JPS637681A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents

ガスレ−ザ装置

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JPS637681A
JPS637681A JP15089386A JP15089386A JPS637681A JP S637681 A JPS637681 A JP S637681A JP 15089386 A JP15089386 A JP 15089386A JP 15089386 A JP15089386 A JP 15089386A JP S637681 A JPS637681 A JP S637681A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
gas
main discharge
discharge electrode
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP15089386A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Nozue
野末 康博
Yasuo Itakura
板倉 康夫
Noriaki Itou
伊藤 仙聡
Osamu Wakabayashi
理 若林
Junichi Fujimoto
准一 藤本
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP15089386A priority Critical patent/JPS637681A/ja
Publication of JPS637681A publication Critical patent/JPS637681A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ガスレーザ装置に係り、特にレーザガスの循
環方式に関する。
[従来技術およびその問題点] エキシマレーザは、高効率、高出力の発振が可能である
ことから、近年広く開発が進められてきており、特にそ
の非コヒーレントな性質からフォトリソグラフィー等へ
の利用が注目されている。
このようなエキシマレーザをはじめとするガスレーザ装
置では、通常気密容器内にレーザガスを封入し、このレ
ーザガスを該気密容器内で循環させなからレーザ発振を
行なう方式がとられている。
そして、主として用いられているレーザガスの循環方式
としては、高速軸流型および3軸直交型の2方式がある
これらのうち、3軸直交型の循環方式は、レーザガスの
循環方向が光軸および放電方向に対して直交するように
したもので、第2図に1例を示す如く、レーザガスを吐
出する貫流ファンを具えたガス循環部100と該レーザ
ガスを冷却する熱交換器101と主放電に先立ち、レー
ザガスをあらかじめ放電させる予備電離電極102と主
放電によってエキシマを励起しレーザ光を発振せしめる
主放電電極対103とから構成されており、レーザガス
は主放電電極間を主fi電雷極の軸方向に流れる。
ところで放電に際し、主放電電極の長手方向に並べられ
た予備電離電極のスパッタリングのため、予備電離電極
から電極金属がたたき出され、これが金属性のダストと
なって、ガス流と共に主放電電極の軸方向に流れ、放電
を劣化させたりまた、ダストが共振器(図示せず)に付
着し、レーザ出力を低下させるという不都合があった。
また、エキシマレーザの場合、アノード側の主放電電極
からも同様に金属性のダストが発生するという問題があ
る。
一方、高速軸流型の循環方式は、光軸に平行にレーザガ
スを循環させるようにしたものであるが、この場合も、
スパッタリングによって電極金属がたたき出され、これ
が金属性のダストとなり、主放電電極間を主放電電極の
軸方向に流れて、放電現象を劣化せしめる上、ダストが
共振器に付着する等、レーザ出力を低下させる原因とな
っている。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、ダストに
よるレーザ出力の低下を防止し、出力特性の向上をはか
ることを目的とする。
[問題点を解決するための手段] そこで本発明では、ガスレーザ装置においてレーザガス
を予備電離電極のない側の主放電電極から主放電方向と
平行に予備電離電極のある側の主放電電極に向って循環
させるように構成している。
[作用] 上記構成によれば、予備電離電極およびその近辺で発生
したダストは、速やかにレーザヘッドの放電空間外に排
出せしめられるため、ダストによるレーザ出力の低下は
防止され、出力特性の向上をはかることができる。
望ましくは、アノード側に予備電離電極を設けるように
するとよく、これによりアノード側で発生した金属性の
ダストも速やかにレーザヘッドの放電空間外に排出せし
められる。
【実施例] 以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
第1図(a)は、本発明実施例のエキシマレーザ装置の
外観図、第1図(b)は同装置のレーザヘッドの外観図
、第1図(C)は、第1図fb)のA−A断面を示す図
、第1図(d)は、同レーザヘッドのガス供給部を示す
図である。
このエキシマレーザ装置は、第1図(a)に示す如くレ
ーザヘッド1とガス循環装置2とが離間して配設されて
おり、これらの間が供給用ダクト3aと排出用ダクト3
bとからなるダクト旦によって接続せしめられてなるも
ので、ガス循環装置から射出せしめられたレーザガスを
ダクト旦を介してレーザヘッド1に導き、放電によって
該レーザガスを励起し、レーザ光を発振せしめるように
構成されている レーザヘッド1は、第1図(b)に示す如く、放電部4
とレーザガスを放電部4に供給するガス供給部5と、放
電部からレーザガスを排出するガス排出部旦とを具備し
てなり、更に、放電部4に近接して充電コンデンサC1
およびスイッチング素子C2を具えた充電回路Cが付設
されている。
また、前記放電部4は、第1図[C)に示す如く、平板
状の第1の主放電電極(アノード)7と、該第1の主放
電電極に相対向して配設されたかまぼこ型の第2の主放
電電極(カソード)8と、該第1の主放電電極の長手方
向に沿って所定の間隔で配設された複数の予備電離電極
9とを含み、レーザガスは、前記第2の主放電電極8の
背面側に配設されたガス供給部から両側部を通り両生放
電電極間に供給される。Rは放電コンデンサである。
そして、ここでレーザガスは両生放電電極間の放電によ
り、エキシマ状態に励起され、レーザ光を発する。そし
て更にこのレーザガスは前記第1の主放電電極7の表面
に穿孔せしめられたスリット7aを介して排気タンク6
aからなるガス排出部6に排出ぜしめられ排気用ダクト
3bを介してガス循環装置に戻される。Eは冷却管であ
る。
更に、このガス供給部は、第1図(d)に示す如く、供
給用ダクト3aに接続されたリザーバ5aと、前記第2
の主放電電極の長手方向に沿って、リザーバの一表面に
所定の間隔で配設せしめられたスリット5bとから構成
されており、該第2の主放電電極の長手方向に沿って均
一となるように、両生放電電極間に吐出せしめるもので
ある。ここでは、リザーバ5aの断面積Aとスリット5
bの総面積aとが次式1を満たすように形成されたとき
、スリット5bからは均一なガス流の供給がなされる。
a/A≦0.4    ・・・・・・・・・・・・(式
1)また、ガス排出部6についても、排気タンクの断面
積A′と第1の主放電電極7の表面のスリット7aの総
面積a′との関係は(式1)と同様に8’ /A’≦0
.4 ・・・・・・・・・(式2)であるとき、均一で
効率の良いガスの循環を達成することができる。
更にまた、前記ガス循環装置2は、レーザ電源10と同
一の容器内に収容されており、レーザガス冷却用の熱交
換器11およびレーザガス中の不純物を除去し、レーザ
ガスを清浄化するガス純化装置(図示せず)およびレー
ザガスを供給用ダクト3aに射出する渦流形ブロワ12
とを具備している。
そして、ダクト3は、レーザガスをレーザヘッドに供給
する供給用ダクト3aと、レーザヘッドから排出された
ガスを再びガス循環部に送出する排気用ダクト3bの他
に、放電部をレーザ電源10に接続する電力供給ケーブ
ル、制御信号用ケーブル等を具備している。
図中、矢印は、レーザガスの流れを示すもので、渦流形
ブロワ12により供給用ダクトを介して射出されてきた
レーザガスは、リザーバ5aを通り、スリット6bから
、第1および第2の主放電電極間に射出せしめられる。
ここで、レーザガスはエキシマ状態に励起せしめられ、
これが基底状態に戻るときにレーザ光が発せられる。こ
のレーザ光は、光学系(図示せず)を介してとり出され
、半導体製造ブOセス等で用いられる。
一方、レーザ発振により劣化したガスは、再び排出用ダ
クト3bを通り、ガス循環装置2に戻る。
そして、ガス純化装置で不純物の除去が行なわれ、清浄
化されたレーザガスは、渦流形プロワ12によって射出
せしめられ、熱交換器11で冷却された後、再び放電部
へと供給される。
かかる装置によれば、第1の主放電電極すなわちアノー
ド側および予備電離電極9の近傍におけるスパッタリン
グ現象によって発生した金属性ダストは、第1の主放電
電極の表面に配設されたスリット7aを介して効率良く
排出されるため、放電部の汚染による、レーザ発振効率
の低下、すなわちレーザ出力の低下を防ぐことが可能と
なる。
なお、実施例では、レーザヘッドとガス循環装置とを分
離するようにしたが、−体止してもよいことはいうまで
もない。
また、電極の形状、ガス供給部およびガス排出部の形状
および位置は、実施例に限定されることなく適宜変更可
能であることはいうまでもない。
[効果] 以上説明してきたように、本発明のガスレーザ装置によ
れば、レーザガスが予備電離電極を設けた側の主放電電
極の側から主放電方向と平行に他の主放電電極に向って
循環せしめられるように構成されているため、ダスト等
によるレーザ出力の低下を防止し、発振効率の良好なレ
ーザ装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至(d)は、本発明実施例のエキシマレ
ーザ装置を示す図、第2図は従来例のエキシマレーザ装
置の1例を示す図である。 100・・・ガス循環部、101・・・熱交換器、10
2・・・予備電離電極対、103・・・主放電電極対、
ユ・・・レーザヘッド、?・・・ガス循環装置、旦・・
・ダクト、4・・・放電部、5・・・ガス供給部、6・
・・ガス排出部、5a・・・リザーバチン→1.5 b
 ・・・スリット、7・・・第1の主放電電極、7a・
・・スリット、8・・・第2の主放電電極、9・・・予
備電離電極、10・・・レーザ電源、C・・・放電回路
、11・・・熱交換器、12・・・渦流形プロワ。 +p’;:] 出願人代理人  木 村 高 久 (:、:!・  \
1 第1図(G) 8   第1図(b) 第1図 (C) 菅 第2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)相対向して配設された第1および第2の主放電電
    極の間に形成される放電空間にレーザガスを射出せしめ
    レーザ発振を行なうようにしたレーザヘッドとレーザガ
    スの循環部とを具備してなるガスレーザ装置において、 前記レーザヘッドは、前記第1の主放電電極の近傍に予
    備電離電極を具備してなり、 前記第2の主放電電極から前記第1の主放電電極に向う
    ように放電方向と平行に前記放電空間に供給するガス供
    給部を具備したことを特徴とするガスレーザ装置。
  2. (2)前記第1の主放電電極はアノード側となり、前記
    第2の主放電電極はカソード側となるように構成したこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のガスレ
    ーザ装置。
  3. (3)前記レーザヘッドと前記循環部とは離間して配置
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
    記載のガスレーザ装置。
JP15089386A 1986-06-27 1986-06-27 ガスレ−ザ装置 Pending JPS637681A (ja)

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JP15089386A JPS637681A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 ガスレ−ザ装置

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JP15089386A JPS637681A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 ガスレ−ザ装置

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JPS637681A true JPS637681A (ja) 1988-01-13

Family

ID=15506679

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JP15089386A Pending JPS637681A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 ガスレ−ザ装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004043031A (ja) * 2003-07-18 2004-02-12 Kondo Machinery Co 連結構造体、それを使用した容器用胴体及び容器構造体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004043031A (ja) * 2003-07-18 2004-02-12 Kondo Machinery Co 連結構造体、それを使用した容器用胴体及び容器構造体

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