JPH03248583A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH03248583A JPH03248583A JP4439690A JP4439690A JPH03248583A JP H03248583 A JPH03248583 A JP H03248583A JP 4439690 A JP4439690 A JP 4439690A JP 4439690 A JP4439690 A JP 4439690A JP H03248583 A JPH03248583 A JP H03248583A
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- gas laser
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- discharge
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はパルス放電横励起型のガスレーザ発振装置に関
する。
する。
（従来例）
ＴＥＡＣＯ２レーザやエキシマレーザ等のいわゆる横励
起方式のパルスガスレーザ発振装置では、周知のように
衝撃波が発生することは避けられない。この衝撃波はレ
ーザ管内を循環しているガスレーザ媒質の流れやその密
度を不安定にし、そのため主放電も不安定となり、高繰
返しのレーザ発振が難しくなる問題があった。従来は、
例えば、特開昭６３−２２７０７１号公報に開示してい
るように、主放電電極部に衝撃吸収体を設けて上記問題
に対処していた。すなわち、第３図に示すように、（１
）は陰極もしくは陽極のどちらか一方の主放電電極で、
基体（２）を有し、この基体（２）には収容部（３）が
形成されている。この収容部（８）は放電面側が開口し
て形成され、その開口は多孔板（パンチングメタル）や
金網などの複数の通孔（４）を有する部材（５）で閉塞
され、この部材（５）の部分が電極となっている。上記
収容部（３）にはゴムなどの衝撃吸収体（６）が収容さ
れている。
起方式のパルスガスレーザ発振装置では、周知のように
衝撃波が発生することは避けられない。この衝撃波はレ
ーザ管内を循環しているガスレーザ媒質の流れやその密
度を不安定にし、そのため主放電も不安定となり、高繰
返しのレーザ発振が難しくなる問題があった。従来は、
例えば、特開昭６３−２２７０７１号公報に開示してい
るように、主放電電極部に衝撃吸収体を設けて上記問題
に対処していた。すなわち、第３図に示すように、（１
）は陰極もしくは陽極のどちらか一方の主放電電極で、
基体（２）を有し、この基体（２）には収容部（３）が
形成されている。この収容部（８）は放電面側が開口し
て形成され、その開口は多孔板（パンチングメタル）や
金網などの複数の通孔（４）を有する部材（５）で閉塞
され、この部材（５）の部分が電極となっている。上記
収容部（３）にはゴムなどの衝撃吸収体（６）が収容さ
れている。
上記の構成で、発生した衝撃波は衝撃吸収体（６）に吸
収され、消滅する。
収され、消滅する。
（発明が解決しようとする課題）
衝撃吸収体の設置は衝撃波のエネルギの減少には有効で
あるが、エキシマレーザの場合、ガスレーザ媒質がハロ
ゲンガスのような腐食性のガスのため、衝撃吸収体（８
）が侵され、不純ガスの発生原因となり、放電を不安定
にし、また発振寿命を縮める結果となっていた。本発明
はこのような事情の下でなされたもので、安定名放電を
高繰返し動作で実現することのできるガスレーザ発振装
置を提供することを目的とする。
あるが、エキシマレーザの場合、ガスレーザ媒質がハロ
ゲンガスのような腐食性のガスのため、衝撃吸収体（８
）が侵され、不純ガスの発生原因となり、放電を不安定
にし、また発振寿命を縮める結果となっていた。本発明
はこのような事情の下でなされたもので、安定名放電を
高繰返し動作で実現することのできるガスレーザ発振装
置を提供することを目的とする。
［発明の構成〕
（課題を解決するための手段と作用）
レーザ管内に相対向して設けられた主放電電極の間の主
放電空間を横切ってガスレーザ媒質が循環されるパルス
放電横励起型のガスレーザ発振装置において、上記ガス
レーザ媒質の循環流路に位置し上記主放電空間を間にし
て反射面を対向して設けられかつこの反射面が粗面に形
成された一対の反射体を備えたもので、主放電空間の中
で粗密波が多重化、均一化される。
放電空間を横切ってガスレーザ媒質が循環されるパルス
放電横励起型のガスレーザ発振装置において、上記ガス
レーザ媒質の循環流路に位置し上記主放電空間を間にし
て反射面を対向して設けられかつこの反射面が粗面に形
成された一対の反射体を備えたもので、主放電空間の中
で粗密波が多重化、均一化される。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基づいて説明する。
第１図において、横断面がリング状のレーザ管（１０）
を有し、このレーザ管（１０）内の環状通路（１１）に
は、エキシマ用のガスレーザ媒質が封入されている。環
状通路（１１）には、所定箇所に送風機（１２）が設け
られ、別に設けた熱交換器（１３）で冷却してから、矢
印で示す方向に上記ガスレーザ媒質を強制的に循環させ
るようになっている。また、環状通路（１１）には主放
電電極となる陰極（１４）、陽極（１５）とが主放電空
間（１６）を形成して設けられている。
を有し、このレーザ管（１０）内の環状通路（１１）に
は、エキシマ用のガスレーザ媒質が封入されている。環
状通路（１１）には、所定箇所に送風機（１２）が設け
られ、別に設けた熱交換器（１３）で冷却してから、矢
印で示す方向に上記ガスレーザ媒質を強制的に循環させ
るようになっている。また、環状通路（１１）には主放
電電極となる陰極（１４）、陽極（１５）とが主放電空
間（１６）を形成して設けられている。
これら陰極（１４）、陽極（１５）の両側には、上部ピ
ン電極（１７ａ）と下部ピン電極（１７ｂ）とが対にな
って構成する複数対の予備電離電極がレーザ管（１０）
の軸線方向に沿って設けられている。上記主放電電極は
高圧パルス電源（１８）に接続され、また、上記予備電
離電極はピーキングコンデンサ（１９）を介して同じく
高圧パルス電源（１８）内に設けられている低圧パルス
電源（図示せず）に接続されている。
ン電極（１７ａ）と下部ピン電極（１７ｂ）とが対にな
って構成する複数対の予備電離電極がレーザ管（１０）
の軸線方向に沿って設けられている。上記主放電電極は
高圧パルス電源（１８）に接続され、また、上記予備電
離電極はピーキングコンデンサ（１９）を介して同じく
高圧パルス電源（１８）内に設けられている低圧パルス
電源（図示せず）に接続されている。
一方、主放電空間（１Ｂ）を間にしてニッケルやアルミ
ニュウム等の金属からなる一対の反射体（２０ａ）、（
２０ｂ）が相対向して設けられている。これら反射体（
２０ａ） 、 （２０ｂ）の反射面（２１）は全体的に
は凹面的で、第２図に示すように、凹凸部が全面に形成
されている。
ニュウム等の金属からなる一対の反射体（２０ａ）、（
２０ｂ）が相対向して設けられている。これら反射体（
２０ａ） 、 （２０ｂ）の反射面（２１）は全体的に
は凹面的で、第２図に示すように、凹凸部が全面に形成
されている。
次に上記の構成の作用について説明する。送風機（１２
）が駆動され、封入されていたガスレーザ媒質が熱交換
器（１３）で冷却され、環状通路（１１）に沿い主放電
空間（１６）を通ってレーザ管（１０）内を循環する。
）が駆動され、封入されていたガスレーザ媒質が熱交換
器（１３）で冷却され、環状通路（１１）に沿い主放電
空間（１６）を通ってレーザ管（１０）内を循環する。
ガスレーザ媒質を励起するために、まず上部ビン電極（
１７ａ）と下部ビン電極（１７ｂ）との間でアーク放電
が起こり、主放電空間（１６）が予備電離される。この
予備電離に続いて陰極（１４）と陽極（１５）との間に
高電圧パルスが印加され主放電が発生する。この主放電
時に発生した粗密分布をもつ衝撃波は反射面（２１）で
反射され主放電空間（１６）側に戻る。上記反射の際、
反射面（２１）が凹凸部を凹面状に形成したので、粗密
波が時間的に不均一になって多重化して戻るので、放電
方向からみて主放電空間（１６）での衝撃波の粗密分布
は崩れる。したがって、主放電空間（１６）での放電イ
ンピーダンスは粗密波が存在したときに比べて極端に変
動しなくなり、むしろ−様になり、この状態で次の主放
電パルスが発生する。
１７ａ）と下部ビン電極（１７ｂ）との間でアーク放電
が起こり、主放電空間（１６）が予備電離される。この
予備電離に続いて陰極（１４）と陽極（１５）との間に
高電圧パルスが印加され主放電が発生する。この主放電
時に発生した粗密分布をもつ衝撃波は反射面（２１）で
反射され主放電空間（１６）側に戻る。上記反射の際、
反射面（２１）が凹凸部を凹面状に形成したので、粗密
波が時間的に不均一になって多重化して戻るので、放電
方向からみて主放電空間（１６）での衝撃波の粗密分布
は崩れる。したがって、主放電空間（１６）での放電イ
ンピーダンスは粗密波が存在したときに比べて極端に変
動しなくなり、むしろ−様になり、この状態で次の主放
電パルスが発生する。
［発明の効果］
以上のように本発明は主放電時に発生した衝撃波の密度
分布を崩す反射体を設けたので、衝撃吸収体では衝撃は
を吸収しきれない高繰返し動作においても上記密度分布
を崩す作用は変わらないので、主放電空間（１６）のガ
ス密度分布の変化が小さくレーザ発振の高繰返し動作が
安定して実現することができた。また、衝撃吸収体のよ
うに不純ガスの発生もないので、ガスレーザ媒質の劣化
度合いも小さくなり、発振器としての寿命を延ばすこと
ができた。
分布を崩す反射体を設けたので、衝撃吸収体では衝撃は
を吸収しきれない高繰返し動作においても上記密度分布
を崩す作用は変わらないので、主放電空間（１６）のガ
ス密度分布の変化が小さくレーザ発振の高繰返し動作が
安定して実現することができた。また、衝撃吸収体のよ
うに不純ガスの発生もないので、ガスレーザ媒質の劣化
度合いも小さくなり、発振器としての寿命を延ばすこと
ができた。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図の要部拡大断面図、第３図は従来例を示す断面図であ
る。 （１０）・ ・レーザ管 （１４）・ ・陰極 （１５）・ ・陽極 （１Ｂ）・・・主放電空間 （２０ａ）、（２０ｂ）・反射体
図の要部拡大断面図、第３図は従来例を示す断面図であ
る。 （１０）・ ・レーザ管 （１４）・ ・陰極 （１５）・ ・陽極 （１Ｂ）・・・主放電空間 （２０ａ）、（２０ｂ）・反射体
Claims (1)
- レーザ管内に相対向して設けられた主放電電極の間の主
放電空間を横切ってガスレーザ媒質が循環されるパルス
放電横励起型のガスレーザ発振装置において、上記ガス
レーザ媒質の循環流路に位置し上記主放電空間を間にし
て反射面を対向して設けられかつこの反射面が粗面に形
成された一対の反射体を備えたことを特徴とするガスレ
ーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4439690A JPH03248583A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | ガスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4439690A JPH03248583A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | ガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03248583A true JPH03248583A (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=12690348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4439690A Pending JPH03248583A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | ガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03248583A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003060270A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-28 | Gigaphoton Inc | パルス発振ガスレーザ装置 |
| US7215695B2 (en) | 2004-10-13 | 2007-05-08 | Gigaphoton | Discharge excitation type pulse laser apparatus |
-
1990
- 1990-02-27 JP JP4439690A patent/JPH03248583A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003060270A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-28 | Gigaphoton Inc | パルス発振ガスレーザ装置 |
| US7215695B2 (en) | 2004-10-13 | 2007-05-08 | Gigaphoton | Discharge excitation type pulse laser apparatus |
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