JPS6344779A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents
ガスレ−ザ装置Info
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- JPS6344779A JPS6344779A JP15304486A JP15304486A JPS6344779A JP S6344779 A JPS6344779 A JP S6344779A JP 15304486 A JP15304486 A JP 15304486A JP 15304486 A JP15304486 A JP 15304486A JP S6344779 A JPS6344779 A JP S6344779A
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- JP
- Japan
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- gas
- laser
- discharge electrode
- main discharge
- discharge
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- Pending
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 4
- 230000005283 ground state Effects 0.000 abstract description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
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- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 abstract 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガスレーザ装置に係り、特に、放電電極間へ
のガスの供給に関する。
のガスの供給に関する。
（従来技術およびその問題点）
エキシマレーザは、高効率、高出力の発振が可能である
ことから近年広く開発が進められてきており、特に、そ
の非コヒーレントな性質からフォトリソグラフィー等へ
の利用が注目されている。
ことから近年広く開発が進められてきており、特に、そ
の非コヒーレントな性質からフォトリソグラフィー等へ
の利用が注目されている。
エキシマレーザをはじめとするガスレーザ装置において
は、例えば第４図に示す如く円筒系のチャンバー１００
内に貫流ファン１０１を配設して、該貫流ファンによっ
て円周方向にガスを流し、熱交換器１０２を通ったガス
が放電部１０３に射出せしめられるように構成されてい
る。
は、例えば第４図に示す如く円筒系のチャンバー１００
内に貫流ファン１０１を配設して、該貫流ファンによっ
て円周方向にガスを流し、熱交換器１０２を通ったガス
が放電部１０３に射出せしめられるように構成されてい
る。
駆動に際しては、１パルス毎にガスを吹き払う必要があ
るが、上記方式では、ガスを吹き払う範囲が放電部１０
３の主放電電極１０４の両側にある予備電離ギャップ１
０５．１０６間となる。
るが、上記方式では、ガスを吹き払う範囲が放電部１０
３の主放電電極１０４の両側にある予備電離ギャップ１
０５．１０６間となる。
従って、１パルスあたりのガスの循環流量が多くなるた
め、パルスの周波数が高くなると、ガス循環装置の負担
が大きくなり、それに耐えるためには装置が大型化して
しまう等、いろいろな不都合が生じていた。
め、パルスの周波数が高くなると、ガス循環装置の負担
が大きくなり、それに耐えるためには装置が大型化して
しまう等、いろいろな不都合が生じていた。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、ガス＠環
流量を少なくし、ガス循環装置への負担を低減すること
を目的とする。
流量を少なくし、ガス循環装置への負担を低減すること
を目的とする。
［問題点を解決するための手段］
そこで本発明では、一方の主放電電極の放電部分−面に
小さい穴をあけ、この穴から放電領域にレーザガスを射
出せしめるようにしている。
小さい穴をあけ、この穴から放電領域にレーザガスを射
出せしめるようにしている。
かかる構造によれば、ガスは、１方の主放電電極から他
方の主放電電極へと直接放電領域に射出せしめられるた
め、放電により劣化したガスを効率良く吹きはらうこと
ができ極めて効率良く放電が行なわれ、レーザの性能に
影響のない予備電離ギャップ部分のガス循環を行なわな
くてもすむため、ガス循環装置の負担が軽減される。
方の主放電電極へと直接放電領域に射出せしめられるた
め、放電により劣化したガスを効率良く吹きはらうこと
ができ極めて効率良く放電が行なわれ、レーザの性能に
影響のない予備電離ギャップ部分のガス循環を行なわな
くてもすむため、ガス循環装置の負担が軽減される。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
第１図（ａ）および（ｂ）は本発明実施例のエキシマレ
ーザ装置の放電部の要部の構造を示す図である。
ーザ装置の放電部の要部の構造を示す図である。
この＠置は表面に多数の孔りの形成された平板状の第１
の主放電電極（カソード）１（第１図（ｂ））と該第１
の主放電電極に相対向して配設されたかまぼこ型の第２
の主放電電極（アノード）２と、前記第１の主放電電極
１の裏面側に配設されたガス供給部３と、前記第２の主
放電電極２の両側に配設されたガス排出部４ａ、４ｂと
を具備しており、ガス供給部３の近傍に配設されたガス
循環装置の貫流ファン（図示せず）によってガス供給部
３から第１の主放電電極１の孔りを介して弗イヒクリブ
トン（ＫｒＦ）ガスが射出せしめられこの第１および第
２の主放電電極間に形成される放電部品で前記ガスが励
起（エキシマ）状態にされ、基底状態に落ちるときにレ
ーザ光を発するようにしたもので基底状態に落ちたエキ
シマは急速に解離し、ガス排出部から排出せしめられ再
び循環装置に戻る。
の主放電電極（カソード）１（第１図（ｂ））と該第１
の主放電電極に相対向して配設されたかまぼこ型の第２
の主放電電極（アノード）２と、前記第１の主放電電極
１の裏面側に配設されたガス供給部３と、前記第２の主
放電電極２の両側に配設されたガス排出部４ａ、４ｂと
を具備しており、ガス供給部３の近傍に配設されたガス
循環装置の貫流ファン（図示せず）によってガス供給部
３から第１の主放電電極１の孔りを介して弗イヒクリブ
トン（ＫｒＦ）ガスが射出せしめられこの第１および第
２の主放電電極間に形成される放電部品で前記ガスが励
起（エキシマ）状態にされ、基底状態に落ちるときにレ
ーザ光を発するようにしたもので基底状態に落ちたエキ
シマは急速に解離し、ガス排出部から排出せしめられ再
び循環装置に戻る。
６は、放電を一様化し効率を上げるための予備電離ギャ
ップである。
ップである。
かかる装置では、放電部に対して極めて効率良くガスの
供給がなされる上、ガスの排出は、第２の主放電電極の
両側に設けられたガス排出部を介してレーナ発振に悪影
響を与える部分のガスのみを吹き払うようになされるた
め、設定した繰り返し数に必要なガス流量を必要最小限
度に低減づることができる。
供給がなされる上、ガスの排出は、第２の主放電電極の
両側に設けられたガス排出部を介してレーナ発振に悪影
響を与える部分のガスのみを吹き払うようになされるた
め、設定した繰り返し数に必要なガス流量を必要最小限
度に低減づることができる。
なお、第１の主放電電極に配設されるガス供給孔の形状
としては実施例に示したような孔の他、第２図（ａ）に
示す如く、光軸Ｏに対して垂直に所定の間隔で矩形のス
リットＳ１を多数個配列するようにしたもの（開口率５
０％〉、第２図（ｂ）に示す如く、光軸Ｏに対して斜め
に所定の間隔で矩形のスリットＳ２を多数個配列するよ
うにしたもの（開口率５０％）、第２図（Ｃ）に示す如
く、光軸Ｏに対して垂直に台形状のスリットＳ３を所定
の間隔で多数個配列しするようにしたもの（開口率５０
％）、スリットＳ４の幅を中心と端部とで変化させたち
のく第２図（ｄ））等、適宜変更可能である。
としては実施例に示したような孔の他、第２図（ａ）に
示す如く、光軸Ｏに対して垂直に所定の間隔で矩形のス
リットＳ１を多数個配列するようにしたもの（開口率５
０％〉、第２図（ｂ）に示す如く、光軸Ｏに対して斜め
に所定の間隔で矩形のスリットＳ２を多数個配列するよ
うにしたもの（開口率５０％）、第２図（Ｃ）に示す如
く、光軸Ｏに対して垂直に台形状のスリットＳ３を所定
の間隔で多数個配列しするようにしたもの（開口率５０
％）、スリットＳ４の幅を中心と端部とで変化させたち
のく第２図（ｄ））等、適宜変更可能である。
また、第１の主放電電極のガス供給部３を第３図に示す
如く、電極の放電面よりも断面積の大きいリザーバ３０
で構成し、スリットＳからのレーザガスの吹き出しが均
一となるようにしてもよい。
如く、電極の放電面よりも断面積の大きいリザーバ３０
で構成し、スリットＳからのレーザガスの吹き出しが均
一となるようにしてもよい。
このとき、スリットＳから均一にレーザガスを吹き出す
ためには、スリットＳの総面積ａは、次式を満たすよう
にする必要がある。
ためには、スリットＳの総面積ａは、次式を満たすよう
にする必要がある。
□ ≦０．４ ・・・
（１）へ Ａ： リザーバの断面積 このように、スリットの総開口面積は、リザーバの容量
に応じて決定される。
（１）へ Ａ： リザーバの断面積 このように、スリットの総開口面積は、リザーバの容量
に応じて決定される。
更に、主放電電極の形状、およびガス排出部等の形状に
ついては、実施例に限定されることなく適宜変更可能で
ある。
ついては、実施例に限定されることなく適宜変更可能で
ある。
以上説明してきたように、本発明によれば、１方の主放
電電極の敢電部分−面にガス供給孔を設け、このガス供
給孔から他方の主放電電極に向ってレーザガスを射出せ
しめるようにしているため、橿めて効率良く放電が行な
われ、レーザガスの循環流量を必要最小限に低減するこ
とができ、従来装置では不可能であった高繰り返し数ま
で発振が可能となる。
電電極の敢電部分−面にガス供給孔を設け、このガス供
給孔から他方の主放電電極に向ってレーザガスを射出せ
しめるようにしているため、橿めて効率良く放電が行な
われ、レーザガスの循環流量を必要最小限に低減するこ
とができ、従来装置では不可能であった高繰り返し数ま
で発振が可能となる。
第１図（ａ＞および（ｂ）は、本発明実施例のエキシマ
レーザ装置の要部説明図、第２図（ａ乃至（ｄ）は同装
置の第１の主放電電極の変形例を示す図、第３図は、ガ
ス供給部の変形例を示す図、第４図は従来例のレーザ装
置を示す図である。 １００・・・チャンバー、１０１・・・真流ファン、１
０２・・・熱交換器、１０３・・・放電部、１０４・・
・主放電電極、１０５．１０６・・・予備電離ギャップ
、１・・・第１の主放電電極、２・・・第２の主放電電
極、３・・・ガス供給部、４ａ、４ｂ・・・ガス排出部
、ｈ・・・孔、５・・・放電部、６・・・予備電離ギャ
ップ、Ｓ。 ８１．３２．８３・・・スリット、３０・・・リザーバ
。 （＝−ｍ＝） 第１図（ｂ） 第２図（０） 第２図（ｂ） 第２図（Ｃ） 第２図（（１）
レーザ装置の要部説明図、第２図（ａ乃至（ｄ）は同装
置の第１の主放電電極の変形例を示す図、第３図は、ガ
ス供給部の変形例を示す図、第４図は従来例のレーザ装
置を示す図である。 １００・・・チャンバー、１０１・・・真流ファン、１
０２・・・熱交換器、１０３・・・放電部、１０４・・
・主放電電極、１０５．１０６・・・予備電離ギャップ
、１・・・第１の主放電電極、２・・・第２の主放電電
極、３・・・ガス供給部、４ａ、４ｂ・・・ガス排出部
、ｈ・・・孔、５・・・放電部、６・・・予備電離ギャ
ップ、Ｓ。 ８１．３２．８３・・・スリット、３０・・・リザーバ
。 （＝−ｍ＝） 第１図（ｂ） 第２図（０） 第２図（ｂ） 第２図（Ｃ） 第２図（（１）
Claims (5)
- （１）相対向して配設された第１および第２の主放電電
極間にレーザガスを射出せしめ、レーザ発振を生ぜしめ
るようにしたガスレーザ装置において、 前記第１の主放電電極の放電面全体に多数個のガス供給
孔を配設し、該ガス供給孔を介して前記第２の主放電電
極に向けてレーザガスを射出するようにしたことを特徴
とするガスレーザ装置。 - （２）前記ガス供給孔は、光軸に沿って等間隔で配列さ
れたスリットであることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載のガスレーザ装置。 - （３）前記各スリットは、光軸に対して垂直となるよう
に配設されていることを特徴とする特許請求の範囲第（
２）項記載のガスレーザ装置。 - （４）前記各スリットは、光軸に対して所定の角度をも
つように斜めに配設されていることを特徴とする特許請
求の範囲第（２）項記載のガスレーザ装置。 - （５）前記第１の主放電電極は、背面にリザーバを有し
ており、レーザガスは、該リザーバから前記供給孔を介
して射出せしめられるようにしたことを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項記載のガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP1987/000452 WO1988000403A1 (en) | 1986-06-30 | 1987-06-30 | Gas laser |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-95671 | 1986-04-24 | ||
| JP9567186 | 1986-04-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6344779A true JPS6344779A (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=14143963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15304486A Pending JPS6344779A (ja) | 1986-04-24 | 1986-06-30 | ガスレ−ザ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6344779A (ja) |
| WO (1) | WO1987006773A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013050581A1 (en) | 2011-10-06 | 2013-04-11 | Jsp International Sarl | Moulding of plastic particulate matter |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7260134B2 (en) * | 2004-02-06 | 2007-08-21 | Coherent, Inc. | Dielectric coupled CO2 slab laser |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5739075B2 (ja) * | 1973-10-23 | 1982-08-19 | ||
| FR2490416A1 (fr) * | 1980-09-18 | 1982-03-19 | Comp Generale Electricite | Laser a gaz |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15304486A patent/JPS6344779A/ja active Pending
-
1987
- 1987-04-23 WO PCT/JP1987/000260 patent/WO1987006773A1/ja unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013050581A1 (en) | 2011-10-06 | 2013-04-11 | Jsp International Sarl | Moulding of plastic particulate matter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1987006773A1 (en) | 1987-11-05 |
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