JP2003060270A

JP2003060270A - パルス発振ガスレーザ装置

Info

Publication number: JP2003060270A
Application number: JP2001243258A
Authority: JP
Inventors: Kazu Mizoguchi; 計溝口; Koji Kakizaki; 弘司柿崎; Takashi Saito; 隆志斎藤; Naoki Kataoka; 直紀片岡
Original assignee: Gigaphoton Inc
Current assignee: Gigaphoton Inc
Priority date: 2001-08-10
Filing date: 2001-08-10
Publication date: 2003-02-28
Also published as: US20030031225A1; US6639929B2; DE10164185A1

Abstract

(57)【要約】【課題】主放電によって発生する衝撃波の影響を低減
し、安定なレーザ発振を行なうことができるガスレーザ
装置を提供する。【解決手段】対向した一対の放電電極(14,15)間にパ
ルス状の主放電を生じさせてレーザガスを励起し、レー
ザ光を発振させるパルス発振ガスレーザ装置において、
高圧側の放電電極(15)を固定する絶縁性のカソードベー
ス(36)上に沿面放電を防止するための絶縁性のヒダ部(4
2)を設け、ヒダ部(42)の凸部(43)と高圧側の放電電極(1
5)との間の溝部(52)内部に、主放電によって生じる衝撃
波(41)を減衰させる減衰材(45)を挿入したことを特徴と
する、パルス発振ガスレーザ装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エキシマレーザ装
置などのパルス発振型ガスレーザ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、エキシマレーザ装置等のパル
ス発振型ガスレーザ装置において、パルス放電の際に衝
撃波や音響波（以下、衝撃波として総称する）が発生す
ることが知られている。この衝撃波により、レーザガス
のガス密度に揺らぎが生じ、レーザ光のビームプロファ
イルが不安定になる。これを防止するための技術が、例
えば特開平４−３２８８８９号公報に開示されている。
図１７は、同公報に開示されたエキシマレーザ装置１１
の放電電極近傍の詳細図を表しており、以下図１７に基
づいて従来技術を説明する。

【０００３】図１７において、レーザガスを封止したレ
ーザチャンバ１２の内部には、金属製の放電電極１４，
１５が対向して配置されている。上側のカソード１５
は、絶縁性のカソードベース３６に固定され、カソード
ベース３６はレーザチャンバ１２に固定されている。ま
た、下側のアノード１４は、レーザチャンバ１２に電気
的に接続されたアノードベース４０上に搭載されてい
る。カソード１５は、高圧電源２３の高圧側ＨＶに、ア
ノード１４及びレーザチャンバ１２は、高圧電源２３の
接地側ＧＮＤに、それぞれ電気的に接続されている。高
圧電源２３から、放電電極１４，１５間に高電圧を印加
し、放電空間３７にパルス状の主放電を起こすことによ
り、パルス状のレーザ光を発生させている。

【０００４】このとき、主放電により、放電空間３７か
ら衝撃波４１が発生する。この衝撃波４１が、アノード
ベース４０やカソードベース３６等の、放電電極１４，
１５近傍の部品に反射して、放電空間３７に戻ってくる
ことにより、放電空間３７のレーザガスの密度が変動す
る。その結果、主放電が不安定になったり、レーザ光の
ビームプロファイルが乱れたりする。これを防止するた
めに、前記公報においては、多孔質セラミック４６，４
６をカソードベース３６及びアノードベース４０上に、
それぞれ固定している。このような多孔質セラミック４
６，４６により、衝撃波４１を吸収し、衝撃波４１が放
電空間３７に戻らないようにしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題がある。即ち、図１
７において、カソード１５とレーザチャンバ１２との間
は、電気的に絶縁されており、主放電の際には互いの間
に大きな電位差が生じる。そのため、カソード１５とレ
ーザチャンバ１２との間に、多孔質セラミック４６の表
面を介して沿面放電が起きることがある。その結果、主
放電が好適に行なわれず、レーザ光の出力が低下した
り、甚だしきは、レーザ光が発生しなくなるという問題
がある。沿面放電を避けるためには、カソード１５とレ
ーザチャンバ１２との距離を大きくすればよいが、それ
ではエキシマレーザ装置１１が大型化してしまう。

【０００６】また、沿面放電を防止するためには、カソ
ードベース３６上に凹凸を設け、ヒダ部を形成するとい
う技術が知られている。このようにすることにより、カ
ソード１５とレーザチャンバ１２との間の絶縁距離が長
くなり、沿面放電が起こりにくくなる。さらに、近年の
レーザ発振の繰り返し周波数増大要求に鑑み、主放電の
インダクタンスを低下させる必要が生じている。このた
めには、カソード１５、アノード１４、及びアノード１
４とレーザチャンバ１２とを電気的に接続する図示しな
いリターンプレートが形成する、電流ループの面積を小
さくすることが必要である。その結果として、カソード
１５とレーザチャンバ１２との間の距離が短縮され、カ
ソード１５とレーザチャンバ１２との間の沿面放電が起
きやすくなる。これを防止するためにも、前述したヒダ
部は必要となる。ところが、このヒダ部の凹部に、放電
空間３７から発生した衝撃波４１が入り込んで、高反射
率で放電空間３７に向かって反射するという現象が起き
ることがある。この衝撃波４１によって、前述したよう
にビームプロファイルが不安定になってしまうという問
題がある。

【０００７】本発明は、上記の問題に着目してなされた
ものであり、主放電によって発生する衝撃波の影響を低
減し、安定なレーザ発振を行なうことができるガスレー
ザ装置を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、本発明は、対向した一対の放電電
極間にパルス状の主放電を生じさせてレーザガスを励起
し、レーザ光を発振させるパルス発振ガスレーザ装置に
おいて、高圧側の放電電極を固定する絶縁性のカソード
ベース上に、とレーザチャンバとの間に、沿面放電を防
止するための絶縁性のヒダ部を設け、ヒダ部の凸部と高
圧側の放電電極との間の溝部内部に、衝撃波を減衰させ
る減衰材を挿入している。かかる構成により、衝撃波が
好適に減衰され、しかも、絶縁性のヒダ部により、沿面
放電も防止可能である。

【０００９】また、本発明は、前記減衰材を、ヒダ部の
凹部にも挿入している。かかる構成により、放電電極か
ら遠くに向かって出射した衝撃波も減衰されるので、衝
撃波の影響が小さくなる。

【００１０】また、本発明は、前記減衰材は、ヒダ部の
凸部側面及び高圧側の放電電極側面に密着させて、Ｕ字
型に形成している。かかる構成により、減衰材の表面で
反射した衝撃波をも、放電空間に戻らないようにでき、
衝撃波が高効率で減衰される。

【００１１】また、本発明は、接地側の放電電極に密着
させて、減衰材を付設している。かかる構成により、高
圧側、接地側双方に向かって出射した衝撃波が、いずれ
も減衰されるので、衝撃波の影響が小さくなる。

【００１２】また、本発明は、前記減衰材が、多孔率９
０％以上の多孔体である。多孔率を９０％以上の多孔体
にすることにより、衝撃波を、より効率的に減衰するこ
とが可能となっている。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。まず、第１実施形態
を説明する。図１は、本実施形態に係るエキシマレーザ
装置１１の、放電電極１４，１５の長手方向に直交する
断面図を示している。図１において、エキシマレーザ装
置１１は、例えばフッ素（Ｆ2）、クリプトン（Ｋ
ｒ）、及びネオン（Ｎｅ）を含むレーザガスを、所定の
圧力比で密封した、レーザチャンバ１２を備えている。
レーザチャンバ１２の内部には、アノード１４及びカソ
ード１５からなる放電電極１４，１５が、放電空間３７
を挟んで上下方向に対向して配設されている。放電電極
１４，１５に、図１では図示しない高圧電源から高電圧
を印加することにより、放電空間３７でパルス状の主放
電が発生する。これにより、レーザガスが励起され、図
１中、紙面と垂直方向にレーザ光が発生する。

【００１４】図１に示すように、レーザチャンバ１２の
内部には、レーザガスをレーザチャンバ１２内部で循環
させて放電空間３７に送り込む貫流ファン１４と、放電
によって熱を与えられたレーザガスを冷却するための熱
交換器３とが、それぞれ所定位置に設置されている。こ
のときのレーザガスのガス流は矢印４７で表され、放電
空間３７を図１中左から右に流れている。以下、放電空
間３７に対する図１中左側を上流側、右側を下流側と呼
ぶ。また、図１において、紙面と同一平面を、ビーム断
面平面、紙面に垂直な方向を、放電電極１４，１５の長
手方向、或いは単に、長手方向と呼ぶ。

【００１５】図２に、放電空間３７近傍の詳細図を示
す。図２に示すように、レーザチャンバ１２の上部には
チャンバ開口部３５が設けられ、このチャンバ開口部３
５は、セラミック等の絶縁体からなるカソードベース３
６によって塞がれている。レーザチャンバ１２とカソー
ドベース３６との間には、図示しないＯリングが介挿さ
れ、レーザガスを封止している。カソードベース３６に
はカソード１５が固定され、カソード１５とレーザチャ
ンバ１２とは、カソードベース３６によって電気的に絶
縁されている。カソードベース３６の上方には、カソー
ドベース３６を貫通してカソード１５に到達する複数本
の高圧給電ロッド４８が、長手方向に所定間隔で配置さ
れている。高圧給電ロッド４８は、図示しない放電回路
を介して高圧電源２３の高圧側ＨＶに接続されており、
これによってカソード１５へ高圧電流の供給が行なわれ
る。高圧給電ロッド４８とカソードベース３６との間
は、図示しないＯリングによって封止されている。

【００１６】アノード１４の両側方には、銅等でできた
棒状の内部導電体３８Ａと、その外周を包囲する誘電体
３８Ｂとで構成された、予備電離電極３８がそれぞれ配
設されている。レーザチャンバ１２のチャンバ開口部３
５近傍の内壁下部には、長手方向に所定間隔をおいて、
複数の板状のリターンプレート３９の上部が、図示しな
いボルトによって固定されている。リターンプレート３
９の下部には、導電体のアノードベース４０が固定さ
れ、アノードベース４０の上部にはアノード１４が搭載
されている。レーザチャンバ１２は、図示しない放電回
路を介して高圧電源２３の接地側ＧＮＤに接続され、ア
ノード１４もリターンプレート３９を介してレーザチャ
ンバ１２と同電位となっている。

【００１７】図２に示すように、カソードベース３６の
下部には、カソード１５を取り囲むようにして、凸部４
３と溝状の凹部４４とを有する、ヒダ部４２が一体に形
成されている。これは、カソード１５とレーザチャンバ
１２との間で、沿面放電が起きて主放電が不安定になる
のを、防止するためのものである。また、カソード１５
とヒダ部４２の最も内側の凸部４３との間には、隙間が
生じており、これによってカソード１５を全周にわたっ
て取り巻く溝部５２が形成されている。

【００１８】図３に、ヒダ部４２の詳細断面図を示す。
図３に示すように、ヒダ部４２の凹部４４には、金属多
孔体又はセラミック多孔体からなる減衰材４５が、ヒダ
部４２の凹部４４の形状に合わせてＵ字型に成形されて
挿入されている。また、カソード１５とヒダ部４２との
間の溝部５２にも、同様の減衰材４５が、カソード１５
と溝部５２との形状に合わせてＵ字型に成形されて挿入
されている。尚、各減衰材４５の高さは、凸部４３の高
さよりも低くして（例えば１／２程度）、ヒダ部４２の
絶縁効果を低下させないようにすることが望ましい。金
属の多孔体の例としては、例えば住友電気工業株式会社
製の商品名「セルメット」、或いは、三菱マテリアル株
式会社製の「発泡金属」等が好適である。材質として
は、レーザガスに対して、耐腐食性を有するニッケルが
好適である。また、セラミックの多孔体の例としては、
黒崎播磨株式会社製の商品名「セラミックフォーム」等
が好適である。材質としては、フッ素ガス等のハロゲン
ガスに対する耐腐食性を有するＡｌ2Ｏ3を主成分とする
ものがよい。

【００１９】これらの減衰材４５は、その表面に多数の
小孔４９を有しており、また、その小孔４９がその内部
にも設けられている。この小孔４９同士は、互いに連通
していることが望ましい。これにより、放電空間３７で
発生した衝撃波４１が減衰材４５に衝突すると、その大
半が、その表面に設けられた小孔４９から内部に侵入す
る。減衰材４５の内部では、小孔４９同士が互いに連通
しているため、衝撃波４１は、一つの小孔４９から他の
小孔４９へと伝わり、その過程で次第に減衰していく。
その結果として、放電空間３７に戻ってくる衝撃波４１
の大きさが低減するため、衝撃波４１によって放電空間
３７の密度の均一性が失われることがなく、レーザ光２
１のビームプロファイルが乱れない。

【００２０】実験を行なったところ、多孔率９０％以上
の場合に、ビームプロファイルの乱れが解消された。即
ち、衝撃波４１を好適に減衰させ、放電空間３７に戻る
衝撃波４１の影響を充分低下させるためには、減衰材４
５の多孔率が、９０％以上であることが望ましい。尚、
本明細書では、減衰材４５の体積中に占める空間の体積
の比率を、多孔率と呼ぶ。

【００２１】また、減衰材４５の形状としては、凹部４
４や溝部５２の内面に添わせてＵ字型にすることによ
り、より衝撃波４１の減衰を小さくすることが可能とな
っている。即ち、図４に示すように、減衰材４５を凹部
４４や溝部５２全体を埋めるように充填すると、その表
面で反射した衝撃波４１が、放電空間３７に直接戻るこ
とが多い。これに対し、図３に示すように、減衰材４５
をＵ字型にすることにより、衝撃波４１が、一旦凹部４
４や溝部５２の内部に入り込む。その結果、衝撃波４１
は、減衰材４５の表面で反射しても凹部４４や溝部５２
からすぐに飛び出さず、再度減衰材４５に入射する。こ
れにより、減衰が効率的に行なわれ、反射した衝撃波４
１が放電空間３７に戻ることが少なくなる。このとき、
減衰材４５としては、金属減衰材よりも、セラミック減
衰材のほうが望ましい。これは、金属の減衰材は、カソ
ード１５の電位に近い電位となり、レーザチャンバ１２
との距離が近くなって、沿面放電が起こりやすくなるた
めである。

【００２２】また、図２、図３において、すべての凹部
４４や溝部５２に減衰材４５を挿入するようにしている
が、衝撃波を最もよく反射するのはアノード１４に最も
近い溝部５２である。従って、少なくとも溝部５２に
は、減衰材４５を必ず挿入するのが望ましい。

【００２３】以下に、第１実施形態に係るエキシマレー
ザ装置１１の、他の構成例を示す。第１の構成例とし
て、図５によれば、カソードベースのカソード１５外周
部には、ヒダ部４２が形成されている。溝部５２及び凹
部４４には、カソード１５側が高くなるように傾斜を有
して、減衰材４５が付設されている。これにより、この
減衰材４５に当たった衝撃波４１は、その内部に潜り込
んで減衰させられるか、或いはその表面で放電空間３７
から遠ざかる方向に反射する。従って、衝撃波４１が放
電空間３７のレーザガスの密度に影響を与えることが少
ない。尚、減衰材４５は、図５に示したように、溝部５
２及び凹部４４の底部との間に隙間を設けるようにして
もよく、溝部５２及び凹部４４の底部を埋めるようにし
てもよい。そしてこのとき、減衰材４５の高さは、図３
に示したのと同様に、凸部４３の高さよりも低くするこ
とが望ましい。

【００２４】第２の構成例として、図６によれば、カソ
ード１５の外周部には、図３と同様に溝部５２及び凹部
４４に減衰材４５が挿入されている。また、アノード１
４の外周部には、アノード１４に向かって高くなるよう
に傾斜を有して、減衰材５３が付設されている。そし
て、アノード１４と減衰材５３との間には隙間が設けら
れ、これが溝部５２を構成している。溝部５２には、図
２と同様に、Ｕ字型の減衰材４５が挿入されている。

【００２５】これにより、アノード１４外周部の、傾斜
を有する減衰材５３に当たった衝撃波４１は、その表面
で反射して、放電空間３７から遠ざかる。また、減衰材
５３の内部に侵入した衝撃波４１は、減衰する。これに
より、衝撃波４１が放電空間３７のレーザガスの密度に
影響を与えることが少なくなる。さらに、アノード１４
と減衰材５３との間の溝部５２に入射した衝撃波４１
は、図２と同様にＵ字型の減衰材４５によって減衰され
る。尚、減衰材４５と減衰材５３とを一体に形成しても
よい。さらには、減衰材５３の表面に、凹凸を備えたヒ
ダ部を設けるようにすれば、より効率的に衝撃波４１を
減衰させられる。或いは、溝部５２を設けず、アノード
１４と減衰材５３とを隙間なく密着させるようにしても
よい。

【００２６】第３の構成例として、図７によれば、アノ
ード１４とアノードベース４０との間、及びカソード１
５とカソードベース３６との間に、それぞれ金属製の中
間ベース５０，５０を挿入している。中間ベース５０，
５０は、アノード１４及びカソード１５よりも、幅広と
なっている。そして、減衰材４５をこの中間ベース５０
を覆うように付設することにより、放電空間３７に、よ
り近い位置に減衰材４５を配置することができ、衝撃波
４１を確実に減衰させられる。

【００２７】次に、第２実施形態について、説明する。
図８に、第２実施形態に係るエキシマレーザ装置１１
の、カソード１５及びヒダ部４２を放電空間３７側から
上方を見た下面図を示す。図８において、溝部５２及び
凹部４４が形成する長方形が、カソード１５に対して斜
めに設置され、溝部５２及び凹部４４が、カソード１５
に対して、非平行となっている。

【００２８】図９〜図１１に、図８における各地点Ａ１
−Ａ２、Ｂ１−Ｂ２、Ｃ１−Ｃ２での断面図をそれぞれ
示す。図９、図１０に示すように、本実施形態によれ
ば、溝部５２及び凹部４４とカソード１５との距離が、
長手方向に対して変化する。例えば、Ａ１地点では、溝
部５２及び凹部４４がカソード１５に近く、Ｃ１地点で
は遠い。その結果、パルス放電によって発生した衝撃波
４１が、溝部５２及び凹部４４に反射してから放電空間
３７に戻るまでの時間が、位置によってそれぞれ異なる
ことになる。即ち、次のパルス放電の際に、例えば図８
のＢ１地点における反射した衝撃波４１が、放電空間３
７に戻るとすると、より近いＡ１地点における衝撃波４
１は放電空間３７を通り過ぎ、Ｃ１地点における衝撃波
４１は放電空間３７に届かないというようなことにな
る。

【００２９】レーザ光２１のビームプロファイルは、ビ
ーム断面平面上のゲイン分布を、各位置ごとに、長手方
向に累積することによって得られる。即ち、従来技術に
よれば、衝撃波４１が、長手方向にわたって、ビーム断
面平面上の同じ位置に影響を与えるため、ビームプロフ
ァイルの乱れが累積されることになる。これに対し、本
実施形態によれば、衝撃波４１の影響が、ビーム断面平
面上の異なる位置に現れるため、長手方向にわたってこ
れを累積することにより、影響が互いにキャンセルされ
る。これにより、衝撃波４１の影響が低減され、ビーム
プロファイルが乱されることが少なくなる。

【００３０】図１２〜図１５に、第２実施形態に係るヒ
ダ部４２及びカソード１５の、他の実施例を示す。各図
に示すように、長手方向に対して溝部５２の幅を変化さ
せた形状にすることにより、ヒダ部４２とカソード１５
との距離を長手方向に対して変化させ、衝撃波４１の影
響を低減させられる。このとき、凹部４４の幅をも同様
に変化させてもよい。また、第２実施形態において、第
１実施形態と同様の減衰材４５を溝部５２及び凹部４４
に挿入させるようにすると、衝撃波４１が減衰材４５に
よって減衰され、さらに放電空間３７に与える影響が低
減される。

【００３１】次に、第３実施形態を説明する。図１６
に、第３実施形態に係るエキシマレーザ装置１１の、放
電空間３７近傍の詳細断面図を示す。図１６において、
カソード１５外周部のヒダ部４２は、カソード１５の上
流側と下流側とで、異なる本数の凹部４４を備えてい
る。即ち、上流側では、カソード１５とレーザチャンバ
１２との間に、溝部５２及び１本の凹部４４があり、下
流側では、溝部５２及び２本の凹部４４がある。また、
これらの溝部５２及び凹部４４は、上流側と下流側と
で、カソード１５からの距離が、それぞれ互いに異なる
ように形成されている。

【００３２】放電空間３７で生じた衝撃波４１は、カソ
ード１５の上流側及び下流側に飛び出し、それぞれの溝
部５２及び凹部４４で反射されて放電空間３７に戻るよ
うになっている。このとき、上流側と下流側の溝部５２
及び凹部４４までの距離が異なるので、衝撃波４１が上
流側の溝部５２及び凹部４４から放電空間３７に戻って
くるまでの時間と、下流側の溝部５２及び凹部４４から
放電空間３７に戻ってくるまでの時間とが一致しない。
即ち、次のパルス放電の際に、上流側から戻ってきた衝
撃波４１と、下流側から戻ってきた衝撃波４１とが放電
空間３７でぶつかって強め合うということがなく、衝撃
波４１のビームプロファイルに与える影響が、低減され
る。そして、これらの溝部５２及び凹部４４に、第１実
施形態で説明したように減衰材４５を嵌挿することによ
り、さらに衝撃波４１の影響を低減できる。

【００３３】また、図１６に示すように、アノード１４
の外周部に、非対称な減衰材４５を、アノード１４側が
高くなるような傾斜を持たせて設けている。これによ
り、レーザガスが、放電空間３７をスムーズに流れるよ
うになる。そして、衝撃波４１は、上流側の減衰材４５
の表面と、下流側の減衰材４５の表面とで、異なる角度
で反射するので、これが同時に放電空間３７に届いて強
め合うことがない。従って、衝撃波４１のビームプロフ
ァイルに与える影響が、低減される。さらには、図１６
に示すように、予備電離電極３８，３８とアノード１４
との距離を、上流側と下流側とで変えるようにすると、
尚よい。これにより、予備電離電極３８に当たって反射
する衝撃波４１が、上流側と下流側とで強め合うことが
なく、衝撃波４１の影響が低減される。

【００３４】尚、本発明については、エキシマレーザ装
置１１を例にとって説明したが、フッ素分子レーザ装置
に対しても、同様である。さらには、放電空間３７の上
方にカソード１５を、下方にアノード１４を配するよう
に説明したが、これに限られるものではない。即ち、ア
ノード１４を、放電空間３７の上方にレーザチャンバ１
２と同電位に配置し、カソード１５を、放電空間３７の
下方に設置してもよい。このような場合、カソード１５
を搭載する絶縁性のカソードベース３６上には、カソー
ド１５の外周部に、沿面放電を避けるためのヒダ部が必
要となる。従って、少なくともカソード１５の外周部に
形成された溝部に、減衰材を挿入することにより、衝撃
波４１を減衰させられる。ヒダ部の凹部、及びアノード
１４の外周部に関しても、同様である。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置の断面
図。

【図２】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置の放電
空間近傍の断面図。

【図３】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置のヒダ
部の断面図。

【図４】減衰材の充填を説明する説明図。

【図５】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置の、他
の構成例を示す放電空間近傍の断面図。

【図６】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置の、他
の構成例を示す放電空間近傍の断面図。

【図７】第１実施形態に係るエキシマレーザ装置の、他
の構成例を示す放電空間近傍の断面図。

【図８】第２実施形態に係るエキシマレーザ装置の、カ
ソード及びヒダ部を放電空間側から見た下面図。

【図９】図８における地点Ａ１−Ａ２断面図。

【図１０】図８における地点Ｂ１−Ｂ２断面図。

【図１１】図８における地点Ｃ１−Ｃ２断面図。

【図１２】第２実施形態に係るエキシマレーザ装置の、
他の実施例を示す説明図。

【図１３】第２実施形態に係るエキシマレーザ装置の、
他の実施例を示す説明図。

【図１４】第２実施形態に係るエキシマレーザ装置の、
他の実施例を示す説明図。

【図１５】第２実施形態に係るエキシマレーザ装置の、
他の実施例を示す説明図。

【図１６】第３実施形態に係るエキシマレーザ装置の、
放電空間近傍の詳細断面図。

【図１７】従来技術に係るエキシマレーザ装置の、放電
空間近傍の断面図。

【符号の説明】

１１：エキシマレーザ装置、１２：レーザチャンバ、１
３：熱交換器、１４：レーザコントローラ、１５：放電
電極、２３：高圧電源、２４：貫流ファン、３５：チャ
ンバ開口部、３６：カソードベース、３７：放電空間、
３８：予備電離電極、３９：リターンプレート、４０：
アノードベース、４１：衝撃波、４２：ヒダ部、４３：
凸部、４４：凹部、４５：減衰材、４６：多孔質セラミ
ック、４７：ガス流、４８：高圧給電ロッド、４９：小
孔、５０：中間ベース、５１：絶縁部材、５２：溝部、
５３：減衰材。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者斎藤隆志栃木県小山市横倉新田400 ギガフォトン株式会社内 (72)発明者片岡直紀栃木県小山市横倉新田400 ギガフォトン株式会社内Ｆターム(参考） 5F071 AA06 CC01 CC03 CC10 EE04 FF01 JJ05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向した一対の放電電極(14,15)間にパ
ルス状の主放電を生じさせてレーザガスを励起し、レー
ザ光を発振させるパルス発振ガスレーザ装置において、高圧側の放電電極(15)を固定する絶縁性のカソードベー
ス(36)上に沿面放電を防止するための絶縁性のヒダ部(4
2)を設け、ヒダ部(42)の凸部(43)と高圧側の放電電極(15)との間の
溝部(52)内部に、主放電によって生じる衝撃波(41)を減
衰させる減衰材(45)を挿入したことを特徴とする、パル
ス発振ガスレーザ装置。
【請求項２】請求項１記載のパルス発振ガスレーザ装
置において、前記減衰材(45)を、ヒダ部(42)の凹部(44)に挿入したこ
とを特徴とする、パルス発振ガスレーザ装置。
【請求項３】請求項１記載のパルス発振ガスレーザ装
置において、前記減衰材(45)は、ヒダ部(42)の凸部(43)側面及び高圧
側の放電電極(15)側面に密着させて、Ｕ字型に形成した
ことを特徴とする、パルス発振ガスレーザ装置。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載のパルス
発振ガスレーザ装置において、接地側放電電極(14)に密着させて、減衰材(45)を付設し
たことを特徴とする、パルス発振ガスレーザ装置。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載のパルス
発振ガスレーザ装置において、前記減衰材(45)が、多孔率９０％以上の多孔体であるこ
とを特徴とする、パルス発振ガスレーザ装置。
【請求項６】対向した一対の放電電極(14,15)間にパ
ルス状の主放電を生じさせてレーザガスを励起し、レー
ザ光を発振させるパルス発振ガスレーザ装置において、高圧側の放電電極(15)を固定する絶縁性のカソードベー
ス(36)上に沿面放電を防止するための絶縁性のヒダ部(4
2)を設け、ヒダ部(42)の凸部(43)と高圧側の放電電極(15)との間の
溝部(52)内部に、主放電によって生じる衝撃波(41)を減
衰させる減衰材(45)を挿入すると共に、接地側の放電電極(14)外周部に、当該放電電極(14)へ向
かって高くなるように傾斜を有して減衰材(53)を設置し
たことを特徴とする、パルス発振ガスレーザ装置。
【請求項７】対向した一対の放電電極(14,15)間にパ
ルス状の主放電を生じさせてレーザガスを励起し、レー
ザ光を発振させるパルス発振ガスレーザ装置において、高圧側の放電電極(15)を固定する絶縁性のカソードベー
ス(36)上に沿面放電を防止するための絶縁性のヒダ部(4
2)を設け、当該ヒダ部(42)は、放電電極(15)を中心にその長手方向
に対して非対称に形成したことを特徴とする、パルス発
振ガスレーザ装置。