JPH11121579A - 半導体ウェハの搬送システム - Google Patents

半導体ウェハの搬送システム

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JPH11121579A
JPH11121579A JP27602297A JP27602297A JPH11121579A JP H11121579 A JPH11121579 A JP H11121579A JP 27602297 A JP27602297 A JP 27602297A JP 27602297 A JP27602297 A JP 27602297A JP H11121579 A JPH11121579 A JP H11121579A
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JP
Japan
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wafer
semiconductor wafer
cassette
inspection
inspected
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JP27602297A
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Ryoichi Imai
亮一 今井
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Asyst Japan Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェハの裏面とおもて面の表面検査を
行なうとともに自動判別することのできる半導体ウェハ
の搬送システムを提供すること。 【解決手段】 搬送システムSは、架台1上に並設され
た2台のロボット3A・3Bと、ウェハWが収納された
2台のカセット5A・5Bと、ウェハWの裏面・おもて
面の表面検査を行なう検査装置7・9と、検査されたウ
ェハWのオリフラ位置合わせを行なうオリフラ合わせ装
置11と、検査装置7・9によって検査されたウェハW
をその検査結果の評価に合わせてそれぞれ収納する空カ
セット13A・13B・13C・13Dと、を有してい
る。ロボット3のハンド33はウェハWの外周面を把持
するように構成され、検査装置7・9はウェハWの裏面
とおもて面の傷やゴミの付着に対する表面検査を行な
う。さらに、オリフラ合わせ装置11には、ウェハWを
支持するための小径のピンを有するプッシャーが備えら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハの
おもて面と裏面の表面検査した後、検査結果に応じてそ
れぞれのカセットに収納する半導体ウェハの搬送システ
ムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハは集積回路のチップとして
幅広く使用され、多種の工程間を搬送される。また、半
導体ウェハはゴミや塵埃を極度に嫌うため一般にクリー
ンルーム内で処理製造されている。半導体ウェハの搬送
はクリーンルーム内に設置された搬送ロボットにより行
なわれ、搬送ロボットにより次工程に搬送される際に、
その表面の検査が行なわれる。この検査は基板の表面に
ゴミが付着していたり、傷の有無を確認するために行な
われ、従来においては、カセットに収納されている半導
体ウェハを1枚づつ取り出し目視によって行なわれてい
た。その後搬送ロボットでオリフラ位置合わせを行なっ
た後次工程に搬送するようにしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体ウェハ
の需要が大幅に増加し量産化されるようになると、従来
のように、カセットから1枚づつ目視による検査の場
合、その手間がかかるとともに正確な検査が行なわれな
い。従って、ウェハの検査も、ロボット搬送システム内
で行なわれる必要が生じ、そのために、搬送ロボットに
よる搬送装置内に検査手段を配置するための新たな半導
体ウェハ搬送システムが検討されるようになってきた。
【0004】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、半導体ウェハのおもて面と裏面の表面検査をウェ
ハ搬送システム内に組み込むことによって、検査作業を
含む搬送作業を合理化するとともに、検査結果に基づい
て半導体ウェハを分別させることのできる半導体ウェハ
の搬送システムを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明にかかわる薄型
ワークの立直装置では、上記の課題を解決するために以
下のように構成するものである。すなわち、カセットに
収納されている半導体ウェハを次工程カセットに搬送す
る半導体ウェハの搬送システムであって、前記半導体ウ
ェハが収納されるカセットと、前記半導体ウェハを搬送
する搬送ロボットと、前記カセットから搬送された前記
半導体ウェハの裏面の表面検査を行なう裏面検査手段
と、前記半導体ウェハのおもて面の表面検査を行なうお
もて面検査手段と、前記裏面検査手段及びおもて面検査
手段で検査された半導体ウェハのオリフラ位置を合わせ
るオリフラ位置合わせ手段と、前記裏面検査手段及びお
もて面検査手段で検査された結果に基づいて、前記半導
体ウェハを収納する複数個の検査済用カセットと、を有
することを特徴とするものである。
【0006】また好ましくは、前記搬送ロボットが、前
記半導体ウェハを前記カセットから前記オリフラ位置合
わせ位置まで搬送する第1搬送ロボットと、前記オリフ
ラ位置合わせ手段で位置合わせされた前記半導体ウェハ
を、前記検査済用カセットに搬送する第2搬送ロボット
とを有していることを特徴とするものであればよい。
【0007】また、前記搬送ロボットの前記ウェハを支
持するハンドが、前記ウェハの外周面を把持可能に形成
されていることを特徴とするものであってもよい。
【0008】また望ましくは、前記オリフラ位置合わせ
手段が、先端部に極小径のウェハ支持部を有するピンを
備えたウェハ支持手段を有することを特徴とするもので
あればなおよい。
【0009】さらに望ましくは、前記検査済用カセット
が、検査結果に応じて4種類に分類されることを特徴と
するものであってもよい。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面に基づいて説明する。なお、以下の説明にあたって
は、半導体ウェハのおもてを「おもて面」といい、おも
て面・裏面の全体面を「表面」ということにし、漢字と
ひらがなで区別するものとする。
【0011】図1は、半導体ウェハ(以下、ウェハとい
う)Wの搬送システムSの平面を示すものであり、架台
1上に搬送ロボット(以下、ロボットという)3A・3
Bが2台設置されている。ロボット3Aの回りにはウェ
ハWが収納されたカセット5A・5Bと、表面検査装置
7・9及びオリフラ合わせ装置11とが配置され、ロボ
ット3Bの回りには、前述のオリフラ合わせ装置11と
4台の検査済用カセット13A・13B・13C・13
Dが配置されている。
【0012】ロボット3(3A・3Bを含めて言う)
は、ロボット機台31上を回動可能に配設され屈伸可能
なアーム体32とアーム体32の先端に連結されたハン
ド33とを有し、ハンド33はウェハWのおもて面と裏
面の表面を傷つけないように、外周面を把持可能に形成
している。ハンド33は図2〜3に示すように、ウェハ
Wを把持するハンド把持部34とハンド元部40とを有
している。
【0013】ハンド把持部34は、ハンド元部40に並
設して固着された2個のアーム部35a・35aを有す
る固定クランプ35と、アーム部35a・35a間に配
置され前記アーム部35aの先端より延設され長尺状の
アーム部36aを有する可動クランプ36とを有し、固
定クランプ35の2個のアーム部35a・35aの上面
を懸架するようにウェハガイド37が固着配置され、可
動クランプ36のアーム部36a先端部上面に、固定ク
ランプ35のウェハガイド37に対向するようにウェハ
ガイド38が固着配置されている。そして、可動クラン
プ36は、固定クランプ35のウェハガイド37に対し
てウェハガイド38が接近離隔するように可動され、そ
のためウェハWを把持したり把持解除したりする。
【0014】ハンド元部40は、固定クランプ35のア
ーム部35a・35aをその底面で支持する筐体部41
と、筐体部41内で筐体部41に支持され可動クランプ
36のアーム部36aに連結されるシリンダ42と、可
動クランプ36の直線移動を行なう2本のリニアガイド
43と、を有して構成されている。可動クランプ36は
元部に筐体部41の内部に配置するようにL型のブラケ
ット39を上方に向かうように立設し、ブラケット39
の上部に前述のシリンダ42のピストンが連結されてい
る。また、筐体部41内に配置される可動クランプ36
の元部下面には可動クランプ36と平行に2個のリニア
ガイド43の可動部43aが固着され、それぞれの可動
部43aが摺動できるように固定部43bが筐体部41
の底面に固着されている。
【0015】また、固定クランプ35のウェハガイド3
7と可動クランプ36のウェハガイド38は、同一高さ
に位置され、それぞれの側面断面における中央部が内側
に向かって凹部37a・38aを有し、ウェハWの把持
する際、落下しにくいように形成されている。凹部37
a・38aはウェハWの外径に合わせて平面視円弧状に
形成される。
【0016】なお、ハンド33のアーム体32との回動
可能な接続、及びアーム体32の駆動構成は、従来通り
である。
【0017】カセット5A・5Bは、ウェハWを上下方
向に複数段収納するように形成され、さらに前述のハン
ド33がウェハWの外周面を把持できるように前端部と
後端部が開口されている。そして、カセット5A・5B
には図示しないセンサが配置され、ウェハWの有り無し
を確認している。
【0018】検査装置7は、図4に示すように、架台1
上に設置されたウェハ支持台71と、ウェハ支持台71
に支持されたウェハWを下方から照射する照明装置72
と、照明装置72によって写し出されたウェハWの画像
を撮像するCCDカメラ73と、を有し、CCDカメラ
73によって撮像されたウェハWの裏面は、図示しない
モニタに写し出され、本システムを操作する作業者によ
って検査されて判定される。なお、完全自動化をするた
めに、CCDカメラ73によって撮像されたウェハWを
制御装置内で検査及び判定するようにすればなお良い。
【0019】検査装置9は、図5に示すように、架台1
上に設置された支持板90と、支持板90上にウェハW
の外周端部を支持するように設置された複数個のウェハ
ガイド91と、ウェハ支持台91を上下移動及び回転駆
動する駆動部92とを有している。駆動部92には、ウ
ェハWの下面に接触してウェハWを持ち上げることので
きるウェハリフタ93が配置され、ウェハリフタ93を
ウェハリフタ93に連結されたシリンダ94によって上
下移動し、さらにシリンダ94に並設されたモータ95
によ小ギア96・大ギア97を介して回転駆動をするよ
うに構成されている。なお、ウェハリフタ93上には、
上端部が円弧状に形成された樹脂性のピン部93aが複
数個(本形態では3個が適当)取り付けられ、ウェハW
を傷つけることのないようにウェハWの下面に接触す
る。そして、ウェハWのおもて面に照明を当て、上下移
動と回転駆動されたウェハWのおもて面を前述の作業者
が検査して、その状態を判定する。
【0020】なお、検査装置9は、図6に示すように、
ウェハガイド91上に支持されたウェハWを上方から照
射する照明装置98と、照明装置98によって写し出さ
れたウェハWの画像を撮像して検査するCCDカメラ9
9を配置することによって、その上方を制御装置に送る
ようにすれば、この工程においても完全自動化を達する
ことができる。
【0021】オリフラ合わせ装置11は、図7〜8に示
すように、筐体状に形成された駆動部111と、ウェハ
Wをガイドする2個のガイド片114・114と、ウェ
ハWのオリフラを検出する検出部117と、ウェハWを
上方に持ち上げて回転するプッシャー120とを有して
いる。ガイド片114は、駆動部111上に、ウェハW
の外周面をガイドするための円弧状のガイド部115を
有して、ウェハWの両側から挟むように2個配置されて
いる。ガイド部115は2種類のウェハWを支持できる
ように、2段に形成され、それぞれのガイド部115が
下方に向かって小径になるようにテーパ状に形成され、
ウェハWがガイド部115の上部から落とし込まれて下
面に支持される。従って、下面に支持されたウェハWは
同時に芯出しが可能となる。
【0022】検出部117は、一方のガイド片114か
ら上方に向かって取り付けられた略コ字形のブラケット
118とブラケット118に取着されたセンサ119
(図においては2種類のウェハに対応するように2個取
り付けられている。)を有している。センサ119はウ
ェハWの上方から下方に向かって光線を発射しウェハW
の端部(オリフラ位置)に照射するように取り付けられ
る。
【0023】プッシャー120は、駆動部111に配置
された図示しない駆動手段に接続されるとともに、水平
方向に沿って放射線状に3方向にアーム部121が形成
され、それぞれのアーム部121の先端部にウェハW側
に向かって小径のピン122が形成されている。ピン1
22の先端部はウェハWを支持する際に、傷の発生を少
なくするためにその接触面積を極小にするように形成さ
れている。そして、駆動手段により上下動及び回転運動
を行なう。従って、ガイド片114にガイドされたウェ
ハWは、プッシャー120の上昇により3個のピン12
2でガイド片114より僅かに持ち上げられるととも
に、一定方向に回転される。そのため、ウェハWのオリ
フラ位置をセンサ119によって測定することができ
る。
【0024】なお、図1中、オリフラ合わせ装置11の
近辺にバーコードリーダ15が配置され、ウェハWの端
部に書き込まれたそれぞれのバーコードを読み取る。図
では、大きさの異なる2種類のウェハWのバーコードを
読み取るために2個配置されている。
【0025】ロボット3Bの回りに設置された検査済用
カセット13A・13B・13C・13Dは、検査され
たウェハWの検査結果に基づいてそれぞれのウェハが収
納される。例えば、検査結果により判定が「良」のもの
は、ウェハWの裏面とおもて面に傷やゴミの付着がほと
んどなかったものでA種としてカセット13Aに収納さ
れ、「準良」のものはB種としてカセット13Bに収納
され、「可」のものはC種としてカセット13Cに収納
され、「不可」のものはD種としてカセット13Dに収
納されることになる。
【0026】次に、ウェハWがカセット5から検査済用
カセット13に搬送されるまでの作用について説明す
る。
【0027】ウェハWが収納されたカセット5A・5B
は図示しない別の搬送装置あるいは人手によって、搬送
システムS内の所定の位置に配置されている。
【0028】ロボット3Aはハンド33を機台31に対
して所定方向に回転させ、アーム体32を伸張すること
によって、ハンド33をカセット5Aの所定のウェハW
の下方に持っていく。そして、ウェハWをハンド33で
持ち上げると同時に、ハンド33の可動クランプ36が
ウェハWの外周面に向かって移動しウェハWを把持す
る。ハンド33のウェハW把持動作が終了すると、ハン
ド33はウェハWを検査装置7のウェハ支持台71に搬
送する。ウェハ支持台71にウェハWを載置させる時
は、ウェハWが支持台71の支持面に当接されると同時
に、ハンド33の可動クランプ36が外方に移動してウ
ェハWの把持を解除する。ウェハWがウェハ支持台71
に載置されると照明装置72の光源をウェハWの裏面全
面に向かって照射する。照明装置72によって写し出さ
れたウェハWの裏面は駆動部111の下部に配置された
CCDカメラ73によって撮像され、検査作業者がモニ
ターに写し出されたウェハWの裏面の傷やゴミの付着等
の検査を行う。作業者はそれぞれのウェハWの検査結果
に対する評価を、操作パネルの釦(「良」・「準良」・
「可」・「不可」に対応するように設置されている)を
押すことによって、制御装置に情報を送る。
【0029】検査装置7で検査されたウェハWは、ロボ
ット3Aにより検査装置9に搬送されウェハWのおもて
面の表面検査が行なわれる。ウェハWの搬送は検査装置
7と同様に、おもて面を上面にハンド33によって行な
われ、ハンド33の可動クランプ36の移動させて把持
または把持解除する。検査装置9のウェハガイド91に
ウェハWが載置されたことを確認すると、ウェハWを、
駆動部92のシリンダ94によって上下移動させ、モー
タ95によって回転駆動を行なう。そして、作業者がウ
ェハWのおもて面をいろいろな位置で傷やゴミの付着の
検査を行なった後、前述と同様に、その検査結果に対す
る評価を操作パネルの釦を押すことによって制御装置に
情報を送る。
【0030】検査工程を終了したウェハWはロボット3
Aによりオリフラ合わせ装置11に搬送される。ウェハ
Wがハンド33にクランプされてオリフラ合わせ装置1
1の上方に達し、ガイド片114に向かって下降する。
そして、2個のガイド片114のガイド部115に達す
ると、クランプを解除されガイド部115のテーパ部に
載置される。ウェハWがハンド33から離れてガイド部
115のテーパ部に載置された状態では、ウェハWはそ
の位置が正確な位置には置かれないことが多い。しかし
テーパ面から落とし込まれてガイド部の底面に達する
と、その位置がほぼ正規な位置に配置され位置決めされ
ることになる。ウェハWの位置決めが確認されると、ウ
ェハWはオリフラの位置を合わせるため、オリフラ位置
検出位置まで回転される。この作用はプッシャー120
が上昇し、3か所のアーム部121の先端に形成された
小径のピン122によりガイド部114より僅かにはな
れ、その位置で回転することによって行なわれ、プッシ
ャー120が回転すると同時に、検出装置117のセン
サ119が作動し、ウェハWのオリフラの位置を確認す
る。ウェハWがオリフラの位置を確認されると、次に、
プッシャー120をさらに回転し、ウェハWはバーコー
ド読み取り位置まで回転される。ウェハにかかれたバー
コードはバーコードリーダ15により読み取られ制御装
置に送られる。その後ウェハWは、さらに検査済カセッ
ト13に収納されるために搬送位置まで回転される。
【0031】オリフラの位置が合わせられたウェハW
は、検査装置7・9によるその表面検査の結果に基づい
て分別され、ロボット3Bによってオリフラ合わせ装置
9からそれぞれの検査済用カセット13に収納される。
ロボット3Bには、図示しない制御装置から送られたそ
れぞれのウェハWのデータが入力されていて、搬送する
際に、すでにいずれかの検査済用カセットに収納すべき
かが指令されている。そして、判定結果が「良」であれ
ば検査済用カセット13Aに、「準良」であれば検査済
用カセット13Bに、「可」であれば検査済用カセット
13Cに、また「不可」であれば検査済用カセット13
Dにそれぞれ収納されることになる。そして全ての検査
済用カセットにウェハWが収納されると、図示しないカ
セット搬送ロボットによりそれぞれの次工程にカセット
ごと搬送される。
【0032】なお、上記形態においては、ウェハWの検
査結果による評価は4種類に分別され、検査済用カセッ
ト13もそれに合わせて4個に配置するようにしたが、
これに限るものではなく、必要に応じて分別させるよう
にしてもよい。
【0033】さらに、この搬送システムに配置されたそ
れぞれの各装置は、上記形態に限るものではない。例え
ば、予めウェハが収納されたカセット5は2個に限らず
3個でもそれ以上でも良く、1個でも良い。また、検査
装置における表面検査の順序は、ウェハWのおもて面を
先に検査するようにしてもよい。
【0034】また、ハンド33の構成は、ウェハW裏面
やおもて面の表面検査を行なうために上述のようにウェ
ハWの外周面をクランプするものに限らず、ウェハWを
テーパ面でセンタリングしながら支持面に落下させ外周
端下面の一部を支持するように構成するものであっても
よい。
【0035】さらに、オリフラ合わせ装置11に使用さ
れるプッシャ120は、そのピン部を極めて小径に形成
しているが、ウェハWの表面を傷つけにくい材料を使用
すれば、より大径に形成されていても構わない。
【0036】また、検査された各ウェハのデータを、例
えば、フロッピーディスク等で管理しホストコンピュー
タとオンライン化すれば、さらに充実した検査システム
及びウェハ搬送システムを提供することができる。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、半導体ウェハの搬送シ
ステムは、カセットに収納されている半導体ウェハを次
工程カセットに搬送するシステムであって、前記半導体
ウェハが収納されるカセットと、前記半導体ウェハを搬
送する搬送ロボットと、前記カセットから搬送された前
記半導体ウェハの裏面の表面検査を行なう裏面検査手段
と、前記半導体ウェハのおもて面の表面検査を行なうお
もて面検査手段と、前記裏面検査手段及びおもて面検査
手段で検査された半導体ウェハのオリフラ位置を合わせ
るオリフラ位置合わせ手段と、前記裏面検査手段及びお
もて面検査手段で検査された結果に基づいて、前記半導
体ウェハを収納する複数個の検査済用カセットと、を有
している。そのため、半導体ウェハはその裏面とおもて
面の表面検査が搬送システム内で行なわれ、その判定結
果に基づいてそれぞれのカセットに分別されて収納され
るので、従来のように手間がかからず合理化を図ること
ができる。
【0038】また、前記搬送ロボットが、前記半導体ウ
ェハを前記カセットから前記オリフラ位置合わせ位置ま
で搬送する第1搬送ロボットと、前記オリフラ位置合わ
せ手段で位置合わせされた前記半導体ウェハを、前記検
査済用カセットに搬送する第2搬送ロボットとを有して
いる。そのため、半導体ウェハを分別して検査済用カセ
ットに収納している間に次の半導体ウェハの検査を同時
に行うことができ合理化ができるとともに、半導体ウェ
ハの分別を細かくすることが可能となる。
【0039】さらに、前記搬送ロボットの前記ウェハを
支持するハンドが、前記ウェハの外周面を把持可能に形
成されているため、半導体ウェハの表面を傷つけること
がない。
【0040】また、前記オリフラ位置合わせ手段が、先
端部に極小径のウェハ支持部を有するピンを備えたウェ
ハ支持手段を有していれば、半導体ウェハの表面を支持
する際に、その接触面積を小さくすることができ、傷の
発生を少なくするとともにゴミの付着を極めて少なくす
ることができる。
【0041】さらに、前記検査済用カセットが、判別結
果に応じて4種類に分類されることができ、細かい分別
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に一形態による半導体ウェハの搬送シス
テムを示す概略図
【図2】図1におけるハンドを示す断面図
【図3】図2のIII −III 断面図
【図4】図1における検査装置7を示す概略断面図
【図5】図1における検査装置9を示す概略断面図
【図6】図5の検査装置にCCDカメラを設置した状態
を示す図
【図7】図1におけるオリフラ合わせ装置を示す一部断
面図
【図8】図6の平面図
【符号の説明】
S…搬送システム 1…架台 3(3A・3B)…ロボット 5(5A・5B)…カセット 7…検査装置 9…検査装置 11…オリフラ合わせ装置 13(13A・13B・13C・13D)…検査済用カ
セット 33…ハンド 34…ハンド把持部 36…可動クランプ 71…ウェハ支持台 72…照明装置 73…CCDカメラ 91…ウェハガイド 92…駆動部 93…ウェハリフタ 114…ガイド片 115…ガイド部 117…検出部 120…プッシャー 122…ピン W…ウェハ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセットに収納されている半導体ウェハ
    を次工程カセットに搬送する半導体ウェハの搬送システ
    ムであって、 前記半導体ウェハが収納されるカセットと、 前記半導体ウェハを搬送する搬送ロボットと、 前記カセットから搬送された前記半導体ウェハの裏面の
    表面検査を行なう裏面検査手段と、 前記半導体ウェハのおもて面の表面検査を行なうおもて
    面検査手段と、 前記裏面検査手段及びおもて面検査手段で検査された半
    導体ウェハのオリフラ位置を合わせるオリフラ位置合わ
    せ手段と、 前記裏面検査手段及びおもて面検査手段で検査された結
    果に基づいて、前記半導体ウェハを収納する複数個の検
    査済用カセットと、を有することを特徴とする半導体ウ
    ェハの搬送システム。
  2. 【請求項2】 前記搬送ロボットが、前記半導体ウェハ
    を前記カセットから前記オリフラ位置合わせ位置まで搬
    送する第1搬送ロボットと、前記オリフラ位置合わせ手
    段で位置合わせされた前記半導体ウェハを前記検査済用
    カセットに搬送する第2搬送ロボットとを有しているこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハの搬送シス
    テム。
  3. 【請求項3】 前記搬送ロボットの前記ウェハを支持す
    るハンドが、前記ウェハの外周面を把持可能に形成され
    ていることを特徴とする請求項1または2記載の半導体
    ウェハの搬送システム。
  4. 【請求項4】 前記オリフラ位置合わせ手段が、先端部
    に極小径のウェハ支持部を有するピンを備えたウェハ支
    持手段を有することを特徴とする請求項1記載の半導体
    ウェハの搬送システム。
  5. 【請求項5】 前記検査済用カセットが、判定結果に応
    じて4種類に分類されることを特徴とする請求項1記載
    の半導体ウェハの搬送システム。
JP27602297A 1997-10-08 1997-10-08 半導体ウェハの搬送システム Withdrawn JPH11121579A (ja)

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007507086A (ja) * 2003-07-02 2007-03-22 ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー ウェーハ保管システム
US7194983B2 (en) 2004-07-01 2007-03-27 Kvaerner Power Oy Circulating fluidized bed boiler
US7369237B2 (en) 2004-05-11 2008-05-06 Olympus Corporation Substrate processing apparatus and substrate processing system
KR100833286B1 (ko) * 2006-12-29 2008-05-28 세크론 주식회사 웨이퍼 공급장치 및 이를 이용한 웨이퍼 공급방법
JP2009177166A (ja) * 2007-12-28 2009-08-06 Horiba Ltd 検査装置
JP2010165706A (ja) * 2009-01-13 2010-07-29 Yaskawa Electric Corp ウェハのアライメント装置
TWI579939B (zh) * 2011-08-04 2017-04-21 政美應用股份有限公司 檢測及分類晶圓的裝置及方法
KR20190058689A (ko) 2016-10-27 2019-05-29 카와사키 주코교 카부시키 카이샤 기판 파지 핸드 및 그것을 구비하는 기판 반송 장치
US10338575B2 (en) 2014-10-29 2019-07-02 Sony Corporation Production processing apparatus, production processing method, and work manufacturing method

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007507086A (ja) * 2003-07-02 2007-03-22 ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー ウェーハ保管システム
JP4848271B2 (ja) * 2003-07-02 2011-12-28 ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー ウェーハ保管システム
US7369237B2 (en) 2004-05-11 2008-05-06 Olympus Corporation Substrate processing apparatus and substrate processing system
US7194983B2 (en) 2004-07-01 2007-03-27 Kvaerner Power Oy Circulating fluidized bed boiler
KR100833286B1 (ko) * 2006-12-29 2008-05-28 세크론 주식회사 웨이퍼 공급장치 및 이를 이용한 웨이퍼 공급방법
JP2009177166A (ja) * 2007-12-28 2009-08-06 Horiba Ltd 検査装置
JP2010165706A (ja) * 2009-01-13 2010-07-29 Yaskawa Electric Corp ウェハのアライメント装置
TWI579939B (zh) * 2011-08-04 2017-04-21 政美應用股份有限公司 檢測及分類晶圓的裝置及方法
US10338575B2 (en) 2014-10-29 2019-07-02 Sony Corporation Production processing apparatus, production processing method, and work manufacturing method
KR20190058689A (ko) 2016-10-27 2019-05-29 카와사키 주코교 카부시키 카이샤 기판 파지 핸드 및 그것을 구비하는 기판 반송 장치
US11338448B2 (en) 2016-10-27 2022-05-24 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Substrate gripping hand and substrate transfer device including this substrate gripping hand

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