JPS58219735A - ステップアンドリピート方式のプロキシミティ露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウェハ等の薄板の露光部をステップアンドリピ
ートにマスク位置まで繰返し移動せしめると共に、上記
薄板の露光部のみを支承し露光部とマスクとの位置調整
と微少間隙調整をして露光する薄板の絽光方法と装置に
関する。

従来よシ、シリコンウェハ、バブルウェハ、セラミック
基板およびプリント基板等の薄板を露光するには、上記
薄板とこれに微少間隙を距てて相対向して設けられたマ
スクとの相対位置を調整すると共に、これ等の平坦度を
棟出し、上記微少間隙を均一にすべく調整することが必
要とされていた。しかし、これ等の調整装置は複雑かつ
大掛シのものとなシ、装置が大形かつ高価のものとなシ
作粟効率の面でも問題があ択かつ、高速、高粉度の露光
が１癲であった。

すなわち、第１図に示す如く、マスク２とウェハ等の薄
板４　（以下ウェハと称呼する）とは、相対向して平行
に設けられ、ウェハ４は変形チャックフに支承されてい
る。又、変形チャックフは■テーブル８に支承される。

マスク２のパターン２ａは複数個のアライメント検出器
３によって位置検出され、この検出信号かがテーブル８
等に入力され、ウェハ４の位置決めをする。

ウェハ４とマスク２とは微少間％ｙを距てて１己置され
ねばならないため、ウェハ４とマスク２とは、ウェハ平
坦度検出器５およびマスク平坦度検出器６によって平坦
度を測定し、後に説明する変形チャック１によって微少
間隙ｙの調整する必要がある。このためウェハ４とマス
ク２との平坦度を測定する大形の上記平坦度検出器へ６
が必要となるのみならず、ウェハ４の微少間隙１の＾整
の・だめの大形の変形チャック７等が必要とされる。ウ
ェハ４とマスク２の位置関係が決まシ微少間隙＾整が終
ると光源のＸ　＠　１によシウエハ番は露光される。

第２図に示す如く、点光源であるＸ線ｌＯＸ線ターゲッ
ト２２から発射したＸ線はマスク２のパターン２３をウ
エノＳ４上に転写する一７Ｅ、Ｘ線〃；傾斜角度βで入
射されるためや、上記の微少間隙！によυ、ウエノ１４
上には図示の如き＃丁け２４シフト２５および倍率誤差
３０が生ずる。従って、マスク２のパターン２３をウエ
ノ′−４に畠精匿に露光するためＫは、上記の如く微少
間隙！を均一にして、上記はけ２４、シフト２５および
倍率誤差３０を一定にする必要がある。

この微少間隙ｙを均一にするためには、変形チャック１
を上方側を開放した軸形状に形成せしめ、その上方側の
開放部にダイヤフラム式チャック部材２６を設け、この
上にウエノＳ４を乗せるか、ウエノＳ４で直接上記開放
部を閉止させて設けるかし、変形チャックフの箱内に多
数（１ｍのピエゾ素子２）を立設せしめ、ピエゾ素子２
フの先端側を変形チャックツ内に真空口Ａ　２９から尋
人された真空力によシダイヤフラム式チャック音β材２
６又はウエノＳ４の下面側に幽接せしめピエゾ素子２フ
を駆動回路２日に接続し、電圧を調整してピエゾ素子２
７を伸縮させ、これＫよってダイヤ７・ラム式チャック
部材２６等を変形させて行っていた。微少間隙１は１μ
ｍ緑幅のパターン２３の場合は１０１１μｍであシ、上
記ピエゾ素子２７の伸縮によって、任意の形状にウエノ
Ｓ４の表面を変形せしめ微少間隙！を均一にすることが
できる。

第３図に示す如く、上記のピエゾ素子２フはウェハ４に
対し均等間隔に、かつ密に配置されている。ピエゾ素子
２′７を密に配置するのは、一箇所のみの調整では微少
間隙を正確に調整し得ないためである。一方、仮にウェ
ハ４を４インチのものとし、ピエゾ素子２フを１０−／
、、間隔で配置しても約１０９個のものが必要となシ、
５インチのウェハ４に対しては１５３個のものが必要と
なる。

従って、これ等の多量のピエゾ素子２フを収納した変形
チャックフは重いものとなるのみならず多数のピエゾ素
子２７の保守管理が困難であシ、装置の信頼性が低下す
る欠点も生ずる。又、ピエゾ素子２フを伸縮させるには
それぞれのピエゾ素子２フに対応する駆動回路２日が必
要となり、必要とされる電圧も６００Ｖの高電圧である
ことがらｋｊｄ回路２日の小形化が望めず、重量、保守
管理、コード処理、信頼性の各面圧おいて問題が生じて
いた。

又、上記の如く、ウニ／）４をマスク２のノくターン位
置に位置決めするには、変形チャック７を移動せねばな
らず、ステップアンドリピートでこれを行うためには、
変形チャックフを高速かつ高精度に移動位置決めしなけ
れはならない。

従って大型かつ強力な沿テーブル８等のステージが必要
となシ装置が高価のものとなる。このだめ従来のもので
は、高速かつ、高札゛度の露光が困嬌とされていた。

本発明は上記の問題点を解決するために創案されたもの
であシ、その目日′ソは、小形、軽量で高速、かつ高精
度のステップアンドリピートの露光ができる薄板の露光
方法と装置を提供することにある。

本発明は上記の目的を達成するために、ウェハ等の薄板
をステップアンドリピート装ｋに着脱自在に保持し、こ
れをマスク位置に移動せしめると共に、上記薄板の露光
部のみを着脱自在に支持し、該露光部とマスクとの位置
調整およびその微少間隙調整をして該露光部のみを露光
し、これをステップアンドリピートに繰返して薄板全体
を露光する薄板の露光方法を特徴とすると共に、上記薄
板をマスクに相対向させて着脱自在に保持する保持装置
と、この保持装置をマスク位置に移動せしめるステップ
アンドリピート装置と、上記マスクと相対向する位置に
設けられ、薄板の露光部のみを密接支持し、これを上記
微少間隙の広狭する方向に移動する変形チャック装置と
、この変形チャック装置を支ホし、上記露光部をマスク
位置に微細位置決めするアライメント装置と、変形チャ
ック装置およびアライメント装置等の位置を検出する検
出装置と、これ等の制御装置等から構成される薄板の露
光装置を特徴とするものである。

以下、本発明の好適実施例を添付図面に基づき説明する
０ まず、第４図および第５図によシ芙施例の概　。

要を説明する。露光装置８０の保持装置８１はリング状
部材５５および真空ポンプ５７等から構成され、ウェハ
４はリング状部材５５に真空吸着される。この保持装置
８１はステップアンドリピート装置８２に載置され示矢
ｘ　−ｘ’力方向よびＹ　−Ｙ’力方向送られる。ウエ
ノ・４は２点鎖線５１で示す如く、１２箇所の露光部か
らなシ、マスク２は定位置に設けられている。このため
、ウエノ・４の各露光部は上記のステップアンドリピー
ト装置８２によシ、マスク２の位置にステップアンドリ
ピートに位置決めされる０ マスク２に相対向して変形チャック装置８３が・設けら
れている。この変形チャック帽ｈ３は、後詳しく説明す
るが、変形チャック６４とピエゾ素子２’ｌ’４１とか
ら構成されこの変形チャック装置８３に。

より、マスク２の位置に移動された露光部の１つが吸着
保持される。そして、マスク２との微少間隙ダの調整は
ピエゾ素子２フによシ行われる。

変形チャック装置８３はアライメント装置８４によシ支
承される。アライメント装置８４は微動Ｍ′ス　　−テ
ーツ５２、傾斜ステージ６２、Ｚステージ６３等から構
成され、ウェハ４の上記露光部のＸ、　Ｙ、　Ｚ方向の
位置調整をする。検知装置８５はＭ′力方向反射ミラー
６１．レーザ測長器フＯおよび図示していないウェハ４
およびマスク２の平坦度測定器等から構成され、これ等
の検知信号によってアライメント装置８４および変形チ
ャック装置８３が動作される。制御装置８６は第１のコ
ントローラ６５と第２のコントローラ６６と全体のコン
トローラ６１等から構成され上記の各装置を制御する。

上記の如く、ウエノ・４がその露光部ごとに保持され、
保持されｆｃ蕗元部とマスク２間において、位置調整や
微少間隙調整がなされるため、高精度、かつ高速の露光
ができるのみならず、変形チャック装置８３、アライメ
ント装置８４等がすべて小形、軽量となシ、取扱い易く
安価となると共に装置の信頼性が向上する。

以下、実施例を更に詳しく説明する。

第４図および第５図に示す如く、保持装置８１のリング
状部材５５はマスク２を囲繞する環状体から形成され、
その周縁部でウェハ４の有効面積外の外周綾部を把持し
、ウェハ４をマスク２と相対向して平行に保持する。リ
ング状部材５５の周縁部の一部には切欠部５５αが形成
され、ウェハ４の取付を容易にしている。又、リング状
部材５５のウェハ４と保持する周縁部側には、リングチ
ャック部５６が刻設されている。又、リング状部材５５
のダ周部には、その法線方向に延出する部材５４が設け
られ、部材５４にはホース７１を介して真空ポンプ５フ
が連結されている。そして、部材５４内に列設された通
路を介し、リングチャック部６６と真空ポンプ５フは連
通ずる。

ステップアンドリピート装置８２はステップアンドリピ
ート用Ｙステージ８２α（以下Ｙステージと称呼する）
　とステップアンドリピート用Ｘステージ（８２ｂ）　
　（以下Ｘステージと称呼、する）とから構成される。

Ｙステージ８２αは保持装置８１の部材５４を示矢Ｙ　
−Ｙｒ力方向摺動自在に載置するガイド部Ａ　５３αと
、部材５４に螺合する送シネジＡ８フαと、この送シネ
ジＡ８フａを駆動するステップモータＡ　５８α等から
構成されている。

又、Ｘステージ８２ｈは、Ｙステージ８２αを示矢Ｘ　
−Ｘ一方向に摺動自在に載置するガイド部Ｂ８７Ａと、
Ｙステージ８２αに螺合する送シネジＢ　８７Ａと、こ
の送シネジＢ８フｂを駆動するステップモータＢ　５８
ｈ等とから構成されている。そして、Ｘステージ８２ｂ
は基台６日に支承されている。保持装置８１に把持され
たウェハ４は、ステップアンドリピート装置８２に、よ
り、マスク２の結党位置まで運ばれると共に１その位置
でステップアンドリピートし、露光部の位置決めをする
。そのステップアンドリピートの精度は例へはストロー
ク２０″′／！で土０．０５Ｗ／ｎ以下である。なお、
ステップモータＡ　５８αとステップモータＢ　５８Ａ
は共に第２のコントローラ６６に係合している。

次に、変形チャック装置８３はマスク２に相対向して設
けられ、その中心位置をマスク２の中心露光位置Ｐと一
致せしめている。第６図に示す如く、変形チャック装置
８３はマスク２側を開放した箱体６４と、箱体６４内に
等間隔に多数個立設されたピエゾ素子２７と、ピエゾ素
子２７に支持されると共に、箱体６４の開放口を閉止し
て支、持されるダイヤフラム式チャック部材２６と、ピ
エゾ素子２フのそれぞれに接続する駆動回路２８等とか
ら構成される。箱体６４には、真空口Ａ　２９、真空口
Ｂ　１１２が形成され、それぞれ図示しない真空源と連
通している。真空口Ａ　２９によシ箱体６４内は真空と
され、ダイヤスラム式チャック部材２６をピエゾ素子２
フに密接せしめる。真空口Ｂ　１１２はダイヤフラム式
チャック部材２６のウェハ４と係合する側に形成された
溝部２６ａとホース８日を介して連通している。従って
、ウェハ４はダイヤフラム式チャック部材２６に吸着さ
れる。なお明示していないが、変形チャック装置８３は
第１のコント四−２６５と係合している。

次に７ライメント装置８４は第６図に詳細に示す如く、
基台６８上に支承される微動■ステージ５２と、この微
動庁ステージ５２に支承される傾斜ステージ６２兼Ｚス
テー２６３等とから構成されん微動Ｘステージ５２ｂは
、部材間に跨設された平行板バネ１１０と、上記部材を
上記Ｘ　−Ｘ＝力方向移動せしめるピエゾ素子Ｉｌｌと
からｈ成される。

微動Ｙステージ５２αは、微動Ｘステージ５２Ａの上記
部材托支承され、同様に部材間に跨設された平行板バネ
１１０と、上記部材を上記Ｙ　−Ｙ’力方向移動せしめ
るピエゾ素子Ｉｌ１等とから構成されている。又、傾斜
ステージ６２兼Ｚステージ６３は、微動Ｙステージ５２
αに支承され、部材間に跨設された複数個のピエゾ素子
１１１から構成され、ピエゾ素子Ｉｌｌの示矢Ｚ　−Ｚ
’力方向伸縮によシ、上記部材をＺ−２１方向に移動さ
せると共に部材をＸ　−Ｘ′軸又はＹ　−Ｙ′軸まわシ
に回動せしめるようにしている。そして、上記部材には
上記の変形チャック装置８３が載置されている。

従って、変形チャック装置８３のダイヤフラム式チャッ
ク部材２６に吸着保持されたウェハ４は、Ｘ−Ｘｌ５Ｙ
−、：ＹＩおよびｚ−ｙ、方向等に粗動および微動しう
ろことＫなる。なお、明示していないが、アライメント
装置８４のピエゾ素子１１も駆動回路２８Ｋｍ続してい
ると共に第１のコントロール６５に係合している。

検知製置８５のレーザ反射ミラー６ユは、微動Ｍ′ステ
ージ５２に取付けられ、レーザ測長機７ｏによってＸ　
−Ｘ′方向、Ｙ　−Ｙ′方向の調整量を検知する。又、
明示していないが、ウェハ４およびマスク２の平坦度は
それぞれの平坦度測定器によって、Ｚ−ｚ′方向、およ
び回転方向の調整量が検知される。又、検知装置８５も
第１のコントローラ６５に係合している。

制御装置８６は上記したそれぞれの装置を制御する兜ｌ
および第２のコントローラ６ａ、　６６と、これ等を全
体的に制御する全体のコントローラ６７とから構成され
る。

次に、本実施例の作用について説明する。

まず、第γ図α々いしルア図１にょシステップアンドリ
ピート装置８２にょるウェハ４の動きを説明する。上記
の如く、ウェハ４の露光部は２点鎖線５１で示す如く、
１２個所に区分される。

まづ、第７図αに示すように、マスク２ばその中心の露
光位置Ｐに設けられ、ウェハ４はその中心をロードアン
ドロード位置Ｍに保持装置８１に把持されて位置づけら
れる。次に第１図すに示す如く、第１番目のウェイ１４
の無元部４αの位置がマスク２の露光位置Ｐの位置にス
テップアンドリピート装置８２によシ移動位置決めされ
る。

ここで第１軒目の無元部４ａのｋｙｔ、が終了した後、
第１図Ｃに示す如く、第２番目の無元部４ｂが上記無光
位置Ｐの様に同じくステップアンドリピート装置８２に
より位置決めされ露光される。引続き、第７図ｄに示す
如く、第３番目のｈ元部４Ｃが４元され、同様のことを
繰返し、第７図１に示すタロ＜、第１２番目の無元部４
１が露光を終了する。ぞして、再び、第フ図αの目−ド
アンドロード位置Ｍに戻シ、ウェハ４の全露光を終了す
る。　　　　　山 次に第８図に示すごとく、ウェハ４は変形チャック装置
３３のダイヤフラム式チャック部材２６によシ吸着され
るが、ウェハ４の外周側に近い無元部を露光するｉｔに
は、ダイヤスラム式チャック部利２６の一部がウェハ４
の外周側からはみ出す揚台がある。このため、ダイヤフ
ラム式チャック部材２６に形成されたｈ部２６αはパタ
ーン１２０の如く、いくつかに区割シされそれぞれ真空
源に連通されるようにされている。従って、真空作用を
するパターン１２０を選定することによシ、効果的にウ
ェハ４の吸溝ができる。

次に第９図に本実施例の露光作用のシーケンスを示す。

以下のシーケンスは制御装置８６によ多制御される。シ
ーケンス第号（以下番号と称呼する＞　９０はウェハ４
のローデングを示す。ウェハ４は保持装置８１のリング
状部材５５にその外周縁部を係合させ、真空ポンプ５７
によシリングチャック５６に吸着把持され、ステップア
ンドリピート装置８２１Ｃよシ、ウェハ４の第１會目の
無元部４αを上記のロードプントロード位％Ｈに位置決
めする。番号９１は変形チャック装置８３の下降位置決
め確認を示す。変形チャック装置８３はアライメント装
置８４のＺステージ６３によるＺ方向の移動によ９１０
０２ｍ下降した位置に位置決めされているので、これを
確認する。番号９２はウェハ４の第Ｘｉ目の無元部４ａ
の位置決めを示す。

扼１番目の無元部４αがステップアンドリピート装置８
２によシ、マスク２の上記路光位置Ｐの最下に位置決め
される。この状態では、ウェハ４と変形チャック装置８
３とは接触していない。番号９３は変形チャック装置８
３の上昇位置決めを示す。変形チャック装置８３はＺス
テージ６３によシその下降位置よシ１００μｍ上昇する
。番号９４はウェハ４の吸着を示す。変形チャック装置
８３のダイヤフラム式チャック部材２６がウェハ４の露
光部４αを吸着する。昔号９５はウェハ４のアンｐ−デ
ングを示す。露光部４αが吸着された状態で、保持装置
８１のリングチャック部５６による吸着を開放する。

番号９６はウェハの間隙調整を示す。ウェハ４の露光部
４ｃＬおよびマスクの平坦度が平坦度検出器によって検
出され、その結果に基つき、露光部４ａが変形チャック
装置８３内のピエゾ素子２７の伸縮によシ変形される。

番号９）はウェハの７ライメント調整を示す。アライメ
ント調整は、番号９９のアライメント検出査９９９の判
定２＞＝らなり、アライメントがｌ’ｇ　ｚならば番号
１０１のＭ４元に進方、Ｎｏならば番号１００の微動調
整に進む０アライメントの調整は、露光部４αの位置を
検出装置８５のレザー反射ミラー６１によシ検出し、ア
ライメント装置８４のピエゾ素子１１１の電圧１１１Ｊ
御による伸縮によシ平行板ノ（ネ１１０を動７！ｌ為し
て行う。

番号９９の判定は、検出値が許容値（０，１μｍ）以内
にあれはＹｅｓとし、以上のときはＮＯとして行う。ア
ライメント調整時には、ウニノＳ４力；保持装置８１等
の拘束をうけないようにＺステージ６３を約２０ｆｉｍ
はど下降せしめることも行われる。番号１０２保持装置
８１のリングチャック部５６によるウニノ・４の再把持
を示す。ウニノ・４の外周縁部が真空ポンプ５フの作用
によりリンク゛チャック５６によシ把持される。番号１
０３は変形チャック装置８３のウニノ＼吸着解除を示す
。変形チャック装置ｋ８３の真空口Ｂ１１２からの真空
力を解除し、ウェハ４の露光部４αの吸着を解除する。

番号１０４は変形チャック装置８３の下降を示す。変形
チャック装置８３は１００μｍ下降し、上記の缶号９１
に対応する。番号１０５は変形チャック装置８３および
アライメント装置８４等の厚意復帰を示す。アライメン
ト装Ｒ８４等のピエゾ素子Ｉｌ１等はすべて　　゛原点
に復帰し、次の露光部に備える。番号１０６は全露光確
認を示す。ウェハ４のｈ元部のすべての露光が完了した
かどうかを確認し、’５１ｇのときは１号１０７のウェ
ハのアンローデングに進み、Ｎｏのときは番号９２１Ｃ
戻シ、上記と同様のシーケンスを繰返し行う。番号１０
７にて、ウェハ４は保持装置８１から開放される。以上
によシ全シーケンスが終了する。

上記において、第１番目の露光部４ｚと第２番目以降の
露光部４ｂないし４Ｉ！との相、違は次の点となる。す
なわち、第１番目の露光部４αは、ウェハ４のローデン
グの位置Ｍからマスク２の露光位置Ｐまで運はれるため
、ウェハ４を保持装置８１に把持する場合の誤差や、上
記移動による位置誤差等が加算されるため、アライメン
トすべき量が大きく１００μ扉ないし５００μ扉となる
のに対し、第２番目以降のものは、１度番号９７でアラ
イメントされているため、変形チャック装置８３と保持
装置８１間のウニノ・番の受渡しによる位置誤差と、露
光部間の移動誤差によるもののみとなるので、アライメ
ントすべき量は１０μｍないし１００μ扉と小さくてす
む点である０ 第１０図および第１１図は別の実施例を表示するＣ図に
おいて、第４図および第５図と同一符号のものは同−物
又は同一機能のものを示す。

本実施例では保持装置８１が主として上記実施例と異な
るもので、ウニノ・４を直接保持しないように形成され
、ウニノ１４の汚れを防止する効果を有するものである
。

すなわち、上記実施例と同様にリング状部材１３１はマ
′スク２を囲繞する環状体かち形成されその内周はウニ
ノＳ４の外周よシ大きく形成されている。このリング状
部材１３１０周縁部でウェハ４よシも大きな外周を有す
るダイヤフラム部材１３０の外周縁部を把持するようＫ
している。

リング状部材１３１には真空ポンプ５７と連通ずるリン
グチャック５６が形成されこれによシダイヤフラム部材
１３０は吸着把持される。

ウェハ４はダイヤフラム部材１３０上に載置される。従
って、この状態では・ウニノ）４は可動し得る状態にお
かれる。ウニノー４はダイヤフラム部材１３０に載置さ
れたまま、上記の如くマスク２の露光位置Ｐまでステッ
プアンドリピート装置８２によシ運ばれ、ここで、第１
番目の露光部４９が変形チャック装置８３によりダイヤ
フラム部材１３０を介在させて吸着保持される。ダイヤ
フラム部材１３０は可焼体のためウニノＳ４の露光部４
αは変形チャック装置８３に確実に保持される。

以下、上記と同様のシーケンスによシウニノ１４の露光
が行われる。この場合、上記実施例と異々υ、変形チャ
ック装置８３および保持装置８１によシウニノＳ４は直
接把持されないため、ウェハ４とこれ等の装置間に摩擦
や接触がなくなシ、ウェハ４を清浄に保つことができる
。

次に、上記２つの実施例の効果について説明する。

従来技術では第１図に示した如く、ウェハ４を変形チャ
ックフに載せ、これをマスク２の露光位置に移動するた
め、その移動および調整手段が大損シになるのに反し、
本実施例では餘九部のみを把持し、調整するようにして
いるためウェハ４のチャック部は／、。以下の大きさと
なり、軽量、かつ剛性の高いものとなる。又、アライメ
ント装置も、従来に比べて１１５以下のものとなシ、軽
量となるのみならず、高精度の調整が可能となる。又、
ステップアンドリピート装置も、ウェハ４のみを把持し
、これをマスクの露光位置まで移動させればよく、従来
に比べ１／□。。以下の重量となシ、極めて軽量、かつ
安価のものとなシ、かつ、ウェハ４を高速度で露光位置
に移動できる。

災、従来、ウェハ４の位置決め検出には、ステップアン
ドリピートの全ストロークをカバーするため１００ｍＬ
／ｍ以上の長さをもつレザー反射ミラーを用い、レザー
測長器によシ行っていた。

このため、レザー反射ミラーは露光部から離れた所に設
けら′れ、高精度の伸出が困難であった。

本実施例では、レーザ反射ミラー６１は微動Ｍ′ステー
ジ５２に直接取付けられ、微動Ｍ′ステージ５２による
調整ストロークも１１ｒＬ／／ｒｎ以内と極めて小きい
ため、小形のレーザ反射ミラー６１又はコーナキューブ
式反射ミラーで充分であυ、かつ、露光部の近くに設け
られるため、高精度の位置決めが可能となる。

上記のことから、小形、軽量で、高精度、高速度の効果
が上げられる。

次にウェハの変形チャックに用いられるピエゾ素子の数
量についての従来技術との比較を説明する。

今、従来方式によるピエゾ素子の数をＮとし本実施例に
よるものをＮｌとするとこれ等は下式で表示される。

２ Ｎ　　＝　（７）　Ｘ　Ｓ＋α ２ Ｎ’　　＝　　（−；　＋　３） ここで、Ｐはピエゾ素子のピッチ、Ｈはマスクの大きさ
、Ｓはステップアンドリピート回数αはマスクの周辺部
のピエゾ素子の数を示す。

ピエゾ素子ＮおよびＮ＝はＳに対応し第１表の如くなる
。

上記から、露光部を１２箇所としＳを１２とすると、ピ
エゾ素子は８０個も削減されシ、以下のコストとなる。

なお、絹１２図（φ〜（４に示す・は＃ＡＯを内ドライ
バ、０は周辺ドライバである。

以上の２つの実施例において、変形チャック装置８２３
にダイヤフラム式チャック部材２６を用いたが勿論これ
に限定するのでなく、ウェハ４面を区割して変形制御で
きるものであればよい。

又、変形が不要ならば、通常のチャックでもよい。又、
ステップアンドリピート装置のね度が良けれは、アライ
メント装置の微動Ｍ′ステージ５２を除去してもよい。

又、ステップアンドリピート装置のＸおよびＹステージ
（８２ｈ、　８２α）の移動はステップモータＢ（５ｓ
、６）ステップモータＡ（５８α）に限定せず、リニア
モータでもよく、電気式でなく油気圧式のものであって
もよい。又、上記微動Ｍ′ステージ（５２）も、電磁力
を応用したもの、圧力を応用したもの、テコ式％式％ 以上の説明によって明らかの如く、本発明によれば、高
速かつ高精度のウェハの露光ができると共に１小形、軽
量の装置で露光できるので安価となる効果を上げること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のウェハ等を露光するＸ線アライナの主要
構成を示す斜視図、第２図はその変形チャックのまわシ
を示す断面図、第３図は変形チャックのピエゾ素子の配
列を示す説明図、第４図は本発明一実施例の構成を示す
正面図、第５図はその平面図、第６図は一実施例の変形
チャック装置、アライメント装置を説明する部分構成図
、第１図（４ないし第１図（４は一実施例におけるウェ
ハの露光部の移動状態を説明する説明図、第８図はウェ
ハと変形チャック装置との保合状態を説明する部分正面
図、第９図は一実施例の作用を説明するシーケンス図、
第１０図は本発明の別の実施例の構成を示す正面図、第
１１図はその平面図、第１２図（→〜（φは従来のドラ
イバの配置を示した図、第１２図（補は本発明によるド
ライバの配置を示した図である。 ２・・・マスク、　４・・・ウェハ、２６・・・ダイヤ
フラム式チャック部材、２’７．１１１・・・ピエゾ素
子、ジ ２８・・・駆動回路、２９・・・真空口Ａ１５２・・・
微動がステージ、Ｑ１３１・・・リングチャック部材、
５フ・・・真空ポンプ、６１＝レザ一反射ミラー、６２
・・・傾斜ステージ、６３・・・Ｚステージ、６４・・
・１Ｍ体、６５・・・第１のコントローラ、６６・・・
第２のコントローラ、６日・・・３台、７０・・・Ｌ／
ｆ−測長器、８０・・・露光装置、８１・・・保持装置
、８２・・・ステップアンドリピート装置、８３・・・
変形チャック装置、８４・・・アラ、イメント装置、８
５・・・検出装置、８６・・・制御装置、１１ｏ・・・
平行板バネ、　　ｌユ２・・・真空口Ｂ１　　ユ３ユ用
タ゛イヤフラム部材。 昌　　　− （：＋″″ 代理人弁理士　薄　１）洞ｊ！、・ 才　　　１　　　図 ！ 才　　　２　　配 ｆ′ 才　　３　　図 ′２　４　　図 ０ 才　　ざ　図 Ｒθ ７　　ｂ　　図 才　　７　図 ｆ　８　　図 才　　′１　　図 才　　７０　図 ６’／ 才　　　１１　　　図 才　１２　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　複数個に区分された露光部を有するウェハ等の薄
   板をステップアンドリピート方式で移動させて、上記薄
   板の露光部をマスク位置に一致、　　せしめ、薄板とマ
   スクとを微少間隙を距てて相対向させ、上記微少間隙を
   調整し、Ｘ線光４ＮＣより薄板を露光する薄板の露光方
   法において、上記マスク位置を固定し、上記ウェハをス
   テップアンドリピート装置に看過自在に保持せしめ上記
   ウェハの露光部を上記マスク位置に移動すると共に上記
   露光部を、上記マスクに相対向して設けられた変形チャ
   ック装置およびアライメント装置等によシ保持し、上記
   露光２謝Ｓと上記マスクとの位置および上記微少間隙を
   調整し、上記露光部を露光し、上記薄板をステップアン
   ドリヒートしてすべての露光部を露光するようにしたこ
   とを％徴とする薄板の路光方法。 ２、　複数個に区分された露光部を有するウェハ等の薄
   板をステップアンドリピート方式で移動させて、上記薄
   板の総光部をマスク位置に一致せしめ、薄板とマスクと
   を微少間隙を距てて相対向させ、上記微少ｎＩＪｔａｘ
   　ｔ　ｗ＊整し、Ｘ線等にょシ薄板を露光する薄板の露
   ｙｔ、装置において、上記薄板を上記マスクに相対向せ
   しめ、これを漸脱自在に保持する保持装置と、該保持装
   置に係合し、上記薄板を上記マスク位置にステップアン
   ドリピートに移動せしめるステップアンドリピート装置
   と、上記マスクに相対向して設けられ、上記薄板の上記
   露光部を保持すると共に、上記露光部を上記微少間隙を
   広狭する方向に移動１整する変形チャック装置と、該変
   形チャック装置を支承すると共に、上記薄板の上記露光
   部を上記マスク位置に微細位ｆｋ＋：決め調整するアラ
   イメント装置と、上記変形チャック装置と７ライメント
   装置の調整証を検出する検出装置と、上記の各装置に係
   合し、これ等を制御する制御装置とを備えることを特徴
   とする薄板の旙元装置。 ３、　上記薄板を、可撓部材上に設け、上記薄板を上記
   可焼部材を介在して上記保持装置に層脱自在に保持する
   ようにしたことを特徴とする付Ｉｖｆ請求の範囲第２項
   記載の薄板の露光装置。