A7 B7 五、發明説明( 經濟部中央標枣局Μ工消費合作社印^1士 [發明之詳细說明] [發明%靨技術領域] 本發明係有關於一種供給蝕刻液與 處理液於液晶顯示裝置用玻璃基板、 基板、印刷基板、半導體晶圓等基板 基板處理裝置。 [習知技術] 就向來對上述液晶顯示裝置用玻璃 理工序而言,有所謂供給酸性蝕刻液 表面上,將基板表面上所形成金靥膜 圖型於基板表面上之處理工序。 進行此類處理之裝置(蝕刻裝置)一 水平姿勢搬送基板,對向基板表面, ,噴注蝕刻液者。惟,此類裝置若基 疲易於淤積()在基板,i 性,亦即難Μ對基板全體均一施K蝕 [發明所欲解決之問題] 在這方面*近年來係藉由沿著水平 ,亦即與基板搬送方向和水平面上正 改變蝕刻液噴注方向,同時使基板相 向進退(搖動),促使蝕刻液流出基板 換性。 惟,即使如此搖動唄嘴及基板而供 之裝置,亦有基板若大到某一程度Κ 負性抗蝕用顯像液等 等離子區顯示用玻璃 上,進行預定處理之 基板等基板所施一處 於顯像處理後之基板 溶解,藉此形成所需 般係藉滾輪输送帶成 經由所配置多數噴嘴 板大型化,即有蝕刻 Μ確保蝕刻處_11均一 刻處理之問題。 面上與基板寬度方向 交之方向搖動噴嘴而 對於噴嘴沿著搬送方 外,Μ提高蝕刻液1 姶蝕刻液於基板表面 上*触刻液難以流出 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·
、1T 本紙張尺度適川中國囤家標準((’NS ) Λ4規格(210X 297公釐) 4 - ΑΊ Β7 五、發明説明(2 基板外,蝕刻液依然滯留於基板上的傾向。因此,在蝕刻 處理的_ 一性提高上有待方份改菩01屬„地。 且此問題並不限於蝕刻處理,於例如負性抗蝕顯像等顯 像處理中亦發生相同問題,亦有將其解決之必要。 本發明係用K解決上述問題者,其目的在於提供一種基 板處理裝置,處理液對基板,基据表面 經濟部中央標隼局負工消费合作社印妃 全體可均一處理。 又,本發明目的在於提供一種基 ,、 處理基板全表面全jL· [用Μ解決問題之裝置] 為解決上述問題,本發明於供f 施以預定處理中, 於平面度之 供給装置,對_保舅」:述黽斜姿^^ 專利範圍第1項)。 根據此装置,供給於基板表面之 基板傾斜方向中下位側之端部流下 板即使為大型基板,處理液滯留於 ,而有效提高處理液對基板的置換 特別是,前述姿勢保持裝置所成 5°〜20°範圍内(申請專利範圍第 用於基板而向下流出基板外。 又,於申請專利範圍第1或2項所 供給装置亦可朝著基板之垂直線方 板處理裝置,可較均 處理液於基板表面上而 具備_^_^保持^ 傾斜姿勢;K及 基板供給處理疲 處理液沿 。因此, 基板上情 性。 基板傾'斜 2項),處 基板流 作為對 形幾不 角度若 理液即 載裝置中,前述 向或相對於此垂 置,保 處理液 J申請 動,自 象的基 會發生 設定在 有效作 處理液 直線方 n —^nt nn —^—>1« mV nn ^^^^1 In· —^ϋ utm m^i 一、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準((:NS ) Λ4規格(210X 297公釐) 5 - A7 B7 五、發明説明(3 ) 向的基板傾斜方向中下位側供給處理液(申請專利範圍第3 項)。如此,即可確實防止處理液往上推壓的現象,亦即 , 〜- ,配置多數個處理液供姶裝置,排列在之 结構,供自下位側處理液供給裝置而沿基板流下的處理液 藉供自下位側的處_理液供給装置的處理疲壓力回頭推壓上 . - ..- —_ __ 一一 位側jS現象。 另一方面,於申請專利範圍第1或2項所載裝置中,若設 有可變裝置,可將處理液供給方向改變為基板傾斜方向( 申請專利範圍第4項),即可K少量處理液供給裝置對較廣 面積直接供給處理液。 於此情形下,可變装置配置成,沿著垂直於基板的分界 線,循基板的傾斜方向,於上位側成0°〜10° ,於下位 側成0°〜30°範圍内,搖動前述處理液供給裝置(申請專 利範圍第5項),或者,前述可變裝置宜配置成,沿垂直於 基板之分界線,循基板傾斜方向,於上位側全搖動角度的 20〜30¾範圍內,搖動前述處理液供給裝置(申請專利範圍 第6項)。如此,可在有效防止處理液上推現象發生的範圍 ^^1 -·- I 1^1 In ^—^1 ^^^1 士^, - —-I- II ^^^1 ^^^1 m ^14 /¾ ,-° (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標枣局貝工消费合作社印# 由 若 中 置 裝 0 之 圍項 範一 的任 液中 理項 3 處 給 供第 接圍 直範 板利 基專 對請 能申 大在 擴, , 又 内 至 11 的處 板給 基供 送, 搬中 向送 方搬 行板 平基 板於 基, 與置 著裝 沿持 並保 , 勢 交姿 正述 向前 方成 斜構 傾置 板裝 基送 與搬 。 第 理圍 處範 K 利 施專 板請 板基申 基對於 於而 , 液板又 理基 送 搬 地 佳 極 率 效 可 即 若 中 置 装 之 項 1 任 中 )>項 項 6 7 至 第 項 圍 I 範 利 專 請 Ψ 6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 五、發明説明(4 A7 B7 及對 Μ 相 置向 装方 給行 供平 液板 理基 處與 令於 , 對 中相 給並 供’ 液交 理正 處向 於方 , 斜 置傾 裝板 TTr- 移與 有板 設基 處 給 供 接 直 積 面 廣 較 對 , 置 )*裝 項給 y\y 供 液 理 處 量 少 可 移樣 復一 往項 第 圍 範 利 專 請 第 圍 範 利 專 請 申 與 。保之 效面.理 有平處 中水定 合於預 組對 Μ 的相施 項對而 S6S 液 5ffi#,理 第明處 圍發給 範本供 利,板 專題基 請問的 申述勢 於上姿 其決斜 是解傾 別了度 特為角 〇 * 定 液且預 理 持 置 裝 給 供 液 It 理 處 11 第 備 具 中 向 方 斜 傾 述 上 沿具 , 並 液 理上 處面 給表 供板 部基 端述 的上 置側至 裝位流 理上下 處中向 板向液 基方理 處 2 第 備 斜 傾 板 基 於 處 使 装 給 供 液 ίιι 理 上 板 基 於 注 噴 第液 此理 較處 在將 置 , 配側 , 位 置下 更 中 向 方 斜 傾 板 基 於 置 裝 給 供 液 理 處 ° \—/ 項 9 第 圍 範 利 專 請 申 板 基 沿 液 理 處 之 置 裝 給 供 S 測 — 位 理m巾 第向 自方 供斜 , 傾 置板 装基 此從 據而 根動 -? 39 流 ί: 理 處 此 藉 ο 下 流 部 |!^1 ml ^^^1 m n . ϋϋ ί υ —^ϋ \ ., ./*-ΐ α? Ί (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 速 迅 而 用 作 生 產 體 全 板 基 對 液 基 於 注 噴 液 理 處 將 置 裝 給 供 液 理 處 外上 板板 基 出 流 第 由 藉 時 此 傾 板 基 制 抑 可 經濟部中央標準局β-τ..消f合作杜印果 傾 板 基 與 有 I具 下置 低設 度宜 性置 活裝 /V b給 彳供一二 理 I J 理 gi處 處 1 的第 側 ’ 位中 下置 中装 向此 方於 斜 而 面 表 板 基 於 行 平第 並 , 交 又 正 ’ 向嘴 方噴 斜口 處 2 置 装 給 供 液 i: 理 切 的 □ 液 供 上 P 切 置項 置 W設lof㈣裝 當 適 的 板 基 向 對 有 、具 部 端 之 側 位 上 中 向 嘴方 噴斜 的傾 口板 疲基 供自 數可 多即 第 圍 範 利 專 請 申 疲理 理處 處 , , 又 此, 如下 。 流 第 圍 範 利 專 , 請 際申 之於 注 -噴又 液 圍 範 廣 極 板 基 亙 可 液 ?* 理 處 注 噴 之 項 ο 1X 或 可 11 第 有 設 若 中 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 7 A7 B7 經濟部中央標準局兵工消费合作社印" 五、發明説明(5 ) 變装置,可將第1處理疲供給裝置的處理液供給方向改變 為基板,斜方向(申請專利範圍第11項),即可有效抑制自 第1處理疲供給裝置供至基板特定部份的高性度處理液繼 續供給所導致的處理不均,亦即該特定部份的處理相較於 其他部份,Μ異常速度進行的現象。 進一步在申譆專利範圍第9至11項中任一項之裝置中, 若設有第2可變裝置,可改變上述第2處理液供給裝置的處 理液供給方向(申請專利範圍第12或13項)*即可藉合理構 成,亙基板較廣範圍噴注處理液。 且,申請專利範圍第1至13項中任一項之装置作為各處 理液供給裝置對基板供給蝕刻疲或負性抗蝕用顯像液(申 請專利範圍第14項)之蝕刻裝置或負性抗蝕顯像装置,特 別有用。 [發明之實施形態] 茲使用圖式就本發明第1實施形態加Κ說明。 第1圖係顯示本發明基板處理裝置,即蝕刻装置之斜視 圖。如此圖所示,蝕刻裝置10具有處理槽12。於此處理槽 12内部具備用Μ搬送角形基板W之舅送機構16(搬送裝置) 及用Μ供給蝕刻液至基板W表面之噴嘴30(處理液供給 裝置)。 1 於上述處理槽12中,在其側面設有基板導入口 14,並在 與其對向側面設有基板専出口 15。亦即,基板V經由基板 専入口 14導入處理槽12中施Μ蝕刻處理後,處理後之基板 W經由基板導出口 15,於次一工序導出。 本紙張尺度適州中國囤家標埤((’NS ) Λ4規格(210X 297公釐) -^ϋ nn tf^i In .. ^^^^1 - J. /fl ,T (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8 A7 B7 經濟部中央標卒局只工消费合作社印^11水 五、發明説明(6 ) 上述搬送機構16係滾輪輸送帶,具有沿搬送方向並列袖 支承之P送滾輪18,以及圖式外側Μ馬達為驅動源而同步 旋轉此等搬送滾輪18之驅動機構,配置成經由上逑基板導 入口 14接受導入之基板V,Μ搬送滾輪18支持此基板W而將 其搬送。 如第2圖所示,上述搬送滾輪18具有在相對於水平面僅 成角度0傾斜狀態下旋轉自如支持於處理槽12之側壁間之 滾輪軸20,於此滾輪軸20中央部位具有中央滾輪22,並具 有部份支持型滾輪構造,分別具有一對側部滾輪2 4於二端 部份。於各滾輪22、24上分別外嵌装配用來作為媛衝材的 橡膠等柔軟性材料製0形環26,於各側部滾輪上,各側部 滾輪24在其外方側部分別一體形成軸環部24a。且在基板W 搬送之際,藉各滾輪22、24由褢面將基板W支持,並藉搬 送滾輪18傾斜方向的下位側(第2圖右側)的軸環部24a防止 基板W滑落 而以傾斜姿勢搬送基板W。亦即,藉上述 搬送機構16構成本發明姿勢保持裝置。又,基板W的傾斜 角度,亦即上述滾輪軸20之傾斜角度Θ ,於本實施形態中 採蝕刻處理之均一性良好之態樣,設定在5°〜20°範圍 内。又,部份支持滾輪並不限於圖示者J亦可例如為設有 複數個對應於中央滾輪22之多點支持滾輪。 上述噴嘴30如第1圖所示,於搬送機構16上方,上述噴 嘴30經由支架32固定於基板W傾斜方向上位側之端部上方 ,經由供液管34連接於圖式外之蝕刻液貯留用槽。 於唄嘴30上形成沿基板W搬送方向(M下單稱搬送方向) 本紙張尺度適州中國國家標準(rNS ) Λ4規格(210X 297公釐) n m ml Kn In— nn —^ϋ mt \ 一 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 經濟部中央標準局员工消費合作社印*''水 A7 B7 五、發明説明(7 ) 伸延的切口狀吐出口 30a,陳嵌設於上述供疲管34中例如 閥裝置之操作供給蝕刻液於基板表面上。且噴嘴30之吐出 1 口 30a在基板W定位於後述預定基板處理位置狀態下,配置 成位於基板W傾斜方向之上側端部而可亙其全體供給蝕刻 液。 如上述構成之蝕刻裝置10如第3(a)圖所示,首先,面經 由基板導入口 14將前一工序處理終了後的基板導入處理槽 12内夕面藉搬送機構16搬送。且,基板W前 端一旦到達 預定位置,搬送機構16即停止,藉此,基板tf定位於處理 槽12内的基板處理位置。 若基板W定位,蝕刻液即藉由供液管34的閥啟開開始自 噴嘴30供至基板W的表面上(第3(b)圖)。此時若蝕刻液 供至基板W*由於基板¥如上述保持傾斜姿勢,故鈾刻液自 基板W傾斜方向中上位側端部沿基板流下而自下位側端部 向下流出基板外。且正當蝕刻液如此沿基板W流動,蝕刻疲 作用在基板表面上而施K蝕刻處理,供處理之蝕刻液與其 所產生溶解物質一起向下流出基板外。 如此*若僅在預定時間内供給蝕刻液,供液管34的閥即 關閉Μ停止蝕刻液供給。上述搬送機構16再度驅動,處理 後的基板W經由上述基板導出口 15歷次一 X序進而歷本實 施形態Μ純水所進行水洗工序搬出(第3(c)圖)。 根據以上蝕刻装置1 0,由於蝕刻液沿保持傾斜姿勢的基 板W流下而進行蝕刻處理,故蝕刻液都不會滯留在基板上 ,蝕刻液置換性顯著提高。由於蝕刻液可相對於基板表面 本紙張尺度適;fl中國國家標肀(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐) -1 〇 - m mV lv.lt ^^^^1 ^ϋ— mV HKi . 一 V /. ,5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標隼历货τ,消费合作社印製 五、發明説明 ( 8 ) 1 1 1 全 體 9 均 一 作 用 同 時 蝕 刻 液 可 迅 速 流 出 基 板 外 故 與 對 保 1 1 I 持 水 平 的 1 基 板 供 給 蝕 刻 液 的 習 知 此 類 裝 置 相 較 f 可 對 基 板 1 1 I W施Μ更均- -的蝕刻處理 請 先 1 甚 而 可 藉 由 如 上 所 述 提 高 蝕 刻 液 之 置 換 性 有 效 縮 短 閑 讀 背 1 I 蝕 刻 處 理 所 需 時 間 〇 亦 即 9 就 習 知 裝 置 而 - 由 於 與 基 板 之 vi 1 I 意 1 I W相互作用Μ致劣化的蝕刻液滯留於特定部份 故此部份 事 項 1 I 的 蝕 刻 處 理 進 行 會 變 慢 而 D 在 此 部 份 需 要 時 間 〇 惟 上 述 蝕 再 填 ( 刻 裝 置 1 0由 於 蝕 刻 液 均 一 作 用 在 全 體 基 板 上 同 時 迅 速 流 出 寫 本 頁 裝 1 基 板 外 故 與 習 知 裝 置 相 較 可 Μ 極 短 時 間 施 Μ 適 當 處 理。 1 1 又 9 由 於 處 理 後 蝕 刻 液 難 Μ 殘 留 在 基 板 表 面 上 故 可 有 1 1 效 抑 制 蝕 刻 疲 於 次 _· X 序 排 出 因 此 而 可 減 輕 蝕 刻 液 消 耗 1 訂 量 抑 低 其 運 作 成 本 〇 t 而 具 有 可 藉 由 減 輕 蝕 刻 液 排 出 量 1 1 於 次 一 工 序 減 輕 供 水 洗 處 理 的 純 水 (廢液)處 理 成 本 的 儍 點 1 1 I 〇 亦 即 * 由 於 蝕 刻 液 的 排 出 量 一 多 水 洗 工 序 中 廢 液 所 含 1 1 蝕 刻 液 湄 度 即 增 高 故 如 此 即 無 法 排 入 下 水 道 而 須 施 Κ 1 一 定 處 理 〇 因 此 廢 液 處 理 成 本 會 墊 高 0 惟 如 上 所 述 > 1 1 蝕 刻 液 排 出 量 一 旦 減 輕 水 洗 1 序 之 廢 液 中 所 含 蝕 刻 液 濃 1 I 度 即 減 低 因 此 * 未 經 處 理 即 可 將 廢 液 排 入 下 水 道 中 如 1 1 此 即 可 抑 i 疲 處 理 成 本 〇 1 1 又 由 於 即 使 不 若 習 知 裝 置 一 面 搖 動 蝕 刻液 供 給 用 噴 嘴 t 1 或 相 對 於 噴 嘴 使 基 板 W- -面進退 t 一 -面供給蝕刻液 •亦可 I 提 高 蝕 刻 液 置 換 性 , 故 9 如 此 即 具 有 裝 置 構 造 可 簡 化 的 優 1 1 I 黏 〇 1 1 其 次 就 本 發 明 第 2實施形態加K說明 ) 1 1 ~ 11 - 本紙張尺度適州中國國家標率(CNS ) Λ4現格(210Χ 297公梦_ ) 經濟部中央標牟局员-Χ消费合作社印«.'1水 A7 B7 五、發明説明(9 ) 第4_顯示第2實施形態之蝕刻裝置。且由於此圖所示蝕 刻装置10’之基本構成與第1實施形態之上述蝕刻裝置10共 1 通,故k通部份標K與上述蝕刻裝置10相同之符號而省略 其說明,以下僅就不同點加K說明。 同圖所示蝕刻裝置10'配置成上述搬送機構16可正逆旋 轉驅動搬送滾輪18,於基板W處理時,藉由搬送滾輪18正 逆旋轉撾動,基板WM基板處理位置為基準,朝搬送方向往 復移動。 又,於處理槽12內部設有具備多数噴嘴40a(處理液供給 裝置)之複數媛衝罐40,並設有使此等鍰衝罐40旋轉的驅 動機構(圖示省略),圖示例子設有四個緩衝罐40,此等媛 衝罐40藉驅動機構朝同一方向同步旋轉。 各緩衝罐40如第5圖所示藉沿著搬送方向伸延的圓筒罐 朝基板W傾斜方向隔一定間隔,並以相對於搬送櫬構16上 所支持基板W具有一定距離相互平行狀態予Μ配置,分別 經由支持軸42旋轉自如地支持於處理槽12之側板間。且經 由供液管44分別與圖式外的蝕刻液貯留用槽連接。 上述噴嘴40aK圓錐狀吐出蝕刻液,亦即圓錐狀之噴塒式 嗔嘴相對於基板W沿搬送方向隔一定間隔並設。又,鄰設 諸媛衝罐40的關係配置成,上下各緩衡罐,40的噴嘴40 a沿 搬送方向間置,使基板W的傾斜方向中下位側的媛衡罐40 » 的噴嘴40位於上位側緩衝罐40之一毗鄰組之嗔嘴40a之間 。且隨著供液管44所介設例如閥裝置之操作,從各噴嘴 40a蝕刻液自各噴嘴吐出於基板表面上。 本紙張尺度適W中國國家標率((:NS ) Λ4規格(210X297公釐) -12- . . ί裝 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局β工消費合作社印*11^· A7 B7 五、發明説明(l〇 ) 上述旋轉媛衝罐40之驅動機構固省略圈示,惟配置成, 例如設有循基板W傾斜方向坤i的驅動軸,各支持軸40經
I 由鍋輪(worm gear and worm wheel)連結於此驅動袖’上 述驅動軸並經由減速機連接於驅動用馬達。且在基板W處 理之際,各媛衝罐40随馬達正逆旋轉驅動一體循同一方向 正送旋轉,藉此,各噴嘴40a在預定角度内搖動。亦即本 發明可將處理液供給方向改變為基板傾斜方向的可變裝置 由上述驅動機構構成。 且本實施形態之噴嘴40a搖動角度保持良好的蝕刻液置 換性,且就後逑有效減輕不均現象之一態樣而言,設定在 40° K内的角度,復如第6圖所示,K自支持袖42中心向 下至基板W的垂直線8為基準,設定基板W傾斜方向中向下 位側搖動的角度α在30° Μ内,向上位側搖動的角度/3在 10° Μ 内。 復在加Μ上構成的蝕刻裝置10'情形下,首先,如第 7(a)圖所示,基板W經由基板導入口 14専入處理槽12内, 同時藉搬送機構16搬送至上述基板處理為位置為止。 藉由供液管34的閥開啟,如第7(b)圖所示,蝕刻液開始 自各緩衝罐40的噴嘴40a供至基板W表面上•與其同步,搬 送機構16正逆旋轉驅動,藉此,基板W於以基板處理位置 為中心的一定範圃内循搬送方向注復移動(搖動)。 如此,若蝕刻液僅僅預定時間,供液管34的閥34即閫閉 而停止蝕刻液供給。且,上述搬送機構16旋轉驅動,處理 後的基板W經由基板導出口 15搬出而進至下一工序(第7(c) 本紙張尺度適用中國國家標牟(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) , 裝 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局负τ,消资合作社印*'''水 A7 B7 五、發明説明(U) 圖)。 於上述第2實施形態之蝕刻裝置1 0 '中*亦由於蝕刻液沿 保持傾k姿勢的基板W流下Μ進行蝕刻處理,故與第1實施 形態之触刻裝置10相同,可提高蝕刻液之置換性,均一且 快速進行蝕刻處理,又可有效抑制蝕刻液攜出進至下一工 序。 甚而由於配置成蝕刻液自對向基板W設置的多數噴嘴4〇a 吐出而噴注於基板上,故相較於蝕刻液自基板W傾斜方尚 中上位側,端部流下之第1實施形態之蝕刻装置,具有可 對基板¥較均一施Μ蝕刻處理之特徵。 亦即,第1實施形態之蝕刻裝置10由於蝕刻液沿基板W自 其上位側流下,故與基板V上位側的蝕刻液相比,下位側 的蝕刻液活性較低。亦即,基板y下位側的蝕刻液會劣化 ,因此,與基板w上位側相比,會有下側的處理進行慢一 些的傾向。惟上述第2實施形態之蝕刻裝置10’由於蝕刻液 自對向基板W所配置的多數噴嘴40a吐出而大致對基板全面 噴注蝕刻液,故可供給高活性度之蝕刻液於基板W全體。 因此,基板W之處理大致於其全體均一進行。此點與第1實 施形態之蝕刻裝置10相比,可均一進行蝕刻處理。 而第2實施形態除在蝕刻液噴注於基板γ情形下,藉由提 高蝕刻處理的均一性,如上述提高蝕刻液的置換性外,減 低蝕刻液對基板W的不均現象亦為其重要課題。 亦即,藉由蝕刻液直接噴注以供給蝕刻液之部份與藉由 單純沿著基板W流動供給蝕刻液之部份由經驗可知會在蝕 本紙張尺度適州中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) ~ 1 4 ~ n mi tm In In n^i .*m ml 1^1 ^^^1 m I^n )-1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中夾標革局^:工消費合竹社印1,1水 A7 B7 五、發明説明(12) 刻液處理進行中發生微妙差異(相對不均),因此,在藉由 唄嘴噴注蝕刻液於基板上情形下,直接於基板W的較廣範 圍上噴1注固極重要,惟根據上述蝕刻裝置10’,則有藉合 理構成有效減輕此種相對不均的特徴。 總之,直接將紗刻液噴注於基板W的較廣範圍的方法固然 考慮到對向基板W固定配置多數噴嘴Μ吐出蝕刻液,惟若 設有太多唄嘴,即難Μ進行自各噴嘴適當吐出蝕刻液的疲 壓管理,或者發生鄰設銪噴嘴過於接近配置,吐出自各噴 嘴之蝕刻液等緩衝而無法對基板W適當噴注蝕刻液的情形。 至於上述蝕刻裝置10',則如第8_所示,在停止狀態下 可對基板W直接噴注蝕刻液之領域成為圓形處(同圖中Κ符 號Sa標示之領域),藉由嗔嘴40a搖動,循基板W傾斜方向 ,將此領域擴大(同圖中Μ符號Sb標示之領域)*進一步藉 由基板W搖動,將此領域循搬送方向擴大(同圖中K符號Sc 標示之領域)。因此,可藉少數噴嘴對基板W的較廣範圍直 接噴注蝕刻液,有效減輕上述此種相對不均的現象發生。 而上述第1及第2實施形態之蝕刻裝置10,10’則係發明基 板處理裝置一部份之實例,其具體構成可在不悖離本發明 要旨範圍内適當變更。 例如*上述實施形態固然設定基板W的ji斜角度0於5° 〜20°範圍内,惟基板W的具體傾斜角度Θ可考盧到不限 於此角度的基板W大小與蝕刻液性質等種種條件適當設定 ,俾基板W的蝕刻處理均一進行。惟在基板傾斜角度不滿5° 情形下,因表面張力,蝕刻液會部份殘存在基板上,無法 本紙張尺度適;1〗中國國家標枣((’NS ) Λ4規格(210 X 297公釐) -15- I I / 批衣 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局员工消费合作社印^· A7 B7 五、發明説明(13 ) 預期蝕刻液平滑流下,又在超過20°情形下,相反地,蝕 刻液的i流下速度會變得過快而令蝕刻戒難以充份作用在基板 上。因此,基板W傾斜角度0宜設定在5°〜20°範圍内。 且,第2實施形態之蝕刻裝置10’固然設定成,於上逑噴 嘴40a搖動動作中,其搖動角度在40°以内,復Μ自支持 軸42中心向下至基板W的垂直線g為基準,基板W傾斜方向 中朝下位側搖動的角度α在30° Μ内*朝上位側的搖動角 度召在10° Μ内,惟,噴嘴40 a的具體搖動角度亦不限於 此,可適當設定,俾基板W的蝕刻處理更均一進行。惟, 宜設定搖動角度於上述範圍内K有效均一處理基板W。亦 即,在K少數噴嘴直接將蝕刻液噴注於基板tf的較廣範圍 情形下,噴嘴40 a的搖動角度固宜設定成較大,惟若基板W 傾斜方向中朝上位側搖動的角度/S變大,自基板W上位側 的噴嘴40a吐出而沿基板W流下的蝕刻液會在吐出自下位側 噴嘴40 a的蝕刻疲液壓下向基板W上位側推壓而發生所諝上 推現象,结果遂妨礙蝕刻液快速流下而影響蝕刻液置換性 。惟若設定噴嘴40a的搖動角度於上述範圍内,即可在不 致於伴生上述上推現象的範圍内儘可能擴大藉噴嘴40 3可 直接噴注蝕刻液的領域。因此,若設定搖動角度於此範圍 内,即可提高蝕刻液的置換性,甚而可有效減輕相對不均 的發生,藉此可高度達成基板W的均一處理。 又,在上述噴嘴40a的搖動角度設定中,例如在噴嘴40a 的全體搖動角度預先設定情形下,亦可以自支持軸42的中 心向下至基板W的垂直線為基準,分別設定朝基板W的上位 本紙張尺度適川中國國家標率(('NS ) Λ4規格(210X 297公嬸) I mi in HI n^i 一 /-,. US. i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -16 - 五、發明説明(l4 A7 B7 上形 朝情 中此 向於 方。 斜 傾 w i 板20 基的 使度 » 角 泠動 、 搖 α 體 度全 角為 搖度 的角 側的 位動, 下搖 及側 側位 ο 3 直 可 液 刻 蝕 大 擴 内 圍 範 的 象 現 推 上 生 伴 於 致 。 不域 在領 可的 亦注 ’ 噴 下接 第 液 , 刻嘴 蝕噴 給動 供搖 ,% 面 又方一 雙成 置 板 疲 配 基'S刻 與10蝕 30置惟 嘴装, 噴刻此 置蝕如 配之然 定態固 固形 , 10施 ί 置實 裝 刻 蝕 之 態 形 施 實 2 第 又 板 基 搖 面 供Μ 態 狀 斜 傾 成 態 形 施 實 等 板此 基於 使限 若不 樣而 態定 之選 作當 動適 給可 供不 噴② 情 搖 α此嘴 , 液 刻 蝕 由 下 形 類 種 二 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝· ③ ΠΒΠ 搖 板 基② 定 ' 固 固 . 基 嘴 ίΒί① 噴慮 ① 二 ί 樣 可態 sc S./ 議 作 作_ 的 動 W 的板 嘴基 噴 , 於型 液合 理 組 處其 給將 供或 中 , 行作 進動 其等 於此 而定 送選 搬當 序適 工宜 一 故 進 , 向型 板類 4441--1 基種ί 一二 通樣 板態 基之 例而 ο > 4 成罐 構衡 之緩 上置 板設 基定 於固 疲在 刻 ’ 蝕中 注 ο 噴I 而 嘴 唄 置 設 定 固 於 置 裝 刻 蝕 之 態 形 施 實 , 2 又第 。 如 下 形 情 置 配 的 液 刻 蝕 給 供
,tT 經濟部中央標隼局貝工消贤合作社印^ 於 對 相板 循基 , 向 象朝 現向 推方 上線 述垂 上於 止對 日防相 40實或 嘴確向 噴可方 各俾線 自 , 直 最 位 下 40垂液 嘴的刻« ^ » 有sf出 ^ ^ tt 好S側r· 0 ^ 狀□ 切4( 有嘴 具噴 由之 經液 然刻 固蝕 態 出 形吐 施狀 實錐 述圓 上與 ο I 3 又嘴 噴 a 之 a 0 3□ 液 吐 板 基 於 疲 刻 蝕 姶 供 噴 狀 罐 的 水 純。 出嘴 吐噴 _u tf ί 孔種 單種 自 等 如嘴 例噴 用狀 適霧 可 之 亦液 ’ 刻 外蝕 之 出 此吐 除狀 , 霧 惟 、 , 嘴 態 形 施 實 之 明 發 明 說 以 加 態 形 施 實 3 第 明 發 本 就 式 圖 用 使 茲 本紙張尺度適州中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 17 經濟部中央標本局贷工消费合作社印ΐ水 A7 B7 五、發明説明(l5 ) 第9圖係顯示本發明基板處理裝置之蝕刻裝置之斜視圖 。如此|ffl所示,蝕刻裝置10具有箱型處理槽12,於此處理 槽12内部具備具Μ搬送角形基板W之搬送機構16,Μ及用 Μ供給蝕刻液於基板表面上之蝕刻液供給裝置。 在上述處理槽12中,於其側面設有基板導入口 14,並於 與其對向側面設有基板導出口 15。亦即,經由基板導人口 14基板W導入處理槽12中而施Κ蝕刻處理後,經由基板導 出口 15,將處理後基板W導出至次一工序。 上述搬送機構16係滾輪輸送帶,具備有搬送滾輪18,循 搬送方向並列袖支承;Μ及圖式外之驅動機構* Μ馬達為 驅動源而同步旋轉此等搬送滾輪18,配置成經由上述基板 導人口 14接受導人的基板,Μ搬送滾輪18支持、搬送此基 板W。 如第10圖所示,上述搬送滾輪18具有滾輪軸20,成钼對於 水平面僅成角度Θ的傾斜狀態*旋轉自如地支持於處理槽 12側壁間,於此滾輪軸20中央部具備中央滾輪22,具有分 別於二端部份具備一對側部滾輪24之部份支持型滾輪構造 。於各滾輪22、24上分別外嵌裝配橡膠等柔軟性材料所製 成作為緩衝材的0形環26,並於各側部滾輪24上,分別在 於其外方側部一體形成軸環部24a。且在塞板W搬送之際, 藉各搬送滾輪22、24自褢面支持基板W,藉搬送滾輪18傾 斜方向中下位側(第10圖右側)的軸環部24a防止基板W滑落 而成傾斜姿勢搬送基板W。 又,基板W傾斜角度,亦即上述滾輪袖20的傾斜角度0 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) ,。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局只工消费合作社印纪 A7 B7 五、發明説明(16 ) 於本身為蝕刻處理均一性良好之一態樣之本實施形態中, 設定在5°〜20°範圍內。 上述蝕刻液供給裝置配設有切口唄嘴30(第1處理液供給 裝置),配置在定位於後述基板處理位置的基板的傾斜方 向中上位側端部上方;Μ及多數噴琳式噴嘴40(第2處理液供 給裝置),相對於此切口噴嘴30位於較下位側而對向基板W 予Μ配置。 上述切口噴嘴30經由支架32固定於處理槽12之側壁上, 並經由供液管34連接於圖式外的蝕刻液貯留用槽。於此切 口唄嘴30上形成循基板W搬送方向(以下單稱搬送方向)伸 延的切口狀吐出口 30a,陲著例如介設於上述供液管34中 的晚装置的操作*自此吐出口 30a吐出蝕刻液而供給於基 板表面上。又,噴嘴30之吐出口 30a配置成,在基板W定位 於基板處理位置狀態下,可亙基板W傾斜方向中上位側端 部的全體供給蝕刻液。 另一方面,如第9圖所示,噴兩#噴嘴40設在搬送機構16 上方所配設緩衝罐36上,圖示例子配設二鍰衝罐36,複數 嗔4式嗔嘴40分別設在此等緩衝罐36上。 如第10圖所示,各鍰衝罐36藉循著搬送方向伸延的圓筒 罐循基板W傾斜方向隔一定間隔,且成相舍於搬送機構16 上所支持基板W隔一定距離相互平行狀態並排配置,分別 經由支持軸38支持於處理槽12的側板之間。供液管42分別 連接於各媛衝罐36,經由此供液管42,各媛衝罐36連接於 圖式外蝕刻液貯留用榷。_ >、紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公犛) I L— - ILI - - n m I m n I tn T i.寺 i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -19 - A7 B7 經濟部中央標隼局员工消贽合作社印來 五、發明説明(l7 上述噴辦式噴嘴40具有多數吐液孔,Μ成圓錐狀噴出蝕刻 液的所p圓錐狀噴琳元噴嘴對向基板W而循搬送方向隔一定 間隔並排設置。且隨例如介設於供液管42中的閥装置的操 作唄出蝕刻液,藉此噴注蝕刻液於基板W上。 又,如第11圖所示,各噴淋式噴嘴40朗向向下至基板W的 垂直線g的方向唄注蝕刻;^基板W的預定領域上。本實施形 態係蝕刻處理均一性良好之一態樣,藉由各噴并<噴嘴40, 將蝕刻液噴注在相對於自基板W傾斜方向中上位側端部起 30¾〜40¾位置,亦即自基板寬度方向的尺寸(第10圖中左 右方向尺寸)中基板W傾斜方向的上位側(第10圖左側)起 30¾〜40¾位置的較下位側部份上。 於如Μ上構成之蝕刻装置10中,首先,於前一工序處理 结束的基板W—面經由基板導入口 14導入處理槽12内,一 面藉搬送機構16搬送。且,基板y前端若抵達預定位置, 搬送機構16即停止,藉此,基板W定位於處理槽12内的預 定基板處理位置上。 基板W若定位,即藉由供液管34,42的各閥装置開啟*開 始自各噴嘴30, 40供給蝕刻液於基板W表面上。此時,若自 切口噴嘴30供給蝕刻液於基板W上*由於基板W如上所述保 持傾斜姿勢,故蝕刻疲自基板W傾斜方向中上位側端部沿 基板流動而自下位側端部向下流出基板外。且在蝕刻液如 此沿基板W流動中,蝕刻液作用在基板表面上而於基板Wi: 胞Μ蝕刻處理,供處理之蝕刻液與其所產生溶解物質一起 向下流出基板外。 本紙張尺度適用中國國家標华(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) m m^« n· ϋ··— ^^^^1 Ai^n 一 J (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 20 經濟部中央標準局货工消費合作社印^ A7 B7 五、發明説明(is ) 如此*若在預定時間内供給蝕刻液,供液管34,42之各 閥装置^闞閉而停止蝕刻液供給。且, 上述搬送機構16 再度驅動,處理後的基板W經由上述基板導出口 15進至次 一工序,本實施例一旦進至Μ純水進行的水洗工序,即被 搬出。 根據上述蝕刻裝置10*由於沿保持傾斜姿勢的基板《使 蝕刻液流下而進行蝕刻處理,故蝕刻疲完全不會滯留在基 板上,顯著提高蝕刻液的置換性。因此5蝕刻液可一面對 基板表面全體均一作用,一面迅速流出基板外,藉此即可 於基板表面全體上,均一施Κ蝕刻處理。 甚而,由於自切口噴嘴30供給於基板上的蝕刻液不僅自 基板W傾斜方向中上位側端部流下,噴;林式噴嘴40亦配置在 切口噴嘴30下位側而將蝕刻液噴注在基板W上,故具有可 較高度達成蝕刻處理均一性的特徵。亦即,由於蝕刻液只 沿基板流下,與基板W上位側的蝕刻液相比,下位側的蝕 刻液活性度會降低,亦即,基板W下位側的蝕刻液會劣化 ,故與基板上位側相比,下位側的處理進行變慢。因而, 此現象遂成為蝕刻處理均一性提高上的負面因素。惟如上 述蝕刻裝置10,於切口噴嘴30下位側若藉噴;林< 噴嘴40噴注 蝕刻液於基板上,活性度高的蝕刻液即供1至沿基板W流下 而劣化的蝕刻液中,而有效抑制基板W下位側的處理液劣 化。因此,蝕刻處理較均一進行於基板全體上,藉此即可 較均一進行蝕刻處理。 而在如上述藉噴淋i噴嘴4 0唄注蝕刻液情形下,固有處理 I紙張尺度適用中國國家標準((、奶)7\4規格(210/ 297公釐) I IT n —h I I I ίί · I I I 丁 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -21 - A7 B7 經濟部中央標苹局員工消费合作社印s/ 五、發明説明 ( 19 ) 1 不 均 現 象 發 生 於 各 唄融噴 嘴40所 噴注蝕刻 液領域 之 分 界 部 1 份 之 處 | 惟 由 於 來 白 嗔调iig嘴 40的蝕刻疲 唄注在 白 切 P 噴 /--N 1 I 嘴 30供 給 於 基 板 上 而 流 下 的蝕 刻 疲表面上 ,故不 會 直 接 噴 請 A/I 1 1 I 注 在 基 板 W上( >因此, 只要藉由噴噴嘴 即不會如蝕刻 背 1 | 面 液 供 給 於 基 板 情 形 發 生 處 理不 均 0 之 注 1 I 意 1 I 因 此 根 據 上 述 蝕 刻 裝 置10 與習知此 種裝置 相 比 可 事 項 1 I 再 1 1 對 基 板 W極高度均- -地施Μ蝕刻處理。 填 f 寫 本 % 又 上 述 蝕 刻 裝 置 10係 本發 明 基板處理 裝置之 —‘ 蝕 刻 裝 頁 N--- 1 置 實 例 其 具 體 構 成 可 在 不悖 離 本發明要 旨範圍 內 適 度 變 1 1 更 〇 1 1 例 如 上 述 蝕 刻 裝 置 10中切 □ 噴嘴30之 蝕刻液 供 給 方 向 1 訂 固 然 固 定 惟 亦 可 設 置 可 變裝 置 (第1可變 裝置) 將切口 1 I 唄 嘴 30 之 蝕 刻 液 供 給 方 尚 改變 為 基板W傾斜方向 >於此情 1 1 1 形 下 例 如 構 成 上 述 可 變 裝置 經由支持 軸可搖 動 軸 支 承 I 1 切 P 噴 嘴 30 並 經 由 減 速 機連 結 此支持軸 於驅動 用 馬 達 » 1 随 著 此 馬 達 之 正 逆 旋 轉 驅 動, 搖 動切口噴 嘴30。 若 設 有 此 1 I 種 馬 達 改 變 處 理 中 切 □ 噴嘴 30供給蝕刻 液之方 向 即 可 1 I 有 效 媛 和 蝕 刻 液 供 給 方 向 固定 的 弊害,亦 即高活 性 度 蝕 刻 1 1 I 液 繼 鑛 供 給 基 板 W的特定處所 該處所的處理與其他部份 1 1 相 比 極 快 速 進 行 而 發 生 處 理不 均 的情形。 ~因此, 藉 由 切 口 ί 噴 嘴 30供 給 蝕 刻 液 的(关銘方 向可 變 ,使蝕刻 處理的 均 一 性 較 1 高 〇 1 I 同 樣 地 亦 可 設 有 可 變 裝置 (第2可變裝 置),可使各噴 1 1 I 賊噴 嘴 40的 蝕 刻 液 供 給 方 向變 成 基板W傾斜方向 •於此情 1 1 本紙張尺度適用中國國家標.,(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局员工消费合作社印^. A7 B7 五、發明説明(20 ) 形下,可設有例如相對於處理槽12可旋轉支持上述支持軸 38,循基板W傾斜方向伸延的驅動軸,經由蝸輪將各支持
I 軸42連k於此驅動軸,並經由減速機將上述驅動袖連接於 驅動用馬達,藉此構成上述可變裝置。如此,媛衝罐36即 隨馬達正逆旋轉驅動而正逆旋轉,结果,即改變噴_式噴嘴 40的蝕刻液供給方向。若設有此種可變装置,改變處理中 各噴汫式噴嘴40的蝕刻疲供給方向,由於蝕刻液的噴注領域 可擴大*故Μ少數噴淋式噴嘴40即可噴注蝕刻液於較廣領域 上。又就噴琳&噴嘴40而言*亦可構成可變裝置*可將蝕刻 液供給方向變更為基板W搬送方向等種種方向,而不限於 甚报W傾斜方向,又,媛衝罐36個數於本實施形態固設置2 個,惟亦可依基板W的大小等增減其個數。又,上述第1及 第2可變裝置固然各配置成相對於基板W搖動噴嘴30 ,40, 惟亦可例如構成可變装置,使噴嘴30,40固定,基板W移動 ,藉此改變蝕刻液相對於基板W的供給方向。 又,上述實施形態固然設定基板W之傾斜角度0在5°〜 20°範圍內,惟基板W的具體傾斜角度Θ可不限於此角度 ,考慮基板W大小與蝕刻液性質等種種條件,適當設定, 俾基板W的蝕刻處理較均一進行。又,噴噴嘴4 0之蝕刻 液供給方向亦無需如上述實施形態為垂直\於基板W的垂直 線方向,可適當設定,使基板W蝕刻處理可均一進行。惟 ,在唄嘴4 0的蝕刻液供給方向相對於基板W的垂直線方向 指向基板W傾斜方向中上位側情形下?會發生供自切口噴 嘴3 0而沿基板W流下的蝕刻液在來自嗔嘴40之蝕刻液 本紙張尺度適用中國國家標卒(CNS ) Λ4規格(210X 297公t ) - 23 - ^^^1 in* fuel ^^^^1 ^^^^1 m - tmi0 al^^i —^fv mu ——^ϋ VJ /: , i 、T (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局员工消费合作社印來 A7 B7 五、發明説明(21 ) 液壓下向基板W上位側推壓的所諝上推現象,结果會妨礙 蝕刻液快速流下,影響蝕刻液置換性。因此,噴雜&«嘴40
I 的蝕刻液供給方向宜將噴^«嘴40配置成(例如第3圖虛線 所示),朝基板V的垂直線方向或相對於垂直線方向朝基板 W下位側噴注蝕刻液。 又,上述實施形態固然藉唄坏膦嘴40將蝕刻液噴注在相 對於基板W傾斜方向中上位側端部起30¾〜40¾位置較下位 側部份上,惟唄辦式嗔嘴40的蝕刻液噴注領域亦可考盧基板 W的具體傾斜角度Θ與蝕刻液性質等適當設定,俾基板W之 蝕刻處理可均一進行。 又,上述蝕刻装置10處理時,亦可控制每單位時間的蝕 刻疲噴注量,使藉由二緩衝罐36中下位側緩衝罐36之各噴 許域贖嘴40噴注於基板W上之蝕刻液量大於上側緩衝罐36之 各噴港式噴嘴之哦注量。考慮到沿基板W流下的處理液在下 位側會有愈加劣化的傾向,可藉由如此控制蝕刻液噴注量 ,更均一進行基板W的蝕刻處理。 又*上述實施形態固略而不言,惟基板W無需於基板全 部製程中保持傾斜姿勢,可至少在蝕刻工序中保持基板W 於傾斜姿勢。因此,在蝕刻處理以外處理工序中基板W成 水平姿勢處理情形下*可在正要導入蝕刻彳裝置10之前,將 基板W傾斜専入蝕刻裝置10中,自蝕刻裝置10導出後不久 使基板W回復水平姿勢。又,上述實施形態固在基板W固定 於基板處理位置狀態下供給蝕刻液,惟亦可例如於次一工 序搬送基板W而供給蝕刻液。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 210X 297^1 ) _ 24 — m mf an— ^^^1 ^^^1 ^^^1 ^^^1 ^^^1 \ V (¾ i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明 (22 ) 1 1 I 又 t 上 述 各 實 施 形 態 固 省 略 其 說 明 , 惟 , 基 板 W無需於 1 1 基 板 全 製 程 中 保 持 傾 斜 姿 勢 f 可 至 少 於 蝕 刻 工 序 中 保 持 1 I 基 板 W於傾斜姿勢c 因此在蝕刻處理Μ外處理工序中基板 請 先 閲 ( I 成 水 平 姿 勢 處 理 情 形 下 9 可 在 正 要 導 入 蝕 刻 装 置 10之 前 將 讀 背 1 I ώ I 基 板 W傾斜導入蝕刻裝置10, 在自蝕刻裝置10導出後不久 之 注 1 I 意 1 I 使 基 板 W回復水平姿勢c 事 項 1 I 再 1 又 > 上 述 實 施 形 態 0 為 適 用 於 本 發 明 之 蝕 刻 裝 置 10 ,10 ' \ 本 裝 實 例 惟 本 發 明 除 適 用 於 此 種 蝕 刻 裝 置 外 亦 可 例 如 適 頁 ν__- 1 I 用 於 負 性 抗 蝕 顯 像 等 顯 像 處 理 裝 置 0 1 I I [發明效果] 1 1 如 Μ 上 Η 說 明 於 供 給 處 理 液 於 基 板 表 面 而 施 Μ 處 理 之 1 訂 基 板 處 理 裝 置 中 具 備 有 姿 勢 保 持 裝 置 基 板 保 持 相 對 於 1 I 水 平 面 成 預 定 角 度 之 傾 斜 姿 勢 Μ 及 處 理 液 供 給 裝 置 對 1 I 保 持 上 述 傾 斜 姿 勢 之 基 板 供 給 處 理 液 9 由 於 處 理 時 使 處 1 1 理 液 於 基 板 表 面 上 藉 本 身 重 量 流 下 藉 此 使 處 理 液 一 面 對 1 基 板 表 面 全 體 均 一 作 用 一 面 迅 速 流 出 基 板 外 f 故 與 對 保 1 1 持 水 平 之 基 板 供 給 處 理 液 而 施 Μ 處 理 的 習 知 此 種 裝 置 比 較 1 I t 可 有 效 防 止 處 理 液 滯 留 在 基 板 上 因 此 可 對 基 板 較 均 一 1 1 I 處 理 〇 1 1 特 別 是 , 姿 勢 保 持 裝 置 之 基 板 傾 斜 角 度 若 設 定 在 5。 1 20 ° 範 圍 内 9 在 例 如 於 蝕 刻 處 理 中 蝕 刻 液 (處理液)溶 解 ί 金 屬 膜 情 形 下 i 處 理 液 可 有 效 對 基 板 作 用 而 迅 速 向 下-:以 、基 1 1 板 外 0 1 1 I 又 9 在 固 定 設 定 處 理 液 供 給 裝 置 之 處 理 液 供 姶 方 向 情 形 1 1 -25 - 本紙浪尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 25 五、發明説明(23 ) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作杜印製 方理 變積的 裝中搖在在 向搬 装方接 以,上 線處 改面象 給向内置 ,ί。 方板 給行直 施 Ϊ 循 直 置 直給 向廣現 供方圍裝中 均行基。供平積 而 液 垂供 方較均 液斜範給向 不平在理液板面。液 ΛΘ 理 之側 給對不 理傾。 供方 π 對板而處理基廣生理 Μ 處 板位 供置對 處板30疲斜 I 相基 ,Μ 處與較發處®使 基下 液裝相 述基~理傾肋輕與置施使於^均給,里, 於中 理給謂 前於。處板 減著裝效,對 ή 不供 W 部 對向 處供所 使,Μ 述基 1 效循持有中相裝對板 1端 相方。將液輕 ,線M前於 有並保極給並給相基第側 朝斜象可理減 成界&«使, 面,勢而供,供諝之有位 , 傾現,處成 置分rfi, 線 i 一交姿板液交液所勢設上 成板推置童構 配為SET成界30, 正述基理正理輕姿,中 置基上裝少理 置線在置分 ~ 生向前送處向處減斜中向 配朝液變 Μ 合 裝直,配為20發方成搬在方量成傾置方 置向理可可Μ變垂0°置線的象斜構可,斜少構持裝斜 裝方處有即而 可的-1裝直度現傾置即置傾Μ理保理傾 給線止設,, 若板 ~ 變垂角推板裝,裝板可合對處板 供直防若向液 ,基0°可的動上基送疲動基即Μ於板基 液垂實,方理 下於為若板搖液與搬理移與,-明基於 理於確面斜處 形直側,基全理由的處有板動液發之液 處對丨可方傾給 情垂位者於為處若板給設基移理本理理 若相即 一 板供。此Μ上或 直側止 ,基供若 及復處 ,處處 , 或,另基接生於在在,垂位防又送中又以往給又定給 下向液 為直發 置,動 Μ 上效 搬送 置向供 預供 ftm· ΓΙ.Κ ffnn nn ^m nn n·-^— mi tens—’ /'"-'吞 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適州中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 26 A7 B7 經濟部中央標準局負工消费合作社印?木 五、發明説明(24 ) 1 i 述 傾 斜 方 向 向 下 流 至 上 述 基板表面上, 並設有第2處理液 1 | 供 給 裝 置 I > 位 在 相 對 於 此 第1處理液供給裝置較下位側而 1 1 將 處 理 液 唄 注 於 基 板 上 9 藉此一面使處 理 疲 作 用 於 基 板 全 請 1 1 L 1 1 體 上 > 一 面 迅 速 流 出 基 板 外,由於有效 抑 制 基 板 傾 斜 方 向 閱 讀 背 中 下 位 側 的 處 理 液 劣 化 (活性度低下), 故 與 習 知 此 種 裝 置 & 之 注 意 事 項 相 比 9 可 較 均 一 處 理 基 板 〇 1 1 於 此 裝 置 中 若 第 1處理液供給裝置設置切口噴嘴 具 再 填 / 4 有 與 基 板 傾 斜 方 向 正 交 並 平行於基板而 伸 延 的 切 P 上 所 設 寫 本 頁 裝 1 供 液 0 又 第2處理液供給裝置設置噴淋式噴嘴 具有對 1 丨 向 基 板 的 多 數 供 液 □ 即 可使處理液自 基 板 傾 斜 方 向 中 上 1 | 位 側 端 部 均 一 流 下 復 可 在處理液噴注 之 際 亙 基 板 極 廣 1 訂 範 圍 適 當 噴 注 處 理 液 〇 1 1 又 若 設 有 第 1可變裝置 使上述第1處 理 液 供 給 裝 置 之 處 I 1 理 液 供 給 方 向 改 變 為 基 板 傾斜方向,即 可 有 效 抑 制 活 性 度 1 高 的 處 理 液 繼 續 白 第 1處理液供給裝置供至基板特定部份 所 造 成 處 理 不 均 現 象 發 生 0 1 I 若 進 一 步設有第2可變裝置,可改變上述第2處理液供給 1 1 I 裝 置 之 處 理 疲 供 給 方 向 9 可Μ合理構成 f 亙 基 板 較 廣 範 圍 1 1 噴 注 處 理 液 〇 1 1 且 9 上 述 基 板 處 理 裝 置 若適用於對基 板 供 給 蝕 刻 液 或 負 | 性 抗 蝕 用 顧 像 液 之 蝕 刻 裝 置或負性抗蝕 顳 像 裝 置 » 可 實 現 1 I 良 好 的 處 理 9 特 別 有 用 〇 1 1 I rgt 圖 式 之 簡 單 說 明 1 I 第 1圖係顯示本發明基板處理装置(第 1實施形態) 之 蝕 刻 1 1 本紙張尺度適用中國國家標率((:NS ) Λ4規格(2丨OX 297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局貞工消费合作社印製 22 24 五、發明説明(2δ) 裝置之斜視圖。 第2圆係顯示蝕刻装置内部構造之側視圖。
I 第3(a)〜(c)圖係說明蝕刻裝置之基板處理動作之圖式£ 第4圖係顯示本發明基板處理装置(第2實施形態)之蝕刻 装置之斜視圖。 第5圖係顯示蝕刻裝置內部構造之側視圖。 第6圈係說明噴嘴搖動角度模式之圖式。 第7(a)〜(c)圖係說明蝕刻装置之基板處理動作之說明 圖。 第8圖係說明噴嘴所唄注蝕刻液領域之圖式。 第9圖係顯示本發明基板處理裝置第3實施形態之蝕刻裝 置之斜視圖。 第10圖係顯示蝕刻裝置內部構造之側視圖。 第11圖係說明噴增式噴嘴所進行蝕刻液噴注方向之圖式。 符號說明 10 蝕刻裝置 12 處理槽 14 基板導入口 15 基板導出口 16 搬送櫬構 、 18 搬送滾輪 20 滾輪袖 中央滾輪 側部滾輪 本紙張尺度適用中國國家標率(「阳)六4規格(210'乂 297公簏) 28 m mt^ I a^n ^^^^1 mi ms J ml flm nn mV nn m \J (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 五、發明説明(26) 30 噴嘴;切口狀唄嘴 30a ; 吐出口 3 4、4 2 供液管 36 平壓槽 40 噴港夂噴嘴 W 基板 m vnt nn nn ^^^^1 i^n —1— «nn fl^il —Bn·—^ /.,,¾ i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局员τ,消费合作社印來 本紙張尺度適州中國國家標準((’NS ) Λ4規格(210X 297公釐) 29