JPS6388877A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents
ガスレ−ザ装置Info
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- JPS6388877A JPS6388877A JP23323786A JP23323786A JPS6388877A JP S6388877 A JPS6388877 A JP S6388877A JP 23323786 A JP23323786 A JP 23323786A JP 23323786 A JP23323786 A JP 23323786A JP S6388877 A JPS6388877 A JP S6388877A
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- JP
- Japan
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- gas
- electrode
- laser
- main discharge
- discharge electrode
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 6
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ガスレーザ装置に係り、特にガスの供給に関
する。
する。
（従来技術およびその問題点）
エキシマレーザをはじめとするガスレーザ装置において
は、例えば第７図に示ず如く円筒形のチャンバー１００
内に貫流ファン１０１を配設し、該貫流ファンによって
円周方向にレーザ媒質ガスを流し、熱交換器１０２を通
ったガスが放電部１０３に射出せしめられるように構成
されている。
は、例えば第７図に示ず如く円筒形のチャンバー１００
内に貫流ファン１０１を配設し、該貫流ファンによって
円周方向にレーザ媒質ガスを流し、熱交換器１０２を通
ったガスが放電部１０３に射出せしめられるように構成
されている。
駆動に際しては、１パルス毎に放電により劣化したガス
を吹き払う必要があるが、上記方式では、ガスを吹き払
う範囲が放電部１０３の主成電電：ｔｉ１０４の両側に
ある予備電離ギャップ１０５．１０６間となる。
を吹き払う必要があるが、上記方式では、ガスを吹き払
う範囲が放電部１０３の主成電電：ｔｉ１０４の両側に
ある予備電離ギャップ１０５．１０６間となる。
従って、１パルスあたりのガスの循環流量が多くなるた
め、パルスの周波数が高くな、ると、ガス循環装置の負
担が大きくなり、それに耐えるためには装置が大型化し
てしまう等、いろいろな不都合が生じていた。
め、パルスの周波数が高くな、ると、ガス循環装置の負
担が大きくなり、それに耐えるためには装置が大型化し
てしまう等、いろいろな不都合が生じていた。
（問題点を解決するための手段および作用）本発明では
、ガスレーザ装置の一方の主放電電極として、放電部分
にスリット状の穴のあいた電極を使用し、この穴から放
電領域にレーザ媒質ガスを射出せしめるものである。
、ガスレーザ装置の一方の主放電電極として、放電部分
にスリット状の穴のあいた電極を使用し、この穴から放
電領域にレーザ媒質ガスを射出せしめるものである。
かかる構造によれば、ガスは、一方の主放電電極から直
接放電領域に射出せしめられ、他方の主放電電極の両側
に設けられた吸込口よりガスが吸込れる。
接放電領域に射出せしめられ、他方の主放電電極の両側
に設けられた吸込口よりガスが吸込れる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は、本発明実施例のエキシマレーザ装置の放電部
の要部の構造を示す図である。
の要部の構造を示す図である。
この装置は、表面に多数のスリット状の穴の形成された
第１の主放電電極（カソード）１と該第１の主放電電極
に相対向して配設されたかまぼこ型の第２主放電電極（
アノード）２と、前記第１の主放電電極１の裏面側に配
設されたガス供給部３と、前記第２主放電電極２の両側
に配設されたガス排出部４ａ、４ｂとを具備しており、
ガス供給部３にダクトを通して別置のガス循環装置（渦
流型ブロワ・・・図示せず）によってガス供給部３から
第１の主放電電極１のスリット状の穴を介して弗化クリ
プトン（ＫｒＦ）ガスが射出ゼ・しめられこの第１およ
び第２の主放電電極に形成される放電部５で前記ガスが
励起（エキシマ）状態にされ、基底状態に落ちるときに
レーザ光を発するようにしたもので基底状態に落ちたエ
キシマは急速に解離し、ガス排出部から排出せしめられ
再び循環装置に戻る。
第１の主放電電極（カソード）１と該第１の主放電電極
に相対向して配設されたかまぼこ型の第２主放電電極（
アノード）２と、前記第１の主放電電極１の裏面側に配
設されたガス供給部３と、前記第２主放電電極２の両側
に配設されたガス排出部４ａ、４ｂとを具備しており、
ガス供給部３にダクトを通して別置のガス循環装置（渦
流型ブロワ・・・図示せず）によってガス供給部３から
第１の主放電電極１のスリット状の穴を介して弗化クリ
プトン（ＫｒＦ）ガスが射出ゼ・しめられこの第１およ
び第２の主放電電極に形成される放電部５で前記ガスが
励起（エキシマ）状態にされ、基底状態に落ちるときに
レーザ光を発するようにしたもので基底状態に落ちたエ
キシマは急速に解離し、ガス排出部から排出せしめられ
再び循環装置に戻る。
６は、放電を一様化し効率を」二げるための予備電離ギ
ャップであり、７は放電用コンデンサである。
ャップであり、７は放電用コンデンサである。
第２図はスリット状の穴を有する第１の主放電電極１を
詳細に表わした断面図である。
詳細に表わした断面図である。
ベース部材５０に、第３図に示ずよ・うにスリ・ノド状
の穴６０のあいたパンチングメタルを板金加工した電極
部材５１をねじ止めし、両側面を封１Ｆ部材５２をねし
止めすることにより、レーザ媒質ガスの側方への流出を
防止するように構成されている。
の穴６０のあいたパンチングメタルを板金加工した電極
部材５１をねじ止めし、両側面を封１Ｆ部材５２をねし
止めすることにより、レーザ媒質ガスの側方への流出を
防止するように構成されている。
５３は上記第１の主放電電極１をレーザ装置本体に取付
けるためのネジ穴であり、５４はシール溝である。
けるためのネジ穴であり、５４はシール溝である。
第４図は、第２図に於けるＡ−Ａ断面を示した断面図で
ある。
ある。
従来の放電電極にあっては、アーク放電が生じないよう
に電極間隔を徐々に広げてゆく光軸方向の端面処理が必
要であるが、本発明にあっては、第５図に示すように、
第１の主放電電極１を第２の主放電電極２より十分長く
することにより、第１の主成７Ｉｉ電極１の端面処理を
不要とし２”ζいｚｌ。
に電極間隔を徐々に広げてゆく光軸方向の端面処理が必
要であるが、本発明にあっては、第５図に示すように、
第１の主放電電極１を第２の主放電電極２より十分長く
することにより、第１の主成７Ｉｉ電極１の端面処理を
不要とし２”ζいｚｌ。
第６図は、本発明にかかるガスレーザ装置のシステム全
体を表わす図であり、レーザガスはガス循環装置６１よ
り送り出され、ダクト６２を通ったのち主回路６３に供
給される。主回路より吐き出されたレーザガスは再びダ
クト６２を通り、熱交換器６４で冷却されガス循環装置
６１に戻るものである。６５は、直流高圧電源である。
体を表わす図であり、レーザガスはガス循環装置６１よ
り送り出され、ダクト６２を通ったのち主回路６３に供
給される。主回路より吐き出されたレーザガスは再びダ
クト６２を通り、熱交換器６４で冷却されガス循環装置
６１に戻るものである。６５は、直流高圧電源である。
かかる装置では、放電部に対して極めて効イ・（良くガ
スの供給がなされる上、ガスの排出は、第２の主放電電
極の両側に設けられたガス排出部を介してレーザ発振に
悪影響を与える部分のガスのみを吹き払うようになされ
るため、設定した繰り返し数に必要なガス流量を必要最
小限に低減することができる。
スの供給がなされる上、ガスの排出は、第２の主放電電
極の両側に設けられたガス排出部を介してレーザ発振に
悪影響を与える部分のガスのみを吹き払うようになされ
るため、設定した繰り返し数に必要なガス流量を必要最
小限に低減することができる。
尚、上記実施例に於ては、電極部材５１として、パンチ
ングメタルを板金加工したものを使用したが、むくの材
料を切削加工したものを使用しても良いことは当然であ
る。
ングメタルを板金加工したものを使用したが、むくの材
料を切削加工したものを使用しても良いことは当然であ
る。
また、主放電電極の形状、およびガス排出部等の形状に
ついては、実施例に限定されることなく適宜変更可能で
ある。
ついては、実施例に限定されることなく適宜変更可能で
ある。
（効果）
以上説明してきたように、本発明によれば、−方の主放
電電極の放電部分−面にス’Ｊ 、ｙ Ｉ・状の穴をあ
け、この穴から他方の主放電電極に向かってレーザガス
を射出せしめるようにしているため、極めて効率良くガ
ス循環が行われ、レーザガスの循環流量を必要最低限に
低減することができ、従来装置では不可能であった高繰
り返し数まで発振が可能となる。
電電極の放電部分−面にス’Ｊ 、ｙ Ｉ・状の穴をあ
け、この穴から他方の主放電電極に向かってレーザガス
を射出せしめるようにしているため、極めて効率良くガ
ス循環が行われ、レーザガスの循環流量を必要最低限に
低減することができ、従来装置では不可能であった高繰
り返し数まで発振が可能となる。
第１図は、本発明実施例のエキシマレーザ装置の要部説
明図、第２図及至第４図は第１の主放電電極を詳細に説
明した図、第５図は第１の主放電電極と、第２の主放電
電極との関係を表わした図、第６図は、システム全体図
、第７図は従来のレーザ装置を示す図である。 １・・・第１の主放電電極、２・・・第２の主ｈり主電
極３・・・ガス供給部、 ４ａ、４ｂ・・・ガス排出部
６０・・・スリット状穴
明図、第２図及至第４図は第１の主放電電極を詳細に説
明した図、第５図は第１の主放電電極と、第２の主放電
電極との関係を表わした図、第６図は、システム全体図
、第７図は従来のレーザ装置を示す図である。 １・・・第１の主放電電極、２・・・第２の主ｈり主電
極３・・・ガス供給部、 ４ａ、４ｂ・・・ガス排出部
６０・・・スリット状穴
Claims (1)
- 相対向して配設された第１および第２の主放電電極間に
レーザガスを射出せしめ、レーザ発振を生じせしめるよ
うにしたガスレーザ装置において、前記第１の主放電電
極間の放電面全体に多数個のガス供給孔を配設し、該ガ
ス供給孔を介して、前記第２の主放電電極に向けてレー
ザガスを射出するとともに、第１の主放電電極を第２の
主放電電極よりも長くしたことを特徴とするガスレーザ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23323786A JPS6388877A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23323786A JPS6388877A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | ガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6388877A true JPS6388877A (ja) | 1988-04-19 |
Family
ID=16951911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23323786A Pending JPS6388877A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6388877A (ja) |
-
1986
- 1986-10-02 JP JP23323786A patent/JPS6388877A/ja active Pending
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