JPS5850795A - 電子回路の形成方法 - Google Patents
電子回路の形成方法Info
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- JPS5850795A JPS5850795A JP14917381A JP14917381A JPS5850795A JP S5850795 A JPS5850795 A JP S5850795A JP 14917381 A JP14917381 A JP 14917381A JP 14917381 A JP14917381 A JP 14917381A JP S5850795 A JPS5850795 A JP S5850795A
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子回路の形成方法特にインフジエラト法を用
いて基板上に電子回路を形成する電子回路の形成方法に
関するものである。
いて基板上に電子回路を形成する電子回路の形成方法に
関するものである。
従来、基板上に電子回路を形成する方法としては、マス
クを用いる厚膜スクリーン印刷法、または蒸着、スパッ
ター等の方法によシ導体が形成され九基板上に7オトレ
ジスト若しくはレジストインク層を設はフォトマスクで
のフォトエツチングを行う薄膜法などが広く用いられて
いる。
クを用いる厚膜スクリーン印刷法、または蒸着、スパッ
ター等の方法によシ導体が形成され九基板上に7オトレ
ジスト若しくはレジストインク層を設はフォトマスクで
のフォトエツチングを行う薄膜法などが広く用いられて
いる。
しかし、これらのマスクを作成するには多くの工数を要
し、一枚のマスクで大量の電子回路基板を生産する所謂
少品種多量生産の場合には十分合理化されてお如製造原
価にはあまシ影響しないが、需要が少量である多品種少
量生産の場合には製造原価が高くな夛工業生産上の難点
として問題視されるようになりてきた。また光線や電子
ビームを用いて基板上に備えたフォトレジスト層あるい
は金属化合物の蒸着層に直接描画する方法も可能ではあ
るが電子回路部以外の7オトレジスト層などを溶去する
工程は前述のフォトエツチングの場合と同様に多くの工
程を必要とし高価格になる等の問題がある。
し、一枚のマスクで大量の電子回路基板を生産する所謂
少品種多量生産の場合には十分合理化されてお如製造原
価にはあまシ影響しないが、需要が少量である多品種少
量生産の場合には製造原価が高くな夛工業生産上の難点
として問題視されるようになりてきた。また光線や電子
ビームを用いて基板上に備えたフォトレジスト層あるい
は金属化合物の蒸着層に直接描画する方法も可能ではあ
るが電子回路部以外の7オトレジスト層などを溶去する
工程は前述のフォトエツチングの場合と同様に多くの工
程を必要とし高価格になる等の問題がある。
本発明は、このような従来の電子回路の形成上の難点を
解決する目的で成され九もので、未焼成セラミツク基板
に浸透、吸収され得る有機分散媒と、導電体或は抵抗体
の粉末とを含む電子回路形成用インクをノズルから噴射
させて前記未焼成セライック基板に電子回路像を形成さ
せ1.得られた基板を焼成することを特徴とする。
解決する目的で成され九もので、未焼成セラミツク基板
に浸透、吸収され得る有機分散媒と、導電体或は抵抗体
の粉末とを含む電子回路形成用インクをノズルから噴射
させて前記未焼成セライック基板に電子回路像を形成さ
せ1.得られた基板を焼成することを特徴とする。
従来のインクジェット法はノズルからインクを小滴とし
て噴射し紙などの被記録体に画像を記録するものである
が、このインクジェット法で基板上に電子回路像を形成
する場合、電子回路形成用のインクが基板上で流れ易く
あるいは広がり易いことが問題であった。
て噴射し紙などの被記録体に画像を記録するものである
が、このインクジェット法で基板上に電子回路像を形成
する場合、電子回路形成用のインクが基板上で流れ易く
あるいは広がり易いことが問題であった。
本発明は未焼成セフイック基板所謂グリーンシートに浸
透吸収され易い有機分散媒中に導電体或は抵抗体などの
74j末を含む電子回路形成用インクをノズルから噴射
させて前記未焼成セライック基板にインクを付着させ、
前記ノズルを移動させながら付着したインク−よる電子
回路像を基板上に形成し、得られた基板を焼成すること
によって電子回路を形成するものである。
透吸収され易い有機分散媒中に導電体或は抵抗体などの
74j末を含む電子回路形成用インクをノズルから噴射
させて前記未焼成セライック基板にインクを付着させ、
前記ノズルを移動させながら付着したインク−よる電子
回路像を基板上に形成し、得られた基板を焼成すること
によって電子回路を形成するものである。
特に前記インク及び未焼成セラ建ツク基板を用いること
により基板に付着したインクの中、有機分散媒が基板に
吸収されることを利用し、付着イ剖弗七V脅澹峠ンクの
流れ或は電子回路像の線幅の広がシを防ぐことができる
ようにしたものである。
により基板に付着したインクの中、有機分散媒が基板に
吸収されることを利用し、付着イ剖弗七V脅澹峠ンクの
流れ或は電子回路像の線幅の広がシを防ぐことができる
ようにしたものである。
以下に本発明を実施例に基いて詳細に説明する。
第1図は本発明に用いられるインクジェット装置の1例
の断面図でθにおいて2は電子回路形成用インク1が噴
射されるノズル、3はノズル2に連通してノズル2内の
インク1に吐出圧力を加え得る静水圧、空気圧などによ
る圧力供給源、5はノズル2の外壁に密着配置されノズ
ル2を超音波振動で圧力励振させてインク1をインク柱
あるいはイ′ンク小滴4として噴射させ得る圧電素子な
どの圧力励振索子、6はノズル2を保持しかつインク小
滴噴射方向と直角な面内でその噴射方向を一定に保ちな
がら任意の位置にノズル2を移動させ得る構成のノズル
走査部、7は前記圧力供給源3と圧力励振素子5との作
動及びノズル走査部6の駆動を制御する制御部である。
の断面図でθにおいて2は電子回路形成用インク1が噴
射されるノズル、3はノズル2に連通してノズル2内の
インク1に吐出圧力を加え得る静水圧、空気圧などによ
る圧力供給源、5はノズル2の外壁に密着配置されノズ
ル2を超音波振動で圧力励振させてインク1をインク柱
あるいはイ′ンク小滴4として噴射させ得る圧電素子な
どの圧力励振索子、6はノズル2を保持しかつインク小
滴噴射方向と直角な面内でその噴射方向を一定に保ちな
がら任意の位置にノズル2を移動させ得る構成のノズル
走査部、7は前記圧力供給源3と圧力励振素子5との作
動及びノズル走査部6の駆動を制御する制御部である。
このような装置で圧力供給源3と圧力励振素子5との連
動で噴射されたインク柱めるいはインク小滴4は基板8
に付着し、このようなインク噴射を行い表から与えられ
た電子回路原図に沿りて、ノズル走査部6を作動してノ
ズル2の移動を行えば基板8には 付着したインク9に
よる電子回路像が形成される。
動で噴射されたインク柱めるいはインク小滴4は基板8
に付着し、このようなインク噴射を行い表から与えられ
た電子回路原図に沿りて、ノズル走査部6を作動してノ
ズル2の移動を行えば基板8には 付着したインク9に
よる電子回路像が形成される。
与えられ走電子回路原図での連続した線分に対応する基
板8上での電子回路像は、インク9が途切れることなく
連続した線分或は曲線からなる電子回路像になる様にイ
ンク噴射を調整することが可能である。即ち噴射したイ
ンク4がインク柱の場合には十分に連続した線分回路を
形成することができ、を九噴射したインク4がインク小
滴の列となって飛翔する場合には付着したインク小満9
の列が基板上で互いに重なシながら線分或社曲線からな
る電子回路像を形成する様にノズル2の移動速度を調節
することができるからである。吐出圧力、圧力励振ある
いはノズル2と基板8との間隙などを調節することによ
りインク柱とインク小滴とのインクの飛翔形態を自由に
選択することができる。即ち従来のインクシェード法で
はインク小滴を周期的に噴射することが必要であったが
、本発明では連続するインク柱の噴射でも良いという長
所を有すものである。
板8上での電子回路像は、インク9が途切れることなく
連続した線分或は曲線からなる電子回路像になる様にイ
ンク噴射を調整することが可能である。即ち噴射したイ
ンク4がインク柱の場合には十分に連続した線分回路を
形成することができ、を九噴射したインク4がインク小
滴の列となって飛翔する場合には付着したインク小満9
の列が基板上で互いに重なシながら線分或社曲線からな
る電子回路像を形成する様にノズル2の移動速度を調節
することができるからである。吐出圧力、圧力励振ある
いはノズル2と基板8との間隙などを調節することによ
りインク柱とインク小滴とのインクの飛翔形態を自由に
選択することができる。即ち従来のインクシェード法で
はインク小滴を周期的に噴射することが必要であったが
、本発明では連続するインク柱の噴射でも良いという長
所を有すものである。
一ディツイト、ムライトなどのセラミックの粉末を有機
バインダーで固めた状態の未焼成セラミック基板即ちグ
リーンシートが最も有効に利用される。
バインダーで固めた状態の未焼成セラミック基板即ちグ
リーンシートが最も有効に利用される。
インク1としては、金、銀、パラジウム、白金などの導
電体の粉末或は酸化ルテニウムなどの抵抗体の粉末を、
前記未焼成セラミツク基板に浸透吸収され易い下記の様
々有機分散媒中に分散混合し友ものが用いられる。この
有機分散媒としては、メチルカルピトール、エチルカル
ピトール、ブチルカルピトール、メチルカルピトールア
セテート、エチルカルピトールアセテート、ブチルカル
ピトールアセテート、バイン油、ジアセトンアルコール
、テルピネオール等々の高沸点多価アルコールの誘導体
、ケント類、エステル類、テルペン類などが単独である
いは、多成分混合で適宜用いられる。またインクlには
、前記有機分散媒以外にセルロース系樹脂、アクリル系
樹脂などのバインダー或は硼硅酸ガラスのフリットなど
を含んでも良い。これらのバインダーやフリットは、電
子回路の抵抗値を調整したシ、前記導電体や抵抗体など
の固体粉末の基板8への結合性を同上させるためなどに
用いられる。
電体の粉末或は酸化ルテニウムなどの抵抗体の粉末を、
前記未焼成セラミツク基板に浸透吸収され易い下記の様
々有機分散媒中に分散混合し友ものが用いられる。この
有機分散媒としては、メチルカルピトール、エチルカル
ピトール、ブチルカルピトール、メチルカルピトールア
セテート、エチルカルピトールアセテート、ブチルカル
ピトールアセテート、バイン油、ジアセトンアルコール
、テルピネオール等々の高沸点多価アルコールの誘導体
、ケント類、エステル類、テルペン類などが単独である
いは、多成分混合で適宜用いられる。またインクlには
、前記有機分散媒以外にセルロース系樹脂、アクリル系
樹脂などのバインダー或は硼硅酸ガラスのフリットなど
を含んでも良い。これらのバインダーやフリットは、電
子回路の抵抗値を調整したシ、前記導電体や抵抗体など
の固体粉末の基板8への結合性を同上させるためなどに
用いられる。
また、前記固体粉末の前記有機分散媒中への分散を良く
するために界面活性剤などをインクlに含んでも良い。
するために界面活性剤などをインクlに含んでも良い。
インク1中の固体粉末はノズル2の噴射口の口径よシ小
さい粒径のものを用いることによシノズル2の孔結tb
を防止することができる。またインク1中の固体粉末の
菫はインクを高粘度にしない程度に選ぶことができ、吐
出圧力、及び圧力励振強度を極端に大きくしないでイン
クを噴射できる程度の量が用いられる。
さい粒径のものを用いることによシノズル2の孔結tb
を防止することができる。またインク1中の固体粉末の
菫はインクを高粘度にしない程度に選ぶことができ、吐
出圧力、及び圧力励振強度を極端に大きくしないでイン
クを噴射できる程度の量が用いられる。
上記インクl及び基板8を用い上述のインクジェット法
によ如、与えられた電子回路原図に対応して基板8上に
付着したインク9による電子回路像を形成することがで
きる。この電子回路像を構成する基板8上のインク9は
、インク4が基板8に付着したときからインク9の有機
分散媒が基板8の内部に浸透、吸収されるものであシ、
従ってインク9中の導電体、抵抗体などの固体粉末が基
板80表面に若干の有機分散媒あるいはバインダーとと
もに残留するものである。従って基板8に付着したイン
ク9が流れたシミ子回路儂の線幅を広げたシする難点は
解決される。
によ如、与えられた電子回路原図に対応して基板8上に
付着したインク9による電子回路像を形成することがで
きる。この電子回路像を構成する基板8上のインク9は
、インク4が基板8に付着したときからインク9の有機
分散媒が基板8の内部に浸透、吸収されるものであシ、
従ってインク9中の導電体、抵抗体などの固体粉末が基
板80表面に若干の有機分散媒あるいはバインダーとと
もに残留するものである。従って基板8に付着したイン
ク9が流れたシミ子回路儂の線幅を広げたシする難点は
解決される。
以上で得られた基板8を600℃以上の温度で焼成する
仁とによって、導電体或は抵抗体などの固体粉末が基板
上に焼結されるとともに未焼成セラ建ツク基板自身も焼
結される。かくして、電子回路が形成された電子回路基
板が製造される。この焼結された電子回路は、導電体あ
るいは抵抗体などの個々の粉末粒子が焼成時に接合し合
い連続した線分、あるいは曲線部分と表りて電子回路を
形成し実用に供し得るものとなる。
仁とによって、導電体或は抵抗体などの固体粉末が基板
上に焼結されるとともに未焼成セラ建ツク基板自身も焼
結される。かくして、電子回路が形成された電子回路基
板が製造される。この焼結された電子回路は、導電体あ
るいは抵抗体などの個々の粉末粒子が焼成時に接合し合
い連続した線分、あるいは曲線部分と表りて電子回路を
形成し実用に供し得るものとなる。
インクlを安静に長期間放置した場合にはインク1中の
固体粉末が沈降する場合があるが、実際に電子回路像を
インクジェット法で基板8上に描画する直前に短時間、
微弱な超音波振動を振動子5でノズル2に印加するとと
Kよ抄インクlの攪拌がなされるのでノズル2内におい
ては固体物床の沈降を防止できる。
固体粉末が沈降する場合があるが、実際に電子回路像を
インクジェット法で基板8上に描画する直前に短時間、
微弱な超音波振動を振動子5でノズル2に印加するとと
Kよ抄インクlの攪拌がなされるのでノズル2内におい
ては固体物床の沈降を防止できる。
基板8上ではインク9の有機分散媒が未焼成セラミツク
基板8に吸収され真に焼結時に導電体、抵抗体などの固
体物床が連続接続し断線することなく電子回路の線分を
形成することが必要であり、インク中の固体粉末の量も
この連続接続に必要な量以上は必要であると考えられる
。しかし実際には所要量よシ少い固体粉末の量を含むイ
ンクlでありてもノズル2の移動走査速度を遅くするこ
とによって基板8上の固体粉末の密度を上げることがで
き、従って、インク中の固体物床あ量は、電子回路の所
望の導電率あるいは抵抗値に応じて、インク噴射速度及
びノズル走査速度、を考慮することによシ自由に選択で
きる。
基板8に吸収され真に焼結時に導電体、抵抗体などの固
体物床が連続接続し断線することなく電子回路の線分を
形成することが必要であり、インク中の固体粉末の量も
この連続接続に必要な量以上は必要であると考えられる
。しかし実際には所要量よシ少い固体粉末の量を含むイ
ンクlでありてもノズル2の移動走査速度を遅くするこ
とによって基板8上の固体粉末の密度を上げることがで
き、従って、インク中の固体物床あ量は、電子回路の所
望の導電率あるいは抵抗値に応じて、インク噴射速度及
びノズル走査速度、を考慮することによシ自由に選択で
きる。
焼成温度は、基板8自身の焼結及び電子回路像の基板8
への焼結をなし得る温度を適宜選んでよい。
への焼結をなし得る温度を適宜選んでよい。
焼成時の雰囲気は、電子回路の所望の導電率、抵抗値に
応じて空気、窒素、アルゴン、水素、真空など適宜選ぶ
ことができる。
応じて空気、窒素、アルゴン、水素、真空など適宜選ぶ
ことができる。
導電体部、抵抗体部を一枚の基板に形成して電子回路を
得るためには、図の様なインクジェット装置を2台用意
しそれぞれ別個に導電体の電子回\ 路儂、抵抗体の電子回路像を順次一枚の基板−ヒにイン
クジェット法で描画し死後、得られた基板を焼成するこ
とによって所望の電子回路が得られる。
得るためには、図の様なインクジェット装置を2台用意
しそれぞれ別個に導電体の電子回\ 路儂、抵抗体の電子回路像を順次一枚の基板−ヒにイン
クジェット法で描画し死後、得られた基板を焼成するこ
とによって所望の電子回路が得られる。
冑、本発明では、電子回路に必要なインク量のみを使う
ので、金、鍋、パラジウム、白金などの貴金属を無駄に
消費することはない。
ので、金、鍋、パラジウム、白金などの貴金属を無駄に
消費することはない。
以下に具体例をあげて説明する。
粒径3#m以下の銀粉を55体積チ、残部エチルカルピ
トールから成るインク1を、口径約100ツク基板8に
導電体部の電子回路を形成し、次に粒径5μm以下G徽
化ルテニウム粉末と硼硅酸ガラスフリットとをそれぞれ
45,4体積チを含み残部エチル−カルービトールから
なるインクを前記同様のノズルからインクを噴射し前記
導電体の電子回路像を有する未焼成上″)ンツク基板8
に抵抗体部の電子回路像を形成し、得られた基板8を2
00Cで転線後空気中で850℃で焼成して電子回路を
製造した。断線がなく均一な線幅を有する良好な電子回
路が形成できた。
トールから成るインク1を、口径約100ツク基板8に
導電体部の電子回路を形成し、次に粒径5μm以下G徽
化ルテニウム粉末と硼硅酸ガラスフリットとをそれぞれ
45,4体積チを含み残部エチル−カルービトールから
なるインクを前記同様のノズルからインクを噴射し前記
導電体の電子回路像を有する未焼成上″)ンツク基板8
に抵抗体部の電子回路像を形成し、得られた基板8を2
00Cで転線後空気中で850℃で焼成して電子回路を
製造した。断線がなく均一な線幅を有する良好な電子回
路が形成できた。
本発明によれば、インクジェット法により基板上に直接
に描画できるから、iスフの顧作工椙6るいは前述のエ
ツチング工程などが不要とな〕、また電子回路像の形成
に必要なインク量のみを用いるだけでよいという優れた
効果が得られ、多品種少量の需要の電子回路基板であっ
ても少い工数で、かつ安い製造原価で容易に主波が可能
となる。
に描画できるから、iスフの顧作工椙6るいは前述のエ
ツチング工程などが不要とな〕、また電子回路像の形成
に必要なインク量のみを用いるだけでよいという優れた
効果が得られ、多品種少量の需要の電子回路基板であっ
ても少い工数で、かつ安い製造原価で容易に主波が可能
となる。
、:1
第1図は本発明に使われるインクジェット装置の基本構
成を示す断面図である。 図において1紘電子回路形成用インク、2はノズル、3
は吐出圧力供給源、4は噴射されたインク、5は圧力励
振素子、8は基板である。
成を示す断面図である。 図において1紘電子回路形成用インク、2はノズル、3
は吐出圧力供給源、4は噴射されたインク、5は圧力励
振素子、8は基板である。
Claims (1)
- 未焼成セラミツク基板に浸透、吸収され得る有機分散媒
と、導電体或は抵抗体の粉末とを含む電子回路形成用イ
ンクをノズルから噴射させて前記未焼成セフイック基板
に電子回路像を形成させ得られた基板を焼成することを
特徴とする電子回路の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14917381A JPS5850795A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 電子回路の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14917381A JPS5850795A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 電子回路の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5850795A true JPS5850795A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15469389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14917381A Pending JPS5850795A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 電子回路の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5850795A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002031068A1 (fr) * | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Ulvac, Inc. | Encre pour systeme a jet d"encre et procede permettant de produire cette encre |
WO2003084297A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-09 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Wiring structure and its manufacturing method |
KR100429851B1 (ko) * | 2001-05-07 | 2004-05-03 | 김수경 | 미립자 금속도전잉크 및 그 제조방법 |
US6855367B2 (en) * | 2001-04-20 | 2005-02-15 | Atsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing electronic parts, and member for production thereof |
US7097287B2 (en) | 2001-05-09 | 2006-08-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink jet device, ink jet ink, and method of manufacturing electronic component using the device and the ink |
US8178188B2 (en) | 2001-04-20 | 2012-05-15 | Panasonic Corporation | Base layer for manufacturing an electronic component by an etching process |
-
1981
- 1981-09-21 JP JP14917381A patent/JPS5850795A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002121437A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Ulvac Corporate Center:Kk | インクジェット用インク及びその製法 |
US6855367B2 (en) * | 2001-04-20 | 2005-02-15 | Atsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing electronic parts, and member for production thereof |
US8178188B2 (en) | 2001-04-20 | 2012-05-15 | Panasonic Corporation | Base layer for manufacturing an electronic component by an etching process |
US8247474B2 (en) | 2001-04-20 | 2012-08-21 | Panasonic Corporation | Method of manufacturing base layer, ink for inkjet and electronic components |
US8507076B2 (en) | 2001-04-20 | 2013-08-13 | Panasonic Corporation | Combination of base layer and ink for inkjet for manufacturing electronic component |
KR100429851B1 (ko) * | 2001-05-07 | 2004-05-03 | 김수경 | 미립자 금속도전잉크 및 그 제조방법 |
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WO2003084297A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-09 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Wiring structure and its manufacturing method |
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