JPS63108786A - ガスレ−ザ発生装置 - Google Patents
ガスレ−ザ発生装置Info
- Publication number
- JPS63108786A JPS63108786A JP25433486A JP25433486A JPS63108786A JP S63108786 A JPS63108786 A JP S63108786A JP 25433486 A JP25433486 A JP 25433486A JP 25433486 A JP25433486 A JP 25433486A JP S63108786 A JPS63108786 A JP S63108786A
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- JP
- Japan
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- output mirror
- gas
- discharge tube
- laser
- diameter
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- Pending
Links
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 9
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 65
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガスレーザ発生装置に関するものである。
従来のガスレーザ発生装置は特開昭59−155975
号公報および特開昭59−125682号公報に記載さ
れているような構成となっているが、この構成のものは
ガス@環用に用いられるルーツポンプ等のブロワの潤滑
油ミストが放電管内をまわって出力鏡を汚損させる恐れ
があった。
号公報および特開昭59−125682号公報に記載さ
れているような構成となっているが、この構成のものは
ガス@環用に用いられるルーツポンプ等のブロワの潤滑
油ミストが放電管内をまわって出力鏡を汚損させる恐れ
があった。
このため、実開昭60−116257号公報が提案され
ている。これは油ミストの除去対策に注意が払われてい
る一方、定期的に出力鏡表面の清掃を行う等の保守作業
も行ねれている。
ている。これは油ミストの除去対策に注意が払われてい
る一方、定期的に出力鏡表面の清掃を行う等の保守作業
も行ねれている。
また、特開昭58−96788号公報では出力鏡近傍に
ガス供給口を設けて、出力鏡の汚損防止をしている。す
なわちこの種ガスレーザ発生装置の従来例が第2図に示
されている。同図に示されているようにガスレーザ発生
装置は全反射鏡1、出力鏡2および出力鏡2近傍にガス
供給口3をイ1する放 。
ガス供給口を設けて、出力鏡の汚損防止をしている。す
なわちこの種ガスレーザ発生装置の従来例が第2図に示
されている。同図に示されているようにガスレーザ発生
装置は全反射鏡1、出力鏡2および出力鏡2近傍にガス
供給口3をイ1する放 。
電管4内に図中矢印表ボのレーザガス5を循環させ、レ
ーザ光(図ボせず)を発生させる。
ーザ光(図ボせず)を発生させる。
すなわちルーツポンプ6は一対の同期回転するロータフ
によりレーザガス5を圧縮送風する。送風さ九たレーザ
ガス5は第1の熱交換器8によリレーザ発振に好適な温
度まで冷却された後、配管9を通して放it管4に供給
される。放電管4では高電圧が印加された1を極10,
11の間でレーザガス5を放電励起し、全反射鏡1と出
力鏡2との間でレーザ光を発生させ、外部ヘレーザ出力
12が放出される。放電により加熱されたガスは第2の
熱交換器8aにより冷却された後、ルーツポンプ6に戻
り、再度送風される。この放電時の温度」―y1゜等に
よりレーザガス5の一部が分解するため、放電管4内の
ガスの数%を真空ポンプ13で常時排気している。一方
、排気ガスと同量の新しいレーザガス5をボンベ14か
ら配管9aおよびガス供給口3を介して放電管4内に供
給する。ガス供給口3は出力鏡2の近傍に設けてあり、
出力鏡2の近傍は常に新しいガスで満たされている。
によりレーザガス5を圧縮送風する。送風さ九たレーザ
ガス5は第1の熱交換器8によリレーザ発振に好適な温
度まで冷却された後、配管9を通して放it管4に供給
される。放電管4では高電圧が印加された1を極10,
11の間でレーザガス5を放電励起し、全反射鏡1と出
力鏡2との間でレーザ光を発生させ、外部ヘレーザ出力
12が放出される。放電により加熱されたガスは第2の
熱交換器8aにより冷却された後、ルーツポンプ6に戻
り、再度送風される。この放電時の温度」―y1゜等に
よりレーザガス5の一部が分解するため、放電管4内の
ガスの数%を真空ポンプ13で常時排気している。一方
、排気ガスと同量の新しいレーザガス5をボンベ14か
ら配管9aおよびガス供給口3を介して放電管4内に供
給する。ガス供給口3は出力鏡2の近傍に設けてあり、
出力鏡2の近傍は常に新しいガスで満たされている。
上記従来技術では、ガスレーザ発生装置の放電管内に残
留混入している汚損物質がガス循環路内をまわり、放電
管に使用されている鏡順に付着して、レーザ出力の低下
および出力鏡では熱吸収率の増加による寿命低下・ビー
ムモード変形の原因となっている。
留混入している汚損物質がガス循環路内をまわり、放電
管に使用されている鏡順に付着して、レーザ出力の低下
および出力鏡では熱吸収率の増加による寿命低下・ビー
ムモード変形の原因となっている。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、放電管の
ガス循環路内に発生する汚損物質が出力鏡に付着するの
を防止することを可能としたガスレーザ発生装置を提供
することを目的とするものである。
ガス循環路内に発生する汚損物質が出力鏡に付着するの
を防止することを可能としたガスレーザ発生装置を提供
することを目的とするものである。
上記目的は、出力鏡とガス供給口との間の放電管内に、
出力鏡側か反出力鏡側より幅狭となる段差を形成するこ
とにより、達成される。
出力鏡側か反出力鏡側より幅狭となる段差を形成するこ
とにより、達成される。
出力鏡とガス供給口との間の放電管内に出力鏡側か反出
力鏡側より幅狭となる段差を形成したので、放電管内の
出力鏡とガス供給口との間は出力鏡側か反出力鏡側より
幅狭に形成される。従ってガス供給口より供給されるレ
ーザガスは幅広の反出力鏡側に平滑に流れるようになっ
て、放電管の循環ガス流に含まれる油ミストをまきこむ
ガス渦流の発生が抑制されると共に、発生したガス渦流
も小さく、かつ反出力鏡側に流れるようになる。
力鏡側より幅狭となる段差を形成したので、放電管内の
出力鏡とガス供給口との間は出力鏡側か反出力鏡側より
幅狭に形成される。従ってガス供給口より供給されるレ
ーザガスは幅広の反出力鏡側に平滑に流れるようになっ
て、放電管の循環ガス流に含まれる油ミストをまきこむ
ガス渦流の発生が抑制されると共に、発生したガス渦流
も小さく、かつ反出力鏡側に流れるようになる。
このため油ミストは放電管のガス循環路内を流れ、油ミ
スト等の汚損物質が出力鏡に付着するのが防止される。
スト等の汚損物質が出力鏡に付着するのが防止される。
因みにガス渦流はガスが器壁に衝突したり、ガス同志が
衝突したりすることにより発生する。
衝突したりすることにより発生する。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。第
1図には本発明の一実施例が示されている。なお従来と
同じ部品には同じ符号を付したので説明を省略する1本
実施例では出力鏡2とガス供給口3との間の放電管内に
、出力鏡2側が反出力鏡2側より幅狭となる段差を形成
した。このようにすることにより出力鏡2とガス供給口
3との間の放電管内に、出力鏡2側が反出力鏡2何より
幅狭となる段差が形成されるようになって、ガス供給口
3より供給されるレーザガス5は幅広の反出力鏡2側に
平滑に流れるようになり、放電管のガス循環路内に発生
する汚損物質が出力鏡2に付着するのを防止することを
[τf能としたガスレーザ発生装置を得ることができる
。
1図には本発明の一実施例が示されている。なお従来と
同じ部品には同じ符号を付したので説明を省略する1本
実施例では出力鏡2とガス供給口3との間の放電管内に
、出力鏡2側が反出力鏡2側より幅狭となる段差を形成
した。このようにすることにより出力鏡2とガス供給口
3との間の放電管内に、出力鏡2側が反出力鏡2何より
幅狭となる段差が形成されるようになって、ガス供給口
3より供給されるレーザガス5は幅広の反出力鏡2側に
平滑に流れるようになり、放電管のガス循環路内に発生
する汚損物質が出力鏡2に付着するのを防止することを
[τf能としたガスレーザ発生装置を得ることができる
。
すなわちガス供給口3より供給したレーザガス5は空洞
15内で広がり、出力鏡2の近傍の内向に設けられた狭
いスリット状のガス吹出口16より放fl 9内に入る
。ガス吐出口16はレーザガス5が全周より均一に吹き
出すようにスリッ1−状に作られている。このように作
られたガス供給口3と出力鏡2との間の放電管内に、出
力鏡2側が反出力鏡2側より幅狭となる段差を形成した
が、この段差をガス吹出口16.出力鏡2側の出力鏡ホ
ルダー17に設けたアパーチャ18および出力鏡ホルダ
ー17と放電管との接続部19で形成した。
15内で広がり、出力鏡2の近傍の内向に設けられた狭
いスリット状のガス吹出口16より放fl 9内に入る
。ガス吐出口16はレーザガス5が全周より均一に吹き
出すようにスリッ1−状に作られている。このように作
られたガス供給口3と出力鏡2との間の放電管内に、出
力鏡2側が反出力鏡2側より幅狭となる段差を形成した
が、この段差をガス吹出口16.出力鏡2側の出力鏡ホ
ルダー17に設けたアパーチャ18および出力鏡ホルダ
ー17と放電管との接続部19で形成した。
そしてアパーチャ18の径d1をレーザ光20の’I’
f= d oより大きく、かつガス吹出口16の径d2
より小さく、このガス吹出口16の径d2を接続部1.
9の径d3より小さく形成した。すなわちdo≦dr<
dz<daとした。なお同図において21は出力鏡部え
フランジである。このように接続部19の径d3をガス
吹出口16の径d2より大きくすることにより、ガス吹
出口16を出たレーザガス5は段差に沿って均一、かつ
平滑に反出力鏡側に流れるようになってガス渦流5Aの
発生を抑制する。また、発生したガス渦流5Aも非常に
小さく、ガス吹出口16の径d2よりアパーチャ18の
径d1を小さくした段差にはばまれ、出力鏡2側に向う
のが阻止される。
f= d oより大きく、かつガス吹出口16の径d2
より小さく、このガス吹出口16の径d2を接続部1.
9の径d3より小さく形成した。すなわちdo≦dr<
dz<daとした。なお同図において21は出力鏡部え
フランジである。このように接続部19の径d3をガス
吹出口16の径d2より大きくすることにより、ガス吹
出口16を出たレーザガス5は段差に沿って均一、かつ
平滑に反出力鏡側に流れるようになってガス渦流5Aの
発生を抑制する。また、発生したガス渦流5Aも非常に
小さく、ガス吹出口16の径d2よりアパーチャ18の
径d1を小さくした段差にはばまれ、出力鏡2側に向う
のが阻止される。
従ってルーツポンプで発生する微駄の潤滑油のミストは
配管を通って放電管に侵入するが、油ミストをまきこむ
ガス渦’dot 5 Aが小さく、かつアパーチャ18
の段差にはばまれて出力鏡2に向うことがなく、放電管
のガス循環路内を流れる。このため出力鏡2の表向はX
i:tに清浄状態に維持される。
配管を通って放電管に侵入するが、油ミストをまきこむ
ガス渦’dot 5 Aが小さく、かつアパーチャ18
の段差にはばまれて出力鏡2に向うことがなく、放電管
のガス循環路内を流れる。このため出力鏡2の表向はX
i:tに清浄状態に維持される。
また、汚損物質としては出力鏡2および全反射鏡の交換
あるいは各部保守作業等を行う際に周辺の大気から侵入
する塵埃等も考えられるが、これらの汚損物質について
も前述の場合と同様ガス循環時の出力鏡2への付着が防
1ヒされるにのように本実施例によ九ば汚損物質の出力
鏡2表rttjへの付着をなくすことができるので、レ
ーザ出力およびビームモードを安定化して出力鏡2の耐
用寿命を延ばすことができる。また、使用途中での出力
鏡2の清掃作業が不要となり、保守作業を低減できる。
あるいは各部保守作業等を行う際に周辺の大気から侵入
する塵埃等も考えられるが、これらの汚損物質について
も前述の場合と同様ガス循環時の出力鏡2への付着が防
1ヒされるにのように本実施例によ九ば汚損物質の出力
鏡2表rttjへの付着をなくすことができるので、レ
ーザ出力およびビームモードを安定化して出力鏡2の耐
用寿命を延ばすことができる。また、使用途中での出力
鏡2の清掃作業が不要となり、保守作業を低減できる。
上述のように本発明は放電管のガス循環路内に発生する
汚損物質が出力鏡に付着するのが防止されるようになっ
て、放電管のガス循環路内に発生する汚損物質が出力鏡
に付着するのを防止することをiJ能としたガスレーザ
発生装置を得ることができる。
汚損物質が出力鏡に付着するのが防止されるようになっ
て、放電管のガス循環路内に発生する汚損物質が出力鏡
に付着するのを防止することをiJ能としたガスレーザ
発生装置を得ることができる。
第1図は本発明のガスレーザ発生装置の一実施例の出力
鏡部の縦断側itn図、第2図は従来のガスレーザ発生
装置の一部縦断側面図である。 1・・・全反射鏡、2・・・出力鏡、3・・・ガス供給
口、4・・・放電管、5・・・レーザガス、16・・・
ガス吹出口、17・・・出力鏡ホルダー、18・・・ア
パーチャ、19・・・放電管と出力鏡ホルダーとの接続
部、20・・・レーザ光。 茶1図 第21¥l
鏡部の縦断側itn図、第2図は従来のガスレーザ発生
装置の一部縦断側面図である。 1・・・全反射鏡、2・・・出力鏡、3・・・ガス供給
口、4・・・放電管、5・・・レーザガス、16・・・
ガス吹出口、17・・・出力鏡ホルダー、18・・・ア
パーチャ、19・・・放電管と出力鏡ホルダーとの接続
部、20・・・レーザ光。 茶1図 第21¥l
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、全反射鏡、出力鏡ホルダーに保持された出力鏡およ
び出力鏡近傍にガス吐出口を備えたガス供給口を有する
放電管内にレーザガスを循環させ、レーザ光を発生させ
るガスレーザ発生装置において、前記出力鏡とガス供給
口との間の放電管内に、前記出力鏡側が反出力鏡側より
幅狭となる段差を形成したことを特徴とするガスレーザ
発生装置。 2、前記段差が、前記ガス吹出口、前記出力鏡側の出力
鏡ホルダーに設けたアパーチャおよび前記出力鏡ホルダ
ーと放電管との接続部で形成されると共に、前記アパー
チャの径が前記レーザ光の径より大きく、かつ前記ガス
吹出口の径より小さく、このガス吹出口の径が前記接続
部の径より小さく形成されたものである特許請求の範囲
第1項記載のガスレーザ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25433486A JPS63108786A (ja) | 1986-10-25 | 1986-10-25 | ガスレ−ザ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25433486A JPS63108786A (ja) | 1986-10-25 | 1986-10-25 | ガスレ−ザ発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63108786A true JPS63108786A (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=17263564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25433486A Pending JPS63108786A (ja) | 1986-10-25 | 1986-10-25 | ガスレ−ザ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63108786A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
WO1994011931A1 (en) * | 1992-11-12 | 1994-05-26 | Cymer Laser Technologies | Apparatus for, and method of, maintaining a clean window in a laser |
JPH06152030A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Komatsu Ltd | ガスレーザ装置 |
EP1465301A1 (de) * | 2003-04-05 | 2004-10-06 | TRUMPF LASERTECHNIK GmbH | Gaslaserresonator |
WO2021206838A1 (en) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | Cymer, Llc | Conduit system, radiation source, lithographic apparatus, and methods thereof |
-
1986
- 1986-10-25 JP JP25433486A patent/JPS63108786A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
EP0595335A1 (en) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
US5416791A (en) * | 1992-10-28 | 1995-05-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator |
JPH06152030A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Komatsu Ltd | ガスレーザ装置 |
WO1994011931A1 (en) * | 1992-11-12 | 1994-05-26 | Cymer Laser Technologies | Apparatus for, and method of, maintaining a clean window in a laser |
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WO2021206838A1 (en) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | Cymer, Llc | Conduit system, radiation source, lithographic apparatus, and methods thereof |
JP2023519552A (ja) * | 2020-04-06 | 2023-05-11 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 導管システム、放射源、リソグラフィ装置、及びそれらの方法 |
TWI806020B (zh) * | 2020-04-06 | 2023-06-21 | 美商希瑪有限責任公司 | 脈衝放電輻射源、其使用方法以及微影裝置 |
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