒去性底層使用高分子凝聚劑(使分散 於水中之微粒子凝聚之電解質聚合體),則藉將落抵於其 上之墨水中所含金屬或氧化物等微粒子凝聚、沉澱,可使 墨水固定。這種用途中,非離子、陰離子性聚合物、陽離 子性聚合物、兩性聚合物等有各式各樣於市面販售,故可 依各自之用途使用於本發明之用途。 粉 則 會 —又,本發明所使用之噴墨,其中以含有丨重量%以上8〇 重量%以下之金屬粉、介電體粉、破璃粉、陶竟粉、紅銘 鐵:粉及氧化物中之-種以上為佳。這些粉之含有率不滿! 重量%時,即使燒固也無法得到預定之電性特性。又, 體之含有率若在81重量%以上,則墨水會在印刷頭内% 塞。又,該粉體之粒徑以在㈣^喊上心喊下為佳。 ^不滿G.OOb _,則粉體之粒徑過小,不但成本提 间,冋時無法得到預定之電性特性。又,粒握超過Up …,粉體會在印刷頭内沉澱、凝聚,堵塞印刷頭。又, ㈣墨之黏度以在2泊以下為佳。若黏度有2·5泊以上, :水自印刷頭之噴出會變得很困難,且同 出現稀疏狀。如此,當喷射古Α山 、耵万门曰 刷體上之落下n 現稀疏狀時,由於被印 精度下降’因此無法藉噴墨形成高精度圖荦。 又,成為本發明中福千夕认2 月又口系 中揭不之給予體或受體之反應性材料 Α4規格(2 ]〇χ297公复) 本紙張尺度適用中國國家標準 525419 A7 ------- -----B7___ 五、發明説明(29 ) 或羧酸、羧基、胺等具有官能基之有機材料,宜在墨水中 或燒去性底層中含有〇·〇1重量%。當添加量不滿〇 〇1重量% 日守’可能無法得到本發明所要求之固定狀態。 又’要使燒去性底層消失,其厚度宜在2 〇 # m以下。 厚度在25 /z m以上時,燒去性底層消失之際,於消失之底 層上形成之圖案之位置會移動,圖案本身會變形。又,利 用彼此pH之差異使之反應時,pH之差異宜在〇·5以上。pH 之差不滿0.3時,則落下後無法膠化。 又’本發明中揭示之膠化反應,係在多數喷墨之間, 或噴墨與燒去性底層,或噴墨與被印刷體之間所發生之現 象,不過凝膠本身宜為可燒固之有機物。唯,如上所述噴 墨或燒去性底層中所含之金屬或氧化物、或是該等之金屬 離子,可使之於落下後與其他有機物反應膠化。 [產業上可利用性] 本發明係於陶瓷生坯薄片或其積層體,或未燒固陶瓷 構件等之未燒固陶变基材上,形成燒去性底層,藉由該燒 去性底層,可改善未燒固陶究構件方面對於如喷墨之低黏 度墨水之墨水接受性,可防止渗入、滴流或厚度不均句等 杳生藉此而可藉噴墨形成高精度之圖案。又,該燒去 性底層在電子零件之製造過程之燒固步驟中被燒去,因此 不會對電子零件之可靠性產生不良影響。又,藉由多次重 、复/ 乂驟#使疋複雜形狀之三次元結構體亦可很容易地 作成。 [圖式之簡單說明] 適用中國國家標準)— -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、可I ·- -32- 525419 A7 B7 五、發明説明(3() ) ~ 第1A圖係顯示本發明之一實施例之電極圖案朝底層 形成之截面圖。 第1B圖係顯示本發明之一實施例之電極圖案朝底層 形成之截面圖。 第1C圖係顯示本發明之一實施例之電極圖案朝底層 形成之截面圖。 第2A圖係依據底層之有無之電極圖案之立體圖及特 性圖。 第2B圖係依據底層之有無之電極圖案之立體圖及特 性圖。 第3 A圖係依據有無伴隨乾燥之底層之電極圖案之截 面圖。 苐3 B圖係依據有無伴隨乾燥之底層之電極圖案之截 面圖。 第3 C圖係依據有無伴隨乾燥之底層之電極圖案之截 面圖。 第4 A圖係顯示自印刷機排出狀態之圖。 第4B圖係顯示自印刷機排出狀態之圖。 第4C圖係顯示自印刷機排出狀態之圖。 第5圖係顯示藉由墨水中之溶劑成分為底層吸收而使 墨水固定之狀態圖。 第6A、6B圖係顯示藉由墨水中之溶劑成分為底層吸收 而使墨水固定之狀態圖。 第7圖係說明關於利用膠化反應之情形。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .、盯| .费| -33- 525419 A7 ' ---—-----B7 _ 五、發明説明(31 ) " ^— 第8圖係說明關於利用有機成分彼此之反應情形。 第9圖係顯示利用墨水彼此之反應形成三次元結構體 之情形。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第10圖係說明藉本實施例形成之三次元電子零件之截 面圖。 第11A圖係、顯示|求之電極圖案之形狀之平面圖及截 面圖。 第11B圖係顯示要求之電極圖案之形狀之平面圖及截 面圖。 第11C圖係顯不要求之電極圖案之形狀之平面圖及截 面圖。 第11D圖係顯不要求之電極圖案之形狀之平面圖及截 面圖。 [圖中標號說明] 1…電極圖案 14···給予體 2···基座薄膜 15···受體 3…未加工陶兗薄片 ie···業經反應之給予體 4···變形之電極圖案 i?···業經反應之受體 5···孔洞 18…有機物 7···噴墨裝置 b…底液滴 8…液滴 20…陶瓷 11…底層 21…電極 12…裂縫 22…通孔 13…落下液滴 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -34-

Claims (1)

  1. 525419 A8 B8 C8 D8
    、申請專利範圍 1· 一種電子零件之製造方法,其包含: (請先盼讀背Art注意事項再填寫本頁) 表面改質步驟,係使未燒固陶瓷基材表面成為具墨 水接受性; 印刷步驟,係利用噴墨法將墨水印刷於前述未燒固 基材表面;及 燒固步驟,係燒固業經印刷之前述未燒固陶瓷基 材。 2·如申請專利範圍第丨項之電子零件製造方法,其中前 述表面改質步驟係具有一於前述未燒固陶瓷基材上形 成含有機物之具墨水接受性底層之底層形成步驟,並 係藉前述燒固步驟燒去該底層中所含有機物者。 3.如申請專利範圍第2項之電子零件製造方法,其中前 述印刷步驟係於前述未燒固陶瓷基材表面形成〇〇1// m以上20//m以下之底層者,前述燒固步驟係於3〇〇 C以上進行,燒去前述底層中所含有機物者。 4·如申明專利範圍第1〜3項中任i項之電子零件製造方 法,其中前述印刷步驟係使用黏度2泊以下之墨水印 刷者。 5 ·如申明專利範圍第1〜3項中任i項之電子零件製造方 法’其中别述印刷步驟係使用含有粒徑〇.〇〇丨# m以上 10# m以下之粉體丨重量%以上8〇重量%以下之墨水 印刷者。 6·如申請專利範圍第項中任i項之電子零件製造方 法’其中刖述印刷步驟係伴隨有使業經印刷之墨水之 本紙張尺度適用中國國家檩準(CNs) M規格(21〇><297公楚) -Bb- 525419 A8 B8 C8 D8
    、申請專利範園 霉占度上升者。 7·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係具溶劑吸收性之底層與含溶劑之墨水 接觸時’藉前記底層吸收前述溶劑者。 8·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係因前述底層與前述墨水之接觸所發生 之前述墨水之凝膠化所致者。 9·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係於前述底層或前述墨水之任一者具有 含竣基之有機物,且前述底層及前述墨水接觸而產生 之凝膠化所致者。 10·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係前述底層或前述墨水之任一者具有含 胺基或含醯胺基之有機物,且前述底層及前述墨水接 觸而產生之凝膠化所致者。 11·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係使前述底層之pH與前述墨水之pfj之 差在0.5以上,且前述底層及前述墨水接觸而產生之凝 膠化所致者。 12·如申請專利範圍第6項之電子零件製造方法,其中前 述黏度之上升係前述底層具有蛋白質凝聚劑,前述墨 水具有蛋白質,且前述底層與前述墨水接觸而產生之 反應所致者。 13·如申請專利範圍第1或2項之電子零件製造方法,更
    -ιί- 六、申請專利範圍 具有一墨水調製步驟,係調製含有〇 〇〇1以上、1〇# m 以下之金屬粉、陶瓷粉、磁性粉、玻纖粉中之至少〆 個種類以上之粉體在1重量%以上且8 〇重量%以下之 黏度2泊以下之前述墨水者。 14·如申請專利範圍第13項之電子零件製造方法,其具有 别述之墨水調製步驟,係在混合用以形成0.01重量% 以上之凝膠之有機物者。 15.如申明專利範圍第14項之電子零件製造方法,其具有 别述之墨水調製步驟,係混合(a)有機酸、(b)多醣 類或天然高分子系之增稠劑或膠化劑、(〇引發膠化反 應之蛋白質、(d)含有胺基或羧基之有機材料之中任 一者作為用以形成凝膠之有機物。 16·如申凊專利範圍第2項之電子零件製造方法,其中前 述底層形成步驟係使於底層中含有用以形成凝膠之有 機物在0.01重量%以上之步驟。 17_如申凊專利範圍第16項之電子零件製造方法,其具有 則述之墨水调製步驟,係混合(a )有機酸、(b )多醣 類或天然高分子系之增稠劑或膠化劑、(c)引發膠化反 ^蛋白質、(d )含有胺基或羧基之有機材料之中任 一者作為用以形成凝膠之有機物者。 18·如申請專利範圍第1項之電子零件製造方法,其中前 述表面改質步驟,係使用於成分中含有用以形成凝膠 之有機物在〇·01重量%以上之未燒固陶瓷,以形成未 燒固陶瓷基材之步驟。 19.t申請專·圍第18項之電子零件製造方法,其具有 :述之墨水凋製步驟,係混合(a )有機酸、(b )多醣 類或天'然高分子系之增稠劑或膠化劑、U)引發膠化反 應之蛋白質、(d)含有胺基或叛基之有機材料之中任 一者作為用以形成凝膠之有機物者。 士申明專利範圍第1或2項之電子零件製造方法,其 中於前述印刷步驟後更具有: ’ 積層步驟,係積層多數業經印刷之未燒固陶瓷基 材;及 刀斷V驟,係於刖述積層步驟後將前述未燒固陶兗 基材積層體切斷為預定形狀; 而燒固步驟後更具有一用以形成外部電極之電極形成 步驟。 21·如申請專利範圍第2項之電子零件製造方法,其中前 述底層开> 成步驟,係於較前述墨水印刷之面積更大之 面積上形成前述底層者。 22·如申請專利範圍第1或2項之電子零件製造方法,其 中前述印刷步驟之後,更具有一次以上之印刷步驟, 且該等相鄰之墨水係分別含有一接觸即反應形成凝膠 之兩種以上之不同有機物者。 23·如申請專利範圍第22項之電子零件製造方法,其中前 述多數印刷步驟,係將各自含有一接觸即反應形成凝 膠之兩種以上之不同有機物之兩種墨水相互積層之步 驟。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 525419 、申請專利範圍 =申凊專利範圍第22或23項之電子零件製造方法, 其中前述多數印刷步驟,係於被印刷體上形成預定之 :次元結構物之步驟,且更具有一用以燒固前述三次 元結構物之燒固步驟。 •種墨水’係含有粒徑〇 〇〇1//m以上、1〇"m以下之 金屬粉體或氧化物粉體在1重量%以上、80重量%以 下,有機物添加成分在0.01重量%以上者,且黏度在 泊以下者。 申請專利範圍第25項之墨水,其中前述有機物添加 、分係藉反應使墨水之黏度上升之材料。 27.2申請專利範圍第25項之墨水,其中前述有機物添加 成分係用以形成凝膠之材料。 之8·如申請專利範圍第25項之墨水 成分係含有羧基或胺之 29·如申請專利範圍第25〜 〇·種未燒關莞基材,其係於表面具有厚度心历 下之3有機物之底層者,且前述有機物係藉綱。。以 之燒固而燒去者。 31·如申請專利範圍第30項之未燒固陶究基材,其中前 底層係含有粒徑0.001鋒以上、心m以下之金屬 或乳化物粉體在1重量%以上8〇重量%以下者。 32.如申明專利範圍第3〇項之未燒固陶竞基材,其中前 底層係更含有有機羧酸在〇·〇1重量%以上者月 A一種未燒固陶究基材’係含有與墨水中所含有機物添 其中前述有機物添加 其PH為3〜12 以 上 粉 述 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇><297公着) 2
    •訂丨 (請先咏讀背¾之注意事项再填寫本頁) 525419 A8 B8 C8 D8 申請專利範園 ^ f (請先漆讀背®>之注意事項再填寫本頁} 加成分反應產生凝膠化之成分在〇〇1重量%以上,該 成分係藉300°C以上之燒固而燒去者。 34· —種底層,係含有與墨水中所含有機物添加成分反應 產生凝膠化之成分在0.01重量%以上,且具有藉3〇〇 °C以上之燒固而燒去之有機物者。 35.如申明專利範圍苐34項之底層,係由含有粒徑0 001 以上、i〇#m以下之金屬粉體或氧化粉體在丨重 量%以上80重量%以下之材料形成,且厚度在2〇^瓜 以下者。 &如申請專利範圍帛34工員之底係含有可藉燒固而燒 去之有機材料在0.1重量%以上者。 70 本紙張尺度翻中國®家標準(CNS) μ規格U10X297公釐)
TW091108094A 2001-04-20 2002-04-19 Manufacturing method of electronic component and manufacturing material suitable for the same TW525419B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001122442 2001-04-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW525419B true TW525419B (en) 2003-03-21

Family

ID=18972151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091108094A TW525419B (en) 2001-04-20 2002-04-19 Manufacturing method of electronic component and manufacturing material suitable for the same

Country Status (6)

Country Link
US (3) US6855367B2 (zh)
EP (1) EP1335393A4 (zh)
JP (1) JP4300801B2 (zh)
CN (1) CN1310259C (zh)
TW (1) TW525419B (zh)
WO (1) WO2002086924A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI498064B (zh) * 2009-09-03 2015-08-21 Applied Materials Inc 用於印刷電子元件的印刷方法及相關控制裝置

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060159838A1 (en) * 2005-01-14 2006-07-20 Cabot Corporation Controlling ink migration during the formation of printable electronic features
US7152291B2 (en) 2002-04-15 2006-12-26 Avx Corporation Method for forming plated terminations
US20050176246A1 (en) * 2004-02-09 2005-08-11 Haixin Yang Ink jet printable thick film ink compositions and processes
JP2005353682A (ja) 2004-06-08 2005-12-22 Seiko Epson Corp 回路素子の製造方法、電子素子の製造方法、回路基板、電子機器、および電気光学装置
EP1622435A1 (en) * 2004-07-28 2006-02-01 ATOTECH Deutschland GmbH Method of manufacturing an electronic circuit assembly using direct write techniques
US7055756B2 (en) * 2004-10-25 2006-06-06 Lexmark International, Inc. Deposition fabrication using inkjet technology
US8167393B2 (en) 2005-01-14 2012-05-01 Cabot Corporation Printable electronic features on non-uniform substrate and processes for making same
US8383014B2 (en) 2010-06-15 2013-02-26 Cabot Corporation Metal nanoparticle compositions
US8334464B2 (en) 2005-01-14 2012-12-18 Cabot Corporation Optimized multi-layer printing of electronics and displays
US7824466B2 (en) 2005-01-14 2010-11-02 Cabot Corporation Production of metal nanoparticles
WO2006076607A1 (en) * 2005-01-14 2006-07-20 Cabot Corporation Ink-jet printing of passive electricalcomponents
US20060189113A1 (en) 2005-01-14 2006-08-24 Cabot Corporation Metal nanoparticle compositions
KR100589707B1 (ko) * 2005-03-24 2006-06-19 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조 방법
US7427119B2 (en) * 2005-07-13 2008-09-23 Fujifilm Dimatix, Inc. Method and apparatus for scalable droplet ejection manufacturing
US20090014916A1 (en) * 2005-12-01 2009-01-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for producing three-dimensional structure
US7572480B2 (en) * 2006-10-19 2009-08-11 Federal-Mogul World Wide, Inc. Method of fabricating a multilayer ceramic heating element
US20080151473A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Nokia Corporation Electronic components and a method of manufacturing the same
EP2682265A1 (en) * 2007-11-05 2014-01-08 Basf Se Tungsten oxides as ir absorbers for nir curing, laser welding etc.
EP2131637B1 (en) 2008-03-28 2012-10-31 Murata Manufacturing Co. Ltd. Method for producing multilayer ceramic substrate and composite sheet
JP2010027882A (ja) * 2008-07-22 2010-02-04 Panasonic Corp 積層セラミック電子部品の製造方法
CN102245720B (zh) * 2008-10-14 2015-08-19 山特维克创新公司 磁性承载油墨
JP4980439B2 (ja) * 2010-03-02 2012-07-18 株式会社トクヤマ メタライズドセラミック基板の製造方法
US9287522B2 (en) 2013-07-30 2016-03-15 Global Oled Technology Llc Local seal for encapsulation of electro-optical element on a flexible substrate
US9494792B2 (en) 2013-07-30 2016-11-15 Global Oled Technology Llc Local seal for encapsulation of electro-optical element on a flexible substrate
US9385342B2 (en) 2013-07-30 2016-07-05 Global Oled Technology Llc Local seal for encapsulation of electro-optical element on a flexible substrate
CN103395311B (zh) * 2013-08-15 2015-05-20 中国科学院新疆理化技术研究所 一种微珠结晶核的制备方法
CN103762093B (zh) * 2014-01-13 2015-03-11 渤海大学 运用3d打印技术制备微型不对称超级电容器的方法
US10350925B2 (en) * 2015-01-21 2019-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Method of forming pattern, pattern-producing apparatus, and stereoscopic object-producing apparatus
CN104735917B (zh) * 2015-03-30 2018-02-02 中国科学院化学研究所 一种柱状嵌入式柔性电路的制备方法及应用
WO2019235157A1 (ja) * 2018-06-05 2019-12-12 富士フイルム株式会社 ガラスの加飾方法及び加飾ガラス
CN111936448B (zh) * 2019-03-13 2023-04-04 互应化学工业株式会社 焙烧浆料组合物、生片、制造生片、烧结产品及独石陶瓷电容器的方法
WO2020183637A1 (ja) * 2019-03-13 2020-09-17 互応化学工業株式会社 焼成用スラリー組成物、グリーンシート、グリーンシートの製造方法、焼結体の製造方法、及び積層セラミックコンデンサの製造方法
US20210009478A1 (en) * 2019-03-13 2021-01-14 Goo Chemical Co., Ltd. Green sheet producing binder composition, baking slurry composition, method for manufacturing green sheet, method for manufacturing sintered product, and method for manufacturing monolithic ceramic capacitor
CN112174694A (zh) * 2019-07-01 2021-01-05 Oppo广东移动通信有限公司 陶瓷结构件的制作方法和电子设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5850795A (ja) * 1981-09-21 1983-03-25 日本電気株式会社 電子回路の形成方法
JPH0797696B2 (ja) * 1986-07-05 1995-10-18 株式会社豊田自動織機製作所 ハイブリツドic基板と回路パタ−ン形成方法
JPS645095A (en) * 1987-06-26 1989-01-10 Tdk Corp Formation of conductive pattern
DE3805841A1 (de) * 1988-02-22 1989-08-31 Siemens Ag Verfahren zum bestuecken von bauelementetraegern mit bauelementen in oberflaechenmontagetechnik
US5204055A (en) 1989-12-08 1993-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Three-dimensional printing techniques
US5286415A (en) * 1992-12-28 1994-02-15 Advanced Products, Inc. Water-based polymer thick film conductive ink
US5492653A (en) * 1994-11-07 1996-02-20 Heraeus Incorporated Aqueous silver composition
JPH08222475A (ja) * 1995-02-10 1996-08-30 Rohm Co Ltd 厚膜型電子部品の製造方法
JPH08253358A (ja) * 1995-03-15 1996-10-01 Enogushiyou Yamaka Shoten:Kk 陶磁器などの絵付け方法
JP3601226B2 (ja) 1997-01-16 2004-12-15 松下電器産業株式会社 グラビア焼成インキ
JPH11102844A (ja) 1997-07-28 1999-04-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気二重層キャパシタおよびその製造方法
WO1999038176A1 (fr) 1998-01-22 1999-07-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Encre pour composant electronique, procede de production d'un composant electronique au moyen de cette encre pour composant electronique, et dispositif a jet d'encre
JP2000182889A (ja) 1998-12-16 2000-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層セラミック電子部品の製造方法、これに用いるインキジェット用インキおよびその製造方法
JP2000216047A (ja) * 1999-01-20 2000-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2000327964A (ja) 1999-05-18 2000-11-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品用電極インキおよびその製造方法、並びにインキジェット装置、インキジェット洗浄液および電子部品の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI498064B (zh) * 2009-09-03 2015-08-21 Applied Materials Inc 用於印刷電子元件的印刷方法及相關控制裝置

Also Published As

Publication number Publication date
EP1335393A4 (en) 2008-04-16
US20050126003A1 (en) 2005-06-16
WO2002086924A1 (fr) 2002-10-31
US6855367B2 (en) 2005-02-15
EP1335393A1 (en) 2003-08-13
CN1459117A (zh) 2003-11-26
JP4300801B2 (ja) 2009-07-22
CN1310259C (zh) 2007-04-11
JPWO2002086924A1 (ja) 2004-08-12
US20030167634A1 (en) 2003-09-11
US20050126002A1 (en) 2005-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW525419B (en) Manufacturing method of electronic component and manufacturing material suitable for the same
JP4758117B2 (ja) ガスセンサー素子およびその製造方法
JP4483508B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP3625348B2 (ja) 感湿素子
US20060035071A1 (en) Release layer paste and method of production of multilayer type electronic device
US8507076B2 (en) Combination of base layer and ink for inkjet for manufacturing electronic component
KR100327524B1 (ko) 수세척성후막페이스트조성물
US3831269A (en) Method of making thin film thermistor
JP2020017423A (ja) 導電性ペースト
US20130149012A1 (en) Magnet roll
JP4080636B2 (ja) セラミックス用バインダー
JP4967223B2 (ja) 水系電極インクおよびその製造方法
CN100557736C (zh) 叠层型电子部件的制造方法
JPH01203964A (ja) 酸素濃度センサ用電極の形成方法
TW397933B (en) Surface screen print
JP2761320B2 (ja) オーバーコート用無機組成物
JP3792271B2 (ja) 低温焼成回路基板
JPH0648822A (ja) セラミック回路板用グリーンシートの製法およびセラミック多層回路板の製法
JP2003264372A (ja) セラミック多層基板とその製造方法、このセラミック多層基板を用いた電子部品の製造方法
JPS62226688A (ja) ブリツジ用導電性ペ−スト組成物
CN115862976A (zh) 一种pm传感器用绝缘层浆料的制备方法和使用方法
JPH05250911A (ja) 水性グリーンシート用導体ペーストおよびセラミック多層配線基板
JPH10166343A (ja) セラミック構造体の製造方法
JPH0437939B2 (zh)
JP2004067392A (ja) セラミックグリーンシート

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent