TW452521B - Cleaning device and method for cleaning resin sealing metal mold - Google Patents
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45 25 2 1 A7 ________L B7 五、發明說明(ί ) 發明說明 發明背景 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明是關於一種淸潔裝置及用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔方法,特別是關於一種利用雷射光自樹脂密封金 屬模移除污點的淸潔裝置及使用此淸潔裝置的方法。 相關技藝說明 樹脂密封金屬模通常用於藉由以樹脂密封丨c、Ls丨等 而製造特定產品。在用於製造特定數目的產品以後,必須 淸潔樹脂密封金屬模。此淸潔是重要的,特別是當產品數 目大的時候,當產品外觀等必須改進的時候,及當產品的 耐氣候性必須維持及改進的時候尤然。 傳統上,淸潔樹脂密封金屬模經常需要人工執行的淸潔 過程。結果,需要大量的勞力及時間以用於淸潔。此狀況 導致樹脂密封過程中人力時間增加及生產力惡化的問 題。 在狀況下,極爲期待淸潔裝置發展之進步及能夠簡化樹 脂密封金屬模之淸潔操作的淸潔方法。所期待的是,此裝 置及方法能夠減少淸潔操作的人力時間及淸潔時間,以改 進生產力。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 就一先前技藝的例子而言,日本公開特許專利申請案 1 0 - 2 5 5 5 1 0號揭示一用於車輛的照明燈透鏡《更詳言之, 所揭示者係關於一種用於車輛的照明燈透鏡,其中形成一 主要由氧化鈦製成的薄膜,其具有光介質的功能。在該揭 示的表1中,於一前照明燈透鏡-其外表面塗覆以具備光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 452521 A7 _______B7____ 五、發明說明(> ) 介質功能的薄膜-以陽光照射五小時的狀況下,在照射前 後測量透光率以觀看差異。表1顯示,在陽光照射前後, 畸變透鏡之透光率改變的測量結果,即,在污點由陽光分 解前後,透鏡之透光率的改變,陽光係500毫微米的光。 此外,在先前技藝參考案中也提到,用於車輛的前照明 燈透鏡能夠藉由紫外線以光分解畸變透鏡上的污點,以自 然維持透鏡的透明度,因爲它具備氧化鈦薄膜-其具有光 介質功能而有效形成於畸變透鏡表面上-之故。 依此方法,先前技藝參考案顯示,其上形成一薄膜之此 畸變透鏡能夠分解及移除透鏡上的污點,此提供一優點, 即,前照明燈能夠使它的外觀與照明度長久保持良好的狀 況=然而,掲示於參考案中的此薄膜只可以部分分解與移 除有機化合物的污點。 在先前技藝參考案中,未揭示移除所附著之無機物污 點。所以,難以完全淸潔包含有機材料及無機物的複雜污 點。例如,密封材料是有機材料與無機材料的化合物,有 機材料係諸如環氧樹脂等,無機材料係諸如矽石、氧化鈣 等的充塡物。關於移除此複雜污點,其通常遠比移除有機 物污點的狀況困難。同樣地,單獨利用上述淸潔方法難以 淸潔複雜污點。 至於其他先前技藝的例子,日本公開特許專利申請案卜 1 2 2 4 1 7號揭示一淸潔方法,利用淸潔模製合成樹脂所用 的金屬模。依據此方法,可以移除有機物與無機物的污 點。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) * —III --------^« — — — ( — 1— , (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4525 2 1 ΚΙ _____B7 _五、發明說明(^ ) 然而,在此方法中,如果使用參考案之第3圖所示的方 法,必須花費長時間,即,三至五小時,以完全移除整個污 點。此外,淸潔所需要的時間依照金屬楔的尺寸與骯髒程 度而定,因此,無法預期改善生產力。 本發明已經達成先前技藝所考慮到的上述特色。在一 用於樹脂密封的樹脂中,各種有機物與無機物混合在一起, 所以,每次在形成樹脂密封時,包含有機與無機物混合物 的樹脂彤成材料傾向於粘附在形成樹脂密封之一金屬模 表面。此導致污點的累積。 依據上述先前技藝的方法,例如,污點的移除是用紫外 線的光分解效應而執行,其對於物品之分解爲有機物造成 限制。 結果,無機物的污點並未分解,而是堆積在金屬模內 部。所以,不可能使金屬模內部完全淸潔。此外,關於一 由有機與無機物之複雜化合物製成的密封材料,淸潔效應 將更減小,使得更難以移除污點。 發明槪述. 所以,本發明之一目的是提供一種裝置及使用該裝置的 方法,裝置用於在短時間內淸潔樹脂密封金屬模上的污點, 即使污點是有機與無機物之複雜化合物時亦然》 依據本發明的第一特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔裝置,包括:一雷射光產生機具;,一第一反射機具, 用於反射雷射光產生機具所產生的雷射光;及一第二反射 機具,用於自第一反射機具接收所反射的雷射光,以照射 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 452521 ___B7___ 五、發明說明(4 ) 該金屬模的內表面。 (請先閱讀背面之注項再填寫本頁) 依據本發明的第二特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔裝置,其如第一特色所述,又包括一轉動機具,用 於轉動該第二反射機具。 依據本發明的第三特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔裝置,其如第一特色所述,其中該雷射光產生機 具是一脈波形雷射產生機具,其以脈波施加雷射光。 依據本發明的第四特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔裝置,其如第二特色所述,其中該雷射光產生機 具是一脈波形雷射產生機具,其以脈波施加雷射光。 依據本發明的第五特色 > 提供一淸潔系統,包括:一用於 淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷射光產生機 具、一用於反射雷射光機具所產生的雷射光之第一反射 機具、及一用於自第一反射機具接收所反射的雷射光所 照射該金屬模內表面的第二反射機具;與一具有一薄膜的 樹脂密封金屬模,薄膜具備光介質效應,且形成於金屬模 之至少一部分。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 依據本發明的第六特色,提供—淸潔系統,包括:一用於 淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷射光產生機. 具、一用於反射雷射光產生機具所產生的雷射光之第一 反射機具、一用於自第一反射機具接收所反射的雷射光 以照射該金屬模內表面的第二反射機具' 及一用於轉動 該第二反射機具的轉動機具;與一具有一薄膜的樹脂密封 金屬模,薄膜具備光介質效應,且形成於金屬模之至少一 本紙張尺度適用中國國家搮準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45 25 2 1 A7 __B7______五、發明說明(f ) 部分》 依據本發明的第七特色,提供一淸潔系統,包括:一用於 淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷射光產生機 具、一用於反射雷射光產生機具所產生的雷射光之第一 反射機具,一用於自第一反射機具接收所反射的雷射光 以照射該金屬模內表面的第二反射機具、及一用於轉動 該第二反射機具的轉動機具,該雷射光產生機具是一脈波 形雷射產生機具,其以脈波施加雷射光;與一具有一薄膜 的樹脂密封金屬模,薄膜具備光介質效應,且形成於金屬 模之至少一部分。 依據本發明的第八特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔方法,包括:一用於產生雷射光的雷射光產生步 驟:一第一反射步驟,用以反射在雷射光産生步驟所產生的 雷射光;及一第二反射步驟,用於接收在第一反射步驟所 反射的反射雷射光,以施加雷射光,以照射該金屬模內表 面。 依據本發明的第九特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔方法,其如第八特色所述,所中該金屬模具有一 薄膜,薄膜具備光介質效應,且形成於金屬模之至少一部 分。 依據本發明的第十特色,提供一用於淸潔樹脂密封金屬 模的淸潔方法,包括:一用於產生雷射光的雷射光產生步 驟;一第一反射步驟,用於反射在雷射光產生步驟所產生 的雷射光;及一第二反射步驟,用於接收在第一反射步驟 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4规格(210 X 297公釐) 452521 A7 B7 五、發明說明(b ) 射 反面 所表 反 雷 照 以 雷 0 以 偽 光 薄 質 光介 射光 雷一 加至 施加 以施 ’波 光 膜 内加 模施 屬條 金膜 該薄 表 内點 模污 屬雜 金複 於的 面 污 πρ ώρ 内 模 屬 金 除 移 。 解物 分合 熱化 與機 化無 氧與 光機 由有 藉有 以含 點 明 說 細 詳 列 下 由 性 特 穎 ^ Τ— 葑 與 的 目 他 其 及 上 明以 説的 單明 簡發 式本 圖 附 合第 配 圖 讀 閲 圖 視 是 _ 楚之 清明 為發 更本 以示 可顯 時, 中 其 模 屬 金 封 密 脂 樹 潔 清 有第 ,在Μ ^ 是 裝h 笔圖 潔 2 清第 的 彼 於 定 設 正 模 屬 金 線 的 圖 圖 視 ώο 之 作 所 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝---- 線 的 圖 下 況 狀 同 不 1 -在 第在,r 在示示 是顯顯 圖圖圖 3 4 5 第第第 圖 視 剖 之 作 所 之 而I 例以 一 光 之加 鏡施 形源 邊光 多一 的自 明, 發 本 於 用 像 關 的 間 之 應 明 效說 潔例 清施 與實 間佳 時 較 圖 考 參第 在考 現參 至 實 一 。之 例模 施屬 實金 佳封 較密 一 脂 之樹 明的 發明 本發 明本 説供 細提 詳將 將 , J 圖 3 訂---------線 例 施 樹 之 明 發 本 是 圖 1A 第 線 的 圖 li 第 在 是 圖 2 作
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I I--.^------- 訂·! ------線 r (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 5 2 5 2 t A7 --~~·>_____B7 &、發明說明(9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 金屬模與下金屬模二者的污點。在此事例中,可以提供複 數多邊形鏡7與完全反射鏡5。金屬模的上部分與下部 分可藉由將複數光瞄準多邊形鏡而同時照射,此係藉由利 用複數完全反射鏡與在完全反射鏡前部分的半鏡以將雷 射光分爲二,或藉由利用複數光源而達成。於是,在本發 明中,應用多重反射系統,利用具有反射功能的複數構件, 諸如多邊形鏡7、完全反射鏡5等,可以在X方向、Y方 向、Z方向自由照射金屬模。在本發明中,只要本發明之 標的停留在它的限制內,則可適當配置複數多邊形鏡7、 完全反射鏡5、雷射光源等,且又可適當添加光學系統, 諸如半鏡 '透鏡等。 此外,以片形施加雷射光的操作可以操作程式爲基礎而 以執行。例如,在本發明中,含有每一金屬模特別骯髒部 分之資訊的資料可以映射格式編輯而輸入,以製作操作程 式。然後,淸潔操作能以具備污點分佈的映射資訊之此程 式爲基礎而執行。本發明可以處理形狀複數之每一形式 的金屬模,且有效引導每一模的雷射光照射》 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 所以,本發明之樹脂密封金屬模淸潔裝置2能以強烈的 雷射光照射穴1 1的每個地方,而只需要短的時間。因此,. 強烈的紫外線可以短時間施加至金屬模內部,導致可以在 短時間內完全移除含有有機與無機物化合物之所有形式 的污點》 在本發明之樹脂密封金屬模淸潔裝置中,較佳者爲,YAG FHG(第一諧波產生器)雷射光( 266毫微米)、YAG THG(第 -1 1 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 45 252 1 A7 _B7_ 五、發明說明(W) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 三諧波產生器)雷射光(3 5 5毫微米)等之雷射光4充當光 源。特別地,在本發明中,此雷射光的強度通常具有約5 0 0 至2000毫瓦特的輸出,及約〇.〗至〇.2平方公厘的光點 尺寸。此外,此雷射光必須較佳地以脈波施加,且脈波循 環正常必須在100至100000赫茲內,在500至50000赫 茲內更佳,或約1 0 0 0 0赫茲更佳。利用此雷射光的照射可 藉由約60至1〇〇公厘/秒的操作速率在金屬模上執行。 —具有光介質功能的氧化鈦薄膜1 〇以此雷射光照射。 氧化鈦薄膜1 0可以利用習知的方法製作》例如,氧化 鈦薄膜】0可以由有機鈦化合物 '鹵素、無機鈦化合物形 成,有機欽化合物係諸如欽醇鹽(titanium alkoxide)、 鈦螫合物(titanium chelate)、醋酸鈦(titanium acetoxUe)、化學式RaTiCl3_a等(R是單價醇有機群,諸 如烴基群、烷氧基群、乙酸基群等,而,a,是整數]或2。 當’a’是2時,R可爲相同或不同),鹵素係諸如ΤιΧ4等,無 機鈦化合物係諸如T i C丨4、T i ( S04 )等。至於利用以上化 合物產生氧化鈦薄膜10的方法有溶膠-凝膠過程、CVD 方法等。CVD方法包含,例如,M0CVD方法,其利用上述有 機鈦化合物與無機鈦化合物》 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至於其他方法,噴濺金紅石型或銳鈦礦型氧化鈦的方法 及在氧化氛圍下噴濺金屬鈦的方法是可行的。 在另一方法中,溶解於有機溶劑中的液態有機鈦化合物 溶液或分散於有機溶劑中的液態有機鈦化合物之分散液 體係用於塗覆,以藉由一有機鈦化合物或—無機鈦化合物 -1 2 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 525 2 彳 A7 ___B7_____ 五、發明說明((/ ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 的水解或是藉由氧化鈦的先驅物而形成一薄膜。其後,施 加氧化過程等,以使氧化鈦最終形成薄膜。在此事例中, 正在產生的氧化鈦薄膜1 0可以是金紅石型或銳鈦礦型。 此外,在形成一薄膜於金屬模表面以前,可施加諸如砂 石等的矽化合物,其後,形成一由化合物製成的薄膜,化合 物含有利用上述鈦化合物的氧化鈦化合物。較佳地,在含 有氧化鈦化合物的化合物形成於薄膜中以後,其必須加熱 以強化其與金屬模的接合,且改進它的光氧化性。在本發 明中,雖然一具有光介質功能而形成於金屬模表面上之氧 化鈦薄膜使用於本發明的較佳實施例中,但具有光介質功 能的任何化合物可施加至金屬模表面(較佳爲施加至金屬 模內表面),只要本發明之標的未改變即可。關於此化合 物,例如,可以從下列選擇或更多:SrTi〇3、ZnO' Sn02、W〇3、 Fe203、Fe03-Fe0、Bi 203 ,以添加至上述光介質、且又與 氧化鈦的上述光介質一起形成於一薄膜中。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉由以來自該光源的強烈雷射光照射由上述方式形成 的氧化鈦薄膜1 〇上之污點9 ,污點9可藉由包含光分解 與熱分解的二種分解效應移除。例如,污點9可爲充當密 封材料之環氧樹脂的餘留成份。既然1壞氧樹脂是有機物, 它可藉由氧化鈦的強烈光氧化效應而光分解。同時,由於 光點面積約爲0 . 1至0 . 2平方公厘之雷射光4的強烈光 學能量,及2 0 0毫瓦特以上(例如,5 0 0至2⑽0毫瓦特)的 輸出,污點9不只光分解,且經由碳化等而熱分解。待用 於本發明的雷射光較佳爲脈波型,但也可爲連續型。 -1 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 45 25 2 1 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(α) 由本發明之樹脂密封金屬模淸潔裝置2移除的污點狀 況及污點移除方法的其他例子顯示於第5圖中,以作比 較。第5圖顯示,在不同的照射狀況下之不同事例的淸潔 結果。 第5圖中:位準1是一事例的淸潔效應之一例,其中作 爲光源之一低壓水銀燈用於施加0 . 3 5 5微米(3 5 5毫微米) 的紫外線。在使用此光源時,污點主要只藉由光分解而分 解。 ' 位準2是一事例的淸潔效應之一例,其中使用一光介質 與一低壓水銀燈,水銀燈作爲光源,以施加0 . 3 5 5微米 (3 5 5毫微米)的紫外線。在此事例中,由於紫外線與光介 質之使用所致的直接光分解複錐效應所引起的光分解效 應,乃將污點分解。 位準3是一事例的淸潔效應之一例,其中二氧化碳雷射 作爲光源,以施加1 0 . 5 9微米(1 0 5 9毫微米)的紅外線。 在使用此光源時,污點主要只藉由熱分解而分解。 位準4是一事例的淸潔效應之一例,其中使用一光介質 與一 YAG THG(第三諧波產生器)雷射,以施加〇」55微米 (3 5 5毫微米)的紫外線。在此事例中,由於紫外線與光介. 質之使用所致的直接光分解複雜效應而引起的光分解效 應,以及由於平行使用光介質與熱分解-其由一強烈雷射 光引發-導致以上複雜的光分解所同時引起的複雜效應, 乃將污點分解。在此事例中,污點在短時間內分解,且展 示1 0 0%的淸潔效應。 -1 4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ill---------^--------訂---------線 > (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 25 2 1 A7 ____B7 五、發明說明(β ) 第5圖中,位準4對應於本發明的淸潔方法,其利用平 行使用光介質與熱分解所導致光分解之同時與複雜的效 應。與只使用光分解或熱分解以引發淸潔作用之其他事 例相比’位準4展示]〇〇%的淸潔效應,且在展示此淸潔效 應時只需要短時間,約一小時或更少。 如上述,依據本發明,樹脂密封金屬模淸潔裝置包括雷 射光振盪單元3 '完全反射鏡5與多邊形鏡7。 在一用於樹脂密封的樹脂中,所有種類的有機物與無機 物結合起來。特定產品藉由利用金屬模模製.此樹脂密封 的樹脂而製造。用於此事例之樹脂密封金屬模的表面通 常具有一樹脂密封材料,其包含在每—樹脂密封生產過程 中粘附於它的有機與無機化合物。當此樹脂密封材料與 金屬模使用很多次時,樹脂密封材料的餘留物累積而變成 複雜的污點,其含有在金屬模內表面上的有機與無機化合 物。 依據本發明,採取上述結構,同時引起光分解(光氧化) 效應與熱分解效應。結果,本發明不僅可以有效移除有機 化合物的污點,而且可以有效移除無機化合物的污點。此 外,本發明能夠從密封材料中完全移除複雜的污點,其中. 有機化合物與無機化合物混合在一起。 此外,依據本發明,強烈的紫外線雷射光可以脈波與片 的形式照射。所以,藉由來自一強烈雷射功率與脈波照射 的衝擊力等所引起之機械效應的污點移除添加至上述效 應所致的污點移除。結果,本發明不僅可以有效移除有機 -1 5 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·----I I I 訂· I 1 I I ! - 經濟部智慧財產局員工湞費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ">252 ί Α7 _;_Β7_ 五、發明說明(W ) 化合物的污點,而且可以有效移除無機化合物的污點《此 外,本發明能夠從密封材料中完全移除複雜的污點,其中 有機化合物與無機化合物混合在一起。只使用光氧化或 熱分解以除移此複雜的污點是困難的,或者需要長時間, 但本發明可在短時間內移除此複雜的污點,而不會在金屬 模上面產生任何刮痕。 所以,依據本發明,即使當新的污點形成於金屬模表面 上時,可以容易地移除它們。此外,沒有污點由於金屬膜 上面的刮痕而形成,所以,LS I等的品質不會由於形成在 金屬膜上面的刮痕而受到影響。 雖然已經使用特殊術語而說明本發明的較佳實施例,但 此說明純爲繪示之目的;且應瞭解,可加以改變及變化,而 不會偏離下列申請專利範圍的精神或範疇。 符號之說明 1…樹脂密封金屬模 1 ’ 樹脂密封金屬模 2…樹脂密封金屬模淸潔裝置 3…雷射光振盪單元 4.. .雷射光 . 5--·完全反射鏡 6 ...雷射光 7…多邊形鏡 8 雷射光 9.. .污點 -16- (請先閱讀背面之>i意事項再填寫本頁) 裝·--1!1 訂------ -- 線- 本紙張尺度適用_國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 452521 A7 __B7 五、發明說明(<) ο 2 膜穴 薄封鈦密 匕 旨氧樹片
向方 X (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝----- --訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
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- 452521 AH C8 1)8 六、申請專利範圍 1 . 一種用於淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,包括: 一雷射光產生機具; 一第一反射機具,用於反射雷射光產生機具所產生的 雷射光;及 一第二反射機具,用於自第一反射機具接收所反射的 雷射光,以照射該金屬模的內表面。 2 .如申請專利範圍第1項之淸潔樹脂密封金屬模的淸潔 裝置,又包括一轉動機具,用於轉動該第二反射機具。 3 .如申請專利範圍第1項之淸潔樹脂密封金屬模的淸潔 裝置,其中該雷射光產生機具是一脈波形雷射產生機具, 其以脈波施加雷射光《 4 .如申請專利範圍第2項之淸潔樹脂密封金屬模的淸潔 裝置,其中該雷射光產生機具是一脈波形雷射產生機具, 其以脈波施加雷射光。 5 .—種淸潔系統,包括.· 一用於淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷 射光產生機具、一用於反射雷射光產生機具所產生的 雷射光之第一反射機具、及一用於自第一反射機具接 收所反射的雷射光以照射該金屬模內表面的第二反射 機具;及 一具有一薄膜的樹脂密封金屬模,薄膜具備光介質效 應,且形成於金屬模之至少一部分。 6 · —種淸潔系統,包括: —用於淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷 -1 8 - 本錢&度_巾關家標準(c㈣A4規格⑵G χ 297公髮) -------------^--------訂-----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45 25 2 1 AH m 六、申請專利範圍 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 射光產生機具、一用於反射雷射光產生機具所產生的 雷射光之第一反射機具、一用於自第一反射機具接收 所反射的雷射光以照射該金屬模內表面的第二反射機 具、及一用於轉動該第二反射機具的轉動機具;及 一具有一薄膜的樹脂密封金屬模,薄膜具備光介質效 應,且形成於金屬模之至少一部分。 7 . —種淸潔系統,包括: 一用於淸潔樹脂密封金屬模的淸潔裝置,其具有一雷 射光產生機具、一用於反射雷射光產生機具所產生的 雷射光之第一反射機具、一用於自第一反射機具接收 所反射的雷射光以照射該金屬模內表面的第二反射機 具、及一用於轉動該第二反射機具的轉動機具,該雷射 光產生機具是一脈波形雷射產生機具,其以脈波施加雷 射光;及 一具有一薄膜的樹脂密封金屬模,薄膜具備光介質效 應,且形成於金屬模之至少一部分。 8.—種用於淸潔樹脂密封金屬模的淸潔方法,包括: 一用於產生雷射光的雷射光產生步驟; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制^' 一第一反射步驟,用於反射在雷射光產生步驟所產生 的雷射光;及 一第二反射步驟,用於接收在第一反射步驟所反射的 反射雷射光,以施加雷射光,以照射該金屬模內表面。 9 .如申請專利範圍第8項之用於淸潔樹脂密封金屬模的 淸潔方法,其中該金屬模具有一薄膜,薄膜具備光介質 本紙張尺度適闬中國國家標準(CNS);\4規格(210 X 297公釐) 452521 A8 BH C8 m 申請專利範圍 效應,且形成於金屬模之至少一部分。 1 0 . —種用於淸潔樹脂密封光屬模的淸潔方法,包括: 一用於產生雷射光的雷射光產生步驟; 一第一反射步驟,用於反射在雷射光產生步驟所產 生的雷射光;及 一第二反射步驟,用於接收在第一反射步驟所反射 的反射.雷射光,以施加雷射光,以照射該金屬模內表 面, 雷射光係以脈波施加至一光介質薄膜,薄膜係施加 於金屬模內部,以藉由光氧化與熱分解移除金屬模內 部的複雜污點,污點含有有機與無機化合物。 (請先閱讀背面之,注意事項再填寫本頁J ^--------訂---------線— 經濟部智慧財產局員工消費合作社印裂 -20 本紙張尺度適用中國國家標準〈CNS)A.l規格(21〇 x 297公髮)
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