JPH11317556A - 音波及び衝撃波の妨害を最小にするレ―ザチャンバ - Google Patents
音波及び衝撃波の妨害を最小にするレ―ザチャンバInfo
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- JPH11317556A JPH11317556A JP11057463A JP5746399A JPH11317556A JP H11317556 A JPH11317556 A JP H11317556A JP 11057463 A JP11057463 A JP 11057463A JP 5746399 A JP5746399 A JP 5746399A JP H11317556 A JPH11317556 A JP H11317556A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 音波及び衝撃波の妨害を最小にするレーザチ
ャンバを提供する 【解決手段】 レーザチャンバは、音波及び衝撃波の妨
害を最小にするために音波及び衝撃波をレーザ放電領域
から離れるように反射させるアングルド・レフレクター
を有し、それは、音波及び衝撃波の消失を助けるために
異なる構成を有する。例えば、アングルド・レフレクタ
ーは、表面に構成された溝又はホールを有するような、
調整された反射表面を有し、音波及び衝撃波吸収特性を
備える反射表面を有しうる。吸収特性を備える反射表面
は、フェルト金属で良く、又は、複数の層状多孔性表面
を有する。レーザチャンバの壁は、吸収、散乱を介し、
反射波に干渉を生成させることによって音波及び衝撃波
の消失を助けるように調整され、複数の層状多孔性表面
は、入射波を吸収し且つ散乱するために壁に沿って使用
されうる。
ャンバを提供する 【解決手段】 レーザチャンバは、音波及び衝撃波の妨
害を最小にするために音波及び衝撃波をレーザ放電領域
から離れるように反射させるアングルド・レフレクター
を有し、それは、音波及び衝撃波の消失を助けるために
異なる構成を有する。例えば、アングルド・レフレクタ
ーは、表面に構成された溝又はホールを有するような、
調整された反射表面を有し、音波及び衝撃波吸収特性を
備える反射表面を有しうる。吸収特性を備える反射表面
は、フェルト金属で良く、又は、複数の層状多孔性表面
を有する。レーザチャンバの壁は、吸収、散乱を介し、
反射波に干渉を生成させることによって音波及び衝撃波
の消失を助けるように調整され、複数の層状多孔性表面
は、入射波を吸収し且つ散乱するために壁に沿って使用
されうる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ放電チャン
バに関し、特に、音波又は衝撃波の妨害を最小にするレ
ーザ放電チャンバに関する。
バに関し、特に、音波又は衝撃波の妨害を最小にするレ
ーザ放電チャンバに関する。
【０００２】
【従来の技術】エキシマレーザのようなパルスレーザシ
ステムは周知である。図１は、従来のパルスレーザシス
テムに使用されているレーザチャンバ１０の正面図であ
る。図１に示されているように、レーザチャンバ１０
は、電極構造１２、ブロワー１４、熱交換機２６、プレ
イオン化装置２８、バッフル３０、及び、グラウンドに
電極１２の低い方を接触させるのに使用する接地スクリ
ーン３２を含む。レーザ放電領域２４は電極構造１２に
よって構成される。
ステムは周知である。図１は、従来のパルスレーザシス
テムに使用されているレーザチャンバ１０の正面図であ
る。図１に示されているように、レーザチャンバ１０
は、電極構造１２、ブロワー１４、熱交換機２６、プレ
イオン化装置２８、バッフル３０、及び、グラウンドに
電極１２の低い方を接触させるのに使用する接地スクリ
ーン３２を含む。レーザ放電領域２４は電極構造１２に
よって構成される。
【０００３】図２は、レーザチャンバ１０の側面図であ
る。図２に示したようなレーザチャンバ１０はまた、ウ
ィンドウ１６，１８及びレーザビーム２０を含む。
る。図２に示したようなレーザチャンバ１０はまた、ウ
ィンドウ１６，１８及びレーザビーム２０を含む。
【０００４】当業者によって周知なように、エキシマレ
ーザのようなパルスレーザシステムは、レーザチャンバ
１０内の電極間にあるガスに高エネルギ、高周波パルス
を作り出す。クリプトン及びフッ素を包含しうるガス
は、例えば３気圧のような高圧で保持される。プレイオ
ン化装置２８は初めに、自由電子（１０6乃至１０8ｃｍ
-3）で放電領域２４内のガスがあふれる。いったん、放
電領域２４内のガスが十分に増加した電子密度で支配さ
れているならば、電極１２は、例えば１５乃至５０ｋＶ
の高エネルギ放電を作り出す。高エネルギ放電からのレ
イジング作用は、放電の時間から１００ｎｓｅｃ内に生
じる。
ーザのようなパルスレーザシステムは、レーザチャンバ
１０内の電極間にあるガスに高エネルギ、高周波パルス
を作り出す。クリプトン及びフッ素を包含しうるガス
は、例えば３気圧のような高圧で保持される。プレイオ
ン化装置２８は初めに、自由電子（１０6乃至１０8ｃｍ
-3）で放電領域２４内のガスがあふれる。いったん、放
電領域２４内のガスが十分に増加した電子密度で支配さ
れているならば、電極１２は、例えば１５乃至５０ｋＶ
の高エネルギ放電を作り出す。高エネルギ放電からのレ
イジング作用は、放電の時間から１００ｎｓｅｃ内に生
じる。
【０００５】放電領域２４における高エネルギ放電は、
ガスの大きな局所的加熱を作り出す。熱的乱れはガスの
屈折率を変化させ、レーザシステムの効率及びエネルギ
に有害な影響がある。レイジング作用が、高エネルギ放
電の後、おおよそ１００ｎｓｅｃの短い時間の間に起こ
るので、ガスの熱的な乱れは、熱的乱れが生じるパルス
からレイジング作用に影響を与えない。しかしながら、
ガスがレーザチャンバ１０ないで循環されなければ、お
およそ１乃至２ｋＨｚの周波数で生じる結果として起こ
る高エネルギ放電は、大きく乱れた熱的に強烈なガスに
作り出されうる。従って、ブロワー１４はレーザチャン
バ内のガスを循環させるのに使用され、熱交換器２６
は、ガスが循環するときガスを冷却するためにガスフロ
ーの通り道に配置される。典型的には、レーザチャンバ
１０内でガスは、２５乃至３０ｍ／ｓのフロー速度で循
環するが、総量はパルスレーザシステムの周波数によっ
て決定される。
ガスの大きな局所的加熱を作り出す。熱的乱れはガスの
屈折率を変化させ、レーザシステムの効率及びエネルギ
に有害な影響がある。レイジング作用が、高エネルギ放
電の後、おおよそ１００ｎｓｅｃの短い時間の間に起こ
るので、ガスの熱的な乱れは、熱的乱れが生じるパルス
からレイジング作用に影響を与えない。しかしながら、
ガスがレーザチャンバ１０ないで循環されなければ、お
およそ１乃至２ｋＨｚの周波数で生じる結果として起こ
る高エネルギ放電は、大きく乱れた熱的に強烈なガスに
作り出されうる。従って、ブロワー１４はレーザチャン
バ内のガスを循環させるのに使用され、熱交換器２６
は、ガスが循環するときガスを冷却するためにガスフロ
ーの通り道に配置される。典型的には、レーザチャンバ
１０内でガスは、２５乃至３０ｍ／ｓのフロー速度で循
環するが、総量はパルスレーザシステムの周波数によっ
て決定される。
【０００６】電極構造１２が高エネルギ放電を作り出す
とき、音波及び／又は衝撃波が作り出され、次いで、放
電領域２４から外側に広がる。音波は、レーザチャンバ
１０のキャビティ内に形成され、音の速度で移動する定
在波である。一方、衝撃波は、大きな圧力勾配を生成
し、音の速度よりも速い速度で移動する独立波（free s
tanding wave）である。
とき、音波及び／又は衝撃波が作り出され、次いで、放
電領域２４から外側に広がる。音波は、レーザチャンバ
１０のキャビティ内に形成され、音の速度で移動する定
在波である。一方、衝撃波は、大きな圧力勾配を生成
し、音の速度よりも速い速度で移動する独立波（free s
tanding wave）である。
【０００７】音波及び衝撃波は、レーザチャンバ１０の
壁１１及び１３に届くまでガスを介して広がり、音波及
び衝撃波が放電領域２４に戻るように反射される。音波
及び衝撃波は、ガスにおいて望ましくない圧力変化であ
り、放電領域２４内に戻るように反射されるとき、レー
ザシステムのエネルギ効率とエネルギ安定性を妨害す
る。これらの周波数はチャンバの固有音響モードと相互
作用するので、エネルギ効率及びエネルギ安定性が害さ
れる度合いは、パルス繰り返し周波数に依存する。
壁１１及び１３に届くまでガスを介して広がり、音波及
び衝撃波が放電領域２４に戻るように反射される。音波
及び衝撃波は、ガスにおいて望ましくない圧力変化であ
り、放電領域２４内に戻るように反射されるとき、レー
ザシステムのエネルギ効率とエネルギ安定性を妨害す
る。これらの周波数はチャンバの固有音響モードと相互
作用するので、エネルギ効率及びエネルギ安定性が害さ
れる度合いは、パルス繰り返し周波数に依存する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの実施形態
に関するレーザチャンバは、音波及び衝撃波をレーザ放
電領域から遠ざかるように反射させるために、レーザ放
電領域の側に沿ってアングルド・レフレクターを有す
る。従って、放電領域から生じる音波及び衝撃波は、レ
ーザ放電領域から戻るように直接反射されることなく、
レーザチャンバ内で消失させることが出来る。更に、ア
ングルド・レフレクターは、レーザチャンバ内の循環ガ
スのフローを差し向けるのを助けうる。
に関するレーザチャンバは、音波及び衝撃波をレーザ放
電領域から遠ざかるように反射させるために、レーザ放
電領域の側に沿ってアングルド・レフレクターを有す
る。従って、放電領域から生じる音波及び衝撃波は、レ
ーザ放電領域から戻るように直接反射されることなく、
レーザチャンバ内で消失させることが出来る。更に、ア
ングルド・レフレクターは、レーザチャンバ内の循環ガ
スのフローを差し向けるのを助けうる。
【０００９】アングルド・レフレクターは、音波及び衝
撃波を消失させるのを助けるために異なった構成を有し
うる。アングルド・レフレクターは、入射波を散乱さ
せ、並びに、干渉波を生成させる反射表面に構成された
溝及びホールを有しても良い。アングルド・レフレクタ
ーはまた、フェルト金属のような音波及び衝撃波吸収材
料で覆われても良い。更に、アングルド・レフレクター
は、入射音波及び衝撃波を吸収する多孔性層を有しう
る。例えば、複数の多孔性プレートの層状バッフルスタ
ックが層状アングルド・レフレクターとして使用されて
も良い。レーザ放電領域に最も近い層状アングルド・レ
フレクターの多孔性層は、レーザ放電領域から更に遠い
多孔性層よりも大きな孔を有し得る。
撃波を消失させるのを助けるために異なった構成を有し
うる。アングルド・レフレクターは、入射波を散乱さ
せ、並びに、干渉波を生成させる反射表面に構成された
溝及びホールを有しても良い。アングルド・レフレクタ
ーはまた、フェルト金属のような音波及び衝撃波吸収材
料で覆われても良い。更に、アングルド・レフレクター
は、入射音波及び衝撃波を吸収する多孔性層を有しう
る。例えば、複数の多孔性プレートの層状バッフルスタ
ックが層状アングルド・レフレクターとして使用されて
も良い。レーザ放電領域に最も近い層状アングルド・レ
フレクターの多孔性層は、レーザ放電領域から更に遠い
多孔性層よりも大きな孔を有し得る。
【００１０】更に、レーザチャンバの壁は、吸収、散乱
を介して、及び、反射された波における干渉を生成する
ことによって、音波及び衝撃波の消失を助けるように調
整されうる。例えば、層状バッフルスタックは、入射波
を吸収し、散乱するためにレーザチャンバの壁に沿って
使用されうる。レーザチャンバの壁はまた、フェルト金
属のような音波及び衝撃波吸収材料で覆われうる。他の
実施形態では、レーザチャンバの壁は、入射波を散乱さ
せ、干渉波を生成させる、三角形又は長方形の溝のよう
な溝を有しうる。
を介して、及び、反射された波における干渉を生成する
ことによって、音波及び衝撃波の消失を助けるように調
整されうる。例えば、層状バッフルスタックは、入射波
を吸収し、散乱するためにレーザチャンバの壁に沿って
使用されうる。レーザチャンバの壁はまた、フェルト金
属のような音波及び衝撃波吸収材料で覆われうる。他の
実施形態では、レーザチャンバの壁は、入射波を散乱さ
せ、干渉波を生成させる、三角形又は長方形の溝のよう
な溝を有しうる。
【００１１】
【発明の実施の形態】図３は、本発明の一つの実施形態
における音波及び衝撃波の妨害を最小にするためのアン
グルド・レフレクター１１６及び１１８を備えるレーザ
チャンバ１００の正面図である。レーザチャンバ１００
は、放電領域１０３を構成するカソード１０２及びアノ
ード１０４を備える電極構造と、プレイオン化装置１０
６とを含む。レーザチャンバ１００はまた、ブロワー１
０８と、熱交換機１１０と、バッフル１１２及び１１３
と、電流スクリーン１１４とを有する。
における音波及び衝撃波の妨害を最小にするためのアン
グルド・レフレクター１１６及び１１８を備えるレーザ
チャンバ１００の正面図である。レーザチャンバ１００
は、放電領域１０３を構成するカソード１０２及びアノ
ード１０４を備える電極構造と、プレイオン化装置１０
６とを含む。レーザチャンバ１００はまた、ブロワー１
０８と、熱交換機１１０と、バッフル１１２及び１１３
と、電流スクリーン１１４とを有する。
【００１２】図３に示したレーザチャンバ１００は、米
国カリフォルニア州サンディエゴのサイマー社によって
作り出されたエキシマレーザ・モデル５０００と類似し
ているが、レーザチャンバ１００は、放電領域１０３の
各サイドに位置決めされた２つのアングルド・レフレク
ター１１６及び１１８を含む。しかしながら、本発明の
実施形態は、示された特定のレーザチャンバでの使用に
限定されず、異なる構成を有するレーザチャンバにも使
用できる。
国カリフォルニア州サンディエゴのサイマー社によって
作り出されたエキシマレーザ・モデル５０００と類似し
ているが、レーザチャンバ１００は、放電領域１０３の
各サイドに位置決めされた２つのアングルド・レフレク
ター１１６及び１１８を含む。しかしながら、本発明の
実施形態は、示された特定のレーザチャンバでの使用に
限定されず、異なる構成を有するレーザチャンバにも使
用できる。
【００１３】図４は、レーザチャンバ１００の側面図を
示す。リア・ウィンドウ１２０と、フロント・ウィンド
ウ１２２と、レーザ１２４とがまた、図４に示されてい
る。図４は、放電領域１０３の長さに沿って位置決めさ
れたアングルド・レフレクター１１８を示す。（図４に
は示されていないが）アングルド・レフレクター１１６
は、同様に放電領域１０３の反対側に沿って位置決めさ
れる。図４に示したように、所望のアングルド・レフレ
クター１１８並びにアングルド・レフレクター１１６
が、レーザチャンバ１００のフロント壁１２６及びリア
壁１２８と衝合しうる。しかしながら、アングルド・レ
フレクター１１６及び１１８が、最適のパフォーマンス
のために、放電領域１０３の全長に沿って位置決めされ
るべきであることは、当業者によって理解されるであろ
う。
示す。リア・ウィンドウ１２０と、フロント・ウィンド
ウ１２２と、レーザ１２４とがまた、図４に示されてい
る。図４は、放電領域１０３の長さに沿って位置決めさ
れたアングルド・レフレクター１１８を示す。（図４に
は示されていないが）アングルド・レフレクター１１６
は、同様に放電領域１０３の反対側に沿って位置決めさ
れる。図４に示したように、所望のアングルド・レフレ
クター１１８並びにアングルド・レフレクター１１６
が、レーザチャンバ１００のフロント壁１２６及びリア
壁１２８と衝合しうる。しかしながら、アングルド・レ
フレクター１１６及び１１８が、最適のパフォーマンス
のために、放電領域１０３の全長に沿って位置決めされ
るべきであることは、当業者によって理解されるであろ
う。
【００１４】図３に示したアングルド・レフレクター１
１６及び１１８は、放電領域１０３の各サイドに沿って
レーザチャンバ１００の上壁１２１と衝合して位置決め
され、レーザチャンバ１００の底壁１２３に向かって角
度がつけられる。アングルド・レフレクター１１６及び
１１８は、アルミニウム、セラミック、又は、レーザチ
ャンバ１００内で使用される特定のガスと共存できるか
或いはニッケルのように共存できる材料でメッキされた
他の硬質材料から作られうる。アングルド・レフレクタ
ー１１６及び１１８は、レーザチャンバ１００の壁１１
７及び１１９とそれぞれ一体で形成されても良く、又
は、製造後レーザチャンバ１００に挿入されても良い。
１６及び１１８は、放電領域１０３の各サイドに沿って
レーザチャンバ１００の上壁１２１と衝合して位置決め
され、レーザチャンバ１００の底壁１２３に向かって角
度がつけられる。アングルド・レフレクター１１６及び
１１８は、アルミニウム、セラミック、又は、レーザチ
ャンバ１００内で使用される特定のガスと共存できるか
或いはニッケルのように共存できる材料でメッキされた
他の硬質材料から作られうる。アングルド・レフレクタ
ー１１６及び１１８は、レーザチャンバ１００の壁１１
７及び１１９とそれぞれ一体で形成されても良く、又
は、製造後レーザチャンバ１００に挿入されても良い。
【００１５】カソード１０２及びアノード１０４が高エ
ネルギ放電を生成するとき、音波及び衝撃波がレーザチ
ャンバ１００内のガスに生成される。音波及び衝撃波
は、それらがアングルド・レフレクター１１６及び１１
８に到達するまで外側に広がる。アングルド・レフレク
ター１１６及び１１８がレーザチャンバ１００の底部に
向かって角度がついているので、高エネルギ放電によっ
て生成された音波及び衝撃波は放電領域１０３から遠ざ
かるように反射され、レーザチャンバ１００の底部に向
かう。従って、音波及び衝撃波は放電領域１０３内に直
接戻るように反射されないが、波が実質的に消失するレ
ーザチャンバ１００内で下方に反射される。従って、音
波及び衝撃波は、放電領域１０３から遠ざかるように反
射され、それゆえ、波によって生じる妨害を最小にする
ことが出来る。
ネルギ放電を生成するとき、音波及び衝撃波がレーザチ
ャンバ１００内のガスに生成される。音波及び衝撃波
は、それらがアングルド・レフレクター１１６及び１１
８に到達するまで外側に広がる。アングルド・レフレク
ター１１６及び１１８がレーザチャンバ１００の底部に
向かって角度がついているので、高エネルギ放電によっ
て生成された音波及び衝撃波は放電領域１０３から遠ざ
かるように反射され、レーザチャンバ１００の底部に向
かう。従って、音波及び衝撃波は放電領域１０３内に直
接戻るように反射されないが、波が実質的に消失するレ
ーザチャンバ１００内で下方に反射される。従って、音
波及び衝撃波は、放電領域１０３から遠ざかるように反
射され、それゆえ、波によって生じる妨害を最小にする
ことが出来る。
【００１６】アングルド・レフレクター１１６及び１１
８は、音波及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざけるよ
うに反射させるために、放電領域１０３に対して位置決
めされるべきであることを理解すべきである。アングル
ド・レフレクター１１６及び１１８の反射表面は、平
面、湾曲、又は、反射された波を散乱させるために調整
されうる。アングルド・レフレクター１１６及び１１８
の特定の角度は、レーザチャンバの構成に依存するが、
放電領域１０３に戻るように反射される音波及び衝撃波
を最小にするように調整されるべきである。典型的な角
度の範囲は、垂直壁１１７及び１１９と３０乃至４５度
である。
８は、音波及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざけるよ
うに反射させるために、放電領域１０３に対して位置決
めされるべきであることを理解すべきである。アングル
ド・レフレクター１１６及び１１８の反射表面は、平
面、湾曲、又は、反射された波を散乱させるために調整
されうる。アングルド・レフレクター１１６及び１１８
の特定の角度は、レーザチャンバの構成に依存するが、
放電領域１０３に戻るように反射される音波及び衝撃波
を最小にするように調整されるべきである。典型的な角
度の範囲は、垂直壁１１７及び１１９と３０乃至４５度
である。
【００１７】アングルド・レフレクター１１６及び１１
８は、レーザチャンバ１００内のガス循環に関してフロ
ーガイドとして作用する更なる利点を有する。従って、
上壁１２１と衝合するように図３に示されたアングルド
・レフレクター１１６及び１１８は、ガスのフローを妨
害しない。バッフル１１３がまた図３に示されているけ
れども、ある実施形態では、アングルド・レフレクター
１１８が十分にガスのフローをガイドするので、バッフ
ル１１３は除去されうる。
８は、レーザチャンバ１００内のガス循環に関してフロ
ーガイドとして作用する更なる利点を有する。従って、
上壁１２１と衝合するように図３に示されたアングルド
・レフレクター１１６及び１１８は、ガスのフローを妨
害しない。バッフル１１３がまた図３に示されているけ
れども、ある実施形態では、アングルド・レフレクター
１１８が十分にガスのフローをガイドするので、バッフ
ル１１３は除去されうる。
【００１８】更に、アングルド・レフレクター１１６及
び１１８は、異なるタイプの反射表面を有しても良い。
例えば、アングルド・レフレクター１１６及び１１８
は、図３に示したような平らな表面を有しても良く、音
波及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざかるように効果
的に反射し、レーザチャンバ１００内のガス循環に対し
てほとんど妨害を生成しない。アングルド・レフレクタ
ー１１６及び１１８の表面はまた、フェルト金属のよう
な音波及び衝撃波吸収材料と整列されうる。フェルト金
属と整列されたアングルド・レフレクター１１６及び１
１８は、音波及び衝撃波を部分的に吸収し、残りを放電
領域１０３から遠ざかるように反射する。更に、アング
ルド・レフレクター１１６及び１１８の表面は、溝で調
整されても良い。図５Ａ，５Ｂ及び５Ｃは、調整された
表面を備えるアングルド・レフレクター１１６の斜視図
である。参照の容易さのために図５Ａ，５Ｂ及び５Ｃに
はアングルド・レフレクター１１６のみを示したことを
理解すべきであり、アングルド・レフレクター１１８も
同様の構成をとりうる。図５Ａに示したように、アング
ルド・レフレクター１１６の反射表面１３０は垂直溝１
３２で調整される。図５Ａに示したようなアングルド・
レフレクター１１６は、音波及び衝撃波を放電領域１０
３から遠ざかるように反射する。更に、アングルド・レ
フレクター１１６の反射表面１３０における溝１３２
は、入射音波及び衝撃波を散乱し、並びに、反射された
波の干渉を生成する。従って、反射表面１３０は、音波
及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざかるように反射す
るだけでなく、溝１３２が音波及び衝撃波を分解し且つ
消失させるのを助ける。
び１１８は、異なるタイプの反射表面を有しても良い。
例えば、アングルド・レフレクター１１６及び１１８
は、図３に示したような平らな表面を有しても良く、音
波及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざかるように効果
的に反射し、レーザチャンバ１００内のガス循環に対し
てほとんど妨害を生成しない。アングルド・レフレクタ
ー１１６及び１１８の表面はまた、フェルト金属のよう
な音波及び衝撃波吸収材料と整列されうる。フェルト金
属と整列されたアングルド・レフレクター１１６及び１
１８は、音波及び衝撃波を部分的に吸収し、残りを放電
領域１０３から遠ざかるように反射する。更に、アング
ルド・レフレクター１１６及び１１８の表面は、溝で調
整されても良い。図５Ａ，５Ｂ及び５Ｃは、調整された
表面を備えるアングルド・レフレクター１１６の斜視図
である。参照の容易さのために図５Ａ，５Ｂ及び５Ｃに
はアングルド・レフレクター１１６のみを示したことを
理解すべきであり、アングルド・レフレクター１１８も
同様の構成をとりうる。図５Ａに示したように、アング
ルド・レフレクター１１６の反射表面１３０は垂直溝１
３２で調整される。図５Ａに示したようなアングルド・
レフレクター１１６は、音波及び衝撃波を放電領域１０
３から遠ざかるように反射する。更に、アングルド・レ
フレクター１１６の反射表面１３０における溝１３２
は、入射音波及び衝撃波を散乱し、並びに、反射された
波の干渉を生成する。従って、反射表面１３０は、音波
及び衝撃波を放電領域１０３から遠ざかるように反射す
るだけでなく、溝１３２が音波及び衝撃波を分解し且つ
消失させるのを助ける。
【００１９】溝１３２は、約７．６ｍｍ（約０．３イン
チ）毎に隔てられ、幅約２．５ｍｍ（約０．１イン
チ）、深さ２．５ｍｍ（０．１インチ）である。もちろ
ん、幅、深さ又は溝の近さを変化させることを含む他の
構成も可能である。更に、溝１３２は、三角形又は正弦
波を含む異なる構成を有しても良い。所望ならば、溝１
３２は、アングルド・レフレクター１１６の反射表面１
３０を水平に横切るように構成されても良い。しかしな
がら、水平溝は、垂直溝１３２よりも反射表面１３０に
わたってガスのフローの循環を妨害しうる。
チ）毎に隔てられ、幅約２．５ｍｍ（約０．１イン
チ）、深さ２．５ｍｍ（０．１インチ）である。もちろ
ん、幅、深さ又は溝の近さを変化させることを含む他の
構成も可能である。更に、溝１３２は、三角形又は正弦
波を含む異なる構成を有しても良い。所望ならば、溝１
３２は、アングルド・レフレクター１１６の反射表面１
３０を水平に横切るように構成されても良い。しかしな
がら、水平溝は、垂直溝１３２よりも反射表面１３０に
わたってガスのフローの循環を妨害しうる。
【００２０】図５Ｂは、調整された反射表面１４０を備
えるアングルド・レフレクター１１６の斜視図を示す。
調整された反射表面１４０は、図５Ａに示した溝と同様
に作用するホール１４２を含む。ホール１４２は、音波
及び衝撃波を散乱し、並びに、波の干渉を生成し、アン
グルド・レフレクター１１６の反射表面１４０は放電領
域１０３から遠ざかるように波を反射する。ホール１４
２は、直径約２．５ｍｍ（約０．１インチ）、深さ約
２．５ｍｍ（約０．１インチ）、約７．６ｍｍ（約０．
３インチ）の間隔で位置決めされている。図５Ｃは、各
衝撃波を多数の方向に散乱する多数の別々の小波に変換
する鋸歯に調整された表面を示す。
えるアングルド・レフレクター１１６の斜視図を示す。
調整された反射表面１４０は、図５Ａに示した溝と同様
に作用するホール１４２を含む。ホール１４２は、音波
及び衝撃波を散乱し、並びに、波の干渉を生成し、アン
グルド・レフレクター１１６の反射表面１４０は放電領
域１０３から遠ざかるように波を反射する。ホール１４
２は、直径約２．５ｍｍ（約０．１インチ）、深さ約
２．５ｍｍ（約０．１インチ）、約７．６ｍｍ（約０．
３インチ）の間隔で位置決めされている。図５Ｃは、各
衝撃波を多数の方向に散乱する多数の別々の小波に変換
する鋸歯に調整された表面を示す。
【００２１】図５Ｄは、減衰されるべき衝撃波をもたら
すそれらの端と、一方を他の頂部にプレートを積み重ね
ることによってバッフルを構築する方法を示す。
すそれらの端と、一方を他の頂部にプレートを積み重ね
ることによってバッフルを構築する方法を示す。
【００２２】図６は、音波及び衝撃波が放電領域１０３
から遠ざかるように反射されるように、放電領域１０３
に沿って位置決めされた層状のアングルド・レフレクタ
ー１５２及び１５４を備えるレーザチャンバ１５０の正
面図を示す。レーザチャンバ１５０は、図３に示された
レーザチャンバ１００と類似であり、同様に設計された
要素は同じものである。しかしながら、レーザチャンバ
１５０は層状のアングルド・レフレクター１５２及び１
５４を包含する。層状アングルド・レフレクター１５２
及び１５４は例えば、複数の多孔板の層又はワイヤーメ
ッシュの層を包含しうる。図６は、４層を示しているけ
れども、所望の数の層が使用され得ることを理解すべき
である。
から遠ざかるように反射されるように、放電領域１０３
に沿って位置決めされた層状のアングルド・レフレクタ
ー１５２及び１５４を備えるレーザチャンバ１５０の正
面図を示す。レーザチャンバ１５０は、図３に示された
レーザチャンバ１００と類似であり、同様に設計された
要素は同じものである。しかしながら、レーザチャンバ
１５０は層状のアングルド・レフレクター１５２及び１
５４を包含する。層状アングルド・レフレクター１５２
及び１５４は例えば、複数の多孔板の層又はワイヤーメ
ッシュの層を包含しうる。図６は、４層を示しているけ
れども、所望の数の層が使用され得ることを理解すべき
である。
【００２３】図７は、層状バッフルスタック１６０を示
し、層状アングルド・レフレクター１５２及び１５４の
一つの実施形態として使用されうる。層状バッフルスタ
ック１６０を図７に示し、４枚のプレート１６２，１６
４，１６６及び１６８を包含しうる。層状バッフルスタ
ック１６０が４枚のプレートに限定されず、所望の数の
プレートを有しうることを理解すべきである。層状バッ
フルスタック１６０のプレートは、アルミニウム、セラ
ミック、又は、所望の孔を作り出すためのホールを有す
る他の同様の硬質材料から、若しくは、同様の材料のメ
ッシュから作り出されうる。
し、層状アングルド・レフレクター１５２及び１５４の
一つの実施形態として使用されうる。層状バッフルスタ
ック１６０を図７に示し、４枚のプレート１６２，１６
４，１６６及び１６８を包含しうる。層状バッフルスタ
ック１６０が４枚のプレートに限定されず、所望の数の
プレートを有しうることを理解すべきである。層状バッ
フルスタック１６０のプレートは、アルミニウム、セラ
ミック、又は、所望の孔を作り出すためのホールを有す
る他の同様の硬質材料から、若しくは、同様の材料のメ
ッシュから作り出されうる。
【００２４】４枚のプレート１６２，１６４，１６６及
び１６８は、外側のプレート１６２から内側のプレート
１６８に向かって孔が減少し、プレートの接近は、層状
バッフルスタック１６０の吸収効率を調節させるように
変化させることが出来るが、各プレートは次のプレート
から約２．５ｍｍ（約０．１インチ）離れて位置決めさ
れ得る。従って、放電領域１０３に最も近いプレートで
ある外側プレート１６２は、約０．９即ち９０％の孔を
有し、プレート１６４，１６６及び１６８はそれぞれ、
約０．７，０．５及び０．３の孔を有する。もちろん、
プレート１６２，１６４，１６６及び１６８の孔は変化
しても良く、例えば、波の反射に対して対抗するように
音波及び衝撃波の吸収を制御し、ある実施形態では、プ
レート１６２，１６４，１６６及び１６８は同じ孔を有
しても良く、又は、低い孔から高い孔に逆に変化しても
良い。
び１６８は、外側のプレート１６２から内側のプレート
１６８に向かって孔が減少し、プレートの接近は、層状
バッフルスタック１６０の吸収効率を調節させるように
変化させることが出来るが、各プレートは次のプレート
から約２．５ｍｍ（約０．１インチ）離れて位置決めさ
れ得る。従って、放電領域１０３に最も近いプレートで
ある外側プレート１６２は、約０．９即ち９０％の孔を
有し、プレート１６４，１６６及び１６８はそれぞれ、
約０．７，０．５及び０．３の孔を有する。もちろん、
プレート１６２，１６４，１６６及び１６８の孔は変化
しても良く、例えば、波の反射に対して対抗するように
音波及び衝撃波の吸収を制御し、ある実施形態では、プ
レート１６２，１６４，１６６及び１６８は同じ孔を有
しても良く、又は、低い孔から高い孔に逆に変化しても
良い。
【００２５】層状バッフルスタック１６０と接触して来
る音波及び衝撃波は、部分的に吸収され、部分的に反射
される。高多孔性プレート１６２が層状バッフルスタッ
ク１６０の外側にあるので、音波及び衝撃波の大部分が
プレート１６２によって伝えられる。プレートの孔が減
少するので、音波及び衝撃波のより多くの反射とより少
ない伝達とが生じる。層状バッフルスタック１６０内に
伝達された音波及び衝撃波は、層状バッフルスタック１
６０内のプレートによって複数回反射される。従って、
層状バッフルスタック１６０の外に反射されるいくつか
の波があるけれども、音波及び衝撃波は層状バッフルス
タック１６０内で実質的に消失する。
る音波及び衝撃波は、部分的に吸収され、部分的に反射
される。高多孔性プレート１６２が層状バッフルスタッ
ク１６０の外側にあるので、音波及び衝撃波の大部分が
プレート１６２によって伝えられる。プレートの孔が減
少するので、音波及び衝撃波のより多くの反射とより少
ない伝達とが生じる。層状バッフルスタック１６０内に
伝達された音波及び衝撃波は、層状バッフルスタック１
６０内のプレートによって複数回反射される。従って、
層状バッフルスタック１６０の外に反射されるいくつか
の波があるけれども、音波及び衝撃波は層状バッフルス
タック１６０内で実質的に消失する。
【００２６】図６に示した層状アングルド・レフレクタ
ー１５２及び１５４が、図７に示した層状バッフルスタ
ック１６０の構成を使用するところで、層状アングルド
・レフレクター１５２及び１５４のプレートは積み重ね
られ、外側プレート、即ち放電領域１０３に最も近いプ
レートは、減少した孔を有するレーザチャンバ１５０の
壁１１７又は１１９に向かって各々連続した層を備え、
最も多い孔の層を有する。従って、層状アングルド・レ
フレクター１５２及び１５４は、音波及び衝撃波を部分
的に吸収し且つ消失させ、放電領域１０３から遠ざかる
ように残りの波を反射する。
ー１５２及び１５４が、図７に示した層状バッフルスタ
ック１６０の構成を使用するところで、層状アングルド
・レフレクター１５２及び１５４のプレートは積み重ね
られ、外側プレート、即ち放電領域１０３に最も近いプ
レートは、減少した孔を有するレーザチャンバ１５０の
壁１１７又は１１９に向かって各々連続した層を備え、
最も多い孔の層を有する。従って、層状アングルド・レ
フレクター１５２及び１５４は、音波及び衝撃波を部分
的に吸収し且つ消失させ、放電領域１０３から遠ざかる
ように残りの波を反射する。
【００２７】層状アングルド・レフレクター１５２及び
１５４はまた、複数のワイヤーメッシュの層を作り出
し、メッシュの層の外側、即ち放電領域に最も近い層か
ら、メッシュの層の内側まで孔がまた減少する。別の実
施形態では、ワイヤーメッシュの層は幾つかの孔を有
し、即ち、小さな孔から大きな孔まで反対に変化する。
１５４はまた、複数のワイヤーメッシュの層を作り出
し、メッシュの層の外側、即ち放電領域に最も近い層か
ら、メッシュの層の内側まで孔がまた減少する。別の実
施形態では、ワイヤーメッシュの層は幾つかの孔を有
し、即ち、小さな孔から大きな孔まで反対に変化する。
【００２８】図８は、多孔性の層で調整された壁１１
７，１１９及び１２３を備えるレーザチャンバ１７０の
正面図である。層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６
はレーザチャンバ１７０の壁１１７，１１９及び１２３
に沿って位置決めされ、放電領域１０３から生じる音波
及び衝撃波が多孔性壁１７２，１７４及び１７６によっ
て散乱され且つ吸収される。レーザチャンバ１７０は、
図３に示したレーザチャンバ１００と類似しており、同
様に設計された要素は同じものである。しかしながら、
レーザチャンバ１７０は、アングルド・レフレクター１
１６及び１１８を示していないが、層状多孔性壁１７
２，１７４及び１７６を包含する。
７，１１９及び１２３を備えるレーザチャンバ１７０の
正面図である。層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６
はレーザチャンバ１７０の壁１１７，１１９及び１２３
に沿って位置決めされ、放電領域１０３から生じる音波
及び衝撃波が多孔性壁１７２，１７４及び１７６によっ
て散乱され且つ吸収される。レーザチャンバ１７０は、
図３に示したレーザチャンバ１００と類似しており、同
様に設計された要素は同じものである。しかしながら、
レーザチャンバ１７０は、アングルド・レフレクター１
１６及び１１８を示していないが、層状多孔性壁１７
２，１７４及び１７６を包含する。
【００２９】図８は４つの多孔性壁の層を示すけれど
も、層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６が複数の層
を包含していても良く、特定の数に限定されないことは
理解されるべきである。更に、レーザチャンバ１７０
は、レーザチャンバ１７０の上壁１２１にそって層状多
孔性壁を有すること、又は、側壁１１７及び１１９に沿
ってそれぞれ層状多孔性壁１７２及び１７４だけを有す
ること、及び／又は、放電領域１０３に最も近い側壁１
１７及び１１９の領域だけがカバーされるように部分的
にカバーされた側壁１１７及び１１９だけを有するこ
と、を包含する異なる構成を有しても良い。更に、レー
ザチャンバ１７０はまた、アングルド・レフレクター１
１６及び１１８又は層状アングルド・レフレクター１５
２及び１５４を有し得ることは当業者によって理解され
るであろう。従って、レーザチャンバ１７０は、放電領
域１０３から遠ざかるように音波及び衝撃波を反射する
利益を有利に受けることができ、同様に、音波及び衝撃
波が層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６によって吸
収され且つ散乱されることを有する利益を受ける。
も、層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６が複数の層
を包含していても良く、特定の数に限定されないことは
理解されるべきである。更に、レーザチャンバ１７０
は、レーザチャンバ１７０の上壁１２１にそって層状多
孔性壁を有すること、又は、側壁１１７及び１１９に沿
ってそれぞれ層状多孔性壁１７２及び１７４だけを有す
ること、及び／又は、放電領域１０３に最も近い側壁１
１７及び１１９の領域だけがカバーされるように部分的
にカバーされた側壁１１７及び１１９だけを有するこ
と、を包含する異なる構成を有しても良い。更に、レー
ザチャンバ１７０はまた、アングルド・レフレクター１
１６及び１１８又は層状アングルド・レフレクター１５
２及び１５４を有し得ることは当業者によって理解され
るであろう。従って、レーザチャンバ１７０は、放電領
域１０３から遠ざかるように音波及び衝撃波を反射する
利益を有利に受けることができ、同様に、音波及び衝撃
波が層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６によって吸
収され且つ散乱されることを有する利益を受ける。
【００３０】層状多孔性壁１７２，１７４及び１７６
が、図７に示したような層状バッフルスタック１６０の
ような多孔性プレートの複数の層を包含しうる。しかし
ながら、層状多孔性壁１７２及び１７４は角度がついて
いないので、音波及び衝撃波の望まない戻り反射が生じ
うる。従って、高効率吸収を有すること、及び／又は、
波の大きな散乱を作り出すことは、層状多孔性壁１７
２，１７４及び１７６に関して望ましい。
が、図７に示したような層状バッフルスタック１６０の
ような多孔性プレートの複数の層を包含しうる。しかし
ながら、層状多孔性壁１７２及び１７４は角度がついて
いないので、音波及び衝撃波の望まない戻り反射が生じ
うる。従って、高効率吸収を有すること、及び／又は、
波の大きな散乱を作り出すことは、層状多孔性壁１７
２，１７４及び１７６に関して望ましい。
【００３１】更に、層状多孔性壁１７２，１７４及び１
７６は、図６に示したような層状アングルド・レフレク
ター１５２，１５４に関して記載されたような、減少し
た孔を有する放電領域１０３から遠ざかるようにメッシ
ュの次の各層を備えるワイヤーメッシュであって良い。
７６は、図６に示したような層状アングルド・レフレク
ター１５２，１５４に関して記載されたような、減少し
た孔を有する放電領域１０３から遠ざかるようにメッシ
ュの次の各層を備えるワイヤーメッシュであって良い。
【００３２】図９は、音波及び衝撃波吸収材料１８２で
調整された壁１１７，１１９及び１２３を備えるレーザ
チャンバ１８０の正面図を示す。レーザチャンバ１８０
は、図８に示したレーザチャンバ１７０と類似してお
り、同様に設計された要素は同じものである。しかしな
がら、レーザチャンバ１８０は、層状多孔性壁構成を使
用するのではなく、放電領域１０３から生じる音波及び
衝撃波を吸収し且つ消失させるための音波及び衝撃波吸
収材料を使用する。レーザチャンバ１８０は、音波及び
衝撃波吸収材料１８２として、例えば、フェルト金属又
は発泡金属を使用することが出来る。図８に示したレー
ザチャンバ１７０と同様に、レーザチャンバ１８０は、
アングルド・レフレクター１１６及び１１８、又は、層
状アングルド・レフレクター１５２及び１５４と関連し
て音波及び衝撃波吸収材料１８２を使用することが出来
る。壁１１７，１１９，１２１及び１２３はまた、図１
０及び１１にそれぞれ示したレーザチャンバ１９０及び
２００に図示したように調整されうる。図１０は、三角
形の水平溝１９２を有する側壁１１７,１１９及び底壁
１２３を備えるレーザチャンバ１９０の正面図を示す。
レーザチャンバ１９０は、図８に示したレーザチャンバ
１７０と類似し、同様に設計された要素は同じものであ
る。しかしながら、レーザチャンバ１９０の壁１１７，
１１９及び１２３は三角形の水平溝１９２で調整されて
いる。例として、限定はしないが、溝１９２のピーク
は、約７．６ｍｍ（約０．３インチ）隔てられ、高さ約
２．５ｍｍ（約０．１インチ）である。
調整された壁１１７，１１９及び１２３を備えるレーザ
チャンバ１８０の正面図を示す。レーザチャンバ１８０
は、図８に示したレーザチャンバ１７０と類似してお
り、同様に設計された要素は同じものである。しかしな
がら、レーザチャンバ１８０は、層状多孔性壁構成を使
用するのではなく、放電領域１０３から生じる音波及び
衝撃波を吸収し且つ消失させるための音波及び衝撃波吸
収材料を使用する。レーザチャンバ１８０は、音波及び
衝撃波吸収材料１８２として、例えば、フェルト金属又
は発泡金属を使用することが出来る。図８に示したレー
ザチャンバ１７０と同様に、レーザチャンバ１８０は、
アングルド・レフレクター１１６及び１１８、又は、層
状アングルド・レフレクター１５２及び１５４と関連し
て音波及び衝撃波吸収材料１８２を使用することが出来
る。壁１１７，１１９，１２１及び１２３はまた、図１
０及び１１にそれぞれ示したレーザチャンバ１９０及び
２００に図示したように調整されうる。図１０は、三角
形の水平溝１９２を有する側壁１１７,１１９及び底壁
１２３を備えるレーザチャンバ１９０の正面図を示す。
レーザチャンバ１９０は、図８に示したレーザチャンバ
１７０と類似し、同様に設計された要素は同じものであ
る。しかしながら、レーザチャンバ１９０の壁１１７，
１１９及び１２３は三角形の水平溝１９２で調整されて
いる。例として、限定はしないが、溝１９２のピーク
は、約７．６ｍｍ（約０．３インチ）隔てられ、高さ約
２．５ｍｍ（約０．１インチ）である。
【００３３】図１１は、図１０に示したレーザチャンバ
１９０と類似しているレーザチャンバ２００の正面図を
示すが、レーザチャンバ２００は長方形の水平溝２０２
を備える調整された壁１１７，１１９及び１２３を包含
する。例として、限定はしないが、長方形の水平溝２０
２は、おおよそ７．６ｍｍ（約０．３インチ）隔てら
れ、幅約２．５ｍｍ（約０．１インチ）、深さ約２．５
ｍｍ（約０．１インチ）である。
１９０と類似しているレーザチャンバ２００の正面図を
示すが、レーザチャンバ２００は長方形の水平溝２０２
を備える調整された壁１１７，１１９及び１２３を包含
する。例として、限定はしないが、長方形の水平溝２０
２は、おおよそ７．６ｍｍ（約０．３インチ）隔てら
れ、幅約２．５ｍｍ（約０．１インチ）、深さ約２．５
ｍｍ（約０．１インチ）である。
【００３４】図１０及び１１にそれぞれ示される溝１９
２及び２０２は、入射音波及び衝撃波を散乱し、並び
に、反射された波に干渉を生成する。従って、壁１１
７，１１９及び１２３は、音波及び衝撃波を好都合にバ
ラバラにし且つ消失させるために、少なくとも放電領域
１０３の長さを延びるが、図４に示したようなフロント
壁１２６からリア壁１２８まで延びても良い。
２及び２０２は、入射音波及び衝撃波を散乱し、並び
に、反射された波に干渉を生成する。従って、壁１１
７，１１９及び１２３は、音波及び衝撃波を好都合にバ
ラバラにし且つ消失させるために、少なくとも放電領域
１０３の長さを延びるが、図４に示したようなフロント
壁１２６からリア壁１２８まで延びても良い。
【００３５】溝１９２及び２０２が異なる構成を有する
ことは当業者によって理解されるであろう。従って、溝
１９２及び２０２は、方形、正弦波又は鋸歯を含む異な
る形状を有し、水平ではなく垂直に位置決めされても良
い。更に、調整された壁１１７，１１９及び１２３は、
図５Ｂに示した調整された反射表面１４０に類似する表
面に構成されたホールを有しても良い。
ことは当業者によって理解されるであろう。従って、溝
１９２及び２０２は、方形、正弦波又は鋸歯を含む異な
る形状を有し、水平ではなく垂直に位置決めされても良
い。更に、調整された壁１１７，１１９及び１２３は、
図５Ｂに示した調整された反射表面１４０に類似する表
面に構成されたホールを有しても良い。
【００３６】更に、図１０及び１１のそれぞれのレーザ
チャンバ１９０及び２００はまた、アングルド・レフレ
クター１１６及び１１８、又は、層状アングルド・レフ
レクター１５２及び１５４を包含しうる。従って、レー
ザチャンバ１９０及び２００は、アングルド・レフレク
ターの使用を介して、放電領域１０３から遠ざかるよう
に音波及び衝撃波を反射する利益を有利に受け、同様
に、調整された壁１１７，１１９及び１２３によって散
乱され且つ消失された音波及び衝撃波を有する利点を受
け得る。
チャンバ１９０及び２００はまた、アングルド・レフレ
クター１１６及び１１８、又は、層状アングルド・レフ
レクター１５２及び１５４を包含しうる。従って、レー
ザチャンバ１９０及び２００は、アングルド・レフレク
ターの使用を介して、放電領域１０３から遠ざかるよう
に音波及び衝撃波を反射する利益を有利に受け、同様
に、調整された壁１１７，１１９及び１２３によって散
乱され且つ消失された音波及び衝撃波を有する利点を受
け得る。
【００３７】本発明の実施形態をそれについての特定の
変化と関連してかなり詳細に記載したけれども、他の実
施形態も可能である。例えば、本発明の実施形態は、示
されたそれら以外の構成を有するレーザチャンバと関連
して使用されうる。更に、本発明の実施形態が互いに関
連して使用されうることを理解すべきである。従って、
例えば、アングルド・レフレクター１１６及び１１８又
は層状アングルド・レフレクター１５２及び１５４が溝
１９２又は２０２と使用されてもよく、ここで、溝１９
２又は２０２は、フェルト金属のような音波及び衝撃波
吸収材料１８２で覆われている。更に、層状バッフルス
タック１６０が使用されても良く、ここで内側プレート
１６２は散乱効果を増加させるために溝１９２又は２０
２を含むように調整される。本発明で記載した実施形態
の他の組み合わせが可能であることは、当業者によって
理解されるであろう。それゆえ、特許請求の範囲の精神
及び範囲は、図面の説明の記述に限定されるべきでな
い。
変化と関連してかなり詳細に記載したけれども、他の実
施形態も可能である。例えば、本発明の実施形態は、示
されたそれら以外の構成を有するレーザチャンバと関連
して使用されうる。更に、本発明の実施形態が互いに関
連して使用されうることを理解すべきである。従って、
例えば、アングルド・レフレクター１１６及び１１８又
は層状アングルド・レフレクター１５２及び１５４が溝
１９２又は２０２と使用されてもよく、ここで、溝１９
２又は２０２は、フェルト金属のような音波及び衝撃波
吸収材料１８２で覆われている。更に、層状バッフルス
タック１６０が使用されても良く、ここで内側プレート
１６２は散乱効果を増加させるために溝１９２又は２０
２を含むように調整される。本発明で記載した実施形態
の他の組み合わせが可能であることは、当業者によって
理解されるであろう。それゆえ、特許請求の範囲の精神
及び範囲は、図面の説明の記述に限定されるべきでな
い。
【００３８】本発明の上記の及び他の特徴、態様、及び
利点は、特許請求の範囲、発明の詳細な説明、添付図面
を参照してより理解され得る。
利点は、特許請求の範囲、発明の詳細な説明、添付図面
を参照してより理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】パルスレーザシステムに使用される在来のレー
ザチャンバの正面図である。
ザチャンバの正面図である。
【図２】パルスレーザシステムに使用される在来のレー
ザチャンバの側面図である。
ザチャンバの側面図である。
【図３】音波及び衝撃波を消失させる特徴を提供するた
めのアングルド・レフレクターを使用したレーザチャン
バの正面図である。
めのアングルド・レフレクターを使用したレーザチャン
バの正面図である。
【図４】図３に示したレーザチャンバの側面図である。
【図５Ａ】アングルド・レフレクターの調整された反射
表面の特定の実施形態を示す。
表面の特定の実施形態を示す。
【図５Ｂ】アングルド・レフレクターの調整された反射
表面の特定の実施形態を示す。
表面の特定の実施形態を示す。
【図５Ｃ】アングルド・レフレクターの調整された反射
表面の特定の実施形態を示す。
表面の特定の実施形態を示す。
【図５Ｄ】薄いプレートからバッフルを構成するための
技術を示す。
技術を示す。
【図６】層状アングルド・レフレクターを備えるレーザ
チャンバの正面図を示す。
チャンバの正面図を示す。
【図７】図６に示した層状アングルド・レフレクターの
一つの実施形態として、又は、図８に示したようなチャ
ンバの壁として使用されうる層状バッフルスタックを示
す。
一つの実施形態として、又は、図８に示したようなチャ
ンバの壁として使用されうる層状バッフルスタックを示
す。
【図８】フェルト金属のような層状多孔性壁を有するレ
ーザチャンバの正面図を示す。
ーザチャンバの正面図を示す。
【図９】フェルト金属のような音波及び衝撃波吸収材料
を備えるレーザチャンバの正面図を示す。
を備えるレーザチャンバの正面図を示す。
【図１０】三角形の水平溝で調整された壁を有するレー
ザチャンバの正面図を示す。
ザチャンバの正面図を示す。
【図１１】長方形の水平溝で調整された壁を有するレー
ザチャンバの正面図を示す。
ザチャンバの正面図を示す。
１００ レーザチャンバ １０２ カソード １０３ レーザ放電領域 １０４ アノード １１６ アングルド・レフレクター １１７ 壁 １７０ レーザチャンバ １９２ 調整された表面
フロントページの続き (72)発明者 リチャード シー ウジャドウスキー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92128 サン ディエゴ グラニート ク リーク ロード 13420 (72)発明者 ハーヴィ エイ ビゾーセル アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92037 ラ ジョラ ヴィア ソノマ 8354 アパートメント ディー (72)発明者 ロバート ジー オザルスキー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92064 ポーウェイ レイク ポーウェイ ロード 13894 (72)発明者 ジェームズ エイチ アゾーラ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92122 サン ディエゴ トスカーナ ウ ェイ 5340 エフ−202
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザチャンバと、 前記レーザチャンバ内に包含された電極構造と、を有
し、前記電極構造はレーザ放電領域を構成する距離だけ
分離されたアノードとカソードとからなり、 前記レーザチャンバ内にアングルド・レフレクターと、
を有し、前記アングルド・レフレクターは前記レーザ放
電領域から生じた波を前記レーザ放電領域から離れるよ
うに反射する、レーザ装置。 - 【請求項２】 レーザチャンバであって、前記レーザチ
ャンバの一部を形成する少なくとも一つの壁と、調整さ
れた表面を有する少なくとも一つの壁と、を有する前記
レーザチャンバ。
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