TW452794B - Optical information-recording medium, method for producing the same, and air-conditioning system for producing optical information-recording medium - Google Patents

Optical information-recording medium, method for producing the same, and air-conditioning system for producing optical information-recording medium Download PDF

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TW452794B
TW452794B TW088110886A TW88110886A TW452794B TW 452794 B TW452794 B TW 452794B TW 088110886 A TW088110886 A TW 088110886A TW 88110886 A TW88110886 A TW 88110886A TW 452794 B TW452794 B TW 452794B
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air
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recording layer
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TW088110886A
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Yoshihisa Usami
Tomoyoshi Itaya
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Description

452794 Λ7 B7 五、發明說明(1 ) - 發明背景 發明領域: 本發明係關一種熱模類型之光學資訊記錄媒體,其可 使用雷射束記錄及再生資訊於其上,其製法及生產光學 資訊記錄媒體之空調系統,其較佳用於光學資訊記錄媒體 之生產設備。 相關技術之說明: 通常光學資訊記錄媒體(光碟)僅可使用雷射束記錄資 訊一次包括例如僅寫一次CD(所謂CD-R)及DVD-R。此種 媒體之優點為比較生產習知CD(雷射光碟),小量cd可以 以合理價格迅速上市*此種媒體的需求隨著晚近個人電腦 等的普及而增加。 CD-R型光學資訊記錄媒體之代表性構造包括一層由 有機染料組成的記錄層,一層由金屬如金組成的光反射層 ,及一層樹脂製成的保護層,各層以此順序堆疊於厚度約 1.2毫米之透明圓盤形基板上(例如參考日本專利公開案第 6-150371號)。 DVD-R型光學資訊記錄媒體之構造包括兩片圓盤形 基板(各自厚約〇_6毫米)黏在一起而其個別之資訊記錄面 係面向内相對。DVD-R型光學資訊記錄媒體具有記錄於 其上之資訊量可較大的特點。 資訊係藉由照射於近紅外光區之雷射束(雷射束通常 具有波長於CD-R之例為780毫微米附近或DVD-R之例為 635毫微米附近)而寫(記錄)於光學資訊記錄媒體。染料記 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂: ..4. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中园囤家標盎(CNSMi規格(2K1 297公朵)
錄層之被照射部份吸收光束而局部升高溫度。結果物理或 化學變化(例如形成凹坑)改變光學特性。如此資訊被記錄 於媒體上。 匕方面,資訊通常係藉照射波長等於記錄雷射束之雷 射束4取(再生)。-貝讯係經由偵測染料記錄層之光學特徵 已經改變部份(基於形成凹坑之記錄部份)與光學特徵尚未 改變部份(非記錄部份)間之反射差異偵測而再生。 s使用可藉雷射束記錄及再生資訊之熱模類型光學資 訊記錄媒體時,基於推拉信號執行雷射束的追蹤伺服。 追蹤伺服之推拉信號於雷射束以規定方式沿一溝槽掃 描時大致為零準位。當雷射束相對於一溝槽偏向外周側或 内周側時,推拉信號具有對應於偏位量的準位。可知雷射 束偏向外周側或内周側係與信號極性有關。 因此可相對於一軌跡作雷射束追蹤伺服,以及可藉由 揭示推拉信號之準位變化而存取預定追蹤位址。 以習知光學資訊記錄媒體為例,當使用有機染料於基 板上形成記錄層時,染料液施加於基板上同時旋轉基板。 特別染料液施加之同時以恆定轉數旋轉基板而與基板上的 位置例如位在外周側或内周側無關。 因此理由故’此加的溥膜厚度於基板之内周側變厚, 如此某些情況下追蹤伺服之推拉信號最高準位(對應最大 偽位量準位)降低。進一步基板之徑向方向相關推拉信號 準位分散程度大。此種情況下,相當可能雷射束造成追蹤 失敗。 ίν ·: -ΐ ^ ^ 3 g ^ ,1 452794 五、發明說明(3 ) Λ7 Β7
.推拉信號之最大準位基於反射比過低而增高。此種情 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 況下’不便情況在於再生信號之波幅過小,容易發生讀取 錯誤。 11 通常,當染料液施用於圓盤形基板用於構成光碟時, 施用裝置之施用腔室之空氣潔淨度相當要緊,俾便形成具 有均勻薄膜厚度之施用面(染料記錄層)其上未發生任何錯 誤。 3 有關此點曾經提出一種範例方法,其中由形成染料記 錄層步驟至於染料記錄層上形成光反射層步驟之保存環境 的相對濕度設定為不大於30%(日本專利公開案第6· 15〇371 號)》 習知技術中’也曾採用基於下述空調系統之循環系統 。換言之’施用腔室内側例如維持於不高於1〇〇的程度以 防有任何浮塵由施用裝置外侧入侵。但為了維持施用面之 薄膜厚度恆定’同時執行下列操作》換言之,由施用腔室 内側排放的空氣一旦被除濕’則於空氣供給施用腔室之前 添加水含量,係經由使用加熱板等形成水蒸氣獲得。 但於習知技術,當染料記錄層形成時,操作係於低濕 環境亦即相對濕度不大於30%之環境進行》但可能容易產 生靜電,也可能染料無法均勻施用於基板全表面上。又獲 得低濕之空調系統需要高成本β當意圖降低光碟製造成本 時如此亦為其缺點。 發明概述 本發明考慮前述問題,其目的係提供一種製造光學資 本紙張&.¾適用中园國家標萆(CNS).A 1规恪U l〇 X 297公坌) 6 n I ' 1· — J n n .^1 n I · n n .^1 -^eJ· n I <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟邹智慧財產局員工消費合作钍*:·:.'.^ Λ: _____Β7_______ 五、發明說明(4 ) ' 訊記錄媒體之方法’其中可減低推拉信號於徑向方向之分 散程度,可為持推拉信號之最高準位於規定範圍,亦即可 製造高品質光學資訊記錄媒體。 本發明之另一目的係提供一種光學資訊記錄媒體,其 保存性能絕佳 > 可更有效達成染料施用面之薄膜厚度均勻 ’以及形成不會發生錯誤的施用面(染料記錄層)及其製法 〇 本發明之又另一目的係提供一種製造光學資訊記錄媒 體之空調系統’如此可有效達成施用面之薄膜厚度均勻及 形成不會發生錯誤之施用面(染料記錄層)改良洩放管線。 本發明之又另一目的係提供一種製造光學資訊記錄媒 體之空調系統,該系統可高度準確地控制形成施用面之處 理區段之溫度及濕度’及可更有效達成施用面之薄膜厚度 均勻以及形成未發生誤差的施用面(染料記錄層)。 本發明之又另一目的係提供一種生產光學資訊記錄媒 體之空調系統’其可防止於形成施用面之處理區段之氣氛 有任何漂浮雜質,以及防止施用面受雜質污染,因此可更 有效達成施用面之薄膜厚度均勻以及形成不會發生錯誤的 施用面(染料記錄層)^ 前述及其它本發明之目的、特點及優點由後文說明連 同附圊考慮將顯然易明’附圖中顯示本發明之較佳具體例 作為說明例。 圖式之簡單說明 第1圖顯示配置圖說明根據本發明之—具體例之生產 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 --線. 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 5279 4 A7 _____B7__ 五、發明說明(5 ) 系統實例; 第2圖顯示配置圖說明架設用於施用設備之旋塗裝置 第3圖顯示透視圖說明架設用於施用設備之旋塗裝置 ϊ 第4圊顯示平面圖說明旋塗裝置之喷嘴; 第5圊顯示側視圖說明旋塗裝置之噴嘴之實例; 第6圖顯示放大剖面圖,部份刪除,說明旋塗裝置之 噴嘴之另一例; 第7圖顯示平面圖說明空調系統; 第8圊顯示前視圖說明空調系統; 第9圖顯示側視圖說明空調系統; 第10囷顯示空調系統之洩放裝置連同超縱座標洩放管 線之配置圖; 第11圖顯示剖面圖說明安裝用於洩放裝置之缓衝器座 之配置; 第12圖顯示方塊圖說明空調機之配置; 第13A圖顯示一步驟說明溝槽形成於基板之狀態; 第13B圖顯示一步驟說明染料記錄層形成於基板之狀 態; 第13C圖顯示一步驟說明光反射層形成於基板之狀態 9 第14A圖顯示一步驟說明基板緣部洗滌狀態; 第14B圖顯示一步驟說明保護層形成於基板之狀態; 本纸張&度遺用中因國家標準(CWSM.丨規格(210 X 297公釐) —L n n n I n n I I I I ^jOJ· n n u I— I— i 9 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作钍印製 Λ; -----------R;_ 五、發明說明(6 ) 第1 5圖顯示方塊圖說明有關本發明之具體例之生產系 統,當染料液施用於基板時之處理程序步碌; 第16圊顯示配置圖說明根據本發明之具體例之另一生 產系統實例; 第17圊顯示一表說明於第一實驗例所得結果;及 第1 8圊顯示一表說明於第二實驗例所得結果D 較佳具體例之說明 後文參照第1至18圖對範例具體例加以解說,其中根 據本發明之光學資訊記錄媒體及其製法係應用於生產光碟 如CD-R之系統(後文簡稱為「根據具體例之生產系統」) 及一範例具體例其中根據本發明之生產光學資訊記錄媒體 之空調系統係應用於前述生產光碟如CD-R之系統(後文簡 稱為「根據具體例之空調系統」)。 如第1圖所示,根據本發明之具體例之生產系統1〇包 含二模塑設備(第一及第二模塑設備12A,12B)用於利用 例如注塑、壓塑或射出壓塑等製造基板;一施用設備14用 於施用染料施用液至機板之第一主面接著乾燥而形成染料 記錄層於基板上;及一後處理設備16用於利用例如藉濺散 形成光反射層於基板上的染料記錄層上,接著施用紫外光 可固化溶液於光反射層上進行紫外光照射而於光反射層上 形成保護層。 第一及第二模塑設備12A,12B各自包括注塑、壓塑 或射出壓塑樹脂材料如聚碳酸酯之模塑機器20用於製造成 形有追蹤溝槽或凸部及凹部(溝槽)用於表示資訊如位址信 ^^1 ^^1 ^^1 n 1^1 n a^i n «n —1. .^ϋ I - m n ^ 0·^ p n n I (請先閒讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 452794 A7 B7 五、發明說明(7 ) ' 號於其第一主面之基板;一冷卻單元22用於冷卻由模塑機 器20取出的基板;及一堆積單元26(堆疊柱轉臺)安裝多根 堆疊柱24用於堆疊及存放冷卻後的基板。 施用設備14包含三處理區段30,32,34。第一處理區 段30包括一堆疊柱容納單元40用於容納由前述第一及第二 模塑設備12A,12B轉運來自堆疊柱24 ; —第一轉運機構42 用於逐一由容納於堆疊柱容納單元40之堆疊柱24上取出基 板並轉運基板至次一步驟;及一靜電吹送機構44用於由第 一轉運機構42轉運的基板上去除靜電。 第二處理區段32包括第二轉運機構46用於依序轉運已 經完成藉第一處理區段30進行靜電吹送處理的基板至次一 步驟:一染料施用機構48用於施用染料液至複數藉第二轉 運機構46轉運之基板;及第三轉運機構50用於逐一轉運已 經完成染料施用過程之基板至次一步驟。染料施用機構48 包括六個旋塗裝置52。 第三處理區段34包括一背面洗滌機構54用於洗滌由第 三轉運機構50轉運來之基板背面;一第四轉運機構56用於 轉運已經完成背面洗滌之基板至次一步驟;一編號機構58 用於例如將批號標示於由第四轉運機構56轉運來基板上; 第五轉運機構60用於轉運已經完成標示批號等之基板至次 一步驟;檢查機構62用於檢查由第五轉運機構60轉運來的 基板是否有瑕疵及染料記錄層之膜厚度;及選擇機構68用 於依據檢查機構62進行的檢查結果將基板選擇分成存放於 正常產品之堆疊柱64者以及存放於不良品堆疊柱66者。 本紙張〈度適用令囤國家標垄(c:\sm〗規格(2丨2虹公t) - 10 - L» m r^i n n In n - 1 n I n n n n n n 一OJI n I 1 11 - n n I r?yK.- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作;社印¥ ________ D7__ 五、發明說明(8 ) ' 第一分隔板70架設於第一處理區段3〇與第二處理區段 32間。同理,第二分隔板72也架設於第二處理區段32與第 三處理區段34間。開口(圖中未顯示)其大小為藉第二轉運 機構46執行基板的轉運通過不會被封閉的程度,開口形成 於第一分隔板70下部。一開口(圖中未顯示)其大小為藉第 三轉運機構50執行基板之轉運通過不會被封閉的程度,該 開口形成於第二分隔板72下部》 後處理設備16包括一堆疊柱容納單元用於容納由施 用设備14轉運來之正常品堆叠柱64 ;第六轉運機構82用於 由堆疊柱容納單元80容納之堆疊柱64逐一提出基板供轉運 至次一步驟;第一靜電吹送機構84用於由第六轉運機構82 轉運來的基板去除靜電:第七轉運機構86用於依序轉運已 經完成靜電吹送處理之基板至次一步驟;濺散機構88用於 藉濺散形成光反射層於由第七轉運機構86轉運來的基板之 第一主面上;第八轉運機構90用於循序轉運已經完成光反 射層濺散之基板至次一步驟;及邊緣洗滌機構92用於洗滌 藉第八轉運機構9〇轉運來的基板之周緣(緣部)。 後處理設備16進一步包括一第二靜電吹送機構94用於 由已經完成邊緣洗滌之基板去除靜電;一紫外光可固化溶 液施用裝置96用於施用紫外光可固化溶液至已經完成靜電 吹送處理之基板之第一主面上;一旋轉機構98用於經由以 高速旋轉已經完成施用紫外光可固化溶液之基板而獲得均 勻的紫外光可固化溶液施用厚度於基板;一紫外光照射機 構100用於照射紫外光於已經完成施用紫外光可固化溶液 Π -------------裝·-------訂--------*線 (請先閒讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 5279 4. 經濟部智慧財產局員工湞費合作社印*]《 Α7 Β7 五、發明說明(9 ) 以及旋轉處理的基板,俾便固化紫外光可固化溶液而使保 護層形成於基板之第一主面上;一第九轉運機構102用於 轉運基板分別至第二靜電吹送機構94、紫外光可固化溶液 施用機構96、旋轉機構98及紫外光照射機構1〇〇 ; —第十 轉運機構104用於轉運紫外光照射基板至次一步驟;一瑕 疵檢查機構106用於檢查由第十轉運機構104轉運的基板於 施用面及保護層表面是否有瑕寂;_特徵檢查機構108用 於檢查基於形成於基板上的溝槽之信號特徵;及一選擇機 構114用於依據藉瑕疵檢查機構106以及特徵檢查機構1〇8 進行的檢查結果,將基板選擇分成存放於正常產品堆垄柱 110者及存放於不良品堆疊柱112者* 現在參照第2至6圖說明旋塗裝置52之配置。 如第2及3圖所示,旋塗裝置52包含染料溶液供應單元 400,旋轉器頭單元402及散射防止壁404。染料溶液供應 單元400包括加壓槽(圖中未顯示)被進給染料溶液,一管( 圖中未顯示)由加壓槽抽取至噴嘴406,及一浪放量調節閥 408用於調整由喷嘴406排出之染料溶液量β預定量之染料 溶液經由喷嘴406逐滴施用至基板202表面上。 染料溶液供應單元400配置成可藉助於一處理機構ο# 作擺動由等候位置擺動至基板202上方位置,處理機構包 含一支持板410用於支持喷嘴406同時方向向下,及一馬達 412用於水平擺動支持板410。 旋轉器頭單元402排列於染料溶液供應單元4〇〇下方位 置,故基板202藉助於可卸式固定件420水平固定,因此可 本紙張玟度適用中园S家標畢(CNS)A.丨梘格(2丨0 X 297公坌) --------I-----裝-----L---訂-------I -雇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 12 經濟部智慧財產局員工消費合作社扣.¾ ______R7____ 五、發明說明(10 ) _ 藉助於驅動馬達(圖中未顯示)以軸線為軸旋轉。 染料溶液由染料溶液供應單元4〇〇之喷嘴406逐滴滴落 於以旋轉器頭單元402央持呈水平狀態旋轉的基板202上, 染料溶液流動並朝向基板202表面外周側擴展。過量染料 溶液由基板202外周邊甩出而脫離至外側。結果施用膜被 乾燥。如此施用膜(染料記錄層2〇4)形成於基板2〇2表面上 〇 提供散射防止壁404俾便防止由基板202外周緣甩至外 側之過量染料溶液散射至周圍環境》散射防止壁404係設 置套於旋轉器頭單元402而一開口 422形成於其上部。過量 染料溶液藉助於散射防止壁404收集而經由排水孔424回收
Q 空氣係如下對第二處理區段32之旋塗裝置52局部洩放 如後(參考第1圖)。換言之,空氣經由形成於散射防止壁4〇4 上部之開口 422導入,任其流經基板202表面,然後空氣經 由附著於旋轉器頭單元402下部之洩放管426排放。 如第4及5圖所示’染料溶液供應單元4〇〇之嘖嘴406包 括一細長主喷嘴本體432其具有筒形構型,有一通孔430形 成於軸向’及一附著部434用於固定主噴嘴本體432之支持 板4 1〇(參考第3圖)。主喷嘴本體432之表面係由氟化合物 製成,表面中前端面及内壁面及外壁面之一或二者係由前 端面伸展於不小於1毫米之範圍。可使用之氟化合物包括 例如聚四氟乙烯及含聚四氟乙烯物質。 較佳用於本具體例之噴嘴406之例包括例如喷嘴406其 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4527〇. A7 '------__B7_ 五、發明說明(ii ) 中主嘴嘴本體432之前端面及距離前端面不小於以米範圍 係由氟化合物形成,如第5圖所示;及喷嘴侧其中主噴嘴 本體432之前端面440及延伸於前端面44〇不小於丨毫米範圍 之外及内壁面442, 444之一或二者塗布以氟化合物如第 6圏所示。 當主噴嘴本體432之前端面及距前端面不小於1毫米範 圍係由氟化合物製成時,例如考慮強度等使用觀點較佳使 用下列構造。例如主噴嘴本體432由不鏽鋼製成,前端面 及距前端面最大5毫米範圍以内由氟化合物製成。 當主噴嘴本體43 2之前端面440及由前端面440伸展不 小於1毫米範圍之外及内壁面442,444之一或二者塗布以 氟化合物,如第6圖所示,較佳使用下述構造。換言之, 距主喷嘴本體432之前端面440不小於10毫米區域塗布以氟 化合物。更佳主喷嘴本體432之全區塗布以氟化合物。當 施用塗層時其厚度並無特殊限制。但其厚度約略於5至5〇〇 微米之範圍。不鏽鋼較佳用作前述主喷嘴本體432之材料 。通過主噴嘴本體432形成的通孔430之直徑較佳於0.5至 1.0毫米之範圍* 根據本發明之具體例之生產系統1〇進一步架設根據本 發明之具體例之空調系統300毗鄰於施用設備14之第二處 理區段32,如第1圊所示》又如第7及8圊所示,空調機704 ,706分別經由高效填塞過濾器(HEPA過濾器)700,702安 裝於第一處理區段30及第三處理區段34之天花板。 空調機704,706分別進給潔淨空氣至第—及第三處理 14 ----------訂--------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) B7 B7 經濟5Γ智慧財1局員工消費合作:-rii7 五、發明說明(l2 ) 區段30 ’ 34。如此可控制第一及第三處理區段3〇,34之溫 度。 如第7及12圖所示’根據本發明之具體例之空調系統 包含空調機302用於進給潔淨空氣「ca」至施用設備14 ;—除濕機304用於將外部空氣「ea」引進進行除濕及輸 出空氣作為一次空氣「al」;及一洩放裝置3〇6(參考第1〇 圖)進給部份洩放空氣(局部排放空氣)rda」由施用設備14 至超縱座標洩放管線。局部洩放空氣「da」包括例如來自 施用設備14之染料施用機構48之六個旋塗裝置52之排放空 氣β 如第7及8圖所示’根據本發明之具體例之空調系統 包含一導管310其設置於除濕機304與空調機302間用於進 給由除濕機304輸出的一次空氣「ai」至空調機3〇2。如第 10圖所示,前述排放管426供給於排放裝置306與施用設備 14之染料施用機構48之六個旋塗裝置52之個別排放側間。 複數供氣導管320a至320d(說明例各有四根導管)供給 由空調機302輸出的潔淨空氣「ca」至施用設傷及複 數返回導管322(於說明例各有八個)用於將局部排放空氣 「da」以外之排放空氣「ra」由施用設備14返回空調機3〇2 ’返回導管係安裝於空調機302與施用設備14間。 空調機302安裝進氣口 710用於引進外部空氣「ea」, 前置過濾器712附著於進氣口 710 9以尋常空調控制為例( 而非低濕控制之例),由進氣口 710引進之空氣供給空調機 3 0 2做為一次空氣- — 111------------— II *||1||1[| (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 2 7 9 4 Λ7 ________B7 五、發明說明(13 ) - 當進行低濕控制時使用除濕機3〇4。如第7及8圖所示 ,除濕機304安裝有進氣口 324用於引進外部空氣「ea」。 前置過;慮器3 26附著於進氣口 324。因此外部空氣「ea」於 使用刖置過濾器326去除塵土及污物後經由進氣口 324引進 除濕機304内部。除濕過程係於除濕機3〇4進行。除濕後之 外部空氣供給作為設置於下游階段之空調機3〇2之一次空 氣。 如第12圖所示,空調機302包含混合器33〇用於混合來 自除濕機304或進氣口 610之一次空氣「ai」與來自施用設 備14之排放空氣(局部排放空氣以外之排放空氣)「ra」而 輸出空氣做為混合空氣「ha」:二濕化器332a,332b用於 對混合器330輪出的混合空氣「ha」加以濕化處理而輸出 空氣做為二次空氣「a2」;及四部鼓風機3343至334(1用於 供給二次空氣「a2」由兩部濕化器332a,332b至施用設備 14 〇 各濕化器332a ’ 332b於其内側包括一片加熱板336用 於添加氣化水分至一次空氣「al」。加熱板336被進給純水 。本發明中,適合使用具有比電阻不小於〇.】5百萬歐姆( 室溫)之純水。可使用較佳具有比電阻不小於1.5百萬歐姆 (室溫)及更佳不小於15百萬歐姆(室溫)之純水。本具體例 中使用比電阻為2百萬歐姆之純水。 純水之獲得方法例如包括基於使用蒸餾之方法及基於 使用離子交換樹脂之方法。但例如鑑於雜質之去除效率, 較佳使用基於離子交換樹脂之方法。 16 I-1 I---------_ I ---I I » I I--I I I - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) B7
B7 經濟部智慧財產局g工泊f合作社,1 S 五、發明說明(Μ ) 匕方面,如第7及8圖所示,四部高效填塞床過濾器 (HEPA過濾器)340a至340d架設於至施用設備的供氣通路 之施用設備14上部。方向控制板342a至342d架設於四部鼓 風機334a至334d與四根彼此對應之供氣導管320&至320(1間 °方向控制板342a至342d排列如後。換言之,參照第7圖 ’第一方向控制板342a對應於位在最右側位置的第一鼓風 機334a ’係架設於傾斜方向因此經由第二供氣導管32〇b供 給第二處理區段32之空氣量(參考第丨圖)係大於供給第一 處理區段30之空氣量D參照第7圖,第四方向控制板342d 其對應位於最左位置之第四鼓風機334d係以安裝成傾斜方 向’故經由第三供氣導管320c供給第二處理區段32之空氣 量係大於供給第三處理區段34之空氣量。 對應第二鼓風機334b之第二方向控制板342b係安裝成 傾斜方向’故經由第三供氣導管320c供給第二處理區段32 之空氣量係大於經由第二供氣導管320b供給第二處理區段 32之空氣量。第三方向控制板342c對應於第三鼓風機334c 係安裝成傾斜方向,因此經由第二供氣導管320b供給第二 處理區段32之空氣量係大於經由第三供氣導管320c供給第 二處理區段32之空氣量。 換言之,第一至第四方向控制板342a至342d之方向係 設定為經由第二及第三供氣導管320b,320c供給第二處理 區段32之空氣量係大於經由第一供氣導管320a供給第一處 理區段30之空氣量及經由第四供氣導管320d供給第三處理 區段34之空氣量。 n 丁 · — — — — — — — — — — — — — - — — 1丨 各 (請先閒讀背面之注意事項再填寫本頁) 5279 4 Λ7 ___B7_ 五、發明說明(15 ) 方向控制板344a至344d也係安裝於施用設備14上部介 於四根供氣導管320a至320d與彼此對應的HEPA過濾器 340a至340d間。方向控制板344a至344d排列如後。換言之 ’參照第7圖’第一方向控制板344a對應位在最右側位置 的第一 HEPA過滤器340a,係斜向安裝,故經由第一供氣 導管320a供給的潔淨空氣「ca」被導引朝向第二處理區段 32。參照第7圖’第四方向控制板344d係對應位在最左方 位置的第四HEPA過濾器340d ’第四方向控制板係斜向安 裝*因而經由第四供氣導管320d供給的潔淨空氣「ca」被 導引朝向第二處理區段32。 對應第二HEPA過濾器340b的第二方向控制板344b係 斜向安裝’因而抑制經由第二供氣導管320b供給的潔淨空 氣「ca」完整供應第二處理區段32。對應第三HEPA過濾 器340c之第三方向控制板344c係斜向安裝,因而抑制經由 第三供氣導管320c供給的潔淨空氣「ca」完整供應第二處 理區段32。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 供給至設置於施用設備14中央的第二處理區段32之空 氣量係大於供給至設置於其周圍之第一及第三處理區段30 ’ 34之空氣量,原因為四片方向控制板342a至342d設置於 空調機302該侧之方向以及四片方向控制板344a至344d設 置於施用設備14該側之方向。如此第二處理區段32之氣壓 係高於第一及第三處理區段30, 34之氣壓。 換言之,如前述設置複數方向控制板於供氣通路上可 均勻混合藉空調機302濕化之空氣水分以及模擬設置於第 18 I--------- !裝-----——丨訂· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張&度適用中®國家標退(CJNS)Al蜆恪CMC1 X 297公坌) B7 B7 暖齊郎智慧W產f)員工消費合-!-:--'1 五、發明說明(1〇 二處理區段32之個別旋塗裝置52之濕度分散。進一步可消 除各旋塗裝置52間之風速差異,考慮旋塗裝置52之向下方 向風速之差異。 又如第1圖所示’第一分隔板70設置於第一與第二處 理區段30,32間’及第二分隔板72設置於第二與第三處理 區段32,34間。因此可防止空氣由第一處理區段3〇流進第 二處理區段32及空氣由第三處理區段34流進第二處理區段 32。因此可維持於第二處理區段32之氣壓係高於第一及第 三處理區段30,34之氣壓。 換言之’四片方向控制板342a至342d設置於空調機302 該側,四>5方向控制板344a至344d設置於施用設備Η該側 ,第一及第二分隔板70,72作為空氣進給量控制裝置而造 成第二處理區段32之氣壓高於第一及第三處理區段3〇 , 34 之氣壓的狀態。 其次如第10及11圖所示,洩放裝置306包括一缓衝器 座500,其外殼體形成為大致矩形平行四邊形構型而内部 為氣密。六部排氣鼓風機502分別對應於施用設備14之六 個旋塗裝置52係設置於緩衝器座500。 排放量控制閥機構508例如由蝶形閥504及開閉器506 組成’及排放量感測器5 10用於以電力方式偵測排氣量係 架設於六個旋塗裝置52與其對應排氣鼓風機502間。施用 膜之乾燥條件可藉由調整排氣量適當控制^ 超縱座標洩放管線520連結於緩衝器座500下游階段6 如第丨0圖所示’超縱座標 ';智放管線5 2 0之功能係用於施用 I In H ϋ n n H4 Jn 1^1 1 1 IUI ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 ^ ^ IK .n ^^1 I 言 为 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁〕 19 4 5279 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _____B7 五、發明說明(17 ) 設備14的排氣以及藉助於架設於戶外的戶外鼓風機522進 行模塑設備、後處理設備及多種其它生產設備的排氣。 超縱座標洩放管線520之大量洩放管有六根洩放管524 分配至施用設備,分別連結至緩衝器座5〇〇。如第η圖所 示,本具體例中,六根洩放管524由超縱座標洩放管線520 延伸至施用設備14係於缓衝器座500由排氣鼓風機502導引 出之六根洩放管426於緩衝器座500内部分離。蝶形閥526 係安裝於由超縱座標洩放管線520延伸至施用設備14之六 根洩放管520’因而可調整超縱座標洩放管線52〇之洩放量 。蝶形閥528,530分別架設於戶外鼓風機522之上游及下 游階段因而可調整戶外排放量。 其次使用根據本發明之生產設備1 〇參照第13 Α至第 14B圖所示處理步驟對光碟製法做說明。 首先*樹脂材料如聚碳酸酯接受注塑、壓塑或射出模 塑,該材料係使用模塑機器20設置於第一及第二模塑設備 12A,12B而生產基板202,基板202於第一主面上形成追 縱溝槽或凹凸部(溝槽)200表示資訊例如第13A圖所示位址 信號。 基板202之材料例如聚碳酸酯,丙烯酸系樹脂如聚曱 基丙烤酸甲酯,基於乙烯基氯之樹脂如聚乙烯氣及乙烯基 氯共聚物’環氧樹脂’不定形聚稀煙及聚酿。若有所需此 等化合物可合併使用β前述材料中,鏗於例如抗濕性、形 穩性及成本’以聚碳酸酯為佳,溝槽深度較佳於〇 〇1至〇 3 微米之範圍。其寬度半值較佳於02至〇_9微米之範圍。 l·--------- — --------訂·-------Ί (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張國®家揉並规格mo 29T公眢) 20 經濟部智慧財產局員工"費合作社印.我 ________—_nr 五、發明說明(18 ) ' 由模塑機器20取出之基板202於設置於下游階段之冷 卻單元22冷卻。冷卻後’基板202堆疊於堆叠柱24上而其 第主面向下設置。於該階段有預定數目之基板202堆疊 於堆疊柱24,由模塑設備12A,12B取出堆疊柱24並轉運 至位於次一階段的施用設備14。堆疊柱24容納於施用設備 14之堆疊柱容納單元40内部。轉運可使用車具或使用自行 推進之自動轉運設備進行。 於堆疊柱24容納於堆疊柱容納單元40之階段,第一轉 運機構42作動而由堆疊柱24逐一取出基板,基板2〇2轉運 至設置於下游階段之靜電吹送機構44。靜電藉靜電吹送機 構44由已經轉運至靜電吹送機構44的基板202去除。隨後 基板202藉助於第二轉運機構46轉運至設置於次一階段之 染料施用機構48,且引進六個旋塗裝置52之任一者。染料 液施用於已經引進旋塗裝置52之基板202第一主面上,接 著以高速旋轉獲得染料液之均句厚度。隨後施用乾燥處理 。如此如第13B圖所示’染料記錄層204形成於基板202之 第一主面上。 亦即已經引進旋塗裝置52之基板202架設於第2圖所示 旋轉器頭單元402,藉助於固定件420夾持水平。隨後由加 壓槽供應的染料液藉助於洩放量調節閥408調整至預定量 。染料液透過噴嘴406逐滴施用至基板202之内周侧。 如前述,噴嘴406之前端面及距前端面不小於1毫米範 圍之外及内壁面之一或二者為氟化合物組成的表面。如此 施用溶液罕見黏著於表面,又幾乎不會發生染料的沈積或 2i ^^1 n n ^^1 I I ^1· «^1 n n 訂----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印*1^ 52 7 9 4 Λ7 ___B7 五、發明說明(19 ) 澱積’否則因乾燥可能發生沈積及澱積。因此可光滑形成 施用膜而未造成任何困擾例如施用膜瑕嵌。 經由溶解染料於適當溶劑所得染料溶液用作染料溶液 。染料溶液之染料濃度通常係於0.01至15%重量比,較佳 於0_1至10%重量比’特佳於0.5至5%重量比及最佳於0.5至 3%重量比之範圍。 旋轉器頭單元藉助於驅動馬達可進行高速旋轉。已經 滴落於基板202表面之染料液隨同旋轉器頭單元4〇2的旋轉 以朝向基板202表面外周邊之方向流動及散開。染料液到 達基板202之外周緣同時形成施用膜。 特別本發明之具體例中’染料液根據第15圖所示處理 程序施用於基板202。首先於第15圖所示步驟S1,基板202 之轉數增高至約270 rpm,同時染料液供應單元400之支持 板410(參考第3囷)於水平方向旋轉而移動喷嘴406至對應 基板202半徑46毫米位置。 隨後於步驟S2,開始施用染料以同時維持基板202之 轉數於270 rpm。於此狀態下,支持板410於水平方向旋轉 而移動噴嘴406約2秒至半徑23毫米位置。 隨後於步驟S3,施用染料液,同時支持板410於水平 方向旋轉移動噴嘴406約3秒至半徑40毫米位置,同時基板 202轉數升高至550 rpm。 隨後於步驟S4,停止施用染料溶液,支持板410於水 平方向旋轉而將喷嘴406恢復原先位置(初態)。 接著於步驟S5,基板202之轉數於6秒時間升高至630 本紙張又度通用中囤國家標準(CJNS>A丨規格(21〇x四7公餐) 22 H- I --1 1^1 I I n i 一^I n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智㈤別^局S工消費合作社?!;& 五、發明說明(2〇 ) rpm。 隨後於步驟S6,基板202之轉數以6.3秒時間升高至 1400 rpm。 於步驟S7,基板202之轉速以1.7時間升高至2200 rpm ,然後維持基板2〇2之轉數(=2200 nm)經歷5秒。 隨著步驟S5至S7轉數的增高到達基板202周緣的過量 染料液被離心力甩出,散射至基板202邊緣周圍《如第2及 3圖所示 > 散射的過量染料以碰撞散射防止壁404,收集於 設置於其下方之容納托盤,接著藉排水口 424回收。施用 膜之乾燥過程係於形成過程中以及施用膜形成後進行。施 用膜(染料記錄層)厚度通常設定約20至500毫微米及較佳 50至300毫微米之範圍。 於前述步驟S1至S7進行之染料施用過程中,進給施 用設備14之潔淨空氣風速設定為於空調系統3〇〇不大於約 〇·4米/秒=換言之’相對於基板2〇2之染料施用面’空調 風速設定為不超過約〇,4米/秒。 於步驟S7之過程完成階段,基板2〇2旋轉停止而完成 染料溶液施用至基板202之施用處理。 注意可用於染料記錄層2〇4之染料並無特殊限制。有 用的染料包括例如基於花青之染料,基於酞花青之染料, 米唾并蒽十林之染料,基於之染料,基於硫^ 英錯之染料,基於甘菊環錄之染料,基於角震稀鐵之染料 ’基於金屬錯合物之染料例如含鎳及鉻者,基於⑽之染 料基於恩規之染料,基於叙盼藍之染料 > 基於節笨胺之 ---------------------訂—------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45279 4 A7 ___—_____B7_ 五、發明說明(2丨) 染料’基於二笨基甲烷之染料,基於部花青之染料,基於 氧鏘醇之染料,基於㈣之㈣,基於二亞胺鏘之染料及 亞硝基化合物。前述染料中較佳使用基於花青之染料,基 於駄花青之染料,基於甘菊環鐵之染料,基於角業稀錯之 染料,基於氧鏘醇之染料及基於咪唑并蒽哼啉之染料。 可用作染料記錄層204形成染料溶液用之溶劑包括例 如酯’如乙酸丁酯及乙酸溶纖素;酮如異丁鲷,環己酮及 甲基異丁基甲酮;氣化烴如二氣甲烷,丨,2_二氣乙烷及氣 仿;醯胺如二甲基甲醯胺;烴如環己烷;醚如四氫呋喃, 乙喊及二》号院;醇如乙醇,正丙醇,異丙醇,正丁醇及二 丙_醇;基於氟之溶劑如2,2,3,3-四氟·1·丙醇;及二醇醚 如乙二醇一f醚’乙二醇一乙醚,及丙二醇一甲醚。 鑑於使用溶劑之溶解度,溶劑可單獨或合併二或多者 適當使用。較佳使用基於氟之溶劑如2,2,3,3-四氟-1-丙醇 。若有所需可添加防秘色劑及黏結劑至染料溶液。進一步 允許視用途而定添加多種添加劑例如抗氧化劑,紫外先吸 收劑,增塑劑及潤滑劑。 防褪色劑之代表例包括亞硝基化合物,金屬錯合物, 二亞胺錄鹽及紹鹽。其範例例如述於日本專利公開案第2-300288 , 3-224793及4-146189號》 黏結劑範例包括天然有機高分子物質如明膠,織維素 衍生物,葡萄聚糖,松香及橡膠;及合成有機高分子物質 包括例如基於烴之樹脂如聚乙烯,聚丙烯,聚笨乙烯及聚 異丁烯;基於乙烯系之樹脂如聚乙烯基氣,聚亞乙烯基氣 ^纸張乂H用中國國家標准(CNSM.]规格(210x297公^> 二~~] I « ---------^---------— (請先閱請背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社£,i& Λ: __ Β7 .------ — — Μ ' _ 五、發明說明(22 ) 及聚乙稀基氣/聚乙酸乙稀醋共聚物;丙稀酸系樹脂如聚 丙烯酸曱自旨及聚曱基丙烯酸甲酯;熱固樹脂之初縮合物如 聚乙烯醇’氣化聚乙烯,環氧樹脂,丁醛樹脂,橡膠衍生 物及酚-曱醛樹脂。 使用黏結劑時,黏結劑用量相對於100份重量比染料 通常不超過20份重量比,較佳不超過10份重量比及更佳不 超過5份重量比。 底塗層可設置於基板202表面形成染料記錄層204該側 ’例如用於改良平坦度,改良黏著力以及防止染料記錄層 204之品質劣化等目的。 可用作底塗層之材料包括例如高分子物質如聚曱基丙 烯酸甲酯,丙烯酸/曱基丙烯酸共聚物,苯乙烯/馬來酐共 聚物,聚乙烯醇’ N-羥曱基丙烯醯胺,苯乙烯/乙烯基甲 笨共聚物,氣磺酸化聚乙烯,硝基纖維素,聚乙烯基氯, 氣化聚烯’聚酯,聚醯亞胺,乙酸乙烯酯/乙烯基氣共聚 物,乙烯/乙酸乙烯酯共聚物,聚乙烯,聚丙烯及聚碳酸 騎;及表面改質劑如矽烷偶合劑。 底塗層可經由將前述物質溶解或分散於適當溶劑製備 染料液,然後將所得溶液使用例如旋塗、浸塗及播塗等方 法施用於基板表面。底塗層厚度通常設定為〇.〇〇5至2〇微 来’及較佳0.01至10微米之範圍。 其上已經形成記錄層204之基板202藉助於第三轉運機 構50轉運至位於次一階段之背面洗滌機構54 s洗滌與基板 2〇2第一主面相反該面之表面(背面)。隨後基板202藉助於 ---------------------訂 *-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25 1 5 2 7 S 4 Λ7 __B7 五、發明說明(23 ) 第四轉運機構56轉運至位於次一階段之編號機構58。批號 等標示於基板202背面之第一主面上。 隨後基板202藉助於第五轉運機構60轉運至次一階段 之檢查機構62。檢查基板202是否存在有瑕疵以及染料記 錄層204之膜厚度。檢查係照光於基板202背面而使用例如 CCD攝影機對光之透射狀態進行影像處理。藉檢查機構62 所得檢查結果饋至設置於次一階段的選擇機構68。 已經完成前述檢查過程的基板202基於檢查結果藉助 於選擇機構68轉運並選擇分成堆疊於正常產品堆疊柱64者 或堆疊於不良品堆疊柱66者。 於有預定數目基板202堆疊於正常產品堆疊柱64之階 段,正常產品堆疊柱64由施用設備14取出,轉運至設置於 次一階段的後處理設備16。堆疊柱64容納於後處理設備16 之堆疊柱容納單元80。轉運可使用載具,或使用自行推進 自動轉運裝置進行。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於正常產品之堆疊柱64容納於堆疊柱容納單元80之階 段,作動第六轉運機構82,逐一由堆疊柱64取出基板202 ,基板202被轉運至位於次一階段之第一靜電吹送機構84 。靜電係藉第一靜電吹送機構84而由已經轉運至第一靜電 吹送機構84之基板202去除。隨後,基板202藉第七轉運機 構86轉運至位於次一階段的濺散機構88。 如第13C圖所示,於基板202引進濺散機構88後,光 反射層208係經由於第一主面上濺散形成,周緣部(緣部 )206除外。 26 I.--------- I . Μ-----I---訂. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張乂度適用中國國家捺進(CNSM丨規格(210 X 297公楚) 經濟部智慧財產局員工消費合作耔印敫 五、發明說明(24 ) 屬於光反射層208材料之光反射物質為對雷射束具高 匕之物質。可用作光反射物質包括例如不鏽鋼或類金 屬及金屬如 Mg,Se,γ,Ti,Zr,Hf ’ v,阶,Ta,& ,
Mo 1 W - Mn . Re , Fe - Co . Ni - RU . Rh - Pd - Ir - Pt >
Cu ' A§ ' ' Zn » Cd > A1 - Ga . In . Si - Ge - Te - Pb > p〇 ’ Sn及Bi。 其中較佳使用Cr,Ni,Pt ’ Cu,Ag,Au,Al及不鏽 鋼。此等物質可單獨或合併二或多種使用。另外,物質可 呈合金使用。特佳銀或其合金Λ 光反射層208利用例如蒸氣沈積、濺散或光反射物質 之離子鍍敷形成於記錄層上。反射層之層厚度通常設定於 10至800毫微米,較佳20至500毫微米及更佳5〇至3〇〇毫微 米之範圍。 其上已經形成光反射層208之基板202藉第八轉運機構 9〇轉運至設置於次一階段之邊緣洗滌機構% s如第14Α圖 所示’基板202第一主面緣部206經洗滌去除已經形成於緣 部206之染料記錄層204。隨後基板202藉第九轉運機構1〇2 轉運至設置於次一階段之第二靜電吹送機構94而去除靜電 〇 然後,基板藉第九轉運機構102轉運至紫外光可固化 溶液施用機構96,將紫外光可固化溶液滴於基板202之第 —主面之一部份上。隨後基板202藉第九轉運機構1〇2轉運 至設置於次一階段之旋轉機構98,基板202以高速旋轉。 如此滴落於基板202之紫外光可固化溶液之施用厚度於基 ---------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____B7 _ 五、發明說明(25 ) 板全表面上變均勻。 本具體例中,時程之管理為形成光反射層至施用紫外 光可固化溶液之時間長度不少於2秒而於5分鐘以内。 隨後,基板202亦藉第九轉運機構102轉運至位於次一 階段之紫外光照射機構100 »基板202上之紫外光可固化溶 液以紫外光照射。如此如第14Β圖所示,保護層210藉紫 外光可固化樹脂形成,藉此覆蓋形成於基板2〇2第一主面 上之染料記錄層204及光反射層208 »如此構成光碟D。 保護層210設置於光反射層208上俾使染料記錄層204 等以物理及化學方式保護。保護層210也設置於未提供染 料記錄層204之基板202該邊,俾便提升耐刮擦性及耐濕性 。用作保護層210之材料包括例如無機物質如SiO,Si02, MgF2,Sn02及Si3N4 ;及有機物質如熱塑性樹脂、熱固性 樹脂及紫外光可固化樹脂。 保護層210之形成方式例如藉塑性擠塑加工所得薄膜 藉助於黏著劑層合於光反射層208及/或基板202上。另外 保護層2 H)可藉真空蒸氣沈積、濺散及施用等方法提供。 使用熱塑性樹脂或熱固性樹脂時,亦形成保護層210,故 樹脂溶解於適當溶劑而製備施用溶液,然後施用施用溶液 及乾燥。 當使用紫外光可固化樹脂時,保護層210如前述形成 故樹脂可就此使用,或樹脂溶解於適當溶劑而製備施用溶 液’然後施用溶液藉照射紫外光而固化樹脂。施用溶液可 進一步添加多種添加劑例如抗靜電劑、抗氧化劑及紫外光 本紙張用令國國家標沮(CNS;A.丨規格(2KJ X 297公g ) 28 n. I n n ϋ n n ϋ I . n l·· ^OJ· n in ϋ n n ϋ I /9^« (請先閱讀背面之沒意事項再填寫本頁) D7 D7 經濟部智慧財產局員工消費合,':ΐΐ.£Ι!ν·" 五、發明說明(26) 吸收劑隨其使用目的而定3保護層2丨〇通常提供以〖至丨〇〇 微求範圍之層厚度。 隨後’光碟D藉第十轉運機構】〇4轉運至瑕疵檢查機 構106及特徵檢查機構108其係設置於次一階段用以檢查光 碟D於染料記錄層204表面及保護層210表面是否存在有瑕 庇’以及基於形成於基板2〇2之溝槽200之信號特徵。進行 此等檢查而使光碟D兩面分別照光,反射光例如使用ccd 攝影機做影像處理 藉瑕疵檢查機構丨〇6及特徵檢查機構 108個別檢查結果饋至位於次一階段的選擇機構1丨4。 已經完成前述瑕疵檢查過程及特徵檢查過程之光碟D 轉運並藉選擇機構114基於檢查結果選擇分成存放於正常 產品堆疊柱110者以及存放於不良品堆疊柱n 2者。 於有預定數目之光碟D已經堆疊於正常產品堆疊柱 110之階段,堆疊柱〖10由後處理設備16取出引進未舉例說 明之標籤印刷步驟^ 如前述,藉根據本發明之具體例之生產系統1〇生產的 光碟D有下列特點。亦即當施用染料溶液過程,染料溶液 施用至基板202之内周側時,基板2〇2之轉數比較於施用起 點之基板202之轉數增高約2倍。因此,於基板2〇2之染料 溶液施用厚度於基板202全表面約略均勻。如此可減少於 徑向方向之推拉信號準位之分散。進一步允許推拉信號之 最高準位係於規定範圍。如此獲得高品質光碟 於根據本發明之具體例之空調系統3〇〇中,具有比電 阻不卞於⑴匕百萬歐姆之水用作濕化器^以’^化之濕化 裝·-------訂--------*線 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 29 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 52 7 2 A7 ____B7 五、發明說明(27 ) ' 來源•因此可防止於施用設備14之處理氣氛產生漂浮雜質 。如此改良藉施用設備14製造之產品亦即光碟D之產量。 電阻值較佳不低於1.5百萬歐姆及最佳不低於1〇百萬歐姆 〇 本發明之具體例中,施用設備14處理氣氛之相對濕度 設定為30%至60%。如此可達成染料施用面之均勻薄膜厚 度以及形成施用面(染料記錄層)而未發生任何錯誤。相對 濕度之較佳範圍為40%至50%。若相對濕度過高則染料施 用面上出現白化現象。 為了降低錯誤率,較佳染料記錄層施用於基板202形 成光反射層208之時間為15分鐘至4小時。 由空氣供給施用設備14之處理氣氛以及由該處理氣氛 排氣組成的空氣流速設定為不高於〇 . 8米/秒。流速較佳為 0.5至〇.〇1求/秒’及更佳為〇 3至〇 〇3米/秒,其理由如後。 亦即若流速過低’則溶劑蒸氣堆積於染料施用區段。 結果溶劑乾燥速度改變且染料膜厚度改變。同時鑑於安全 性’溶劑蒸氣濃度升高也不佳。它方面,若流速過快,則 光碟表面之均勻膜厚度劣化亦即例如於光碟外周邊的染料 膜厚度變極厚。因此過高流速也不佳。 本發明之具體例中,經由進氣口 71〇引進供給空調機 302之空氣或來自除濕機3〇4之空氣用作一次空氣「&1」。 一次空氣「al」供應空調機3〇2。空調機3〇2之混合器33〇 用於;昆合一次空氣「al」與來自施用設備14之排放空氣「 ra」獲彳于混合空氣「ha」。混合空氣「ha」接受濕化處理 本纸張心度4甲中因國家標qMCNS):U規格Ul〇 X 297公g )' 1 n n n n I it · fi n l^DJI I I tt n ·· {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 30 經濟部智慧財產局員工消費合-社£,1^ ____ϊ]7____ 五、發明說明(2〇 * 獲得二次空氣「a2」’其供給施用設備14。如此構成循環 系統其使用來自施用设備14之排放空氣「ra」作為空氣供 應來源。如此容易控制維持恆定量潔淨空氣「ca」供給施 用設備14。進一步小量空氣藉除濕機304除濕即足。如此 可有效縮短除濕時間及降低除濕成本。 設置空調機3 0 2及根據本發明之施用設備丨4之第二處 理區段32及循環系統可能因來自旋塗裝置52之局部排放空 氣影響造成負壓。但本發明之具體例中,外部空氣係經由 空調機302之進氣口 710引進,來自除濕機304之空氣特別 係用於低濕控制時引進。因此可防止於前述循環系統造成 負壓。 本發明之具體例中,設置二管線作為施用設備14之洩 放管線。洩放管線(循環系統)之一係連結至空調機3〇2之 混合器330 ’另一洩放管線(局部排放空氣「da」)經由氣 密式緩衝器座500連結至超縱座標洩放管線52〇。又,超縱 座標洩放管線520之排氣管524於緩衝器座5〇〇與局部排放 空氣「daj的排氣管426分開。 此種配置中’施用設備丨4之局部排放空氣「da」係經 由緩衝器座500排放至超縱座標洩放管線52〇。但即使其它 連結至超縱座標洩玫管線52〇之設備之洩放量有任何分散 ’該分散於緩衝器座5〇〇被吸收。 換s之1即使於其它連結至超縱座標洩放管線520之 設備之洩放量發生任何分散,仍可於施用設備14之第二處 理區段32(第二處理區段32之氣氛)獲得穩定氣流。因此例 I I I I I I r — — — — ——1— ^ ' 1 ----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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AT ____—___B7_ 五、發明說明(29) ' 如於光碟D之染料施用步驟,可於施用面上達到均勻膜厚 度以及形成施用面(染料記錄層)而未發生任何錯誤。 本發明之具體例中,複數方向控制板342a至342d及 344a至344d設置於送至施用設備14之供氣通道。因此由鼓 風機334a至334d輪出之空氣方向易使用複數方向控制板 342a至342d及344a至344d改變。如此,施用設備14之第二 處理區段32之氣壓設定於高於第一及第三處理區段3〇,34 之氣壓。如此第二處理區段32之溫度及濕度可做高度準確 控制。進一步可有效達到施用面之薄膜厚度均勻以及形成 不含任何錯誤之施用面(染料記錄層)。 本發明之具體例中,分隔板70,72係分別設置於第一 處理區段30與第二處理區段32以及第二處理區段32及第三 處理區段34間。因此,可防止來自第一及第三處理區段30 ’ 34之空氣流入第二處理區段32。如此可防止來自第一及 第三處理區段30,34之漂浮雜質污染第二處理區段32。 根據本發明之具體例之光碟D除了第1圖所示生產系 統10之外可使用第16圊所示生產系統600製造。根據本發 明之具體例之空調系統除了應用至第1圈之生產系統10之 外也可應用至第16圖之生產系統600。 第16围所示生產系統600包含二模塑設備(第一及第二 模塑設備602A,602B)用於利用注塑、壓塑或射出壓塑製 造基板;二施用設備(第一及第二施用設備604A ’ 604B) 用於將染料溶液施用於基板第一主面上,接著乾燥由於基 板上形成的染料記錄層;及檢查設備606用於檢查施用設 32 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 si. 絰濟部智慧財產局員工消費合作社印t B7 B7 經--智慧財產局8工消費合"."-;._ 五、發明說明(3〇 ) 備604A,604B形成的染料記錄層’及後處理設備608用於 利用例如濺散形成光反射層於染料記錄層上,接著施用紫 外光可固化溶液於光反射層上進行紫外光照射,故光反射 層上形成保護層。 第一及第二模塑設備602A,602B各自包括模塑機器 610用於注塑、壓塑或射出壓塑樹脂材料如聚碳酸酯而使 基板於其第一主面上形成有追蹤溝槽或凹凸部(溝槽)用於 表示資訊如位址資訊’及冷卻輸送帶612用於冷卻由模塑 機器610取出的基板同時轉運基板》冷卻後堆疊及儲存基 板之堆疊柱614係安裝於冷卻輸送帶612終端。 第一及第二施用設備604A,604B包括三個旋塗裝置 6 i 6用於施用染料及洗蘇邊緣,及以多關節型機器人618用 於逐一取出堆積於第模塑設備602八,6023之堆疊柱614的 基板而轉運基板至任一旋塗裝置6丨6。 檢查設備606包括第一轉運輸送帶620用於轉運已經完 成由第一施用設備604 A執行處理的基板,一第二轉運輸 送帶622用於轉運已經完成由第二施用設備6〇48執行處理 之基板至次一步驟,一編號機構624用於將批號等標記於 藉第一及第一轉運輸送帶620,622轉運的基板上,第一轉 運機構626用於將已經完成標示批號等基板轉運至次一步 驟,及檢查機構628用於檢查藉第一轉運機構626轉運的基 板疋否存在有瑕蔽以及染料記錄層之膜厚度3 後處理設備608包括基板輸入機構63〇用於接受已經完 成藉檢查機構628執行檢查處理的基板;濺散機構632用於 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ••1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527 9 4 A7 _____B7_ 五、發明說明(31 ) ' 藉濺散而於藉基板輸入機構630輸入的基板第一主面上濺 散形成光反射層;一第二轉運機構634用於循序轉運已經 几成藉濺散形成光反射層之基板至次一步驟;二施用旋轉 機構(第一及第二施用旋轉機構636 A,636B)用於施用紫 外光可固化溶液至藉第二轉運機構634轉運基板,及然後 以高速旋轉基板獲得紫外光可固化溶液於基板上之均勻施 用厚度;第三轉運機構638用於轉運已經完成藉第一及第 二施用旋轉機構636A , 636B之任一者執行處理的基板至 次一步驟;一紫外光照射機構64〇用於照射紫外光於藉第 三轉運機構63 8轉運的基板而固化紫外光可固化溶液,因 而於基板第一主面上形成保護層;一第四轉運機構642用 於轉運經過紫外光照射的基板至次一步驟;—瑕庇檢查機 構644用於檢查藉第四轉運機構642轉運的基板於施用面及 保護層表面是否有任何瑕疵;以及選擇機構65〇用於依據 瑕疵檢查機構644所得檢査結果,將基板選擇分成於正常 產品堆疊柱646堆疊者及堆壘於不良品堆疊柱648者。前述 空調系統300可分別安裝於第一及第二施用設備6〇4A, ό〇4Β之鄰近位置β如此可壓抑於第—及第二施用設備6〇4a ’ 604B氣氛中產生漂浮雜質β如此可改善藉第一及第二 施用設備604 A,604Β製造光碟D的產量。 又於生產系統600’當染料液於施用染料液至基板202 過程中施用至基板202之内周邊時,基板202之轉數比較基 板202於施用起點之轉數增高约2倍。因此染料液於基板202 之施用厚度於基板202全表面上約略均勻。如此可減少於 —I I ----------裝------;---訂- -- - -------’.^. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 34 R7 R7 經-部智慧財產局員工^费·"-':-'.:::^ &、發明說明(32 ) 徑向方向之推拉信號準位之分散^因而可預期高品質光碟 D。 前述生產系統10 ’ 600中,基板202於形成光反射層208 薄膜後連續轉運被滴加紫外光可固化溶液俾便於光反射層 208上形成保護層。另外,以光反射層2〇8薄膜形成的基板 202 —旦堆積時,紫外光可固化溶液例如可根據薄片進給 程序逐滴加至基板202上。此種情況下’可採用下述過程 毫無問題。換言之,基板202其各自以光反射層2〇8薄膜形 成之基板堆4於堆疊柱上’例如被轉運至位於次一階段的 1外光可固化溶液施用步肆。但較佳光反射層2〇8之形成 步驟及紫外光可固化溶液施用步驟係於連續生產線上。 其次,解說二舉例說明性實驗(為簡便起見稱做「第 一1及第一说明貫驗例」)。 首先’第一說明實驗例係有關實施例1至3及比較例1 至5用於使用第1圖所示生產系統1〇製造光碟d而觀察藉由 變更空調系統300之濕化器332a > 332b之濕化來源,施用 設備14之溫度及濕度,及施用染料形成光反射層薄膜所需 時間長度(後文方便稱做「染料施用經歷時間」)所得光碟 D之光反射比、錯誤率、及保存性能。 光反射比表示當無凹坑形成於凹槽亦即非記錄狀態獲 得的光反射比。規定於實際光碟D再生期間光反射比不低 於65%。因此於非記錄態之光反射比不低於7〇%即足。錯 誤率表示方塊錯誤率。保存性能係經由觀察染料記錄層靜 置於6〇t溫度及85%濕度氣氛下250小時後之狀態獲得。 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
35 經-部智慧財產局員工消費合作社印製 452794 Λ: _________—_Β7 五、發明說明(33 ) · 染料染料記錄層204係如下獲得。如下通式(A1)表示 之花青染料化合物(2.65克)及如下通式(A2)表示之防褪色 劑(0.265克)經合併及攙混,溶解於如下通式(A3)表示之 2,2,3,3-四氟-1-丙醇而製備形成記錄層之染料溶液。
藉注塑製備聚碳酸酯基板(直徑:120毫米,厚度:1.2 毫米)包括螺旋溝槽(軌跡節距:1.6微米,溝寬度:0.4微 米’溝深度:0.16微米)形成於其表面上。前述染料溶液 施用於聚碳酸酯溝槽該邊表面上。 施用染料溶液時,染料溶液係利用旋塗法施用同時變 更聚碳酸酯基板之轉數由300 rpm至2000 rpm而形成染料 記錄層((溝槽)厚度:約200毫微米如此過程中,任空氣 隨同供給施用設備之空氣以及由施用設備排放的空氣而向 下流向基板。風速設定為〇· 1米/秒。 36 l· n 1 J I n t· W6J» 1 n I , J^ (請先閱讀背面之注意事瑣再填寫本頁) 經-部智慧財產蜀8工消費.3': Λ; ____ Π7 __ 五、發明說明(34 ) 實施例1中,具有比電阻2百萬歐姆•厘米之純水用作 濕潤來源,施用設備丨4之溫度及濕度分別設定為25 °C及 30% ’染料施用經歷時間為1小時。於實施例2,具有比電 阻2百萬歐姆.厘米之純水用作濕潤來源,施用設備14之 溫度及濕度分別設定為25°C及60%,染料施用經歷時間為 4小時。於實施例3,使用具有比電阻2百萬歐姆.厘米之 純水作為濕潤來源,於施用設備14之溫度及濕度分別設定 為25°C及40%,染料施用經歷時間為15分鐘。 它方面 > 於比較例1,使用具有比電阻小於0.1 5百萬 歐姆·厘米之龍頭水作為濕潤來源,施用設備14之溫度及 濕度分別設定為25°C及40%,及染料施用經歷時間為20分 鐘。於比較例2,使用具有比電阻2百萬歐姆.厘米之純水 作為濕潤來源,施用設備14之溫度及濕度分別設定為25X: 及25%,及染料施用經歷時間為4小時。於比較例3,使用 具有比電阻2百萬歐姆.厘米之純水作為濕潤來源,施用 設備14之溫度及濕度分別設定為25°C及55%,及染料施用 經歷時間為6小時。於比較例4,使用具有比電阻2百萬歐 姆•厘米之純水作為濕濶來源,施用設備14之溫度及濕度 分別設定為25°C及55%,及染料施用經歷時間為1〇分鐘。 於比較例5 ’使用具有比電阻2百萬歐姆.厘米之純水 作為濕潤來源1施用設備14之溫度及濕度分別設定為25°C 及65%。結果於染料施用期問出現白色混濁而所得產品顯 然有缺陷3 所得實驗結果顯示於第17圖。根據實驗結果須了解有 -------------裝--------訂---------線 {請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) ά527 Ο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^ Λ7 Π7 五、發明說明(35 ) 關實施例1至3之光反射比、錯誤率及保存性能獲得良好結 果’其中使用純水作為濕潤來源,施用設備濕度設定為30〇/〇 至60% ’染料施用經歷時間為15分鐘至4小時,此等結果 係與比較例1至4所得結果比較。 錯誤率及反射比係根據下述方法測量。換言之,前述 實施例1至3及比較例1至5所得光碟使用OMT 2000評估機 器(Pulstec工業公司製造)於雷射束波長780毫微米(於να 0,5拾取)於穩定線性迷度ι,2求/秒於EFM調變信號之記錄 功率7毫瓦進行記錄。隨後信號使用波長等於記錄雷射東 相同波長之雷射束於雷射輸出0.5毫瓦再生而測量反射比 及錯誤(方塊錯誤:BLER〇 » 至於反射比之測量,係應用溝槽追蹤時測量返回光線 強度。至於錯誤係使用評估機器所含解碼器進行解碼時測 量方塊錯誤(BLER)。 其次說明第二範例實驗。第二範例實驗係有關實施例 1至3及比較例丨及2,於使用第1圖所示生產系統製造光碟 D時藉由變更施用染料溶液至基板202過程中之風速以及 施用表面之施用圖樣而觀察於光碟D上預定位置之光反射 比及推拉信號準位。 光反射比(%)指示無凹坑形成於溝槽亦即非記錄態所 得光反射比。規定實際光碟D再生期間之光反射比不低於 65%。故於非記錄態之光反射比不低於67。/0即足。 推拉信號係藉由雷射束照射於根據實施例1至3及比較 例1及2完成的光碟D而觀察於三點(23毫米,45毫米及58 ----------- !裝-----l·丨—訂· (請先閱讀背面之注$事項再填寫本頁) 38 B7 B7 經濟部智慧財產局員工消贾合 五、發明說明(36) - 只之半彳^點)之最希準位(絕對值)進行研究。 若推拉<fg號之最高準位小於Q ⑽’容易出現追縱偏差 匕方面,若推拉信號之最高準位不低於〇14 ’則指示光 反射比過低。 形成染料記錄層204之染料溶液係以前述第一說明實 驗例之相同方式製備而不再贅述。 杂料液施用於聚碳酸酯基板溝槽該邊表面上。於此過 程中’染料溶液係利用旋塗施用同時變更轉數由27〇 rpm 至2000 rpm形成染料記錄層((溝槽)厚度:約200毫微米)。 風速於實施例1為〇. 1米/秒’實施例2為〇.2米/秒,實 施例3為米/秒,比較例1為0.6米/秒,比較例2為0.1采/ 秒。 染料液之施用樣式說明有關實施例1至3及比較例1之 案例’其中施用係根據第1 5圖所示步驟進行(方便稱做「 A樣式」)。至於比較例2,染料液之施用樣式係說明基板 2〇2轉數為270 rpm之情況,亦即於第15圖所示步驟S3,基 板202之轉數未改變(方便稱做「B樣式」)。 所得實驗結果顯示於第1 8圊。根據實驗結果,推拉信 號之最高準位於三點係於0.09至0.12之範圍,於實施例1 至3其中施用樣式為A樣式及風速不超過〇.4米/秒,於三點 之推拉信號約略穩定。又於非記錄態之光反射比不低於 68%。 它方面,於比較例1,光反射比足夠。但推拉信號之 最高準位於三點不超過0.09。須了解任何困難皆係有關追 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 39 452794 Λ: ___Β7 五、發明說明(37 ) ' 蹤伺服。 比較例2指示推拉信號之最高準位於半徑23毫米位置 為0.15 ’光反射比不足。光反射比測量值為66%,其無法 滿足規定之光反射比67%。 如前述,須了解比較比較例1及2,有關實施例1至3之 推拉信號最高準位及光反射比可獲得良好結果。 元件標號對照 10…生產系統 340a-d...高效填塞床過濾器 12A-B...模塑設備 342a-d.··方向控制板 14...施用設備 344a-d…方向控制板 16…後處理設備 400…染料液供給單元 20…模塑機器 402...旋轉器頭單元 22...冷卻單元 404…散射防止壁 24,"堆昼柱 406…嘴嘴 26…堆積單元 408…洩放量調節閥 30-4...處理段 410…支持板 40...堆疊柱容納單元 412.·.馬達 42...第一轉運機構 414…處理機構 44…靜電吹送機構 420…可卸式固定件 46...第二轉運機構 422···開口 48…染料施用機構 424…洩放口 50…第三轉運機構 426…排氣管 經濟部智慧財產局員工消費合作社印κ -I.--------- !裝---------訂· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 40 R7 R7五、發明說明(38 ) 52…旋塗裝置 54.. .背面洗滌機構 56.. .第四轉運機構 58.. .編號機構 60.. .第五轉運機構 62…檢查機構 64-6...堆疊柱 68.. .選擇機構 70.. .第一分隔板 72.. .第二分隔板 80.. .堆疊柱容納單元 82.. .第六轉運機構 84.. .第一靜電吹送機構 86.. .第七轉運機構 88.. .濺散機構 90.. .第八轉運機構 92.. .邊緣洗滌機構 94.. .第二靜電吹送機構 96…紫外光可固化溶液施用系統 98.. .旋轉機構 100.. .紫外光輻射機構 102.. .第九轉運機構 104.. .第十轉運機構 10 6...瑕檢查機構 430.. .通孔 432.. .主喷嘴本體 434.. .附著部 440.. .前端面 442…夕卜壁面 444.. .内壁面 500.. .緩衝器座 502.. .排氣鼓風機 504.. .蝶形閥 506.. .開閉器 508.. .洩放量控制閥機構 510.. .洩放量感測器 5 2 0…超縱座標洩放管線 522.. .戶外鼓風機 524.. .排氣管 526-30...蝶形閥 600.. .生產系統 602Α-Β...模塑設備 604Α-Β,..施用設備 6 0 6...檢查設備 608.. .後處理設備 610.. .模塑機器 612.. .冷卻輸送帶 614.. .堆疊柱 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 41 4 52 7 : Λ 7 Β7 1^1 I ( n m n n I _ I ^1- n n I n at ί I *^K— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印,K 五、發明說明(39 ) 108··.特徵檢查機構 110-2...堆疊柱 114.. .選擇機構 200.. .溝槽 202.. .基板 204…染料記錄層 206…緣部 208…光反射層 210.. .保護層 300…空調系統 302.. .空調機 304.. .除濕機 306…洩放裝置 310.. .導管 320a-d…供氣管 324.. .進氣口 326.. .前置過濾器 330.. .混合器 332a-b…濕化器 334a-d...鼓風機 3 3 6...加熱板 616.. .旋塗設備 618…多關節型機器人 620…第一轉運輸送帶 622…第二轉運輸送帶 624…編號機構 626.·.第一轉運機構 628…檢查機構 630.. .基板輸入機構 632·.,濺散機構 634.. .第二轉運機構 636A-B·.·施用旋轉機構 638.. .第三轉運機構 640…紫外光照射機構 642.. .第四轉運機構 644.. .瑕疲檢查機構 646·8."罐養柱 650.. .選擇機構 700-2…高效填塞床過濾器 704-6..,空調機 710…進氣口 712.. .前置過濾器 42 本紙中囤四,家標也.丨見格公餐)

Claims (1)

  1. 經濟部中央揉準局員工消費合作社印裝 4 527 9 4. A8 B8 CS D8__ 六、申請專利範国 1· 一種熱模類型之光學資訊記錄媒體,於基板(202)包含 --記錄層(204)其可藉照射雷射束記錄資訊,其中: 該記錄層(204)係使用具有比電阻不低於0.15百萬 歐姆之水濕潤用於形成記錄層(204)之製程氣氛而於基 板(202)上形成。 2_如申請專利範圍第1項之光學資訊記錄媒體,其中於製 程氣氛之相對濕度設定為30%至60%。 3. 如申請專利範圍第丨項之光學資訊記錄媒體,其中施用 染料至基板(202)而形成光反射層(208)為薄膜形式之時 間為15分鐘至4小時》 4. 如申請專利範圍第1項之光學資訊記錄媒體,其中供給 基板之空氣流速係由供給製程氣氛之空氣以及由製程 氣氛排放之空氣組成設定為不超過0.8米/秒。 5. —種製造熱模類型之光學資訊記錄媒體之方法,該媒 體包含於基板(202)上有一層記錄層(204)其可藉照射雷 射束記錄資訊,該方法包含下列步驟: 經由使用具有比電阻不低於〇. 15百萬歐姆之水濕 湖用於形成記錄層(204)之製程氣氛而於基板(2〇2)上形 成記錄層(204)。 6. 如申請專利範圍第5項之方法,其中於製程氣氛之相對 濕'度設定為30%至60%而於基板(202)上形成記錄層 (204)。 7•如申請專利範圍第5項之方法,其中施用染料至基板 (2〇2)形成光反射層(2〇8)呈薄膜形式所需時間間期為15 本紙張尺度速用中國國家標準(CNS ) M規格(21〇><297公着) ~r^- ^1T---^ (請先H讀背面之注意事項再填寫本頁) 43 isv濟部中央標準局負工消費合作杜印掣 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 分鐘至4小時。 8.如申請專利範圍第5項之方法,其中供給基板(2〇2)之 空氣’其係由供給製程氣氛之空氣及由製程氣氛排放 之空氣組成,該空氣流速設定為不高於〇8米/秒而於 基板(202)上形成記錄層(204)。 9,種生產熱模類型之光學資訊記錄媒體之方法,包含 於基板(202)上有一記錄層(204)其可藉照射雷射束記錄 資訊,該方法包含下述步驟: 施用溶液而於基板(202)上形成記錄層(2〇4)同時旋 轉基板(202) ’其中該溶液施用於基板(2〇2)之内周緣部 時基板(202)之轉數增高。 10. 如申請專利範圍第9項之方法,其中該溶液係施用至基 板(202)之内周緣部,基板(2〇2)之轉數比較基板(202) 於施用起點之轉數增高約2倍。 11. 如申請專利範圍第9項之方法1其中該基板(2〇2)施用 面之空調風速設定為不超過約0.4米/秒。 12. —種生產光學資訊記錄媒體之空調系統,包含: 一超縱座標洩放管線(520)用於執行熱模類型光學 資訊記錄媒體之生產設備(14)之空氣排放,該媒體包 含於基板(202)上至少一記錄層(204)其可以雷射束照射 記錄資訊;及一次洩放管線(502)用於執行構成該設備 (+14)之至少一處理區段(32)之空氣排放;超縱座標洩放 管線(520)之次洩放管線(502)係透過氣密緩衝器單元 (500)彼此連結,其中: i 裝 ί 訂線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 44 4527 9 /1 A8 B8 C8 D8 經濟部中央梯準局貝工消費合作社印製 六、申請專利範圍 該超縱座標洩放管線(520)之排氣管(524)係於緩衝 器單元内部與次洩放管線(502)之排氣管(426)分開。 13. —種生產光學資訊記錄媒體之空調系統,包含: 一空調機(302)用於進給潔淨空氣(ca)至熱模類型 光學資訊記錄媒體之生產設備(14),該媒體包含於基 板(202)上有一層記錄層其可以雷射束照射記錄資訊, 該設備(14)包括三或多個處理區段(30,32,34),其中 該系統進一步包含: 進氣量控制裝置用於控制由空調機(302)進給設備 (14)之空氣量,使設置於設備(14)中部之至少一處理區 段(32)之氣氛壓力係高於設置於設備(14)周邊部份之複 數處理區段(30,34)之氣氛壓力。 14. 如申請專利範圍第π項之空調系統,其中該進氣量控 制裝置包括複數方向控制板(342a至342d,344a至344d) 設置於由空調機(302)至設備(14)之空氣供應通道上。 15. 如申請專利範圍第13項之空調系統,其中該進氣量控 制裝置包括分隔板(70,72)架設於設置於設備(14)中部 之至少一處理區段(32)與設置於設備(14)周邊部之複數 處理區段(30,34)間。 16. —種生產光學資訊記錄媒體用之空調系統,包含: 一除濕裝置(304)用於處理及除濕空氣獲得一次空 氣(al); 一濕化裝置(332a,332b)用於處理及濕化至少一 次空氣(al)獲得二次空氣(a2);及 —^m f J — - ^^^1 n (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(〇阳)八4洗格(210父297公着) 45 扣濟部中央榡準局貝X消費合作社印¾ A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 一進氣裝置(334a至334d)用於供給二次空氣(a2)至 熱模類型光學資訊記錄媒體(D)之生產設備(14),該媒 體包含於基板(202)上有一記錄層(204)可藉照射雷射束 記錄資訊,其中: 具有比電阻不小於0.1 5百萬歐姆之水用作濕化裝 置(332a ’ 332b)之濕潤來源(336)。 17. 如申請專利範圍第16項之空調系統,其中該除濕、裝置 (3〇4)係引進外部空氣(ea)進行除濕。 18. 如申請專利範圍第16項之空調系統,其進一步包含: —混合裝置(330)用於引進來自設備(14)之排放空 氣(ra)而與一次空氣(al)混合,其中: 該濕化裝置(332a ’ 332b)處理及濕化來自混合裝 置(3 30)之混合空氣(ha)獲得二次空氣(a2)。 】9·如申請專利範圍第18項之空調系統,其進一步包含: 至少二設備(14)之洩放管線,其中: 第一洩放管線(322)係連結至混合裝置(330); 第二洩放管線(502)係透過氣密緩衝器單元(500)連 結至超縱座標洩放管線(520)而監視該設備(14);及 超縱座標洩放管線(520)之排氣管(524)係於緩衝器 單元(500)與第二洩放管線(502)之排氣管(426)分開。 20.如申請專利範圍第16項之空調系統,其中: 該進氣裝置(334a至334d)包括進氣量控制裝置用 於控制進給設備,(i 4)之空氣量,使設置於設備(丨4)中部 之至少一處理區段(32 )之氣氛壓力係高於設置於設備 _...、度4丐士i國家禕芈規格 ---------装------ΐτ------.ii (靖先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 46 4 5 2^° A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 - (14)周邊部份之複數處理區段(30,34)之氣氛壓力。 21. 如申請專利範圍第20項之空調系統,其_該進氣量控 制裝置包括複數方向控制板(342a至342d,344a至344d) 設置於至設備(14)之空氣供應通道上。 22. 如申請專利範圍第20項之空調系統,其中該進氣量控 制裝置包括分隔板(70,72)架設於設置於設備(14)中部 之至少一處理區段(32)與設置於設備(14)周邊部之複數 處理區段(30,34)間。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本X ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 47 本纸張尺度逋用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐)
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