TW517177B - Aligner - Google Patents

Description

517177 五、發明說明（l) 發明領域： 這項發明主要是關於製造印刷電路板中，主印刷板電 路圖案或類似物品曝光在電路板上之對正裝置。 習知技術說明： 最近，I C製造的影印石版技術已被採用於製作印刷 電路板或相關產品中導體圖樣的形成。 這種技術利用具成形圖像之主印刷板，置於投射光線 下’使印刷電路板呈現出與上述主印刷板一樣的圖樣。 上述主印刷板通常使用薄膜光罩，使上述薄膜光罩與 上述印刷電路板接觸或接近狀態中曝光是常用的做法。 在放置上述光罩和上述印刷電路板於接觸或接近前， 這兩者需要相互對正，上述光罩或上述印刷電路板在X，γ 方向上移動和對正。隨後，再將上述兩者緊密接觸以曝 光。 、 同時近幾年來，上述電路板體積縮小，對於製造程序 之效率而σ ’驾丨貝將大型電路板劃分成數個區域，而依區 域不同重複曝光’上述電路板隨後被切割而使用。 發明目的： 2而，電路板體積增大造成因電路板 率較低的問，，上述電路板通常被設計成利用= 底座和扭曲或形變的上述電路板間漏出，㈣低真空狀ί 517177 五、發明說明（2) 和吸力，導致上述電路板無法維持曝光所需的平整 這項發明的目的即是解決這個習知的缺點。 發明概述： φ 於宜卜種對正裝置包ϋ:—底座’以放置將被曝光之基板 ::;二以及一吸附單70 ’以吸附上述將被曝光之基板於 士述=座±，上述吸附單元僅能吸附上述將被曝光基板之 5H上，對正裝置可將上述將被曝光基板之部分曝 邻八：：：單70僅可吸附上述將被曝光基板之要被曝光 :::: 與吸附整個基板比較更為有效率，且即 或類似的情形日夺，還有正面吸附的可能，如 此增加了曝光效率。 曝光時’一光罩，呈右一w令 、十、宓亦u t x /、有既&之圖案以投射至位於上 述將被曝光基板上，且將接觸或靠近上述將 光自光源單位發射，以投射上述光 =曝光基板土。在較佳實施射，上述光罩 t二f上之任忍區域對正，如此基板就能在改變區域位置 :=次：光。吸附結構設計在對應上述曝光二= 母一區域處都會將上述將被曝光基板吸附在上述底=的 而在對正後曝光。由於這個結構，只巴， =被；？右吸附的效率因此改善。心； 或形k ’還疋有可能有正面的吸附，特別是當上述光罩=

517177 五、發明說明（3) __ 上述基板接觸時，上述光罩 座的密合度，進一步改盖 Q 了上述基板和上述底 乂又ϋ曝光部位的+态 順帶-提，通常上述光罩和上正：晉二 其中上述光罩則垂直置於上述基板之上。直安裝， 和上述基板可直立安置以連同間隔述上述光罩 定位在水平方向。 上11光罩和上述基板 較佳實施例詳細說明·· 上述本發明的較佳實施例依圖示說明如下· ，ΓΛνΛΙ平台5"於上述對正裝置之近乎中心 2 ’上述對士平台5。在平面方向上移動；如_的子方中 向’以及以中心點為軸的旋轉方向旋# 0方向） 對正平台50設計也可依z方向移動，以 移至接近或接觸光罩丨。㈣以至於印刷電路板π 上述印刷電路«為藉由相互連接而轉換的基板，安 置於上述對正平台50以使吸附單元4將上述印刷電路w吸附 ΕΓ定’以作為-固定單元’上述印刷電路板w自先前線路 由傳送裝置傳輸，安置於上述對正平台5〇上，而上述印刷 電路板W在此圖樣轉換，且藉傳送裝置傳輸到下一階段。 如以上述’上述光罩1定位於上述對正平台之上， 且在光源單元6之上，上述光罩丨的設計即能將D圖樣藉由上 述光源6的光投射及轉換到印刷電路板w。 順帶一提，上述光源6有一放射區域大小和上述光罩1 相近。 41 517177 五、發明說明（4) CCD攝影機5則分別置於上述光罩1之兩邊上方，以施 行上述光罩1和位於上述對正乎台5 〇的上述印刷電路版w之 定位偵測，而能夠對正位置。 上述對正平台50，上述印別電路版W，上述光罩1，上 述CCD相機5以及上述光源單元6皆垂直安置如圖1之實施例 所示，這並非限制，也就是上述這些裝置也可呈水平安 置’在這個例子中，上述對正平台5 0和上述印刷電路版w 則直立安置，故具有方便清潔的優點，也就是可避免灰塵 掉入上述印刷電路版W上。 上述印刷電路板W可任意劃分為數個曝光區塊，而在 上述實施例中，則劃分為A、b、C和D四區。上述光罩！具 有可轉換到每一區域的電路圖樣，上述電路圖樣則依序韓 換到上述各區域。 1付 一 f制單元8控制移動單元9快速移動上述對正平台， 也就是建構以移動上述印刷電路板w，一一 =光罩1在每個區域曝光完成後都會二區；有; 如第1圖所示，上械杏罢 當位置各別標示Μ、M，，萨著上"、f :私印刷電路板W在其適 向上移動上述對正平台50精者以上/移動單元9«、Y或Θ方 上述標示Μ、Μ，對正，因此上上返A、B、C和D區域中使 的對正完成。㈤時，上述移動單H和上述印刷電路板W 印刷電路板w藉著Z方向移動=疋9此使上述光罩1和上述 以上所述由上述控制單元近或緊密接觸。 所執行的控制亦可為一定

517177 五、發明說明（5) 位單元。 ^ 對應上述印刷電路板W上之上述劃分區域，上述印刷 電路板w在每一劃分區域處些被上述吸附單元4所吸附，如 圖2所示，在本實施例中，上述吸附區域區分為“八、 45B—、45C和45D，故上述印刷電路板w在每個區域中都被吸 附著。

上述吸附單元4和吸口 40，吸室41，開關閥42，吸力 I浦43和上述控制單元44所構成，上述吸口4〇，和上述吸 室41連通，、在上述對正平台5〇上表面開口，以吸附印刷電 路板W上述吸至為複數對應上述吸附區域45A、45B、45C ί 4卜5Df 述封吸至4U、41B、4K和41D透過上述開關閥42 幫浦43連接，藉著開關上述開關閥42，上述吸 ::::部4=被選擇性的吸附，因而達成每個吸 元心=:=8上互述動控.=所广上述控制單 進行曝光的區域。 &成上核附區域對應至 藉著這個構造，即使上述印刷 變，吸附僅要被 路板W有扭曲或形 是右η :? 因& ’正吸附在維持直h 疋有可&的’使在保持上述 ^工下 確的曝光是可能的。 格极w的千整而貫行準 、，附帶一提地’在接下來的移動和定位步 正：和上述光罩可以相對的移動，即可僅移動上述對 正平口5°如實施例所示’或是僅移動上述光罩Γ同時迷對

五、發明說明（6) 亦可以為上述光罩丨和 構，更進一步，例如，述對正平台5〇的移動提供一架 Z方向移動時，可在 述對正平台50在上述光罩以θ和 % . 乃 移 ^^7。 同日守，雖然上述對正平 動和對正，如以上今 υ π叶為精確移動如步進移 平台。 明’步進移動和對正可設計成不同的 上述標示Μ和Μ ’的對正 ώ 的確認可由操作員作目’上述CCD攝影機確認、，這樣 用電腦做影像辨識如本每確，或由影像處理單元7利 同時控制上述對正平A⑪例所不。在這個例子中，可以 附帶-提地，上：CCD的動旦作從而完整地自動對正。 隨著被對正的區域而被 十為可動式’也就是 響曝光。 移動且在元成對正後，縮回以不影 要求在上述光罩1移動 也和上述光罩卜起移動之别所述時，上述⑽攝影機. α ί #述、°構中，上述控制單元8控制上述移動單元9 , 之雷政me B、C和β的曝光，因而將上述光罩 ，電4路乂樣印刷至上述A、B、C和D區域。同時，上述= =^之上述控制單元44控制上述開關閥42，在上述吸 品知、對應曝光區域處，吸住上述印刷電路板冗，並 这 那就是，首先上述移動裝置9高速移動上述對正 50以定位上述區域人到上述光罩】下，同時，上述控制單' 44吸住上述吸附區域45A，接著，上述CCD攝影機5移動至70 印刷電路板W和上述對正平台5〇緊密的接觸。 34

517177 五、發明說明（7) 上述標示Μ、M’以執行上述區域A的對正，因為這樣，就算 上述印刷電路板W有扭曲或形變，可保障上述印刷電路板w 的平整。 、完成上述區域A的對正，在上述區域A中執行曝光，因 為上述印刷電路板W維持平整，曝光被精確的完成。 以上所述之操作，依序重覆在上述區域Α、β、c和〇中 執行定位和對正’以完成上述所有區域的曝光。 另外’在第3圖中’上述光μ利用被吸附在玻璃板2 下側的薄膜光罩，即上述光罩被利用流量口 32，流旦 33，空氣開關閥30和真空源31所吸附固定，並由黏二二 進一步固定。 ，▼ 附帶一提，上述玻璃板2可由其他透明的材料所 構，如acryl，也就是一種材料可傳播由上述光 上述玻璃板2所投射的光。 ’、早自 在上述結構中，一印刷電路板W放置在上述對 50 ^，如之前所述，一既定第一區域被定位至對十應於口 $罩1之區域，從而執行對正’在此時， γ連 吸附區域45對應於上述區域處。 Α為上述 接著，上述對正平台50上升至緊密和靠 :電路板W，對著上述光罩！。在這個狀態 妾：=印 =2上之上述光源單元6發射之光傳到上述 远破續 ，至上述印刷電路板w上。因為 之圖案， «已精準明•地對正，边印刷電路 而曝光。 丨罪近接觸，错由極精準對正

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517177 圖式簡單說明 第1圖為立體圖，顯現本發明的一實施例。 第2圖為平面圖，說明本發明的一實施例。 第3圖為正視圖，說明本發明的一實施例。 符號說明： 2〜玻璃板 5〜CCD攝影機 7〜影像處理單元 9〜移動單元 3 0〜空氣開關閥 3 2〜流量口 40〜吸口 4 3〜吸力幫浦 5 0〜對正平台 Μ、M,〜標示 1〜光罩 3、4〜吸附單元 6〜光源单元 8〜控制單元 1 0〜黏膠帶 3 1〜真空源 33〜流量槽 42〜開關閥 44〜控制單元 W〜印刷電路板 41 、 41Α 、 41Β 、 41C 、 41D〜吸室 45 、45A 、45B 、45C 、45D〜吸附區域 〇

2099-4546-Pfn.ptd 第12頁

Claims (1)

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   1 · 一種對正裝置，包括： 一底座，以放置將被曝光之基板 -吸附單元，以吸附上述將被曝光：i板=述底座 上，上述吸附單元僅能吸附上述將被曝光基板之某一部 2·如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述對正 裝置可將上述將被曝光基板之部分被光曝光，上述吸附單 元僅可吸上述將被曝光基板之要被曝光部分。 3· —種對正裝置，包括： 一底座，以放置將被曝光之基板於其上； 、一光罩，具有一既定之圖樣以投射至位於上述底座之 上述將被曝光基板上’且將接觸或靠近上述將被曝光基 一移動單70，以移動至少一個上述光罩和上述底座上 改變並設定上述二者之想對定位關係； 源單位，發射光以投射上述光罩上之圖樣至位力 上述底座之上述將被曝光基板上； 、+、收=^單兀，以對正上述光罩和上述將被曝光基板4 上述將被曝光基板之任意區域中；

   吸附單元，以在每個對應於上述底座上任意區域 吸附上述將被曝光基板；以 控制單元，以控制上述移動單元，上述對正單元， 單位，使上述將被曝光基板在上述底座上之每 區域處被吸附，以及之後對正並曝光

   2099-4546-Pfn.ptd 第13頁 六、申請專利範圍 垂直m請專利範圍第3項所述之裝置，其中上述光罩 直疋位在上述將被曝光基板上。 5如申請專利範圍第3項所述之裝置， 和上述將被曝光基板具有空隙的定位在近水平中方上：。先罩 6· 一種對正裝置，包括： :底座’以放置將被曝光之基板於其上； 上述ϋϊΐ丄具有一既定之圖案以投射至位於上述底座之 一被·^、光基板上，且將接觸上述將被曝光基板； 改變移動至少一個上述光罩且上述底座以 交f二疋上述二者之想對定位關係； 上述:ί?單位’以發射光以投射接觸在上述曝光基板的 先罩上之圖案至位上述將被曝光基板上； 意區i對正單元’以對正上述光罩接觸上述曝光基板之任 一吸附單元，僅吸附位於上述底座上 基板：上述光罩接觸之區域；以1 4將被曝先 =控制單元，以控制上述移動單元，上述對正星分， ，上述光源單位，使上述將被曝光基板在上述底备 個區域處被吸附，以及之後對正並曝光。-之母 7·如申請專利範圍第6項所述之裝置，其中 垂直定位在上述將被曝光基板上。 迖先罩 8 ·如申請專利範圍第6項所述之裝置，其中上 和上述將被曝光基板具有空隙的定位在近水平方向。