JPS60254683A - レ−ザ−発振装置 - Google Patents
レ−ザ−発振装置Info
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- JPS60254683A JPS60254683A JP10936484A JP10936484A JPS60254683A JP S60254683 A JPS60254683 A JP S60254683A JP 10936484 A JP10936484 A JP 10936484A JP 10936484 A JP10936484 A JP 10936484A JP S60254683 A JPS60254683 A JP S60254683A
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- Japan
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- laser
- gas
- laser beam
- reflector
- reflecting
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0401—Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はレーザー発振装置のレーザー光発振手段、特
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
第4図は従来のレーザー光反射手段の一部を示す断面図
であり、このレーザー光反射手段は、第2図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー光発振手段の右側を
構成するものである。レーザー発振装置は、第2図に示
すように、レーザー光(2]を発振させるレーザー光発
振手段(4)と、レーザーガス循環手段である送風機(
6〕と、レーザーガス冷却手段である熱交換器(8)と
を有し、レーザーガスはレーザー光発振手段(4)から
熱交換器(8)に入り、熱交換器(8]からブロワ(6
〕を通って矢印への方向に循環する。レーザー光発振手
段(4]と送風機(6]と熱交換器(8)は一点鎖線で
示す筐体(10]内に収容されている。レーザーガス中
にはCO2が含まれ、その他にはCo、He。
であり、このレーザー光反射手段は、第2図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー光発振手段の右側を
構成するものである。レーザー発振装置は、第2図に示
すように、レーザー光(2]を発振させるレーザー光発
振手段(4)と、レーザーガス循環手段である送風機(
6〕と、レーザーガス冷却手段である熱交換器(8)と
を有し、レーザーガスはレーザー光発振手段(4)から
熱交換器(8)に入り、熱交換器(8]からブロワ(6
〕を通って矢印への方向に循環する。レーザー光発振手
段(4]と送風機(6]と熱交換器(8)は一点鎖線で
示す筐体(10]内に収容されている。レーザーガス中
にはCO2が含まれ、その他にはCo、He。
N2などが金管れでいる。
レーザー光発振手段(4〕は、第3図の概略説明図に示
すように、レーザーガス励起手段である放電々極(12
)と、レーザー光反射手段(14]、(16)とからな
り、レーザー光反射手段−(14]、(16]は放電々
極(12)の左右両端に配置され、放電々極(12)間
には放電によってレーザーガスを励起させる励起領域(
18)が形成されている。
すように、レーザーガス励起手段である放電々極(12
)と、レーザー光反射手段(14]、(16)とからな
り、レーザー光反射手段−(14]、(16]は放電々
極(12)の左右両端に配置され、放電々極(12)間
には放電によってレーザーガスを励起させる励起領域(
18)が形成されている。
レーザー光反射手段(14)、(16]は、励起領域(
18)内で、2字を描く6本の光軸(20)、(22]
、(24)を通ってレーザー光!’!(2)を反覆反射
させるための、反射@(26)、(28)、(60]、
(62)を左右に2枚づつ有している。
18)内で、2字を描く6本の光軸(20)、(22]
、(24)を通ってレーザー光!’!(2)を反覆反射
させるための、反射@(26)、(28)、(60]、
(62)を左右に2枚づつ有している。
レーザー光発振側(第3図の右側)のレーザー光反射手
段(16)は、第2と第4の反射鏡(28)、(32)
を有しており第4図に断面図で示すように構成されてい
る。すなわち、レーザー光(2)の6木の光軸(20)
、(22)、(24)のうちで、第1の光軸(20)と
第2の光軸(22)の交叉する位置には、第2の反射鏡
(28)が配置され、第3の光軸(24)上には、第4
の反射鏡(62〕が配置されている。他方(第3図の左
側)のレーザー光反射手段(14)は第1と第5の反射
鏡(26]、(60)を有しており、第1の反射鏡(2
6]は、第1の光軸(20〕上に、第2の反射鏡(28
)と対向して配置され、第6の反射鏡(60)は、第2
の光軸(22]と第5の光軸(24)の交叉する位置に
、第4の反射鏡(32)と対向して配置−されている。
段(16)は、第2と第4の反射鏡(28)、(32)
を有しており第4図に断面図で示すように構成されてい
る。すなわち、レーザー光(2)の6木の光軸(20)
、(22)、(24)のうちで、第1の光軸(20)と
第2の光軸(22)の交叉する位置には、第2の反射鏡
(28)が配置され、第3の光軸(24)上には、第4
の反射鏡(62〕が配置されている。他方(第3図の左
側)のレーザー光反射手段(14)は第1と第5の反射
鏡(26]、(60)を有しており、第1の反射鏡(2
6]は、第1の光軸(20〕上に、第2の反射鏡(28
)と対向して配置され、第6の反射鏡(60)は、第2
の光軸(22]と第5の光軸(24)の交叉する位置に
、第4の反射鏡(32)と対向して配置−されている。
第1の反射鏡(26)は第3の反射鏡(30)よりも放
電々極(12)から#ねて配置され、第4の反射鏡(6
2)は第2の反射鏡(28)よりも放電々極(12)か
ら離rて配置されている。
電々極(12)から#ねて配置され、第4の反射鏡(6
2)は第2の反射鏡(28)よりも放電々極(12)か
ら離rて配置されている。
第2の反射鏡(28)は第2のミラーホルダー(64ン
を介して第2の基板(36)の内側に取付けらね、第4
の反射鏡(62)は透過性ミラーからなり、第4のミラ
ーホルダー(68)を介して第2の基板(66)の外側
に調節ねじ(40)で第6の光軸(24)上を移動でき
るように取付けられ、第2の基板(36]が第3の光軸
(24)と交叉する位置にはレーザー光(2)を通すた
めの穴(42]が設けられている。基板(66)は装置
本体の筐体(10)に複数の支持棒(44]を介して間
隔調節回部に取付けられている。第1の反射鏡(26)
と第3の反射鏡(30)も、上記同様に、第1の基撃(
図示せず)に取付けられ、第1の基板も上gF同様に筐
体(10)に取付けられている。
を介して第2の基板(36)の内側に取付けらね、第4
の反射鏡(62)は透過性ミラーからなり、第4のミラ
ーホルダー(68)を介して第2の基板(66)の外側
に調節ねじ(40)で第6の光軸(24)上を移動でき
るように取付けられ、第2の基板(36]が第3の光軸
(24)と交叉する位置にはレーザー光(2)を通すた
めの穴(42]が設けられている。基板(66)は装置
本体の筐体(10)に複数の支持棒(44]を介して間
隔調節回部に取付けられている。第1の反射鏡(26)
と第3の反射鏡(30)も、上記同様に、第1の基撃(
図示せず)に取付けられ、第1の基板も上gF同様に筐
体(10)に取付けられている。
筐体(10)がレーザー光(2)と交叉する位置には開
口部が設けられており、この開口部にはレーザー光(2
]を囲むダクト(46)がダクト取付台(48)を介し
て取付けらねており、ダク)(46)の先端部(46a
)は第2の反射鏡(28)の近傍に及んでいる。ダク
ト取付台(48)にはレーザーガスを矢印aの方向に通
すための開口部(50]が形成されており、開口部(5
0)にはレーザーガス中の塵を除去するためのフィルタ
(52)が取付けられている。基板(66)と筐体(1
0)はダク) (46)を囲むベローズ(54)によっ
て連結され、ダクト(46)とベローズ(54)との間
にはレーザーガスを矢印aの方向に通すためのガス通路
が形成されている。第2のミラーホルダー(34]には
レーザー光<2)の外周縁を遮ってレーザー光(2)の
モードを調節するアパーチャ(56)が取付けられてい
る。
口部が設けられており、この開口部にはレーザー光(2
]を囲むダクト(46)がダクト取付台(48)を介し
て取付けらねており、ダク)(46)の先端部(46a
)は第2の反射鏡(28)の近傍に及んでいる。ダク
ト取付台(48)にはレーザーガスを矢印aの方向に通
すための開口部(50]が形成されており、開口部(5
0)にはレーザーガス中の塵を除去するためのフィルタ
(52)が取付けられている。基板(66)と筐体(1
0)はダク) (46)を囲むベローズ(54)によっ
て連結され、ダクト(46)とベローズ(54)との間
にはレーザーガスを矢印aの方向に通すためのガス通路
が形成されている。第2のミラーホルダー(34]には
レーザー光<2)の外周縁を遮ってレーザー光(2)の
モードを調節するアパーチャ(56)が取付けられてい
る。
従来のレーザー発振装置は上記のように構成され、第1
の反射鏡(26〕で反射されたレーザー光(2)は第1
の光軸(20]を通って第2の反射鏡(28]に到達す
る。第2の反射鏡(28)はわずかに下向きに傾いてい
るので、レーザー光(2)は第1の光軸(20)よりわ
ずかに下向きに傾いた第2の光軸(22)を通って第3
の反射鏡(30)に到達する。第6の反射鏡(30)は
わずかに上向きに傾いているので、レーザー光(2]は
第1の光軸(/(20)と平行な第6の光軸(24)を
通って第4の反射鏡(32(・ンに到達す7る。第4の
反射鏡(32ンは透過性ミラーとなっているので、レー
ザー光(2]の一部はそのまま外部に出力され、残りは
上記と逆のルートを通って第1の反射鏡(26)tで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光(2]は
励起領域(18〕内を反覆通過する間に、C02ガスに
よって増幅されて第4の反射鏡(62)から外部に出力
lされることになる。
の反射鏡(26〕で反射されたレーザー光(2)は第1
の光軸(20]を通って第2の反射鏡(28]に到達す
る。第2の反射鏡(28)はわずかに下向きに傾いてい
るので、レーザー光(2)は第1の光軸(20)よりわ
ずかに下向きに傾いた第2の光軸(22)を通って第3
の反射鏡(30)に到達する。第6の反射鏡(30)は
わずかに上向きに傾いているので、レーザー光(2]は
第1の光軸(/(20)と平行な第6の光軸(24)を
通って第4の反射鏡(32(・ンに到達す7る。第4の
反射鏡(32ンは透過性ミラーとなっているので、レー
ザー光(2]の一部はそのまま外部に出力され、残りは
上記と逆のルートを通って第1の反射鏡(26)tで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光(2]は
励起領域(18〕内を反覆通過する間に、C02ガスに
よって増幅されて第4の反射鏡(62)から外部に出力
lされることになる。
collは温度が上昇すると解離して、濃度が低下する
。レーザーガス中のC02濃度が低下すると、レーザー
光発振手段(4)の効率が低下するので、レーザーガス
はプロワ(6)によって循環させなから熱交換器(8)
によってたえず冷却されている。
。レーザーガス中のC02濃度が低下すると、レーザー
光発振手段(4)の効率が低下するので、レーザーガス
はプロワ(6)によって循環させなから熱交換器(8)
によってたえず冷却されている。
また、反射鏡が傾くと光軸がず力、レーザー光(2]の
モードが変化し、レーザー光発振手段(4〕の効率が低
下するので、第4図に示すように、プロワ(6]によっ
て発生するレーザーガスの差圧によって、レーザーガス
は矢印aから矢印すの方向に循環し、第2の反射鏡(2
8)が冷却されている。
モードが変化し、レーザー光発振手段(4〕の効率が低
下するので、第4図に示すように、プロワ(6]によっ
て発生するレーザーガスの差圧によって、レーザーガス
は矢印aから矢印すの方向に循環し、第2の反射鏡(2
8)が冷却されている。
第6の反射鏡(30ンも同様に冷却されている。
しかるに、上記のように、第1の反射鏡(26)は第6
の反射鏡(60]よりも、第4の反射鏡(32)は第2
の反射鏡(28)よりも放電々@(12)から、すなわ
ちダク) C46)から離れて配置されているので、レ
ーザーガスは第1と第4の反射鏡(26)、(62)ま
で循環せず、レーザー光(2)の吸収によって発生した
熱がこもり、これによって第1と第4の反射鏡(26]
、(32)のミラーホルダー(68〕が変形し、第1と
第4の反射鏡(26)、(32)の幼きがずわ7、光軸
がすね、また反射鏡のアライメントがくずれ、レーザー
光(2)のモードが変化し、レーザー光発振手段(4)
の出力が低下するという欠点があった。
の反射鏡(60]よりも、第4の反射鏡(32)は第2
の反射鏡(28)よりも放電々@(12)から、すなわ
ちダク) C46)から離れて配置されているので、レ
ーザーガスは第1と第4の反射鏡(26)、(62)ま
で循環せず、レーザー光(2)の吸収によって発生した
熱がこもり、これによって第1と第4の反射鏡(26]
、(32)のミラーホルダー(68〕が変形し、第1と
第4の反射鏡(26)、(32)の幼きがずわ7、光軸
がすね、また反射鏡のアライメントがくずれ、レーザー
光(2)のモードが変化し、レーザー光発振手段(4)
の出力が低下するという欠点があった。
この発明は、かかる欠点を改善する目的でなされたもの
で、レーザー光IQ射手段に、レーザーガスの一部を外
側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させる、ガス
通路を設けることにより、外側の反射鏡をも冷却し、レ
ーザー光の吸収による外側の反射鏡の過熱を押え、外側
の反射鏡の光軸が幼いたり、アライメントがぐずれたり
するのを防止するようにしたレーザー発振装置を提案す
るものである。
で、レーザー光IQ射手段に、レーザーガスの一部を外
側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させる、ガス
通路を設けることにより、外側の反射鏡をも冷却し、レ
ーザー光の吸収による外側の反射鏡の過熱を押え、外側
の反射鏡の光軸が幼いたり、アライメントがぐずれたり
するのを防止するようにしたレーザー発振装置を提案す
るものである。
第1図はこの発明の一実施例であるレーザー光反射手段
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第2図に斜視図で示すレーザー発振装置の
一部を構成するものである。
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第2図に斜視図で示すレーザー発振装置の
一部を構成するものである。
(2]〜(56〕は上記従来装佑と全く回−のものであ
る。(58)はレーザーガスをフィルタ(52]を介し
て第4の反射鏡(62〕に導くガス通路であり、レーザ
ー光(2)のモードを調節するためのアバ−チャ(56
)はダク) (46)の端部に取付けられている。他方
のレーザー光反射手段(14〕も上記と同様に構成され
ている。
る。(58)はレーザーガスをフィルタ(52]を介し
て第4の反射鏡(62〕に導くガス通路であり、レーザ
ー光(2)のモードを調節するためのアバ−チャ(56
)はダク) (46)の端部に取付けられている。他方
のレーザー光反射手段(14〕も上記と同様に構成され
ている。
上記のように構成されたレーザー発振装置においては、
反射鏡を冷却するレーザーガスがガス通路(58〕を通
って笛1の反射鏡(26)から第6の反射@(30)の
近傍を流れ、またガス通路(58)を通って第4の反射
鏡(32)から第2の反射鏡(28)の近傍を流れ、ア
パーチャ(56]の開口部からダクト(46〕内に入る
ことになる。したがって、レーザー光の吸収によって外
側の反射鏡である第1と第4の反射部(26)、(32
)が発熱しても、この第1と第4の反射鏡<26) (
32)はミラーホルダー(68)とともにレーザーガス
の流れによってたえず冷却されているから、その傾きが
ずれてレーザー光の光軸がずれたりすることがないこと
になる。
反射鏡を冷却するレーザーガスがガス通路(58〕を通
って笛1の反射鏡(26)から第6の反射@(30)の
近傍を流れ、またガス通路(58)を通って第4の反射
鏡(32)から第2の反射鏡(28)の近傍を流れ、ア
パーチャ(56]の開口部からダクト(46〕内に入る
ことになる。したがって、レーザー光の吸収によって外
側の反射鏡である第1と第4の反射部(26)、(32
)が発熱しても、この第1と第4の反射鏡<26) (
32)はミラーホルダー(68)とともにレーザーガス
の流れによってたえず冷却されているから、その傾きが
ずれてレーザー光の光軸がずれたりすることがないこと
になる。
(発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、レーザーガスの一部を
外側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させるガス
通路をレーザー光反射手段に設けるという簡単な構造に
より、レーザー光の吸収による反射鏡の過熱、ミラーホ
ルタ−の変形、ひいては反射鏡の光軸の傾きのずれを防
止し、レーザー発振器の出力を安定化させるという効果
がある。
外側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させるガス
通路をレーザー光反射手段に設けるという簡単な構造に
より、レーザー光の吸収による反射鏡の過熱、ミラーホ
ルタ−の変形、ひいては反射鏡の光軸の傾きのずれを防
止し、レーザー発振器の出力を安定化させるという効果
がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す要部断面図、第2図
はレーザー発振装置の斜視図、第6図はレーザー光発振
手段の概略説明図、第4図は従来のレーザー光発振手段
の片側を示す断面図である。 図において(4)はレーザー光発振手段、(6)は送風
機、(8)は熱交換器、(12)は放電々極、(14)
、(16)はレーザー光反射手段、(18〕は励起領域
、(26〕、(28)、(60)、(62)は反射鏡、
(58)はガス通路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 利 三 朗
はレーザー発振装置の斜視図、第6図はレーザー光発振
手段の概略説明図、第4図は従来のレーザー光発振手段
の片側を示す断面図である。 図において(4)はレーザー光発振手段、(6)は送風
機、(8)は熱交換器、(12)は放電々極、(14)
、(16)はレーザー光反射手段、(18〕は励起領域
、(26〕、(28)、(60)、(62)は反射鏡、
(58)はガス通路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 利 三 朗
Claims (3)
- (1)レーザーガスを用いてレーザー光を発振させるレ
ーザー発振装置であり、該装置はレーザー光を発振させ
るレーザー光発振手段と、該発振手段を介してレーザー
ガスを循環させるレーザーガス循環手段と、該レーザー
ガスを冷却するレーザーガス冷却手段とを有し、該発振
手段はレーザーガス励起手段と一対のレーザー光反射手
段とからなり、該励起手段は放電によってレーザーガス
を励起させる励起領域を有し、該一対の反射手段は該励
起領域を挾んでレーザー光を互いに反覆反射させる複数
の反射鏡を各々有し、更に該一対の反射手段には上記レ
ーザーガスの一部を外側の反射鏡から内側の反射鏡を通
って循環させるガス通路が各々設けられていることを特
徴とするレーザー発振装置。 - (2)レーザーガスが炭酸ガスを含むレーザーガスであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザ
ー発振装置。 - (3)レーザー光反射手段が反射鏡と励起領域との間に
アパーチャを有するレーザー光反射手段であることを特
徴とする特許請求の範囲fR1項又は第2項記載のレー
ザー発振装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10936484A JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10936484A JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60254683A true JPS60254683A (ja) | 1985-12-16 |
JPS6364073B2 JPS6364073B2 (ja) | 1988-12-09 |
Family
ID=14508355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10936484A Granted JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60254683A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
US5596597A (en) * | 1994-05-16 | 1997-01-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
WO2016181511A1 (ja) * | 2015-05-12 | 2016-11-17 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ発振器 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP10936484A patent/JPS60254683A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
US5416791A (en) * | 1992-10-28 | 1995-05-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
US5596597A (en) * | 1994-05-16 | 1997-01-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
US5675598A (en) * | 1994-05-16 | 1997-10-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
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US5748662A (en) * | 1994-05-16 | 1998-05-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
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