TW521125B - Turbo-molecular pump having enhanced pumping capacity - Google Patents

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521125 A7 B7 五、發明説明（） 發明領述： 本發明大體上係關於半導體處理。詳言之，本發明係 關於半導體處理設備及一具加強排氣能力之用來排空一 真空處理室的渦輪分子真空幫浦。 發明背景： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 基材典型地係用不同的蝕刻，化學氣相沉積（CVD)， 物理氣相沉積（PVD)，離子植$及清潔步驟來加以處理用 以在其上建構積體電路或其它的結構。這些步驟通常視在 一被隔離的環境中且被真空地密封的處理室中進行的。該 基材處理室大體上包含一外殼其具有一側壁，一底部及一 蓋子。一基材支撐件被設置在該室内用以在處理期間藉由 電子或機械機構，如靜電夾頭或真空夾頭，將該基材固定 在定位上。一細缝閥被設置在一室側壁上用以讓基材能夠 被送進/送出該基材處理室。在一 CVD處理中，不同的處理 氣體會經由一被設置成穿過該蓋子的氣體入口，如一蓮蓬 頭式的氣體入口，而進入到該基材處理室中。在PVD處理 中，不同的處理氣體會經由一在該處理室内的氣體入口而 進入到該基材處理室中。在每一種處理中，氣體都是使用 一真空幫浦，如渦輪分子真空幫浦，而從該基材處理室中 被排出，該真空f浦係固定於該基材處理室的氣體出口附 近0 渦輪分子幫浦被使用於高（1(Γ7Τογγ)或超高（ι〇·ι〇τ〇ΓΓ) 真空系統中排放至一旋轉油泵其在該處理内建一第一壓 第4頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 521125 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（） 力。該滿輪分子幫浦包括一具有數排傾斜的徑向葉片的轉 子其葉片旋轉於一定子的面向内的數排葉片之間。轉子葉 片的外尖端接近氣體的分子速度且當一分子撞擊該轉子 時，一大部分在旋轉方向上的動量被傳遞到該分子上。此 被傳遞的動量造成該氣體分子從幫浦的入口侧朝向該幫 浦的出口側移動。渦輪分子幫浦的旋轉速度為20000至 90000rpm及排氣速度或容量為50公升/秒至5000公升/秒。 第1圖為一典型的渦輪分子幫浦1 0的剖面圖。該渦輪 分子幫浦10大體上包含一圓柱形的外殼72，一底座74其包 住該外殼72的底部，一被同軸地設置在該外殼72内的轉子 40，一馬達20其與該轉子4〇同軸地被設置，及一定子30其 從該外殼30徑向地朝外延伸。該外殼72提供該渦輪分子幫 浦1 〇 —支撐結構並包括一入口埠1 2其被設置成穿透該外 殼72的頂部。一出口埠14被設置成穿透該基座74且被固定 於一旋轉油泵及一用於氣體回收的廢料系統（未示出）上。 馬達20為一電動馬達其將該轉子40繞著一軸旋轉。馬達40 可用一機械式轴承37或磁性袖承以一相對於該外殼而T 為懸浮的狀態來加以支撐。 轉子葉片46及定子葉片36被作成可將氣體從入口埠 12排出至出口埠14且可防止氣體回流至該真空處理室内 的形狀。轉子40包括數排轉子葉片46其從該轉子承接該馬 達2 0的一部分之一中心圓柱部分分層地徑向朝外地延伸 出。相同地，定子30包括數排葉片36從外殼72分層地朝内 延伸。該等定子葉片3 6排與該等轉子葉片46排被安排在交 第5頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公爱) --- ...........* _·裝丨丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂· # 521125 Α7 Β7 五、發明説明（） 替地軸向層上，且多個間隔環3 8將不同層的定子葉片3 6分 開來用以確保轉子葉片46可自由地旋轉於定子葉片36之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 間。該幫浦的一”第一階段”是由該進氣端之第一排轉子葉 片46與第一排定子葉片36所界定的》之後的每一排轉子葉 片46及對應的定子葉片36排就構成另一階段且在一渦輪 分子幫浦中通常有5至1 3個階段。此外，一包含了 一從該 轉子40的排氣端延伸出的圓柱形件（未示出）之複合階段可 被包括用以達成一較高的排氣恩力及較高的入口壓力。 因為在基材處理中之實際的溫度及潔淨考量，基材處 理真空室被設置在一隔離的無塵室内。因為渦輪分子幫浦 必需將處理室内的壓力降低至l〇-7Toor，所以它們必需位 在該無塵室内靠近該等處理室用以避免任何會因為幫浦 因真空管路而與處理室分離所造成的排氣效能的損施。因 * 為無塵室的建造及維修成本非常昂貴，所以設置在其内的 裝置，包括渦輪分子幫浦在内，的實體尺寸永遠都是很關 鍵的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第2圖為一其内設置有一渦輪分子幫浦10的真空基材 處理室1 00的簡化的示意剖面圖。該渦輪分子幫浦1 0可位 在基材160的正下方或稍微偏移，如第2圖所示。室100及 幫浦1 0構成一處理設備的一部分，該處理設備典型地包含 數個處理室及至少一輸送室。該基材處理室100提供一隔 離的環境，基材1 60在該處則藉由蝕刻，沉積，植入，清 潔，冷卻及/或其它預處理及後處理步驟來加以處理。該基 材處理室1〇〇大體上包含一外殼1 10其具有一側壁底104， 第6頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 521125 A7 B7 五 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明説明（） 一底部106及一蓋子108。一被設置在該室100的底部1〇6中 的材支撐件1 10確保基材160於處理期間位在定位處。該基 材支撐件110大致上包含一真空爽頭或一靜電夾頭用來固 持該基材1 6 0。一細缝閥1 1 2被設置在該室側壁1 〇 4上用以 允許基材被輸送進/出該基材處理室1〇〇。在一 CVD處理 中，不同的處理氣體經由一被設置成穿透該處理室的蓋子 108之氣體入口 120，如一蓮蓬頭式的氣體入口或噴嘴，進 入到該基材處理室100内。為了要將氣體從該基材處理室 内排出，一渦輪分子幫浦10被固定在該基材處理室1〇〇的 氣體出口附近。 先進的基材處理及真空處理室的容量的加大都對於 較大的幫浦能力持續地存在著需求。某些基材處理，像是 電漿基礎的蝕刻及CVD處理，需要特別高的處理氣體流率 相對低的真空層度。當在整個基材處理表面上的反應物的 流率被提高（即，真空幫浦的產出率提高用以排出一較大 的體積）’則完成該處理所需的時間即可被縮短。因此， 為了要提高處理室的產出率，被使用在電漿基礎的蝕刻及 C V D中的真丄繁庸系統需要一較大的排氣能力。甚者，當 室的尺寸增加用以容納較大的基材（如，3〇〇公釐的基材） 時，使用在這些較大的室中之渦輪分子幫浦必需提供相對 應之較大的排氣能力。例如，對於一 3〇〇公釐的室而言需 要4000公升/秒的排氣能力。 減少幫浦的排氣時間及提高排氣能力的一個方法為 增加該滿輪分子幫浦的轉子的旋轉速度。然而，增加一轉 第7頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公爱） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} ·裝- 、一：b # 521125 A7 B7 五、發明説明（） 子及轉子葉片的旋轉速度必會對該轉子及其它的構件造 成額外的應力而這會導致幫浦構件失效的結果。此外，因 為處理氣體以較高的速度通過該真空幫浦，所以未被使用 的反應物以及反應副產物都會以一較高的速率從該處理 主中被移除且會附著於真空幫浦内的構件的表面上或該 等表面起反應，造成構件被顯著地加熱且造成構件及幫浦 的損壞。例如，在HDP應用中，幫浦内部構件，如一轉子， 可升南至120 °C的溫度，且由高溫所造成的應力會造成構 件及幫浦之實體上的損壞。因此，單純地增加幫浦的轉速 並非一實際的解決方法。 提高幫浦的排氣能力及減少從一處理室中排氣所需 的時間的另一個方法為增加該渦輪分子幫浦的實體尺 寸。例如，藉由增加該轉子的葉片的長度來增加它們的表 面積將可增加流經該幫浦的氣流。然而，因為較大葉片讓 該轉子所承受較大的徑向應力的關係，所以該轉子必需被 加大用以承載較大的葉片。相同地，轉子軸承必需變得較 大且更加堅固用以承受該幫浦變大的震動，因此該幫浦外 可亦必需相對應地變大。這將會造成該幫浦的總尺寸及重 量。較大的幫•浦建造的成本更高昂，需要使用更多的能量 來糙操作並在無塵室内造成更大的震動。甚者，較大的幫 浦會佔掉在真空室底下更多寶貴的無塵室空間，讓該設備 的佔地面積更大。 因此，對於可在相對應地增加幫浦的實體尺寸及重量 下提供比現有的渦輪分子幫浦更大的排氣能力的渦輪分 第8頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇χ297公釐) (請先閱讀背面之法意箏項存琪寫本買) •装· # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 521125 A7 B7

五、發明説明（） 子幫浦存在著需求。對於具有較大的排氣能力且所需的無 塵室空間更小的渦輪分子幫浦更是存在著需求。對於相對 於具有相同的排氣能力的幫浦而言可產生較小的震動的 滿輪分子幫浦更是存在著需求。 發明目的及概沭： 在一態樣中，一種真空處理系統被提供’其包含一真 空處理室及一被設置在該真空處理室内的渦輪分子幫 浦。該滿輪分子幫浦包含一外殼其具有一入口埠及一出口 埠，一定子其被設置在該外殼的内壁上，一轉子其被設置 在該定子内，及一馬達其與該轉子同軸地延伸，其中，至 少該幫浦的第一階段被加大，其在除了該外殼的對應上部 之外的其它幫浦構件沒有對應地變大下達成的。 f請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} ·裝· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之一更為特定的描述可藉由參照在附圖中所 示出之較佳實施例而被獲得，使得本發明之前述特徵，優 點及目的可被詳細地瞭解。 然而，應被瞭解的是，附圖中所展示的只是本發明之 典型的實施例，其不應被解讀為本發明之範圍的限制。 第1圖為前技渦輪分子幫浦的剖面圖。 第2圖為一其上固定有一渦輪分子幫浦1〇之真空基材處理 室100的簡化示意剖面圖。 第3圖為本發明之渦輪分子幫浦1 Q的剖面圖，其具有被加 第9頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 521125 A7 B7 五、發明説明（） 大的前三幫浦階段。 第4圖為本發明之渦輪分子幫浦1 0的另一實施例的剔面 圖，其顯示被基大的前三階段及之後傾斜的階段。 第5圖為一顯示傾斜的葉片之剖面圖，其中該等轉子葉片 在其基底部分被強化。 第6圖為一簡化的示意圖其顯示本發明與一前技幫*浦比較 起來之空間節省的優點。 圖號對照說明： (請先閲tii背面之注意事項再場寫本頁) -裝· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10 渦輪分子幫浦 72 外殼 74 基座 40 轉子 20 馬達 30 定子 14 出口埠 37 軸承 46 轉子葉片 36 定子葉片 12 入口埠 38 間隔環 100 真空基材處理室 160 基材 104 側壁 106 底部 108 蓋子 110 基材支撐件 112 細缝閥 200 幫浦 201 外殼 210 轉子 248 馬達 225 轴 226 小直徑 205 入口 206 出口 228 大直徑 250 轉子葉片 251 定子葉片 第10頁 訂. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 521125 A7 --------- —__B7 五、發明説明（） 253 加大的直徑部分 400 幫浦 3 10 定子 305 幫浦入口 326 較小直徑部分 328 較大直徑部分 320 定子 302 轉子葉片 306 幫浦出口 500 幫浦 505 轉子葉片 520 基座 510 轉子 512 端部 550 開口 650 幫浦 625 傳統幫浦 655 外殼 656 進氣端 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·裝. 訂· 發明詳細說明： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第3圖為一剖面圖其顯示本發明之幫浦2〇〇的一實施 例。該幫浦包括一定子220其從該外殼201徑向朝内地延伸 及一轉子210其被設置在該外殼内。一馬達248被設置成與 該轉子同軸且將該轉子210繞著一軸225旋轉。該轉子210 包括兩個外徑，一較小的直徑226靠近該幫浦的一入口 205 及一下面的，較大的直徑228其從該幫浦的一出口 206朝外 的延伸。在第3圖所示的一實施例中，與從轉子2 1 0的較大 至徑部分228延伸出的其它轉子葉片225表較起來，前兩排 的轉子葉片2 5 0，或從轉子2 1 0的較小的直徑部分2 2 6延伸 出的葉片具有一較長的長度。相對應的定子葉片251亦具 有一較大的長度從該定子220的加大直徑部分253朝内地 延伸。該等較長的定子及轉子葉片250，251可提供一加大 第11頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210χ 297公釐） 521125 A7

五、發明説明（） 一請先閲讀背面之注意事項存填寫本買) 的表面積且相對應地增加排氣能力。因為它們的長度加 長，所以轉子葉片2 5 0的尖端以一超過該被抽泵的處理氣 體的音速（以氮氣而言約為300公尺/秒）的速度旋轉。這< 增加在第一階段内的氣體壓縮且在f浦200的排氣速度或 排氣能量上的整體提升。 因為較長的轉子葉片250從轉子210的較小直徑部分 2 2 6延伸出，所以外殼2 0 1的直徑只需要小量的增加即可。 而且，因為該外殼201之加大的部分受限於該上部或該部 分典型地被附加在一真空室上，所以其尺寸上的增加不會 千擾到在該無塵室内其它的設備或在無麈室内工作的人 員。再者，由於較長的葉片其較大的尖端速度而產生於該 轉子上之增加的應力可被最小化，因為轉子直徑於較長的 葉片2 5 0所附著處是最小的且徑向力量並不像它們沿著軸 225的較大直徑部分228内樣高。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第4圖為一剖面圖，其顯示本發明的一幫浦4 〇 〇的另一 實施例。該幫浦包括一轉子3 1 0其具有一較小的直徑部分 326與一幫浦入口 305相鄰及一較大的直徑部分328其朝向 一幫浦出口 306延伸。一定子320包括不同長度的葉片從一 外殼3 0 1朝内地延伸。與第3圖中的實施例相同地，前兩排 的轉子葉片302及前兩排的定子葉片3〇1及在該幫浦4〇〇的 進氣端的入口 3 05與其它的轉子及定子葉片比較起來其長 度被加大。之後，朝向一幫浦出口 306延伸的轉子葉片其 長度逐漸地變小。例如，在一實施例中，每一隨後的轉子 葉片比前一葉片短約10-15%。外殼3 05是有斜度的用以容 第12頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) -- 521125 A7

五、發明説明（） 納較長的葉片但並不需要有其它的修正來容爸因較長的 葉片之增加的表面積所帶來的容量。該等有斜度的義片可 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 增加整體的葉片表面積且可增加排氣能力。 雖然本發明的實施例可在不加大轉子本身的尺寸下 提高排氣能力，但加長的轉子葉片可因為用來補償較高的 葉片尖端速度之較強的葉片對轉子的連結而受惠。第5圖 為一幫浦500的剖面圖，其具有與第4圖的幫浦4〇〇相似的 構件。在第5圖的繁浦500中，每一轉子葉片505的基座被 加以修改用以在該等轉子葉片附著於轉子上的位置處增 加額外的強度。詳言之’每一轉子葉片的基座5 20藉由加 上用來·增加葉片附著於轉子510的位置的強度之額外的材 料來將其加寬。在葉片基座的此基座材料上的增加可獲得 一相應的強度增加及葉片的應力抵抗強度的提高。以此方 式，該葉片設計可承受由葉片增長的長度及加大的表面積 所造成之额外的應力。相對應的定子葉片5 1 0在它們的端 部5 1 2被作成由斜度用以與在兩相鄰的轉子葉片之間的開 口 5 5 0作較佳的配合。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第6圖為一處理室的示意圖其具有一幫浦附著在其下 表面上。該圖被沿著一垂直軸分割用以顯示與一具有相同 容量之傳統幫浦625表較起來之本發明的幫浦650的實體 尺吋。如所示地，傳統幫浦625具有一外殼625其具有一固 定的外徑用以容納具有單一長度的葉片。相反地，幫浦6 5 0 包括一外殼65 5其只在幫浦的進氣端656被加大。之後，該 幫浦的外殼被變窄因為葉片不若在幫浦的該進氣端區域 第13頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 521125 A 7 B7 五、發明説明（ 内葉片般長。未使用的空間可被用來接管線，電纜線或其 它無塵室的設備。 葉片在幫浦進氣端處之表面積的增加可顯著地提高 幫浦的排氣能力。例如，只藉由將第3圖所示的前二或三 階段加大，一 2000公升/秒的幫浦即可在只需加大較長葉片 周圍的面積而無需額外增加幫浦的尺寸及重量下而被提 升為排氣能力為4000公升/秒的幫浦。本發明的優點可在不 同的真空處理室及使用渦輪分子幫浦的真空處理系統中 被同樣地獲得。 雖然以上所述係關於本發明的較佳實施例，但本發明 之其它及進一步的實施例可在不偏離本發明的基本範圍 及由以下的申請專利範圍所界定之本發明的範圍之下被 達成。 請 先 閲 讀 背 之 意 事 項 再 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第14頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐)

Claims (1)

1. 521125 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1. 一種真空處理系統，其至少包含： (a) —真空處理室；及 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (b) —渦輪分子幫浦，其被設置於該真空處理室上且 包括： (i) <外殼，其具有一入口埠及一出口埠； (ii) 一定子，其具有多排定子葉片徑向地朝内延 伸； (iii) 一馬達，其被設置成於一轉子同軸；及 (iv) 該轉子具有多排轉子葉片其從該轉子的一 外表響·，該等轉子葉片排被設置成與 —--- 該等定子葉片排交替的方式，相鄰的 至少一排轉子葉片上的葉片及至少一排定子葉片上 的葉片比其它排的轉子葉片及定子葉片來得長。 2. 如申請專利範圍第1項所述之真空處理系統，其中該真空 處理室為一化學氣相沉積室。 3 .如申請專利範圍第1項所述之真空處理系統，其中該真空 處理室為一蝕刻室。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4.如申請專利範圍第1項所述之真空處理系統，其中該真空 處理室為一離子植入室。 5 .如申請專利範圍第1項所述之真空處理系統，其中至少一 第15頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210Χ 297公釐) 521125 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 排轉子葉片及與其相鄰的一排定子葉片的長度比其它 的轉子葉片及定子葉片的長度長5 0%。 6.如申請專利範圍第5項所述之真2處理系統，其中至少— 排轉子葉片及與其相鄰的一排定子葉片的表面積比其 它的轉子葉片及定子葉片的表面積多10 0%。 7·如申請專利範圍第6項所述之真空處理系統，其中該至少 一排轉子葉片在與轉子連接處被加寬。 8·—種用來將氣體從一處理室中排出的設備，其至少包 含： 一渦輪分子幫浦，其具有多排的轉子葉片及定子葉 片，位在該幫浦的一進氣端的該等轉子葉片排包括了表 面積比其它轉子葉片的表面積大的轉子葉片。 9 ·如t請專利範圍第8項所述之設備，其中位在該幫浦的該 進氣端處的轉子葉片的長度比其它轉子葉片的長度 長。 -f* 寶 1 0 ·如申請專利範圍第9項所述之設備，其中該窩輪为 ， .uh 進》Λ* 浦包括多片被設置成排的定子葉片，在與該幫浦 ，定子棄 側相鄰的第一排上的定子葉片的表面積比其匕 片的表面積大。 第16頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 裝. •訂· # 521125 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1 ·如申請專利範圍第9項所述之設備，其中該渦輪分子幫 浦包括一外殼，該外殼具有一加大的部分其被建構與設 置成可谷納該等較大的轉子葉片及定子葉片。 1 2. —種真空處理系統，其至少包含： (a) —真空處理室； (b) —渦輪分子幫浦’其具有多排從一轉子延伸出的 轉子葉片’該等葉片排包括與該幫浦的一入口埠相鄰且 具有第一長度的葉片及在該幫浦的出口埠且長度較短 的葉片。 13. 如申請專利範圍第12項所述之真空處理系統，其中該渦 輪分子幫浦包括一複合階段。 14. 一種與一真空室一起使用之渦輪分子幫浦，其至少包 含： (i) 一外殼，其具有一入口埠及一出口埠； (ii) 一轉子，其具有多排轉子葉片被設置於其上；及 (iii) 一定子，其具有多排定子葉片以與該等轉子業片 排交替的方式從該外殼的一内表面徑向朝内地延伸，| 中與該入口埠相鄰的至少一排轉子葉片及至少一排定 子葉片包括了長度比其它排的轉子葉片及定子葉片長 的葉片。 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X 297公釐) ........^.........、可.........0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 521125 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所述之渦輪分子幫浦，其中其它 排的轉子葉片及定子葉片在該出口埠的方向受逐漸地 變短。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 、τ # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第18頁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210Χ 297公釐)