TW306084B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW306084B
TW306084B TW082104459A TW82104459A TW306084B TW 306084 B TW306084 B TW 306084B TW 082104459 A TW082104459 A TW 082104459A TW 82104459 A TW82104459 A TW 82104459A TW 306084 B TW306084 B TW 306084B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
resonator
optical path
mirror
total reflection
laser
Prior art date
Application number
TW082104459A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Application granted granted Critical
Publication of TW306084B publication Critical patent/TW306084B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/081Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/0401Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/086One or more reflectors having variable properties or positions for initial adjustment of the resonator
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/025Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

306034 A6 B6 .¾濟部中央標〜局貝工消費合作社印製 五、發明説明(3 ) 〔産業上之利用領域〕 本發明偽有關一種雷射振盪裝置,待別是有關謀求雷 射光射點(pointing)穩定化之雷射振壺裝置者。 [以往之技術〕 圖16傜表示例如日本專利公報特開昭GO- 2 5 4 6 S4號所 掲示之以往之雷射振盪裝置之構成斜視圖。在圖中,1 0偽 封入雷射媒質氣體之筐體,4傜一對放電電極,8偽熱交 換器,6偽吹氣機,2 6、2 8、 3 0偽全反射鏡,3 2係部份反 射鏡,1 2 a傜包含部份反射鏡3 2及全反射鏡之第1雷射光 反射裝置,1 2 b傜包含全反射鏡2 6及3 0之第2雷射光反射 裝置,2偽雷射光。又,圖17係表示前述第1雷射光反射 裝置1 2 a之截面圖,1 4及1 5偽配置在各部份反射鏡3 2及全 反射鏡2 8前面之孔洞(a p e r t u r e ) , 3 6係保持雷射光反射裝 置12a之光學基台,偽連結光學基台36及第2雷射光反 射裝置12b之光學基台連結棒,54係為了將筐體10及光學 基台3 6予以保持為真空密封所安裝之伸縮囊(b e !丨0 w s ), 3 8偽安裝於光學基台3 (5之光學基板,4 0及4 2傺分別安裝於 全反射鏡28及部份反射鏡32,目的是為了分別調整全反射 鏡2 8及部份反射鏡3 2角度之諏整板。 圖18.圖19偽表示光學基板38及安裝於此光學基板38 之調整板40之角度調整機構圖,圔18傜側面圔而圖19傜圖 18之B-B線截面圖。在這些圖中,46係為了調整調整板40 角度之調整螺絲,47係將光學基板38與調整螺絲46予以鑽 緊之螺絲部份,48傜為了密封逐漸使調整螺絲47對光學基 (請先閲讀背面之注意事碩再塡寫本頁) -—裝. 訂. .線. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>甲4規格(21ϋ X 297公釐) 3 82.3. 40,000 經濟部中央標?局員工消费合作社印製 A6 _B6_ 五、發明説明(4) 板3 8而言可以保持旋轉之0型環4 9偽設於調整板4 0而與調 整螺絲46之尖端相接之承受構件,55偽使調整板40向光學 基板3 8側拉緊所配置之彈簧,5 0偽設於調整板4 0之交點, 56偽流過調整板40之冷卻水,58傜為了使冷卻水56流動之 軟管,5 1 a、 5 1 b偽形成於光學基板3 8而為了使冷卽水5 6流 動之洞,52傜為了使軟管58與光學基板38及調整板40連接 之連接器。 以往之雷射振盪裝置傜成如上述之構造。其次說明其 動作。 圖20傜表示包含圖16所説明之雷射振盪裝置之諧振器 光路之振盪裝置長邊方向之垂直截面模式圖,在此圔20及 圖16中,筐體10傜如前述,配置一對為了産生放電而激起 雷射媒質氣體用之放電電極4及使雷射媒質氣體循環之吹 風機6以及冷S卩雷射媒質氣體之熱交換器8,雷射媒質氣 體偽通過一對放電電極4之間,激起至可以産生雷射振盪 之狀態。然後,雷射媒質氣體進入熱交換器8而冷卻後, 通過吹風機6而以箭頭A之方向循環。另一方面,藉配置 在筐體1 0之長邊方向之全反射鏡2 6、2 8、 3 0及部份反射鏡 所構成之諧振器鏡,使藉放電使雷射媒質氣體成為激起狀 態之激起領域1 8 ,如以所述,形成描繪Z字而通過之三條 諧振器光路。 被全反射鏡26反射之雷射光2傜通過第1光軸20而到 逹金反射鏡2 8 ,但因全反射鏡2 8偽配置成對第1光軸2 0以 角度.Θ向下方向傾斜,故雷射光2傜通過較第1光軸20以 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) .裝. .ΤΓ. i線. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4规格(210 X 297公釐) 4 82.3. 40,000 if濟部中央標局8工消費合作社印製 Α6 Β6 五、發明説明(*") 角度2 Θ向下方向傾斜之第2光軸2 2而到逹全反射鏡3 0。 在此,全反射鏡30傜配置成對第1光軸20而言以角度Θ向 上方向傾斜,故雷射光2偽通過與第1光軸20平行之第3 光軸2 4而到達部份反射鏡3 2。到逹部份反射鏡3 2之雷射光 2之一部份傜直接輸出外部,其餘則通過與上述相反之路 由而回至全反射鏡2 6 ,反覆上述之過程,雷射光2就反覆 通過激起領域1 8之間,被放大而從部份反射鏡3 2輸出至夕卜 部。 其次,對圖1 8、圖1 9之全反射鏡2 8之角度調整機構予 以說明。因全反射鏡2 8偽安裝於調整板4 0 ,故只要調整此 調整板40之角度就可以進行全反射鏡28之角度調整。調整 板4 0偽以彈簧5 5被光學基板3 8拉緊,並藉交點5 0及兩支調 整螺絲4 6頂箸,故藉支點5 0之長度及諏整螺絲4 6對於光學 基板3 8之突出長度之相對關係來決定調整板4 0之角度。即 ,藉旋轉調整螺絲46來變化調整螺絲46對於光學基板38之 突出長度,就可以調整調整板40之上下左右之角度。 然而,因全反射鏡28對雷射光2具有吸收率,故雷射 光2射出時就吸收其一部份而發熱。全反射鏡28傜藉冷却 水5 6冷卻調整板4 0予以間接性冷卻。冷卻水5 6偽由外部通 過軟管5 8而通過光學板3 8之洞5 1 a ,然後通過形成於調整 板4 0之洞内,再通過光學基板3 8之洞5 1 b而射出外部。 就溫度性而言,因光學基板3δ偽直接與冷卻水56接觸 .故其溫度乃依冷卻水溫度而改變;而光學基台36則依外 氣溫度而改變。若冷卻水溫度與外氣溫度發生溫差,則光 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS)甲4規格(21ϋ X 297公釐) r 82.3. 40,000 --------:-----1---.--------裝------訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) A6 B6 五、發明説明(6 ) 學基板3 8與光學基台3 6間亦將發生溫差,由於銶膨脹使光 學基板38與光學基台36之膨脹量有異,故兩者間就發生熱 應力。一般而言,因光學基台36傜支持第1或第2雷射光 反射裝置12a、 12b之構成零件之全部,而製成非常堅固。 因此,發生於光學基板3 8與光學基台3 6之間之熱應力,將 使光學基板38産生彎曲。 如上所述,一旦光學基板38産生彎曲,調整板40或調 整板42之角度就發生變化,而迫使全反射鏡28或部份反射 鏡32之角度發生變化而使諧振器内之雷射光之光軸發生偏 移,而致使雷射光射點(P 〇 i n t i n g )(位置精度)喪失穩定性 Ο 其次,就位置於前述圔20之第2光軸22及此第2光軸 2 2兩端之全反射鏡2 8、 3 0觀之;如前述所述,因全反射鏡 2 8傜對第1光軸2 0而言以角度0向下方向傾斜,故雷射光 2偽通過對第1光軸20而言以角度2Θ向下方向傾斜之第2 光軸2 2而到達全反射鏡3 0。因全反射鏡3 0偽對第1光軸2 0 而言以角度Θ向上方向傾斜,故雷射光2就通過與第1光 軸20平行之第3光軸24。換言之,第2光軸22偽對第1光 軸2 0及第3光軸2 4而言傾斜角度2 0 ,位於第2光軸2 2兩 端之全反射鏡28與全反射鏡30之反射面偽對第1光軸20及 第3光軸2 4而言分別成為角度Θ傾斜之互為平行之狀態。 在如此構成之情形下,如圖21所示,全反射鏡28與全 反射鏡3 0之反射面傜在孔洞1 5、 1 6之開口内發生互相正對 之部份34、35.與正規之雷射振盪不一樣在前述全反射鏡 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局S工消費合作社印製 82.3. 40,000 Α6 Β6 3ϋ6〇84 五、發明説明(7 ) 2 8與全反射鏡3 0互相在正對之部份3 4、3 5之間有可能發生 寄生振憑36; —旦發生此寄生振透,從雷射振邊裝置射出 之雷射光2之光束模式就發生異常,致使光束模式之穩定 性惡化。 又,光束模式之管制強度係由諧振器鏡之彎曲率與諧 振器長度(自全反射鏡2 6至部份反射鏡3 2之光路長度)所決 定之單模式(single mode)l/e2半徑W與孔徑之直徑彡之 « 比必/ W (以下稱為光束模式管制率)來決定。在此,e偽表 示自然對數之底,單模式光束模式管制率4 / W = 3、 1〜3、 4左右之管制率之孔徑選為管制孔徑值為多,前述光束模 式管制率0 /W值愈小,管制光束模式之程度就愈強烈。 以往之雷射振盪裝置,為了防止前述寄生振盪36之發 生,如圖3所示,使4個地方之孔洞1 4〜1 7中之一處之孔 洞之光束模式管制率0 / W較其他三處之孔洞之光束模式管 制率0 /W小。其原因傜若在許多地方管制模式,則諧振器 鏡之調整將成為困難,例如,孔洞1 4、 1 6、 1 7傜使光束模 式管制率必/ W = 3 . 6 ,僅使孔洞1 5之光束模式管制率於/ W =3 . 2來管制單模式之孔洞。 如此之構成,則管制光束模式之處僅有一處,使得調 整諧振器鏡較為簡單,但管制雷射光2通路之地方亦僅為 一處,使雷射光之光軸24管制孔洞在缓慢之範圍變動,有 無法確保雷射光2之射點之穩定性之問題。 〔發明擬解決之課題〕 以往之雷射振盪裝置係如以上所述之構成,有使雷射 本紙張尺度適用中國园家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) 7 82.3. 40,000 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 訂. .線, 經濟部中央標节.局貝工消費合作社印製 A6 B6 經濟部中央標準局ιβ工消费合作社印« 五、發明説明(8 ) 光射點之穩定性惡化之問題。 本發明傜為了解決如上述問題點者而提出者,並以可 以得到雷射光射點之穩定性甚佳之雷射振盪裝置為目的。 〔解決課題之手段〕 有闊申請專利範圍第1項之雷射振盪裝置係具備 由決定諧振器光路之部份反射鏡及全反射鏡所成,前述諧 振器光路配置成具有Z形折返部之諧振器鏡及選擇光束模 式之複數孔洞,在前述諧振器光路之Z形折返部之中,位 於傾斜光路兩端之兩只全反射鏡之前面所分別位置之兩只 孔洞之光束模式之管制率偽使其較其他孔洞之光束模式之 管制率更小者。 有關申諳專利範圍第2項之雷射振盪裝置偽具備由決 定諧振器光路之部份反射鏡及全反射鏡所成,在前述諧振 器光路配置成具有Z形折返部之諧振器鏡,在前述諧振器 光路之Z形折返部之中大致成為平行之兩個光路則互成為 立體交錯關偽之構成者。 〔作用〕 又,在本申請專利範圍第1項中,在具有Z形折返部 之諧振器光路之中,在位置於傾斜光路兩端之兩個全反射 鏡前面分別位置之兩傾孔洞之光束模式管制率傜構成較其 他孔洞之光束模式管制率更小,故前述兩個孔洞乃固定雷 射光之光軸。 在本申請專利範圍第2項中,為了具有Z形折返部之 諧振器光路之中位於傾斜光路兩端之兩只全反射鏡之有效 本紙張尺度通用中國S家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) R 82.3. 40,000 {請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) --裝. 訂‘ .線. 經濟部中央標準局βκ工消費合作社印製 A6 B6 五、發明説明(9 ) 面彼此互相不致正對,使前述諧振器光路之Z形折返部之 中大致成為平行之兩個光路構成立體交錯之關係,故可以 防止諧振器内之寄生振盪。 〔實施例〕 賁施例1 茲以圖1 、圖2說明本發明之第1實施例之雷射振盪 裝置之諧振器構成。圖1傜正面截面阃,圖 2係表示其底 視画。根據本實施例之雷射振盪裝置偽在4値孔洞之中之 Z形折返光路中,位於傾斜光路22之兩端之兩個全反射鏡 2 8、3 0之前面使分別位置之兩個孔洞1 5、 1 6之光束模式管 制率φ /W較其他兩個光束模式管制率4 /W小。例如,孔洞 1 4、 1 7偽使光束模式管制率<6 / W = 3 . 6 ,孔洞1 5傜作為管制 光束模式管制率於/ W = 3 . 2之單模式之孔洞,孔洞1 6傜使光 束模式管制率必/ W = 3 . 3。根據此孔洞1 5、 1 (3就可以規定傾 斜光路之位置。根據此構成,因孔洞1 5、 1 6之管制甚為駸 緊之地方有兩處方,故雷射光2之光軸24就被固定,就可 以確保雷射光2之射點之穩定性如以下所詳述。 圖3〜圖5表示諧振器之振盪光軸之變化說明圖。在 各圖中,Z形之諧振器光路係呈顯直線狀模式。點3 3、點 27分別為部份反射鏡32與全反射鏡26之曲率中心,雷射振 盪時之雷射光2之光軸傜與將部份反射鏡32和全反射鏡26 之曲率中心與27連結起來之直線一致。圖3傜初期狀態 .例如部份反射鏡32之角度發生偏移時之情形以圖4予以 說明。因部份反射鏡32之角度發生偏移,故部份反射鏡32 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) 〇 82.3. 40,000 -裝------.玎------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3C60S4 A6 B6 經濟部中央標準局R工消费合作社印製 五、發明説明(1 〇 ) 之曲率屮心3 3就發生如圖所示之變化。在此,在孔洞1 5、 1 6上雷射光2之光軸之移動量偽較在孔洞1 7上之移動量小 。又,以圖5説明全反射鏡26之角度偏離情形。因全反身ί 鏡26之角度偏離,全反射鏡26之曲率中心就作如圆所示之 變化。在此,在孔洞1 5、 1 6上雷射光2之光軸之移動量偽 較孔洞上之移動量小。因此,對於諧振器鏡之角度偏移, 可知孔洞1 5 , 1 6 —方較孔洞1 7及1 4寬裕,光束模式管制率 駸格之孔洞偽由於進入孔洞1 5及1 (5之位置,故不難進行諧 振器鏡之調整作業就可以確保雷射光2射點之穩定性。 再者,在上述實施例中,偽僅說明諧振器光路成為Ζ 形之情形,但只要諧振器光路包含在Ζ形折返部在其中即 可,例如圖6所示一樣,附加全反射鏡26、 34之諧振器光 路亦可以得到同樣之效果。 實施例2 其次,參照附圔來説明本發明之第2 ‘實施例。本實施 例傜因防止寄生振盪,以求雷射光光束模式之穩定化,以 獲得射出之雷射光射點之穩定性甚為優良之雷射振盪裝置 者。 圔7、圖8傜表示根據本發明之一種實施例之雷射振盪 裝置之諧振器光路模式圖,圖7傜正面截面阖,圖8傜表 示其底視圖。與本實施例所示之以往之雷射振盪裝置之不 同點俗孔洞1 5與其他孔洞不同;孔洞並不在紙面上之平面 而極小部份位於紙面前面。因此,第1光軸20與第3光軸 24大致成為平行,但卻成為立體交錯關傜,第1光軸20與 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)甲4规格(210 X 297公釐) 1Λ 82.3. 40,000 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 丨裝· •11, i線. :¾濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A6 B6 五、發明説明(1 1 ) 第3光軸24分別在互相平行之二水平面内,但並不在同一 垂直面或同一斜面内,以下簡稱為「立體交錯」,如圖9 所示,全反射鏡28與全反射鏡30之反射面互相正對之部份 不存在於孔洞1 5、 1 6之開口内,如此就無發生寄生振盪之 可能性。如此就具有射出雷射光之射點甚為穩定之雷射振 盪裝置之恃徵。 如上所述之全反射鏡2 8與全反射鏡3 0之反射面互為正 對之部份不存在於孔洞1 5、 1 6之開口内,不可能發生寄生 振盪之構成,尚有其他方法,以下舉例說明其营施例。 實施例3 圖1 0、圖11係表示根據本發明之第3實施例之雷射振 盪裝置之諧振器光路模式圖,圖10偽正面截面圖,圖11俗 其底視圖。本實施例之雷射振盪装置與以往之雷射振盪裝 置之不同點,在於孔洞1 5與孔洞1 6不在紙面上之平面而孔 洞1 5傜配置在紙面上之平面之前面端,孔洞1 6則配置在紙 面上之平面遠端。因此,第1光軸20與第3光軸24偽大致 成平行,但卻成立體交錯關傜,如圔9所示,全反射鏡28 與全反射鏡3 0之反射面互為正對之部份係不存在於孔洞1 5 、16之開口内,故不可能發生寄生振盪。如此,就可以得 到射出之雷射光之射點甚為穩定之雷射振盪裝置。 實施例4 圖12、圖13係表示本發明之第4實施例之雷射振盪裝 置之諧振器光路模式阃,圖12係正面截面圖,圖13傜表示 其底視圔。根據本實施之雷射振盪裝置與以往之雷射振盪 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) 82.3. 40,000 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 丨裝. 訂. A6 B6 ffi濟部中央標;?'局貝工消费合作社印製 五、發明説明(1 2 ) 裝置不同之點,在於孔洞1 4與孔洞1 5不在紙面上之平面而 孔洞1 5偽在紙面上之平面前端,孔洞1 4則配置在平面上之 平面遠端。因此,第1光軸20與第3光軸24大致成為平行 ,但卻成立體交錯之閗偽,如圖9所示,全反射鏡28與全 反射鏡3 0之反射面互為正對之部份偽不存在於孔洞1 5、 1 6 之開口内,如此就不可能發生寄生振盪。因此,就可以得 到射出之雷射光之射點甚為穩定之雷射振盪装置。 實施例5 圖1 4、圖1 5偽表示根據本發明之第5實施例之雷射振 盪裝置之諧振器光路模式圖,圖1 4傜正面截面圖,圖1 5係 表示其底視圖。根據本實施例之雷射振盪裝置與以往之雷 射振盪裝置不同之點偽在於孔洞1 4與孔洞1 5、孔洞1 6與孔 洞1 7不在紙面上之平面,而孔洞1 5、 1 5偽分別在紙面上之 平面前端,孔洞1 4、 1 6偽分別配置在紙面上之平面遠端。 因此,第1光軸20與第3光軸24係大致成為平行,但卻成 為立體交錯之關傜,如圖9所示,全反射鏡28與全反射鏡 3 0之反射面互為正對之部份傜不存在於孔洞1 5、 1 6之開口 内,如此就不可能發生寄生振盪。因此,就可以得到射出 之雷射光射點甚為穩定之雷射振盪裝置。 〔發明之效果〕 根據本發明,在諧振器光路之Z形折返部之中位於傾 斜之光路兩端之兩個全反射鏡之前面所位置之兩個孔洞之 光束模式管制率較其他孔洞之光束模式管制率小之構成, 就可以得到雷射光之射點甚為優良之穩定性之雷射振盪裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4规格(210 X 297公釐) 82.3. 40,000 12 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) .裝· 、π_ 306084 Α6 Β6 經濟部中央標準局β工消費合作社印製 五、發明説明(1 3 ) 置之效果。 又,根據本發明之另一發明,在諧振器光路之2:形折 返部之中為了位於傾斜光路兩端之兩個全反射鏡之有效面 不致互為正對,使前述Z形折返光路之中大致成為平行之 兩屆光路成為立體交錯閟偽之構成,故可以冀期光束模式 之穩定化,而可以得到射出雷射光之射點甚為優良之振證 裝置之效果。 〔圖面之簡單説明〕 圖1偽表示本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振 器構成阃。 圔2係圖16之底視圖。 圔3傜本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振器之 振1光軸變化說明圖。 圖4係本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振器之 振盪光軸變化說明圖。 圖5傜本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振器之 振盪光軸變化說明圖。 圖6偽包含本發明之一種實施例及以往之雷射振盪裝 置之諧振器光路之振盪器長邊方向之垂直截面模式圖。 圖7偽表示本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振 器光路模式圖。 圖8係圖7之底視圖。 阃9偽表示本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振 器光路之中之第2光路及位於第2光路兩端之諧振器鏡及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) ,〇 82.3. 40,000 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 經濟部中央標準局员工消費合作社印製 A6 B6 五、發明説明(14) 孔洞之圖。 圔ίο係表示根據本發明之一種實施例之雷射振盪裝置 之諧振器光路模式圖。 圖11偽圔10之底視圖。 圖1 2偽表示本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振 器光路模式圖。 圖13係圖12之底視圖。 圖1 4係表示本發明之一實施例之雷射振盪裝置之諧振 器光路模式圖。 圖15傜圖14之底視圖。 圖16偽表示本發明之一種實施例及以往之雷射振盪裝 置之構成斜視圖。 圖17俗本發明之一實施例及以往之雷射振盪裝置之雷 射光反射裝置截面阃。 圖18偽表示以往之雷射振盪裝置之角度調整機構模式 圖。 圔19偽圖24之B-B線截面圖。 圖2 0偽包含本發明之一實施例及以往之雷射振盪裝置 之諧振器光路之振盪裝置長邊方向之垂直截面模式圖。 阃21偽表示以往之雷射振盪裝置之諧振器光路之中位 於第2光路與第2光路兩端之諧振器鏡及孔洞圖。 〔符號說明〕 2 雷射光 4 放電電極 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) ι , 82.3. 40,000 ------------------·--------裝------訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 五、發明説明(15 ) 10 筐 體 12a 第 1 田 射 光 反 射 裝 置 12b 第 2 雷 射 光 反 射 裝 置 14 孔 洞 15 孔 洞 16 孔 洞 17 孔 洞 26 全 反 射 鏡 28 全 反 射 鏡 30 全 反 射 鏡 32 部 份 反 射 鏡 34 全 反 射 鏡 36 光 學 基 台 38 光 學 基 板 40 調 整 板 42 調 整 板 46 調 整 螺 絲 56 冷 卻 水 A6 B6 --------.-----------------裝------.玎------線 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 經濟部中央標準局R工消费合作社印« 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)甲4規格(210 X 297公釐) j ^ 82.3. 40,000

Claims (1)

  1. A7 B7 C7 _D7 _ 六、申請專利範園 1. 一種雷射振盪裝置,具備: 由決定諧振器光路之部份反射鏡及全反射鏡所成 ,而為了使前述諧振器光路具有Z形折返部所配置之 諧振器鏡;及 選擇光束模式(beam mode)之_複數孔洞(aperture) 之裝置係在前述諧振器光路之Z形折返部之中,各位 於斜光路兩端之兩只全反射鏡前面之兩只孔洞之光束 模式之管制率傜較其他孔洞之光束模式之管制率更小 ja. 仓 〇 2. —種雷射振盪裝置,具備: 由決定諧振器光路之部份反射鏡及全反射鏡所成 ,為了使前述諧振器光路具有2:形折返部所配置之諧 振器鏡之裝置;在前述諧振器光路之Z形折返部之中 大致成為平行之兩個光路偽成為互相立饅交錯之構成 者。 (請先閲讀背面之注意ί項再填寫本頁) i裝- 訂. .線. 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS)甲4规格(210 X 297公釐) 16
TW082104459A 1991-10-01 1992-01-30 TW306084B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3253717A JP2862032B2 (ja) 1991-10-01 1991-10-01 レーザ発振装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW306084B true TW306084B (zh) 1997-05-21

Family

ID=17255170

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW081100695A TW209917B (zh) 1991-10-01 1992-01-30
TW082104459A TW306084B (zh) 1991-10-01 1992-01-30

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW081100695A TW209917B (zh) 1991-10-01 1992-01-30

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5357539A (zh)
JP (1) JP2862032B2 (zh)
DE (2) DE4233094C2 (zh)
TW (2) TW209917B (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5572543A (en) * 1992-04-09 1996-11-05 Deutsch Aerospace Ag Laser system with a micro-mechanically moved mirror
GB9313823D0 (en) * 1993-07-03 1993-08-18 Secr Defence Laser device
JPH07307506A (ja) * 1994-05-16 1995-11-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ発振器
RU2092948C1 (ru) * 1996-01-31 1997-10-10 Виктор Викторович Аполлонов Зеркало с пространственно неоднородным комплексным коэффициентом отражения
JP3601645B2 (ja) * 1997-04-24 2004-12-15 澁谷工業株式会社 固体レーザ発振器のボンディング方法
US5986805A (en) * 1998-02-12 1999-11-16 Trw Inc. Polarizer/modulator assembly for lasers
JP2000223760A (ja) * 1999-02-04 2000-08-11 Nec Corp イオンレーザ装置及びイオンレーザ装置のミラー角度調整方法
KR100502452B1 (ko) * 1999-07-30 2005-07-20 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 직교형 가스레이저 장치
JP2011159932A (ja) * 2010-02-04 2011-08-18 Mitsubishi Electric Corp ガスレーザ増幅装置およびその光軸調整方法
WO2012176252A1 (ja) * 2011-06-20 2012-12-27 三菱電機株式会社 ガスレーザ増幅装置
JP5985059B2 (ja) * 2013-07-18 2016-09-06 三菱電機株式会社 ガスレーザ装置
WO2020222304A1 (en) * 2019-04-30 2020-11-05 Atonarp Inc. Measuring system
KR102375674B1 (ko) * 2019-05-17 2022-03-17 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 가스 레이저 장치

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3904983A (en) * 1973-04-16 1975-09-09 Gte Sylvania Inc Parasitic mode suppressor for high power lasers
CA1189576A (en) * 1980-12-15 1985-06-25 William G. Fredrick, Jr. Laser cutting apparatus and method
JPS5889886A (ja) * 1981-11-24 1983-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ発振器
JPS60254684A (ja) * 1984-05-31 1985-12-16 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ−発振装置
US4672626A (en) * 1986-01-09 1987-06-09 Amada Engineering Service Co., Inc. Laser oscillator mirror adjustment apparatus
US4760581A (en) * 1986-05-08 1988-07-26 Laser Corporation Of America Laser oscillating apparatus
JP2524762B2 (ja) * 1987-07-21 1996-08-14 コニカ株式会社 電子写真複写装置及び制御方法
JPH0821741B2 (ja) * 1987-08-10 1996-03-04 三菱電機株式会社 ガスレ−ザ装置
DE3807709A1 (de) * 1988-03-09 1989-09-21 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum justieren eines laserresonators und laser mit einer vorrichtung zum justieren eines laserresonators
JPH01233784A (ja) * 1988-03-15 1989-09-19 Mitsubishi Electric Corp レーザ発振器
DE3813951A1 (de) * 1988-04-26 1989-11-09 Heraeus Gmbh W C Laser mit einem multipass-resonator
DE3900467C2 (de) * 1989-01-10 1995-09-07 Trumpf Lasertechnik Gmbh Vorrichtung mit einem Spiegelkopf

Also Published As

Publication number Publication date
DE4233094C2 (de) 1996-08-14
US5357539A (en) 1994-10-18
JP2862032B2 (ja) 1999-02-24
DE4233094A1 (de) 1993-04-15
JPH0595142A (ja) 1993-04-16
TW209917B (zh) 1993-07-21
DE4244797B4 (de) 2008-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW306084B (zh)
US5596594A (en) Laser oscillator
JP4835294B2 (ja) レーザ発振装置
JPS61162014A (ja) 平行レ−ザ−ビ−ム用光源装置
WO2016189722A1 (ja) レーザ装置及び狭帯域化光学系
JPWO2019229823A1 (ja) 光パルスストレッチャー、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
JP2007329260A (ja) レーザ発振装置
JP2684910B2 (ja) レーザ発振器
JP2009094161A (ja) アパーチャを備えたレーザ発振器
JPS6364070B2 (zh)
JP2681319B2 (ja) レーザ発振器
JPH0376793B2 (zh)
US6181725B1 (en) Gas laser having a beam path folded in several planes
JP2001326403A (ja) 直交励起型レーザ発振器
JP7572172B2 (ja) レーザ発振器
JP2022013224A (ja) レーザ発振器
JP2006339358A (ja) 狭帯域レーザ装置
JP3064099B2 (ja) 直交形ガスレーザ発振装置の光共振器
JPH0282673A (ja) 固体レーザ装置
JP3767213B2 (ja) レーザ発振装置
JPH05198868A (ja) レーザ装置
JP2000252573A (ja) レーザ発振装置
US5058125A (en) Laser oscillator
JPS60260186A (ja) 炭酸ガスレ−ザ発振機
JPH0639469Y2 (ja) ガスレ−ザ装置