JP2800593B2 - レーザ発振器 - Google Patents

レーザ発振器

Info

Publication number
JP2800593B2
JP2800593B2 JP4289965A JP28996592A JP2800593B2 JP 2800593 B2 JP2800593 B2 JP 2800593B2 JP 4289965 A JP4289965 A JP 4289965A JP 28996592 A JP28996592 A JP 28996592A JP 2800593 B2 JP2800593 B2 JP 2800593B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser medium
mirror
optical axis
reflecting mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4289965A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06140692A (ja
Inventor
昭博 大谷
聡 西田
竜美 浅井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4289965A priority Critical patent/JP2800593B2/ja
Priority to TW081109387A priority patent/TW232101B/zh
Priority to DE69304857T priority patent/DE69304857T2/de
Priority to US08/141,944 priority patent/US5416791A/en
Priority to EP93117529A priority patent/EP0595335B1/en
Publication of JPH06140692A publication Critical patent/JPH06140692A/ja
Priority to HK98105502A priority patent/HK1006341A1/xx
Application granted granted Critical
Publication of JP2800593B2 publication Critical patent/JP2800593B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • H01S3/0346Protection of windows or mirrors against deleterious effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ発振器の出力の
安定化に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6は特開昭60ー254683号公報
に示された従来のレーザ発振器の構成を示す斜視図であ
る。図において、10はレーザ媒質(以下レーザガスと
記す)を封入する筺体、4は一対の放電電極、8は熱交
換器、6はブロア、32は部分反射鏡、26、28、3
0、は全反射鏡、12aは部分反射鏡32及び全反射鏡
28を含むレーザビーム反射手段、12bは全反射鏡3
0及び全反射鏡26を含むレーザビーム反射手段、2
0、22、24はそれぞれ上記全反射鏡26と28、2
8と30、全反射鏡30と部分反射鏡32間のレーザビ
ーム、2は外部へ取り出されるレーザビームである。1
8は上記一対の電極4ではさまれる空間に作られる励起
領域である。図7はレーザビーム反射手段12aの断面
図であり、56は部分反射鏡32及び全反射鏡28の直
前に配置されたアパーチャである。36はレーザビーム
反射手段12aを保持する光学基台、44は筐体10と
レーザ反射手段12aの光学基台36を連結する連結
棒、54は筺体10と光学基台36を真空気密を保持す
るように取り付けられたベローズ、42は部分反射鏡3
2が取り付けられ、部分反射鏡32の角度を調整するた
めの調整板、40は角度調整ネジ、48、58、58
a、58bはダクトである。
【0003】図8は特開昭60ー254683号公報に
示された部分反射鏡32の取付部を拡大して示したもの
である。図において3はサイドフローの流れ、4Aは光
学基台36に穿けられた穴である。5は空間である。図
8の構成は部分反射鏡32を直接水で冷却する直接水冷
タイプで現在あまり用いられていない。図9には現在主
流となっている間接水冷タイフ゜の部分反射鏡32の取
付部を拡大して示したものである。図8と図9の比較か
ら明らかなように、図8の直接水冷タイプはミラー支持
部の部品点数が多くなっていることがわかる。
【0004】次に動作について説明する。筐体10に
は、その間に放電を発生しレーザガスを励起する為の一
対の放電電極4と、レーザガスを循環させるブロア6
と、レーザガスを冷却する熱交換器8を有し、レーザガ
スは一対の放電電極4の間を通過しレーザ発振可能な状
態に励起された後、熱交換器8に入り冷却され、ブロア
6を通って矢印Aの方向に循環する。筐体の長手方向に
配置された部分反射鏡32及び全反射鏡26、28、3
0で構成される共振器ミラーにより作られるZ字形状を
成す3本の光路は、放電によりレーザガスが励起状態と
なった励起領域18を通過する。
【0005】全反射鏡26で反射されたレーザビームは
第1の光軸20を通って全反射鏡28に到達し反射され
る。全反射鏡28で反射されたレーザビームは全反射鏡
28がわずかに下向きに傾いているので、第1の光軸2
0よりわずかに下向きに傾いた第2の光軸22を通って
全反射鏡30に到達し反射される。全反射鏡30で反射
されたレーザビームは全反射鏡30がわずかに上向きに
傾いているので、レーザビームは第1の光軸20と平行
な第3の光軸24を通って部分反射鏡32に到達する。
部分反射鏡32に到達したレーザビームの一部はそのま
ま外部に出力され、残りは上記と逆のルートを通って全
反射鏡26まで戻り、上記のプロセスが繰り返される。
レーザビームは上記のようにして励起領域18を反復通
過する間に増幅され、部分反射鏡32から外部に出力さ
れる。
【0006】次に図7における部分反射鏡32の角度調
整機構について説明する。部分反射鏡32は調整板42
に取り付けられている。角度調整ネジ40を調整するこ
とにより調整板42の角度を調整し、部分反射鏡32の
角度調整を行う。
【0007】一方、光学基台36にはレーザビームの通
過する穴4Aが設けられており、この穴4Aには部分反
射鏡32近傍のレーザガスに流れを起こすサイドフロー
を案内するダクト58aが差し込まれており、ダクト先
端は部分反射鏡32近傍まで延びている。ダクト58は
2本のダクト58bと1本のダクト58aと底の無い箱
状の連通部材59で構成されている。ダクト58bは、
筐体10に固定されたダクト48に差し込まれている。
【0008】放電電極4の間は高速でレーザガスが流れ
ているため他の部分に比べ負圧状態にあり、逆にダクト
48は筐体10のブロアによるガス流の無い圧力の高い
部分に固定されているため、レーザガスは図7のaのよ
うにダクト48に吸い込まれ、bのように放電電極の方
に吸い出される。このレーザガスの流れをサイドフロー
と呼ぶ。
【0009】この様なサイドフローが生ずるようにフロ
ー経路が形成してあるのは以下のような理由による。サ
イドフローが無い場合、レーザビーム2の光路中にある
レーザガスはミラー近傍において滞留する。レーザガス
はレーザビーム吸収体であり、レーザガス中を通過する
レーザビームのエネルギーの一部を熱に変え、滞留した
レーザガスの温度が上昇する。さらにレーザガスのレー
ザビーム吸収率は温度上昇とともに大きくなる為、さら
に大きな発熱が始まり、温度が上昇する。このため安定
したレーザ出力を維持することが困難となり、ついには
レーザ出力の確保ができなくなる。
【0010】以上の理由から、ミラー近傍におけるレー
ザガスの温度上昇を防ぐためサイドフローが必要にな
る。図10は部分反射鏡からの距離に対する、ダクトの
内側を流れるレーザガスの流量とレーザガスの温度を示
している。ダクトの外側を流れているときはレーザビー
ムの吸収がないため温度上昇がないが、ダクトの内側に
はいるとレーザビーム光路中を流れるためレーザビーム
の吸収により徐々に温度が上昇する。レーザビーム2の
光路中に有るレーザガスの最高温度Tmaxが安定した
レーザ出力を維持できなくなる温度(限界温度)を越え
ないような流量をもってサイドフローにより強制対流さ
せる必要がある。上記安定したレーザ出力を維持できな
くなる温度はレーザ発振器の出力、モードによっても異
なる。
【0011】このように安定したレーザ出力を維持でき
るようにサイドフローを流すのであるが、レーザガス中
には僅かとはいえ組立時あるいはメンテナンス時に混入
した粉塵や筐体から発生するアウトガス成分等の汚染物
質が混入することは避けられない。この汚染物質がサイ
ドフローにより運ばれ部分反射鏡32の表面に達し付着
すると、レーザビームにより部分反射鏡32の表面に焼
き付く。このため部分反射鏡32の吸収率は増大し、レ
ーザビームモードの変形等を生じさせるなどしてレーザ
ビーム品質を低下させる。
【0012】特開昭60ー254683号公報ではこの
問題を解決するために、図8および図9に示すような構
造を提案していたが、不十分であることが分かってき
た。図8および図9の構造においてはダクト58aの外
側を流れてきたレ−ザガスは流れの突き当たる部分に設
けられた空間5により流れの持つ動圧をいったん静圧に
変換される。静圧の高まったレ−ザガスは隙間δからレ
−ザビ−ムの光路に向かって吹き出すが、隙間δから吹
き出すレ−ザガスの方向を規制する手段がないため、サ
イドフローの流れが明確に部分反射鏡32から遠ざかる
向きの流線のみとならず、部分反射鏡32近傍まで渦巻
状の流れが発生する。この渦巻状のレーザガスの流れに
より、前記汚染物質が部分反射鏡32の表面まで運ばれ
部分反射鏡32を汚損する。これを防ぐため渦巻状の流
れが部分反射鏡32まで達しないように、隙間δと部分
反射鏡32の距離を大きくすると、部分反射鏡32近傍
のレーザガスは滞留し、その部分の温度の上昇を招き、
出力不安定現象が生じる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ発振器は
以上のように構成されているので、ガス中の粉塵等によ
る汚染により部分反射鏡32の吸収率が増大し、レーザ
ビーム品質が低下するという問題点があった。
【0014】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、部分反射鏡の吸収率の増大を防
ぎ、レーザビーム品質が安定し、かつ優れた装置を得る
ことを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係わるレー
ザ発振器は、対向する放電電極と、上記放電電極間を通
る光軸上でかつ上記電極から上記光軸方向に所定の距離
をおいて配置されたミラーと、上記放電電極間を上記光
軸に直交した方向にレーザ媒質を流すための第1のレー
ザ媒質循環経路と、上記第1のレーザ媒質循環経路に沿
ったレーザ媒質の循環によって生ずる上記対向電極間と
その周辺部との圧力差を利用して上記ミラー近傍へ上記
レーザ媒質を循環させる第2のレーザ媒質循環経路とを
備えたものであり、上記第2のレーザ媒質循環経路は、
上記ミラーを保持するとともにレーザビーム通過用開口
部としての小径内円筒面部と上記ミラー近傍へ上記レー
ザ媒質を案内する大径内円筒面部とこの大径内円筒面部
から上記小径内円筒面部へ移る部分に設けられた折り返
し形状をした方向転換部とを一体形成した第1のレーザ
媒質案内手段と、上記小径内円筒面部の径よりも大きく
上記大径内円筒面部の径よりも小さい径の薄肉円筒形状
でかつ上記方向転換部と上記ミラー側にて上記光軸方向
の隙間を持つように配置される第2のレーザ媒質案内手
段とを有し、上記第1のレーザ媒質案内手段の大径内円
筒面部と上記第2のレーザ媒質案内手段間で形成される
円筒形状をした隙間部を往路として上記光軸に沿って上
記ミラーに向かう方向に上記レーザ媒質が流れるととも
に、上記第2のレーザ媒質案内手段の内部を帰路として
上記光軸に沿って上記ミラーから遠ざかる方向に上記レ
ーザ媒質が流れる循環経路にて構成されたものである。
【0016】第2の発明に係わるレーザ発振器は、第2
のレーザ媒質案内手段のミラー側端部が第1のレーザ媒
質案内手段の折り返し形状の方向転換部の内部に挿入さ
れているものである。
【0017】第3の発明に係わるレーザ発振器は、上記
第2または第3の発明のレーザ媒質循環経路において、
通気性を有し薄肉円筒形状をした第2のレ−ザ媒質案内
手段を有する方向規制手段を備えるようにしたものであ
る。
【0018】
【0019】
【作用】第1の発明に係わるレーザ発振器においては、
レーザ媒質案内手段の折り返し形状をなす方向規制手段
は、ミラー近傍にてミラー保持体の開口部の周囲からミ
ラー光軸に向かって流入するレーザガスに、ミラーから
遠ざかる方向の軸方向成分を与えるように作用する。
【0020】第2の発明に係わるレーザ発振器において
は、第2のレーザ媒質案内手段のミラー側の端部が第1
のレーザ媒質案内手段の折り返し形状の方向転換部の内
部に挿入された方向規制手段は、ミラー近傍にてミラー
保持体の開口部の周囲からミラー光軸に向かって流入す
るレーザガスに、ミラーから遠ざかる方向の軸方向成分
を与えるように作用する。
【0021】第3の発明に係わるレーザ発振器において
は、通気性を有し薄肉円筒形状をした第2のレ−ザ媒質
案内手段を有する方向規制手段は、ミラー近傍にてミラ
ー保持体の開口部の周囲からミラー光軸に向かって流入
するレーザガスに、ミラーから遠ざかる方向の軸方向成
分を与えるとともに、ミラーに近付くほどレーザガスの
循環量を減少させるように作用する。
【0022】
【0023】
【実施例】実施例1.以下、この発明の一実施例を図に
ついて説明する。なお、図中、従来例と同一符号で示し
たものは、従来例のそれと同一もしくは同様なものを示
す。レーザ発振器全体の構成は図6で示す従来の装置と
同様であり、ここでは説明を省略する。
【0024】図1はこの発明の一実施例によるレーザ発
振器のレーザビーム反射手段12aの断面図、図2は部
分反射鏡32の取付部を拡大して示したものである。図
7、図8の従来のレーザ発振器と異なるのは調整板42
の構造と、調整板42とダクト58aの相対関係であ
る。41はバネである。
【0025】図2から明らかなようにダクト58aの径
は、調整板の部分反射鏡あたり面のビーム通過穴45よ
り大きく構成されている。また、調整板42の内面46
はビーム通過穴45にかけて折り返し形状をした流れ方
向転換部46aを有している。
【0026】次に動作に付いて説明する。ダクト58a
と調整板42の内面46の間を部分反射鏡の方向に流れ
てきたレーザガスは、流れ方向転換部46aによりその
流れ方向を逆向きに変えられる。流れ方向転換部46a
は滑らかな面で構成されており、ダクト58aと調整板
42の内面46の間を部分反射鏡の方向に流れてきたレ
−ザガスは従来の装置のように動圧を静圧に変換するこ
となく、その動圧をほぼ保持したままスムーズに方向転
換できる。それゆえダクト58内に流入してビーム2の
光路内に入ったときには、完全に部分反射鏡から離れる
方向の運動を有するようになる。
【0027】この実施例によれば、ダクト58aと調整
板42の内面46の間を部分反射鏡の方向に流れてきた
レ−ザガスは、その動圧をほぼ保持したままスム−ズに
方向転換できるので、汚染物質が部分反射鏡32の表面
まで運ばれることがなく、部分反射鏡32の汚損を生じ
ない。またダクト内に流入するレーザガスの流線ベクト
ルを確実に部分反射鏡から遠ざかる方向に規制すること
により、レーザガス流を部分反射鏡32の近傍にまで接
近させることができる。そのため部分反射鏡32近傍の
レーザガスの温度上昇を抑え、出力不安定現象を引き起
こしにくい構成をとることができる。
【0028】実施例2.以下、この発明の他の一実施例
を図について説明する。図3は部分反射鏡32の取付部
を拡大して示したものである。実施例1のレーザ発振器
と異なるのは、調整板42とダクト58aの相対関係で
ある。
【0029】ダクト58aの径は、調整板の部分反射鏡
あたり面のビーム通過穴45より大きく構成されてい
る。また、調整板42の内面46はビーム通過穴45に
かけて流れ方向転換部46aを有しており、ダクト58
はこの流れ方向転換部46aの中に距離dだけ差し込ま
れるように構成されている。
【0030】次に動作に付いて説明する。ダクト58a
と調整板42の内面46の間を部分反射鏡の方向に流れ
てきたレーザガスは、流れ方向転換部46aによりその
動圧をほぼ保持したままスム−ズに方向を逆向きに変え
られる。ダクト58aは流れ方向転換部46aに差し込
まれているため、レーザガスはダクト内に流入してビー
ム2の光路内に入ったときには完全に部分反射鏡から離
れる方向の運動を有するようになる。
【0031】この実施例によれば、汚染物質が部分反射
鏡32の表面まで運ばれることがなく、部分反射鏡32
の汚損を生じない。またダクト内に流入するレーザガス
の流線ベクトルを確実に部分反射鏡から遠ざかる方向に
規制することにより、レーザガス流を部分反射鏡32の
近傍にまで接近させることができる。そのため部分反射
鏡32近傍のレーザガスの温度上昇を抑え、出力不安定
現象を引き起こしにくい構成をとることができる。
【0032】実施例3.以下、この発明の一実施例を図
について説明する。図4は部分反射鏡32の取付部を拡
大して示したものである。実施例1、実施例2のレーザ
発振器と異なるのは、ダクト58aの構造である。本実
施例においてはダクトにレーザガスが通過できるような
多数の開口51が設けてあり、サイドフローの流れは図
中の矢印cのように流れる。このようにすれば、レーザ
ガスの流量は部分反射鏡32の近くでは少なく、部分反
射鏡から遠ざかると共に多くなる。
【0033】図5は実施例3において、部分反射鏡から
の距離に対し、レーザガスの流量とレーザガスの温度が
どのような変化をするかを示している。レーザガスはレ
ーザビームを吸収して温度上昇するが、部分反射鏡から
遠ざかるほど温度の低いレーザガスが供給されるのでレ
ーザ出力の不安定現象が起こり始める限界温度以上には
上昇しない。
【0034】実施例3の構成によれば、レーザ出力の不
安定現象を起こす事無く部分反射鏡近傍を流れるレーザ
ガスの流量を大幅に低減する事が出来、部分反射鏡32
の表面まで運ばれる汚染物質が減少するため、部分反射
鏡32の汚損は実施例1、実施例2に比べさらに生じに
くくなる。
【0035】本実施例においては、ダクトに穴状の開口
を設けたものについて説明したが、スリット状の開口で
もよく、またダクトをメッシュ状のものや多孔質状のも
ので構成しても効果がある。
【0036】以上の実施例においては部分反射鏡部分に
ついて説明してきたが、例えば図6の全反射鏡26部分
でも同様の効果がある。また流れ方向転換部46aは断
面形状が円弧をなすものについて説明したが、動圧をほ
ぼ一定に保ちながら保ちながらレ−ザガスが方向転換で
きればよく、円弧と直線の組み合せや任意の曲線、ある
いは任意の曲線と直線の組み合せでもよいことは明かで
ある。
【0037】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、発振
器の光学部品を汚すことがなく反射鏡近傍を冷却可能と
したので、レーザビームの品質が高く、かつ安定した優
れた装置を得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明の一実施例によるレーザ発振器のレ
ーザビーム反射手段12aの断面図である。
【図2】第1の発明の一実施例によるレーザ発振器の部
分反射鏡32の取付部を拡大して示した図である。
【図3】第2の発明の一実施例によるレーザ発振器の部
分反射鏡32の取付部を拡大して示した図である。
【図4】第3の発明の一実施例によるレーザ発振器の部
分反射鏡32の取付部を拡大して示した図である。
【図5】第3の発明の一実施例によるレーザ発振器の部
分反射鏡からの距離に対する、レーザガスの流量とレー
ザガスの温度を示す図である。
【図6】レーザ発振器全体の構成を示す斜視図である。
【図7】従来のレーザ発振器のレーザビーム反射手段a
の断面図である。
【図8】従来のレーザ発振器の部分反射鏡32の取付部
を拡大して示した図である。
【図9】従来のレ−ザ発振器の部分反射鏡32の取付部
を拡大して示した図である。
【図10】従来のレーザ発振器によるレーザ発振器の部
分反射鏡からの距離に対する、レーザガスの流量とレー
ザガスの温度を示した図である。
【符号の説明】
2 レーザビーム 3 サイドフローの流れ 4 放電電極 4A 穴 10 筐体 12a レーザ反射手段 12b レーザ反射手段 26 全反射鏡 28 全反射鏡 30 全反射鏡 32 部分反射鏡 36 光学基台 40 調整ネジ 42 調整板 44 連結棒 45 ビーム通過穴 46 内面 46a 流れ方向転換部 48 ダクト 51 開口 58a ダクト 58b ダクト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−64377(JP,A) 特開 昭59−177981(JP,A) 特開 昭62−141288(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01S 3/03 - 3/038

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向する放電電極と、上記放電電極間を
    通る光軸上でかつ上記電極から上記光軸方向に所定の距
    離をおいて配置されたミラーと、上記放電電極間を上記
    光軸に直交した方向にレーザ媒質を流すための第1のレ
    ーザ媒質循環経路と、上記第1のレーザ媒質循環経路に
    沿ったレーザ媒質の循環によって生ずる上記対向電極間
    とその周辺部との圧力差を利用して上記ミラー近傍へ上
    記レーザ媒質を循環させる第2のレーザ媒質循環経路と
    を備えたレーザ発振器において、上記第2のレーザ媒質
    循環経路は、上記ミラーを保持するとともにレーザビー
    ム通過用開口部としての小径内円筒面部と上記ミラー近
    傍へ上記レーザ媒質を案内する大径内円筒面部この大
    径内円筒面部から上記小径内円筒面部へ移る部分に設け
    られた折り返し形状をした方向転換部とを一体形成した
    第1のレーザ媒質案内手段と、上記小径内円筒面部の径
    よりも大きく上記大径内円筒面部の径よりも小さい径の
    薄肉円筒形状でかつ上記方向転換部と上記ミラー側にて
    上記光軸方向の隙間を持つように配置される第2のレー
    ザ媒質案内手段とを有し、上記第1のレーザ媒質案内手
    段の大径内円筒面部と上記第2のレーザ媒質案内手段間
    で形成される円筒形状をした隙間部を往路として上記光
    軸に沿って上記ミラーに向かう方向に上記レーザ媒質が
    流れるとともに、上記第2のレーザ媒質案内手段の内部
    を帰路として上記光軸に沿って上記ミラーから遠ざかる
    方向に上記レーザ媒質が流れる循環経路にて構成された
    ことを特徴とするレーザ発振器。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のレーザ発振器において、
    第2のレーザ媒質案内手段のミラー側端部が第1のレー
    ザ媒質案内手段の折り返し形状の方向転換部の内部に挿
    入されていることを特徴とするレーザ発振器。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載のレーザ発
    振器において、通気性を有し薄肉円筒形状をした第2の
    レーザ媒質案内手段を有することを特徴とするレーザ発
    振器。
JP4289965A 1992-10-28 1992-10-28 レーザ発振器 Expired - Lifetime JP2800593B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4289965A JP2800593B2 (ja) 1992-10-28 1992-10-28 レーザ発振器
TW081109387A TW232101B (ja) 1992-10-28 1992-11-24
DE69304857T DE69304857T2 (de) 1992-10-28 1993-10-28 Laser Oszillator
US08/141,944 US5416791A (en) 1992-10-28 1993-10-28 Laser oscillator
EP93117529A EP0595335B1 (en) 1992-10-28 1993-10-28 Laser oscillator
HK98105502A HK1006341A1 (en) 1992-10-28 1998-06-17 Laser oscillator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4289965A JP2800593B2 (ja) 1992-10-28 1992-10-28 レーザ発振器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06140692A JPH06140692A (ja) 1994-05-20
JP2800593B2 true JP2800593B2 (ja) 1998-09-21

Family

ID=17750025

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4289965A Expired - Lifetime JP2800593B2 (ja) 1992-10-28 1992-10-28 レーザ発振器

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5416791A (ja)
EP (1) EP0595335B1 (ja)
JP (1) JP2800593B2 (ja)
DE (1) DE69304857T2 (ja)
HK (1) HK1006341A1 (ja)
TW (1) TW232101B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6768765B1 (en) * 2001-06-07 2004-07-27 Lambda Physik Ag High power excimer or molecular fluorine laser system
DE50308786D1 (de) * 2003-04-05 2008-01-24 Trumpf Lasertechnik Gmbh Gaslaserresonator
JP4965466B2 (ja) * 2008-01-10 2012-07-04 三菱電機株式会社 レーザ発振器
CN102082387B (zh) * 2010-12-30 2012-06-13 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 多层气流冷却激光器输出镜装置
WO2016181511A1 (ja) * 2015-05-12 2016-11-17 三菱電機株式会社 ガスレーザ発振器
FR3077686B1 (fr) * 2018-02-05 2020-09-25 Commissariat Energie Atomique Element d'un systeme optique, pour recevoir un fluide fonctionnel sous pression.

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59177981A (ja) * 1983-03-29 1984-10-08 Toshiba Corp 気体レ−ザの発振容器
JPS60254683A (ja) * 1984-05-31 1985-12-16 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ−発振装置
JPS62141288A (ja) * 1985-12-17 1987-06-24 東洋熱工業株式会社 建屋の防雪,防雨装置
US4771436A (en) * 1986-07-29 1988-09-13 Amada Engineering & Service Co., Inc. Gas laser oscillator having a gas flow smoothing device to smooth gas flow in the electrical discharge region
JPS6364377A (ja) * 1986-09-04 1988-03-22 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ発振器
JPS63108786A (ja) * 1986-10-25 1988-05-13 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発生装置
US4823355A (en) * 1987-03-10 1989-04-18 Amada Engineering & Service Co., Inc. High speed axial flow gas laser generator
US5027366A (en) * 1988-01-15 1991-06-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
CA2043512A1 (en) * 1990-06-01 1991-12-02 Mitsugu Terada Gas laser apparatus
IL95906A0 (en) * 1990-10-05 1991-07-18 Laser Ind Ltd Gas laser

Also Published As

Publication number Publication date
EP0595335A1 (en) 1994-05-04
EP0595335B1 (en) 1996-09-18
TW232101B (ja) 1994-10-11
JPH06140692A (ja) 1994-05-20
US5416791A (en) 1995-05-16
DE69304857D1 (de) 1996-10-24
DE69304857T2 (de) 1997-02-27
HK1006341A1 (en) 1999-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4942588A (en) Laser device
US5113408A (en) Laser
JP2800593B2 (ja) レーザ発振器
EP1248332B1 (en) Laser oscillating device
JP2862032B2 (ja) レーザ発振装置
CA2062265C (en) Gas laser oscillating device
US5151916A (en) Electric discharge tube for gas laser
JPH1168213A (ja) Qスイッチco2レーザ装置
JPS60254684A (ja) レ−ザ−発振装置
JP2751648B2 (ja) 気体レーザ装置
GB2145274A (en) Gas laser system
JPS60254683A (ja) レ−ザ−発振装置
JP7499630B2 (ja) アイリス及びレーザ発振器
JP2684910B2 (ja) レーザ発振器
JPS6364377A (ja) レ−ザ発振器
JP2681319B2 (ja) レーザ発振器
JP3259161B2 (ja) ガスレーザ発振装置
JP2003110171A (ja) ガスレーザ発振装置
JP2003338647A (ja) レーザ発振器
JP3259153B2 (ja) ガスレーザ発振装置
JP4045952B2 (ja) ガスレーザ発振装置
JPS62174989A (ja) ガスレ−ザ発生装置
JPH0537058A (ja) レーザ発振器
JP2002252396A (ja) レーザ発振装置
EP1315256A2 (en) Laser oscillator

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070710

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080710

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090710

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100710

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100710

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110710

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110710

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130710

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130710

Year of fee payment: 15