JPS60254683A - レ−ザ−発振装置 - Google Patents
レ−ザ−発振装置Info
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- JPS60254683A JPS60254683A JP10936484A JP10936484A JPS60254683A JP S60254683 A JPS60254683 A JP S60254683A JP 10936484 A JP10936484 A JP 10936484A JP 10936484 A JP10936484 A JP 10936484A JP S60254683 A JPS60254683 A JP S60254683A
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- Japan
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- laser
- gas
- laser beam
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- reflecting
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0401—Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はレーザー発振装置のレーザー光発振手段、特
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
にそのレーザー光反射手段の過熱防止に関するものであ
る。
第４図は従来のレーザー光反射手段の一部を示す断面図
であり、このレーザー光反射手段は、第２図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー光発振手段の右側を
構成するものである。レーザー発振装置は、第２図に示
すように、レーザー光（２］を発振させるレーザー光発
振手段（４）と、レーザーガス循環手段である送風機（
６〕と、レーザーガス冷却手段である熱交換器（８）と
を有し、レーザーガスはレーザー光発振手段（４）から
熱交換器（８）に入り、熱交換器（８］からブロワ（６
〕を通って矢印への方向に循環する。レーザー光発振手
段（４］と送風機（６］と熱交換器（８）は一点鎖線で
示す筐体（１０］内に収容されている。レーザーガス中
にはＣＯ２が含まれ、その他にはＣｏ、Ｈｅ。
であり、このレーザー光反射手段は、第２図に斜視図で
示す、レーザー発振装置のレーザー光発振手段の右側を
構成するものである。レーザー発振装置は、第２図に示
すように、レーザー光（２］を発振させるレーザー光発
振手段（４）と、レーザーガス循環手段である送風機（
６〕と、レーザーガス冷却手段である熱交換器（８）と
を有し、レーザーガスはレーザー光発振手段（４）から
熱交換器（８）に入り、熱交換器（８］からブロワ（６
〕を通って矢印への方向に循環する。レーザー光発振手
段（４］と送風機（６］と熱交換器（８）は一点鎖線で
示す筐体（１０］内に収容されている。レーザーガス中
にはＣＯ２が含まれ、その他にはＣｏ、Ｈｅ。
Ｎ２などが金管れでいる。
レーザー光発振手段（４〕は、第３図の概略説明図に示
すように、レーザーガス励起手段である放電々極（１２
）と、レーザー光反射手段（１４］、（１６）とからな
り、レーザー光反射手段−（１４］、（１６］は放電々
極（１２）の左右両端に配置され、放電々極（１２）間
には放電によってレーザーガスを励起させる励起領域（
１８）が形成されている。
すように、レーザーガス励起手段である放電々極（１２
）と、レーザー光反射手段（１４］、（１６）とからな
り、レーザー光反射手段−（１４］、（１６］は放電々
極（１２）の左右両端に配置され、放電々極（１２）間
には放電によってレーザーガスを励起させる励起領域（
１８）が形成されている。
レーザー光反射手段（１４）、（１６］は、励起領域（
１８）内で、２字を描く６本の光軸（２０）、（２２］
、（２４）を通ってレーザー光！’！（２）を反覆反射
させるための、反射＠（２６）、（２８）、（６０］、
（６２）を左右に２枚づつ有している。
１８）内で、２字を描く６本の光軸（２０）、（２２］
、（２４）を通ってレーザー光！’！（２）を反覆反射
させるための、反射＠（２６）、（２８）、（６０］、
（６２）を左右に２枚づつ有している。
レーザー光発振側（第３図の右側）のレーザー光反射手
段（１６）は、第２と第４の反射鏡（２８）、（３２）
を有しており第４図に断面図で示すように構成されてい
る。すなわち、レーザー光（２）の６木の光軸（２０）
、（２２）、（２４）のうちで、第１の光軸（２０）と
第２の光軸（２２）の交叉する位置には、第２の反射鏡
（２８）が配置され、第３の光軸（２４）上には、第４
の反射鏡（６２〕が配置されている。他方（第３図の左
側）のレーザー光反射手段（１４）は第１と第５の反射
鏡（２６］、（６０）を有しており、第１の反射鏡（２
６］は、第１の光軸（２０〕上に、第２の反射鏡（２８
）と対向して配置され、第６の反射鏡（６０）は、第２
の光軸（２２］と第５の光軸（２４）の交叉する位置に
、第４の反射鏡（３２）と対向して配置−されている。
段（１６）は、第２と第４の反射鏡（２８）、（３２）
を有しており第４図に断面図で示すように構成されてい
る。すなわち、レーザー光（２）の６木の光軸（２０）
、（２２）、（２４）のうちで、第１の光軸（２０）と
第２の光軸（２２）の交叉する位置には、第２の反射鏡
（２８）が配置され、第３の光軸（２４）上には、第４
の反射鏡（６２〕が配置されている。他方（第３図の左
側）のレーザー光反射手段（１４）は第１と第５の反射
鏡（２６］、（６０）を有しており、第１の反射鏡（２
６］は、第１の光軸（２０〕上に、第２の反射鏡（２８
）と対向して配置され、第６の反射鏡（６０）は、第２
の光軸（２２］と第５の光軸（２４）の交叉する位置に
、第４の反射鏡（３２）と対向して配置−されている。
第１の反射鏡（２６）は第３の反射鏡（３０）よりも放
電々極（１２）から＃ねて配置され、第４の反射鏡（６
２）は第２の反射鏡（２８）よりも放電々極（１２）か
ら離ｒて配置されている。
電々極（１２）から＃ねて配置され、第４の反射鏡（６
２）は第２の反射鏡（２８）よりも放電々極（１２）か
ら離ｒて配置されている。
第２の反射鏡（２８）は第２のミラーホルダー（６４ン
を介して第２の基板（３６）の内側に取付けらね、第４
の反射鏡（６２）は透過性ミラーからなり、第４のミラ
ーホルダー（６８）を介して第２の基板（６６）の外側
に調節ねじ（４０）で第６の光軸（２４）上を移動でき
るように取付けられ、第２の基板（３６］が第３の光軸
（２４）と交叉する位置にはレーザー光（２）を通すた
めの穴（４２］が設けられている。基板（６６）は装置
本体の筐体（１０）に複数の支持棒（４４］を介して間
隔調節回部に取付けられている。第１の反射鏡（２６）
と第３の反射鏡（３０）も、上記同様に、第１の基撃（
図示せず）に取付けられ、第１の基板も上ｇＦ同様に筐
体（１０）に取付けられている。
を介して第２の基板（３６）の内側に取付けらね、第４
の反射鏡（６２）は透過性ミラーからなり、第４のミラ
ーホルダー（６８）を介して第２の基板（６６）の外側
に調節ねじ（４０）で第６の光軸（２４）上を移動でき
るように取付けられ、第２の基板（３６］が第３の光軸
（２４）と交叉する位置にはレーザー光（２）を通すた
めの穴（４２］が設けられている。基板（６６）は装置
本体の筐体（１０）に複数の支持棒（４４］を介して間
隔調節回部に取付けられている。第１の反射鏡（２６）
と第３の反射鏡（３０）も、上記同様に、第１の基撃（
図示せず）に取付けられ、第１の基板も上ｇＦ同様に筐
体（１０）に取付けられている。
筐体（１０）がレーザー光（２）と交叉する位置には開
口部が設けられており、この開口部にはレーザー光（２
］を囲むダクト（４６）がダクト取付台（４８）を介し
て取付けらねており、ダク）（４６）の先端部（４６ａ
）は第２の反射鏡（２８）の近傍に及んでいる。ダク
ト取付台（４８）にはレーザーガスを矢印ａの方向に通
すための開口部（５０］が形成されており、開口部（５
０）にはレーザーガス中の塵を除去するためのフィルタ
（５２）が取付けられている。基板（６６）と筐体（１
０）はダク） （４６）を囲むベローズ（５４）によっ
て連結され、ダクト（４６）とベローズ（５４）との間
にはレーザーガスを矢印ａの方向に通すためのガス通路
が形成されている。第２のミラーホルダー（３４］には
レーザー光＜２）の外周縁を遮ってレーザー光（２）の
モードを調節するアパーチャ（５６）が取付けられてい
る。
口部が設けられており、この開口部にはレーザー光（２
］を囲むダクト（４６）がダクト取付台（４８）を介し
て取付けらねており、ダク）（４６）の先端部（４６ａ
）は第２の反射鏡（２８）の近傍に及んでいる。ダク
ト取付台（４８）にはレーザーガスを矢印ａの方向に通
すための開口部（５０］が形成されており、開口部（５
０）にはレーザーガス中の塵を除去するためのフィルタ
（５２）が取付けられている。基板（６６）と筐体（１
０）はダク） （４６）を囲むベローズ（５４）によっ
て連結され、ダクト（４６）とベローズ（５４）との間
にはレーザーガスを矢印ａの方向に通すためのガス通路
が形成されている。第２のミラーホルダー（３４］には
レーザー光＜２）の外周縁を遮ってレーザー光（２）の
モードを調節するアパーチャ（５６）が取付けられてい
る。
従来のレーザー発振装置は上記のように構成され、第１
の反射鏡（２６〕で反射されたレーザー光（２）は第１
の光軸（２０］を通って第２の反射鏡（２８］に到達す
る。第２の反射鏡（２８）はわずかに下向きに傾いてい
るので、レーザー光（２）は第１の光軸（２０）よりわ
ずかに下向きに傾いた第２の光軸（２２）を通って第３
の反射鏡（３０）に到達する。第６の反射鏡（３０）は
わずかに上向きに傾いているので、レーザー光（２］は
第１の光軸（／（２０）と平行な第６の光軸（２４）を
通って第４の反射鏡（３２（・ンに到達す７る。第４の
反射鏡（３２ンは透過性ミラーとなっているので、レー
ザー光（２］の一部はそのまま外部に出力され、残りは
上記と逆のルートを通って第１の反射鏡（２６）ｔで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光（２］は
励起領域（１８〕内を反覆通過する間に、Ｃ０２ガスに
よって増幅されて第４の反射鏡（６２）から外部に出力
ｌされることになる。
の反射鏡（２６〕で反射されたレーザー光（２）は第１
の光軸（２０］を通って第２の反射鏡（２８］に到達す
る。第２の反射鏡（２８）はわずかに下向きに傾いてい
るので、レーザー光（２）は第１の光軸（２０）よりわ
ずかに下向きに傾いた第２の光軸（２２）を通って第３
の反射鏡（３０）に到達する。第６の反射鏡（３０）は
わずかに上向きに傾いているので、レーザー光（２］は
第１の光軸（／（２０）と平行な第６の光軸（２４）を
通って第４の反射鏡（３２（・ンに到達す７る。第４の
反射鏡（３２ンは透過性ミラーとなっているので、レー
ザー光（２］の一部はそのまま外部に出力され、残りは
上記と逆のルートを通って第１の反射鏡（２６）ｔで戻
り、上記のプロセスが繰り返され、レーザー光（２］は
励起領域（１８〕内を反覆通過する間に、Ｃ０２ガスに
よって増幅されて第４の反射鏡（６２）から外部に出力
ｌされることになる。
ｃｏｌｌは温度が上昇すると解離して、濃度が低下する
。レーザーガス中のＣ０２濃度が低下すると、レーザー
光発振手段（４）の効率が低下するので、レーザーガス
はプロワ（６）によって循環させなから熱交換器（８）
によってたえず冷却されている。
。レーザーガス中のＣ０２濃度が低下すると、レーザー
光発振手段（４）の効率が低下するので、レーザーガス
はプロワ（６）によって循環させなから熱交換器（８）
によってたえず冷却されている。
また、反射鏡が傾くと光軸がず力、レーザー光（２］の
モードが変化し、レーザー光発振手段（４〕の効率が低
下するので、第４図に示すように、プロワ（６］によっ
て発生するレーザーガスの差圧によって、レーザーガス
は矢印ａから矢印すの方向に循環し、第２の反射鏡（２
８）が冷却されている。
モードが変化し、レーザー光発振手段（４〕の効率が低
下するので、第４図に示すように、プロワ（６］によっ
て発生するレーザーガスの差圧によって、レーザーガス
は矢印ａから矢印すの方向に循環し、第２の反射鏡（２
８）が冷却されている。
第６の反射鏡（３０ンも同様に冷却されている。
しかるに、上記のように、第１の反射鏡（２６）は第６
の反射鏡（６０］よりも、第４の反射鏡（３２）は第２
の反射鏡（２８）よりも放電々＠（１２）から、すなわ
ちダク） Ｃ４６）から離れて配置されているので、レ
ーザーガスは第１と第４の反射鏡（２６）、（６２）ま
で循環せず、レーザー光（２）の吸収によって発生した
熱がこもり、これによって第１と第４の反射鏡（２６］
、（３２）のミラーホルダー（６８〕が変形し、第１と
第４の反射鏡（２６）、（３２）の幼きがずわ７、光軸
がすね、また反射鏡のアライメントがくずれ、レーザー
光（２）のモードが変化し、レーザー光発振手段（４）
の出力が低下するという欠点があった。
の反射鏡（６０］よりも、第４の反射鏡（３２）は第２
の反射鏡（２８）よりも放電々＠（１２）から、すなわ
ちダク） Ｃ４６）から離れて配置されているので、レ
ーザーガスは第１と第４の反射鏡（２６）、（６２）ま
で循環せず、レーザー光（２）の吸収によって発生した
熱がこもり、これによって第１と第４の反射鏡（２６］
、（３２）のミラーホルダー（６８〕が変形し、第１と
第４の反射鏡（２６）、（３２）の幼きがずわ７、光軸
がすね、また反射鏡のアライメントがくずれ、レーザー
光（２）のモードが変化し、レーザー光発振手段（４）
の出力が低下するという欠点があった。
この発明は、かかる欠点を改善する目的でなされたもの
で、レーザー光ＩＱ射手段に、レーザーガスの一部を外
側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させる、ガス
通路を設けることにより、外側の反射鏡をも冷却し、レ
ーザー光の吸収による外側の反射鏡の過熱を押え、外側
の反射鏡の光軸が幼いたり、アライメントがぐずれたり
するのを防止するようにしたレーザー発振装置を提案す
るものである。
で、レーザー光ＩＱ射手段に、レーザーガスの一部を外
側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させる、ガス
通路を設けることにより、外側の反射鏡をも冷却し、レ
ーザー光の吸収による外側の反射鏡の過熱を押え、外側
の反射鏡の光軸が幼いたり、アライメントがぐずれたり
するのを防止するようにしたレーザー発振装置を提案す
るものである。
第１図はこの発明の一実施例であるレーザー光反射手段
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第２図に斜視図で示すレーザー発振装置の
一部を構成するものである。
のレーザー光発振側を示す断面図であり、このレーザー
光反射手段は第２図に斜視図で示すレーザー発振装置の
一部を構成するものである。
（２］〜（５６〕は上記従来装佑と全く回−のものであ
る。（５８）はレーザーガスをフィルタ（５２］を介し
て第４の反射鏡（６２〕に導くガス通路であり、レーザ
ー光（２）のモードを調節するためのアバ−チャ（５６
）はダク） （４６）の端部に取付けられている。他方
のレーザー光反射手段（１４〕も上記と同様に構成され
ている。
る。（５８）はレーザーガスをフィルタ（５２］を介し
て第４の反射鏡（６２〕に導くガス通路であり、レーザ
ー光（２）のモードを調節するためのアバ−チャ（５６
）はダク） （４６）の端部に取付けられている。他方
のレーザー光反射手段（１４〕も上記と同様に構成され
ている。
上記のように構成されたレーザー発振装置においては、
反射鏡を冷却するレーザーガスがガス通路（５８〕を通
って笛１の反射鏡（２６）から第６の反射＠（３０）の
近傍を流れ、またガス通路（５８）を通って第４の反射
鏡（３２）から第２の反射鏡（２８）の近傍を流れ、ア
パーチャ（５６］の開口部からダクト（４６〕内に入る
ことになる。したがって、レーザー光の吸収によって外
側の反射鏡である第１と第４の反射部（２６）、（３２
）が発熱しても、この第１と第４の反射鏡＜２６） （
３２）はミラーホルダー（６８）とともにレーザーガス
の流れによってたえず冷却されているから、その傾きが
ずれてレーザー光の光軸がずれたりすることがないこと
になる。
反射鏡を冷却するレーザーガスがガス通路（５８〕を通
って笛１の反射鏡（２６）から第６の反射＠（３０）の
近傍を流れ、またガス通路（５８）を通って第４の反射
鏡（３２）から第２の反射鏡（２８）の近傍を流れ、ア
パーチャ（５６］の開口部からダクト（４６〕内に入る
ことになる。したがって、レーザー光の吸収によって外
側の反射鏡である第１と第４の反射部（２６）、（３２
）が発熱しても、この第１と第４の反射鏡＜２６） （
３２）はミラーホルダー（６８）とともにレーザーガス
の流れによってたえず冷却されているから、その傾きが
ずれてレーザー光の光軸がずれたりすることがないこと
になる。
（発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、レーザーガスの一部を
外側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させるガス
通路をレーザー光反射手段に設けるという簡単な構造に
より、レーザー光の吸収による反射鏡の過熱、ミラーホ
ルタ−の変形、ひいては反射鏡の光軸の傾きのずれを防
止し、レーザー発振器の出力を安定化させるという効果
がある。
外側の反射鏡から内側の反射鏡を通って循環させるガス
通路をレーザー光反射手段に設けるという簡単な構造に
より、レーザー光の吸収による反射鏡の過熱、ミラーホ
ルタ−の変形、ひいては反射鏡の光軸の傾きのずれを防
止し、レーザー発振器の出力を安定化させるという効果
がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す要部断面図、第２図
はレーザー発振装置の斜視図、第６図はレーザー光発振
手段の概略説明図、第４図は従来のレーザー光発振手段
の片側を示す断面図である。 図において（４）はレーザー光発振手段、（６）は送風
機、（８）は熱交換器、（１２）は放電々極、（１４）
、（１６）はレーザー光反射手段、（１８〕は励起領域
、（２６〕、（２８）、（６０）、（６２）は反射鏡、
（５８）はガス通路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 利 三 朗
はレーザー発振装置の斜視図、第６図はレーザー光発振
手段の概略説明図、第４図は従来のレーザー光発振手段
の片側を示す断面図である。 図において（４）はレーザー光発振手段、（６）は送風
機、（８）は熱交換器、（１２）は放電々極、（１４）
、（１６）はレーザー光反射手段、（１８〕は励起領域
、（２６〕、（２８）、（６０）、（６２）は反射鏡、
（５８）はガス通路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。 代理人 弁理士 木 利 三 朗
Claims (3)
- （１）レーザーガスを用いてレーザー光を発振させるレ
ーザー発振装置であり、該装置はレーザー光を発振させ
るレーザー光発振手段と、該発振手段を介してレーザー
ガスを循環させるレーザーガス循環手段と、該レーザー
ガスを冷却するレーザーガス冷却手段とを有し、該発振
手段はレーザーガス励起手段と一対のレーザー光反射手
段とからなり、該励起手段は放電によってレーザーガス
を励起させる励起領域を有し、該一対の反射手段は該励
起領域を挾んでレーザー光を互いに反覆反射させる複数
の反射鏡を各々有し、更に該一対の反射手段には上記レ
ーザーガスの一部を外側の反射鏡から内側の反射鏡を通
って循環させるガス通路が各々設けられていることを特
徴とするレーザー発振装置。 - （２）レーザーガスが炭酸ガスを含むレーザーガスであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレーザ
ー発振装置。 - （３）レーザー光反射手段が反射鏡と励起領域との間に
アパーチャを有するレーザー光反射手段であることを特
徴とする特許請求の範囲ｆＲ１項又は第２項記載のレー
ザー発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10936484A JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10936484A JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254683A true JPS60254683A (ja) | 1985-12-16 |
| JPS6364073B2 JPS6364073B2 (ja) | 1988-12-09 |
Family
ID=14508355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10936484A Granted JPS60254683A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レ−ザ−発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60254683A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
| US5596597A (en) * | 1994-05-16 | 1997-01-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
| WO2016181511A1 (ja) * | 2015-05-12 | 2016-11-17 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ発振器 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP10936484A patent/JPS60254683A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
| US5416791A (en) * | 1992-10-28 | 1995-05-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
| US5596597A (en) * | 1994-05-16 | 1997-01-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
| US5675598A (en) * | 1994-05-16 | 1997-10-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
| US5745513A (en) * | 1994-05-16 | 1998-04-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator with stabilized pointing |
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| Publication number | Publication date |
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| JPS6364073B2 (ja) | 1988-12-09 |
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