TW465006B - Wafer inspecting apparatus and wafer inspection method - Google Patents

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TW465006B TW088120787A TW88120787A TW465006B TW 465006 B TW465006 B TW 465006B TW 088120787 A TW088120787 A TW 088120787A TW 88120787 A TW88120787 A TW 88120787A TW 465006 B TW465006 B TW 465006B
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Description

465006 經濟部智«.財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(!) 本發明所屬之技術領域: 本發明係有關於一種依目視而可作晶圓之宏觀檢查的 晶圓檢查裝置及晶圓檢查方法》 習知技藝: 素來,在晶園檢査裝置方面,係從有保持多數之晶圓 的晶圓保持趙取出所要之晶围’同時’將該所取出之晶圓 依目視可作宏觀檢查者’已於實用化。例如,有從保持多 數之晶圓的晶面保持體而依晶®取出/退回臂取出所要之 晶圓,並予供給至宏觀工作台上之同時,將所供給在工作 台上之晶圓背面的周緣部’依晶園保持臂作吸著保持而將 晶圓翻轉’以進行晶圓背面之觀察,其後,再度將其回復 至宏觀工作台上’並且’重新依晶圓取出/退回臂而予退 回至晶圓保持體之原來位置者。 但是,若依如是之晶圓檢査裝置’即,為進行晶圓表 裏面之宏觀檢查’乃將晶囲背面予以吸著保持在晶圓保持 臂,因此’在背面(反面)之宏觀檢查之時,由於依晶团保 持臂所吸著保持之部份乃被隱蔽,是故,無法作晶圓整面 之觀察,因此,乃有降低依宏觀之檢查精度。 本發明之目的 本發明因鑑於上述之實況而所進行者,係欲提供對於 晶圓整面可作宏觀檢查(全面總檢查)之晶圓檢查裝置及晶 圓檢查方法,為目的。 解決課題之本發明的裝置及方法: 本發明之第1發明’係具備從有保持多數晶圓之晶園 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2]0 X 297公爱) (請先JH讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-------Ί訂—------線- 4 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( 保持體取出所要之晶囡之用的晶圓搬送機構,予以載置依 前述晶圓搬送機構所取出之晶圓’並將該所載置之晶圓至 少亦予旋轉所定角度之用的晶圓載置機構,具有向前述晶 圊之中心方向延伸之多數的晶圓保持部,且將前述晶圓依 前述多數之晶圓保持部予以載置在前述晶圓載置機構之晶 圓的一方面作接觸保持,並為觀察該所保持之晶圓的一方 面之用而作反轉之晶圓保持機構,以及由前述晶圓保持機 構而使晶圓反轉之後,再度將晶圓載置在前述晶圓載置機 構’並且’將晶圓依前述晶圓載置機構予以旋轉所定角度 ’同時’使前述晶圓保持機構予以反轉之控制機構,為其 特徵之晶圓檢查裝置。 於此場合,前述晶圓保持機構之多數的晶圓保持部, 由於吸著前述晶圓而予保持亦可以* 又,前述控制機構,係將在前述晶圓载置機構所載置 之晶圓,以可獲得比前述晶圓保持部之寬度尺寸為較大的 移動量之旋轉角度予以旋轉。 且前述控制機構’係將載置在前述晶圊載置機構之晶 圓,於觀察前述之一方面時,予以旋轉為能予觀察由前述 多數之晶圓保持部所隱藏之讀域亦可以β 而前述晶圓載置機構為晶圊檢查裝置之中央工作台, 且前述控制機構乃欲予控制前述中央工作台之旋轉角度者 亦可以。 本發明之第2發明係,從保持多數之晶圓的晶固保持 體取出所要之晶圓,並將所取出之前述晶圓轉交至中央工 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)Ai規格(2]〇 X 297公爱)-------— _ --I----------裝----訂------- I _線 (請先閲讀背面之注*?項再填寫本頁) 5 00 6
經濟部智«.財產局員工消費合作社印製 作台,而將轉交至前述中央工作台之晶園依多數之晶圓保 持部予以接觸且保持在前述晶gj之背⑷面,為觀察該所 保持之晶圓乃將背面予以翻轉,將前述所反轉之晶圓回復 於表面之狀態下轉交至前述中央卫作台,由於旋轉前述中 央工作台乃將轉交至前述中央工作台之晶圓作所定角度之 旋轉,並將前述予以旋轉所定角度之晶圓,依前述多數之 晶圓保持部作接觸且保持於前述晶圓之背(反)面,以及為 觀察該所保持之晶圊之背面而作再度翻轉,為特徵之晶圆 檢查方法》 其結果,依據本發明,即,觀察由晶圓保持部所保持 之晶圓面之後,將該晶圓予以載置在晶圓載置機構’且予 方疋轉所疋角度並再度依晶圊保持機構而將晶圓作吸著保持 ,以進行晶圓面之觀察者,因此,可將被最初之晶阒保持 機構的保持所隱蔽之晶圓面,在以再度之晶圓保持機構之 保持之時能予露出,是故,對於晶圓整面能予進行無遺 之觀察。 又’依據本發明,因晶圓保持機構所隱蔽之未檢查領 域’由於能予露出在再度晶圓保持機構之近旁,因此,能 予谷易辨識該未檢查領域,羌故,能進行有良好效率之觀 察。 本發明之實施態樣: 以下’依照圖面說明本發明之一實施態樣。 第1圖係表示本發明所適用之晶圓檢查裝置的概略構 成°在圖上,I為晶圊搬送裝置本體,而該裝置本體!係具 中㈣家標準(CNS)A4規格<210 * 297公爱) ί請先《讀背面之注意事項再填寫本頁》 裝· I ! ] ---— 訂---------I . 6 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(4) 有將於後述之進行晶圓8之宏觀檢查的宏觀檢査部2及升降 機機構部10。鄰接於晶圓搬送裝置本體1乃予配置欲予進 行對所選擇供給之晶園8之微觀(微細)檢查的微觀檢查部3 。此場合,微觀檢查部3雖使用顯微鏡予以觀察晶圓8面,惟, 使用顯微鏡之微觀檢查部3為眾所知,於此乃予省略其詳細。 在宏觀檢查部2,晶圓保持體方面乃將多數之晶團8於 積層方向具有所定節距間隔所保持之卡盒4就載置在升降 機構10且以所定之節距可作上下動作。 在該宏觀檢查部2,對於卡盒4相對向設有作為晶圓搬 送機構之晶圓取出/退回臂5以及作為晶圊載置機構之中央 工作台6。晶圓取出/退回臂5係具有沿著對於卡盒(卡式盒 子)而未圖示之導向作前進及後退之直線移動機構,以及 在後退位置可在上下方向移動之上下移動機構。而其前進 於卡盒4方向且予吸著保持卡盒4内之晶圓8,同時,—邊 後退而一邊取出,並依在後退位置之下方向的移動而將晶 圓8轉交至中央工作台6上。又,吸著保持中央工作台6上 之晶圓8’同時’暫時移動至上方向而再前進於長盒4方向 ’使晶圓8退回至卡盒4内之一連貫性的動作》 - 中央工作台6 ’係吸著保'持所載置之晶圓8之同時,使 轉動動作及所定角度之旋轉動作均為可能。此場合,中央 工作台6以旋轉可能較為適宜,因於觀察載置在中央工作 台6之晶圓8的表面之時’能予旋轉晶圓8作整面總銳察(方 觀觀察)’並且’再以未圖示之操作機構之轉動動作可從 各種之角度能予觀察晶®8表面。又,中央工作台6之所Λ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格<210 X 297公釐) -------------裝-------I訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Α7 Β7
Λ65 0〇 〇 五、發明說明(5) 角度的旋轉’係於再度觀察背(反)面之時予以執行者,因 此,以將於後述之晶圓保持臂7之晶圓保持部π〕的宽度尺 寸為稍大之旋轉量,於此,就予控制為約度之旋轉量。 於再度檢查背面時之中央工作台6的旋轉量,即,控制為 於背面檢查時之未檢查領域(隱藏之部份)與晶園保持部 702不互相重疊之旋轉量就可以。 另方面,如同圍繞宏觀檢查部2之中央工作台6般,予 以配置作為晶圓保持機構之晶圃保持臂7 β該晶園保持臂7 ’係具有如在第2圖所示之成為圓弧狀的臂本體7〇1,以及 沿著該臂本體701之圓弧方向,以等間隔所設置之多數(於 圖示例為3支)的晶面保持部7〇2。該等晶圓保持部7〇2由於 具有所定之寬度尺寸,因此,延出至臂本體7〇1之圓弧的 中心方向,即,晶圓8之中心方向,同時’在前端部設有 使用空氣之吸著部703 ’及依該等吸著部703而將載置在中 央工作台6之晶圓8,從背面側(下側)作吸著保持。 而如是之晶圓保持臂7,乃由旋轉轴9支撐為轉動可能 ,且將旋轉軸9作為中心予以作所定角度轉動,就可將所 保持之晶圓8作翻面而使背面之覲察成為可能。 其次’予以說明如是之裱成的實施態樣之動作。 首先’在裝置本體丨之升降機構10設定有保持多數之 晶圓8的卡盒4。 於此狀態’操作宏觀檢查部2之操作盤11,並在宏觀 才吴悲'予以追加設定再度背面宏觀模態,就可由裝置本體】 内之控制部予以執行如在第3圖所示之流程•首先,於步 本紙張尺度適用中關家標翠(CNS)χ观公爱) ___—'—In! — — — 1^ ^ illi--Ί ^N-ulm! ^ ^ ΐ {請先閱讀背面之注意Ϋ項再填鸾本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印#,农 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 -------B7 _ 五、發明說明(6 ) 驟训,晶園取出/退回臂5就沿著未圖示之導向前進於卡 盒4方向,以保持卡盒4内之晶圓8之同時,就—邊後退而 將晶圓8取出至卡盒4外部。然後,移動至所定之後退位置 時,就以步驟302移動至下方向而將晶圓8轉交於中央工作 台6上。從此狀態而於步驟3〇3就依未圈示之操作機構使中 央工作台6作旋轉動作等,並予進行依目視作晶圓8表面之 宏觀觀察。 其後,於步驟304,依晶®保持臂7之晶圓保持部7〇2 前端的吸著部703,而從背面吸著保持晶固8。之後,於步 驟305,將晶圓保持臂7而以旋轉軸9作為中心作所定角度 轉動並將晶圓8予以翻面,進行依目視作晶圓8背面之宏觀 觀察。 其次,在步驟306進行有否必要作再度之背面觀察之 判斷。於此,係以使用者有設定再度背面宏觀模態作為前 提,因此,就進入步驟307之處理。 在步驟307,乃要判斷晶園8背面之宏觀檢查是否為第 2次,惟’此場合’由於為第!次,因此,就進入步驟3〇8 ,乃予解除在晶圓保持臂7之吸著而將晶圓8轉交於中央工 作台6上。之後,於步驟309 ;中央工作台6就僅旋轉所定 角度’然後’回復為步驟304,再度依晶圓保持臂7之晶圓 保持部702前端旳吸著部703 ’而將晶圓8從背面作吸著保 持。此場合,由於中央工作台6之所定角度的旋轉,使依 晶圓保持部702所吸著保持之晶圓8背面的未檢查領域,就 與最初之位置相異而變成如在第2®所示之虚線的場所》 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格⑵0 X 297公楚) , 裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填S本頁) 9 465006 經濟部智慧时產局員工消費合作社印製 A7 - —— B7 五、發明說明(7 ) 從此狀態下,於步驟305 ,使晶圓保持臂7予以轉動所 定角度並將晶圓8翻面,而再度進行依目視作晶圓8背面的 宏觀觀察。 其後於步驟307,若判斷為晶圓8背面之觀察乃第2 次(背面觀察已終了)時,即,於步驟31〇,就予解除於晶 圓保持臂7之吸著,而將轉交於中央工作台6上之晶圓8乃 由晶圓取出/退回臂5作保持,並暫時移動至上方向且向卡 盒4方向前進,而退回至卡盒4内之原來的位置。 如是之動作,於步驟311,對於長盒4内之所有的或所 指定之晶園8,反覆予以執行至判斷為宏觀檢査用之觀察 終了為止。 由於此’依據上述’即’由晶圓保持臂7之晶圓保持 部702前端而將晶圓8背面作吸著保持,且予第1次觀察晶 圓8背面之後’將晶圓8轉交於中央工作台6上,並將中央 工作台6僅予旋轉所定角度,再度依晶圓保持臂7之晶圓保 持部702前端而將晶圓8背面作吸著保持,予以進行第2次 之晶圓8背面的觀察’因此,可將依晶圓保持臂7所吸著保 持之晶圓8周緣部的部份,能予設定使第1次與第2次為相 異之處所。由於此’可將因索' 1次之晶圓保持部7〇2的吸著 保持而隱蔽之晶圓8背面’於第2次之晶圓保持部702的吸 著保持之時’能予露出之故,乃能對晶圓8整面進行無遺 漏之觀察’因此’能以飛躍性提高依宏觀所作之檢查精度 〇 又’中央工作台6能予控制為可獲得比晶圓保持臂7之 本纸張尺度適用中囤國家標準(CNS)A4規格(2】0 X 297公爱) ---一----------^裝----.---1 訂---------緣 * {請先《讀背面之注t事項再填寫本頁) 10 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 hi __ B7 一. - 五、發明說明(8 ) 晶圓的中心方向所延出之晶圓保持部702的寬度尺寸稍大 之移動量的旋轉角度,因此,可將未檢查領域能位於晶圓 保持部702之近旁位置,是故,能容易辨識未檢查領域, 乃能進行良好效率之觀察。 在上述之實施態樣’晶圓保持臂7乃針對依晶圓保持 部702前端的吸著部703,而從背面側將晶圓8周緣部予以 吸著保持者作敎述,惟,對從表面側而將晶圓8周旋部予 以吸著保持者亦能適用。又,晶圓保持臂7,以載置晶圓8 而予保持者亦可以。 如上述’依據本發明,即,將於最初之晶圓保持機構 的保持而所隱蔽之晶圓周緣部,於再度之晶圓保持機構的 保持之時’能使其露出,因此,對於晶圓整面能予進行無 遺漏之觀察’乃能以飛躍性提高依宏觀所作之檢查精度。 又’將因晶圆保持機構所隱蔽之未檢查領域,能予露 出在再度晶圓保持機構之近旁,因此*能容易辨識該未檢 查領域’是故’能進行良好效率之觀察。 本發明在產業上之利用可能性: 如上述’本發明有關之晶圓檢查裝置及晶圓檢查方法 ’乃適合於依目視作晶圓之龙觀檢查。 圖面之簡單說明: 第1圖係表示有關本發明一實施態樣之晶圓檢查裝置 〇 第2圖係表示於同一實施態樣上之晶圓檢查裝置的晶 圓保持臂。 本纸張&度適用中關家標規格⑵Q x 297公爱) — — — — — — — —ίιιι — 1 ' — — — — — I— — — — — — ί靖先閲讀背面之ii专?事項再填寫本頁) 11 5 00 6 A7 _B7 _ 五、發明說明(9 ) 第3圖係為說明同一實施態樣有關之晶圓檢查裝置的 動作之流程圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 元件標號對照 1…晶圓搬送裝置本體 2…宏觀檢查部 3…微觀檢查部 4…卡盒 5…晶圓取出/退回臂 6…中央工作台 7…晶圓保持臂 8…晶圓 9…旋轉轴 10…升降機構部 II…操作盤 301〜311…步驟順序 7〇卜··臂本體 702…晶圓保持部 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 703…吸著部 、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】0 X 297公釐) 12

Claims (1)

  1. 0Q 00 008 WBaD 絰濟部智慧財產局具工消費合作社印製 六、申請專利範圍 圓,於前述一方面之觀察時可將其旋轉為能觀察因前 述多數之晶圓保持部所隱蔽之領域。 5- 如申請專利範圍第1項之晶a檢查裝置,其中: 前述晶圓載置裝置,係晶圊檢查裝置之中央工作 台,而前述控制機構,係欲控制前述中央工作台之旋 轉角度。 6- —種晶圓檢查方法,其步驟含有: 取出晶圓,係從保持多數之晶圓的晶圓保持體, 取出所要之晶圓; 轉交晶圓’係將所取出之晶圓轉交於中央工作台 » 翻面BB園’係將轉交於前述中央工作台之晶園, 利用多數之晶圓保持部而接觸於前述晶圓之背(反)面 且保持,而欲觀察該所保持之晶圓的背面乃予反轉(翻 面); 轉交晶圓,係將前述所翻面之晶圓回復為於表面 之狀態下轉交於前述中央工作台; 紅轉晶圓’係由於旋轉前述中央工作台,乃使轉 交於前述中央工作台之晶圓旋轉所定角度;及 再度翻面晶圓,係將旋轉前述所定角度之晶囿, 依前述多數之晶圓保持部而接觸在前述晶囿之背面且 予保持,而欲觀察該所保持之晶圓的背面,乃再度使 其反轉(翻面)。 — — — — — — —---------I 11 訂--— — — — — — ί請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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