JPS60254684A - レ−ザ−発振装置 - Google Patents
レ−ザ−発振装置Info
- Publication number
- JPS60254684A JPS60254684A JP10936584A JP10936584A JPS60254684A JP S60254684 A JPS60254684 A JP S60254684A JP 10936584 A JP10936584 A JP 10936584A JP 10936584 A JP10936584 A JP 10936584A JP S60254684 A JPS60254684 A JP S60254684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- gas
- laser beam
- laser gas
- reflecting mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0401—Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はレーザー発振装置のレーザー光発振手段、特
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
第４図は従来のレーザー光反射手段の一部を示す断面図
であり、このレーザー光反射手段は、第２図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー発振手段の右側を構
成するものである。レーザー発振手段は、第２図に示す
ように、レーザー光（２）を発振させるレーザー光発振
手段（４）と、レーザ−ガスを循環させる送風機（６）
と、レーザーガスな冷却させる熱交換器（８）とを有し
、レーザーガスはレーザー発振手段（４）から熱交換器
（８）に入り、熱交換器（８）からプロワ（６）を通っ
て矢印Ａの方向に循環する。レーザー光発振手段（４）
と送風機（６）と熱交換器（８）は一点鎖線で示す筐体
ａｑ内に収容されている。
であり、このレーザー光反射手段は、第２図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー発振手段の右側を構
成するものである。レーザー発振手段は、第２図に示す
ように、レーザー光（２）を発振させるレーザー光発振
手段（４）と、レーザ−ガスを循環させる送風機（６）
と、レーザーガスな冷却させる熱交換器（８）とを有し
、レーザーガスはレーザー発振手段（４）から熱交換器
（８）に入り、熱交換器（８）からプロワ（６）を通っ
て矢印Ａの方向に循環する。レーザー光発振手段（４）
と送風機（６）と熱交換器（８）は一点鎖線で示す筐体
ａｑ内に収容されている。
レーザーガス中にはＣ０２が含まれ、その他にはＣ０１
Ｈｅ、 Ｎ１などが含まれている。
Ｈｅ、 Ｎ１などが含まれている。
レーザー光発振手段（４）は、第３図の概略説明図に示
すように、レーザーガス励起手段である放電々極（６）
と、レーザー光反射手段ａ＊ 、 ＯＳとからなり、レ
ーザー光反射手段Ｃ１４１、αＱは放電々極（２）の左
右両端に配置され、放電々極（２）間には放電によって
レーザーガスな励起させる励起領域α→が形成されてい
る。レーザー光反射手段ぐ◆、αＱは、励起領域０時内
で、２字を描く３本の光軸（７）、に）、（ハ）を通っ
て、レーザー光（２）を反覆反射きせるだめの反射鏡（
ハ）。
すように、レーザーガス励起手段である放電々極（６）
と、レーザー光反射手段ａ＊ 、 ＯＳとからなり、レ
ーザー光反射手段Ｃ１４１、αＱは放電々極（２）の左
右両端に配置され、放電々極（２）間には放電によって
レーザーガスな励起させる励起領域α→が形成されてい
る。レーザー光反射手段ぐ◆、αＱは、励起領域０時内
で、２字を描く３本の光軸（７）、に）、（ハ）を通っ
て、レーザー光（２）を反覆反射きせるだめの反射鏡（
ハ）。
（ハ）、に）、（イ）を左右に２枚づつ有している。
レーザー光発振側（第６図の右側）のレーザー光反射手
段ｃＩＱは第２と第４の反射鏡（財）、（至）を有しる
。すなわち、レーザー光（２）の６本の光軸翰１輪。
段ｃＩＱは第２と第４の反射鏡（財）、（至）を有しる
。すなわち、レーザー光（２）の６本の光軸翰１輪。
（ハ）のうちで、第１の光軸（イ）と第２の光軸に）の
交叉する位置には、第２の反射＃（ハ）が配置され、第
３の光軸（ハ）上には、第４の反射鏡０うが配置されて
いる。他方（第３図の左側）のレーザー光反射手段ａ４
は第１と第６の反射鏡（ハ）、に）を有しており、第１
の反射鏡（２）は、第１の光軸上に、第２の反射鏡（ハ
）と対向して配置され、第３の反射鏡員は、第２の光軸
に）と第６の光軸（財）の交叉する位置に、第４の反射
鏡０２と対向して配置されている。第１の反射鏡（ハ）
は第６の反射鏡（ト）よりも放電々極（２）から離れて
配置され、第４の反射鏡（イ）は第２の反射鏡（ハ）よ
りも放電々極ａ埠から離れて配置されている。
交叉する位置には、第２の反射＃（ハ）が配置され、第
３の光軸（ハ）上には、第４の反射鏡０うが配置されて
いる。他方（第３図の左側）のレーザー光反射手段ａ４
は第１と第６の反射鏡（ハ）、に）を有しており、第１
の反射鏡（２）は、第１の光軸上に、第２の反射鏡（ハ
）と対向して配置され、第３の反射鏡員は、第２の光軸
に）と第６の光軸（財）の交叉する位置に、第４の反射
鏡０２と対向して配置されている。第１の反射鏡（ハ）
は第６の反射鏡（ト）よりも放電々極（２）から離れて
配置され、第４の反射鏡（イ）は第２の反射鏡（ハ）よ
りも放電々極ａ埠から離れて配置されている。
第２の反射鏡−は第２のミラーホルダー（ロ）を介して
第２の基板（２）の内側に取付けられ、第４の反射鏡０
ψは透過性ミラーからなり、第４のミラーホルダー（２
）を介して第２の基板（２）の外側に調節ねじに）で第
３の光軸（ハ）上を移動できるように取付けられ、第２
の基板（ト）が第３の光軸（ハ）と交叉する位置にはレ
ーザー光（２）を通すための穴＠埠が設けられている。
第２の基板（２）の内側に取付けられ、第４の反射鏡０
ψは透過性ミラーからなり、第４のミラーホルダー（２
）を介して第２の基板（２）の外側に調節ねじに）で第
３の光軸（ハ）上を移動できるように取付けられ、第２
の基板（ト）が第３の光軸（ハ）と交叉する位置にはレ
ーザー光（２）を通すための穴＠埠が設けられている。
基板・（ロ）は装置本体の筐体に複数の支持棒■を介し
て間隔調節可能に取付けられている。第１の反射鏡（ハ
）と第５の反射鏡■も、上記同様に、第１の基板（図示
せず）に取付けられ、第１の基板も、上記同様に、筐体
（１１に取付けられている。
て間隔調節可能に取付けられている。第１の反射鏡（ハ
）と第５の反射鏡■も、上記同様に、第１の基板（図示
せず）に取付けられ、第１の基板も、上記同様に、筐体
（１１に取付けられている。
筐体α１がレーザー光（２）と交叉する位置には開口部
が設けられており、この開口部にはレーサー光（２）を
囲むダクト（ハ）がダクト取付台（９）を介して取付け
られており、ダクト（ハ）の先端部（４６ａ）は第２の
反射鏡（ハ）の近傍に及んでいる。ダクト取付台−には
レーザーガスな矢印ａの方向に通すための開口部員が形
成されており、開口部−にはレーザーガス中の塵を除去
するためのフィルタ６ｚが、取付ケられている。基板（
２）と筐体ぐ０はダン１０時を囲むベローズ５優によっ
て連結され、ダクト（ト）とベローズ６ａとの間にはレ
ーザーガスを矢印ａの方向に通すためのガス通路６５１
が形成されている。第２のミラー−ホルダー０にはレー
ザー光（２）の外周縁を遮ってレーザー光（２）のモー
ドを調節するアパーチャ酸が取付けられている。
が設けられており、この開口部にはレーサー光（２）を
囲むダクト（ハ）がダクト取付台（９）を介して取付け
られており、ダクト（ハ）の先端部（４６ａ）は第２の
反射鏡（ハ）の近傍に及んでいる。ダクト取付台−には
レーザーガスな矢印ａの方向に通すための開口部員が形
成されており、開口部−にはレーザーガス中の塵を除去
するためのフィルタ６ｚが、取付ケられている。基板（
２）と筐体ぐ０はダン１０時を囲むベローズ５優によっ
て連結され、ダクト（ト）とベローズ６ａとの間にはレ
ーザーガスを矢印ａの方向に通すためのガス通路６５１
が形成されている。第２のミラー−ホルダー０にはレー
ザー光（２）の外周縁を遮ってレーザー光（２）のモー
ドを調節するアパーチャ酸が取付けられている。
従来のレーザー発振装置は上記のように構成され、第１
の反射鏡（ハ）で反射されたレーザー光（２）は第１の
光軸■を通って第２の反射鏡（至）に到達する。
の反射鏡（ハ）で反射されたレーザー光（２）は第１の
光軸■を通って第２の反射鏡（至）に到達する。
第２の反射鏡（ハ）はわずかに下向きに傾いているので
、レーザー光（２）は第１の光軸−よりわずかに下向き
に傾いた第２の光軸（２）を通って第３の反射鏡−に到
達する。第６の反射鏡（ト）はわずかに上向きに傾いて
いるので、レーザー光（２）は第１の光軸■と平行な第
６の光軸（ハ）を通って第４の反射鏡０→に到達する。
、レーザー光（２）は第１の光軸−よりわずかに下向き
に傾いた第２の光軸（２）を通って第３の反射鏡−に到
達する。第６の反射鏡（ト）はわずかに上向きに傾いて
いるので、レーザー光（２）は第１の光軸■と平行な第
６の光軸（ハ）を通って第４の反射鏡０→に到達する。
第４の反射鏡６２は透過性ミラーとなっているので、レ
ーザー光（２）の一部はそのまま外部に出力され、残り
は上記と逆のルートを通って第１の反射鏡（ハ）まで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光（２）は
励起領域（２）内を反覆通過する間に、Ｃ０２ガスによ
って増幅されて第４の反射鏡０■かも外部に出力される
ことになる。
ーザー光（２）の一部はそのまま外部に出力され、残り
は上記と逆のルートを通って第１の反射鏡（ハ）まで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光（２）は
励起領域（２）内を反覆通過する間に、Ｃ０２ガスによ
って増幅されて第４の反射鏡０■かも外部に出力される
ことになる。
ＣＯ２は温度が上昇すると解離して濃度が低下する。レ
ーザーガス中のＣ０２濃度が低下すると、レーザー光発
振手段（４）の効率が低下するので、レ−ザーガスは送
風機（６）によって循環させながら熱交換器（８）によ
ってたえず冷却されている。また、反射鏡が傾くと光軸
がずれ、レーザー光（２）のモードが変化し、レーザー
光発振手段（４）の効率が低下するので、第４図に示す
ように、送風機（６）Ｋよって発生するレーザーガスの
差圧によって、レーザーガスは矢印ａから矢印すの方向
に循環し、第２の反射鏡（ハ）が冷却されている。第３
の反射鏡（イ）も同様に冷却されている。
ーザーガス中のＣ０２濃度が低下すると、レーザー光発
振手段（４）の効率が低下するので、レ−ザーガスは送
風機（６）によって循環させながら熱交換器（８）によ
ってたえず冷却されている。また、反射鏡が傾くと光軸
がずれ、レーザー光（２）のモードが変化し、レーザー
光発振手段（４）の効率が低下するので、第４図に示す
ように、送風機（６）Ｋよって発生するレーザーガスの
差圧によって、レーザーガスは矢印ａから矢印すの方向
に循環し、第２の反射鏡（ハ）が冷却されている。第３
の反射鏡（イ）も同様に冷却されている。
しかるに、レーザーガスの循環は、レーザー光発振手段
である送風機でレーザーガスを循環させる時の差圧を利
用しているだけなので、その流量が少なく、レーザーガ
スの温度が上昇し、それが原因で急激なパワーダウン、
パワー不安定を生じることがある。また、ガス温度の上
昇によるミラーホルダー等の過熱により反射錆のアライ
メントがくずれることがあるという欠点があった。
である送風機でレーザーガスを循環させる時の差圧を利
用しているだけなので、その流量が少なく、レーザーガ
スの温度が上昇し、それが原因で急激なパワーダウン、
パワー不安定を生じることがある。また、ガス温度の上
昇によるミラーホルダー等の過熱により反射錆のアライ
メントがくずれることがあるという欠点があった。
この発明は、かかる欠点を改善する目的でなされたもの
で、レーザーガスの一部を反射鏡の近傍側循環させる送
風機を設けることにより、反射鏡の冷却を強化し、レー
ザー光の吸収による反射鏡の過熱を押え、パワーダウン
、パワー不安定を防止し、また、反射鏡の光軸が傾いた
り、アライメントが（ずれたりするのを防止するように
したレーザー発振装置を提集するものである。
で、レーザーガスの一部を反射鏡の近傍側循環させる送
風機を設けることにより、反射鏡の冷却を強化し、レー
ザー光の吸収による反射鏡の過熱を押え、パワーダウン
、パワー不安定を防止し、また、反射鏡の光軸が傾いた
り、アライメントが（ずれたりするのを防止するように
したレーザー発振装置を提集するものである。
第１図はこの発明の一実施例であるレーザー光反射手段
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第２図に斜視図で示すし ザー発振装置の
一部を構成するものである。
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第２図に斜視図で示すし ザー発振装置の
一部を構成するものである。
（２）〜６０）は上記従来装置と全く同一のものである
。
。
ベローズ６４゛）とダクトαφとの間に形成されたガス
通路６Ｉ５Ｉの入口には、レーザーガスな強制循環させ
る補助送風機６８１が取付けられ、補助送風機器の吸入
側にはフィルター（！ｌＩｚが取付けられている。
通路６Ｉ５Ｉの入口には、レーザーガスな強制循環させ
る補助送風機６８１が取付けられ、補助送風機器の吸入
側にはフィルター（！ｌＩｚが取付けられている。
上記のように構成されたレーザー発振装置においては、
ガス通路印肉をレーザーガスが強制的に循環させられ、
反射鏡＠（ト）が強制的に冷却されることになる。
ガス通路印肉をレーザーガスが強制的に循環させられ、
反射鏡＠（ト）が強制的に冷却されることになる。
この発明は以上説明したとおり、ガス通路の入口にレー
ザーガスを強制循環させる補助送風機を取付けるという
簡単な構造により、レーザー光の吸収による反射鏡の過
熱、ミラーホルダーの変形、ひいては反射鏡の光軸の傾
きのずれを防止し、レーザー発振器の出力低下を防止し
、出力の安定化を図る効果がある。
ザーガスを強制循環させる補助送風機を取付けるという
簡単な構造により、レーザー光の吸収による反射鏡の過
熱、ミラーホルダーの変形、ひいては反射鏡の光軸の傾
きのずれを防止し、レーザー発振器の出力低下を防止し
、出力の安定化を図る効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す要部断面図、第２図
はレーザー発振装置の斜視図、第６図はレーザ光発振手
段の概略説明図、第４図は従来のレーザー光発振手段の
片側を示す断面図である。 図において（４）はレーザー光発振手段、（６）は送風
機、（８）は熱交換器、（２）は放電々極、α→、ａＱ
はレーザー光反射手段、θ締は励起領域、（ハ）、（ハ
）、（至）、０ノは反射鏡、６５）はガス通路、鰻は補
助送風機である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 村 三 朗
はレーザー発振装置の斜視図、第６図はレーザ光発振手
段の概略説明図、第４図は従来のレーザー光発振手段の
片側を示す断面図である。 図において（４）はレーザー光発振手段、（６）は送風
機、（８）は熱交換器、（２）は放電々極、α→、ａＱ
はレーザー光反射手段、θ締は励起領域、（ハ）、（ハ
）、（至）、０ノは反射鏡、６５）はガス通路、鰻は補
助送風機である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 村 三 朗
Claims (3)
- （１）レーザーガスを用いてレーザー光を発振させるレ
ーザー発振装置であり、該装置はレーザー光を発振させ
るレーザー光発振手段と、該″発振手段を介してレーザ
ーガスを循環させるレーザーガス循環手段と、該レーザ
ーガスを冷却するレーザーガス冷却手段とを有し、該発
振手段はレーザーガス励起手段と一対のレーザー光反射
手段とからなり、該励起手段は放ｔＫよってレーザーガ
スを励起させる励起領域を有し、該一対の反射手段は該
励起領域を挾んでレーザー光を互いに反覆反射させる複
数の反射炉を各々有し、該一対の反射手段には上記レー
ザーガスの一部を上記反射鏡の近傍を通って循環させる
ガス通路が各々設けられ、該ガス通路にはレーザーガス
な強制循環させる補助送風機が設けられていることを特
徴とするレーザー発振装置。 一発振装置。 - （２）レーザーガスが炭酸ガスを含むレーザーガスであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレーザ
ー発振装置。 - （３）補助送風機が、フイ゛ルターを備え、かつ上記ガ
ス通路の吸入側に設けられた補助送風機であることを特
徴とする請求 ーザー発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10936584A JPS60254684A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10936584A JPS60254684A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254684A true JPS60254684A (ja) | 1985-12-16 |
Family
ID=14508381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10936584A Pending JPS60254684A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60254684A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6375061U (ja) * | 1986-11-06 | 1988-05-19 | ||
| DE4233094A1 (de) * | 1991-10-01 | 1993-04-15 | Mitsubishi Electric Corp | Laseroszillatorvorrichtung mit spiegelwinkeleinstellung |
| DE102006056406B4 (de) * | 2006-06-07 | 2010-07-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Laseroszillationsvorrichtung |
| US7876804B2 (en) | 2007-04-20 | 2011-01-25 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser oscillator |
| CN110137787A (zh) * | 2018-02-02 | 2019-08-16 | 住友重机械工业株式会社 | 激光振荡器 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP10936584A patent/JPS60254684A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6375061U (ja) * | 1986-11-06 | 1988-05-19 | ||
| DE4233094A1 (de) * | 1991-10-01 | 1993-04-15 | Mitsubishi Electric Corp | Laseroszillatorvorrichtung mit spiegelwinkeleinstellung |
| US5357539A (en) * | 1991-10-01 | 1994-10-18 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillating apparatus with mirror angle adjustment |
| DE4244797B4 (de) * | 1991-10-01 | 2008-11-06 | Mitsubishi Denki K.K. | Laseroszillatorvorrichtung |
| DE102006056406B4 (de) * | 2006-06-07 | 2010-07-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Laseroszillationsvorrichtung |
| US7876804B2 (en) | 2007-04-20 | 2011-01-25 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser oscillator |
| CN110137787A (zh) * | 2018-02-02 | 2019-08-16 | 住友重机械工业株式会社 | 激光振荡器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07106665A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JPS60254684A (ja) | レ−ザ−発振装置 | |
| JPS6364073B2 (ja) | ||
| JP2681278B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
| KR101709046B1 (ko) | 가스 레이저 장치 | |
| JP2007081029A (ja) | 光ファイバレーザモジュール、光ファイバレーザ発振器、光ファイバレーザ増幅器 | |
| JP2800593B2 (ja) | レーザ発振器 | |
| JPH10125982A (ja) | レーザ発振器 | |
| JPH1168213A (ja) | Ｑスイッチｃｏ２レーザ装置 | |
| JP2003338647A (ja) | レーザ発振器 | |
| JPH06268298A (ja) | 固体レーザ発振装置 | |
| JPS6016482A (ja) | 高速繰り返しレ−ザ発振器 | |
| JPH0728065B2 (ja) | スラブ形固体レ−ザ発振装置 | |
| JPS61243404A (ja) | 光学反射鏡組立体 | |
| JP2002134817A (ja) | Ｌｄ励起スラブ型固体レーザ発生装置 | |
| JPS62224990A (ja) | ガスレ−ザ発振器 | |
| JPS5952887A (ja) | レ−ザ発生装置 | |
| JPH0661550A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JPH0639469Y2 (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH053355A (ja) | 固体レーザ媒質 | |
| JPH07115234A (ja) | 高出力レーザー装置 | |
| JPS628585A (ja) | レ−ザ光源装置 | |
| JPS6345014Y2 (ja) | ||
| JPH05198868A (ja) | レーザ装置 | |
| JP2002009378A (ja) | レーザ装置 |