JP4653360B2 - パルス発振型ガスレーザ装置 - Google Patents
パルス発振型ガスレーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4653360B2 JP4653360B2 JP2001276778A JP2001276778A JP4653360B2 JP 4653360 B2 JP4653360 B2 JP 4653360B2 JP 2001276778 A JP2001276778 A JP 2001276778A JP 2001276778 A JP2001276778 A JP 2001276778A JP 4653360 B2 JP4653360 B2 JP 4653360B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- gas
- temperature
- gas temperature
- oscillation type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Lasers (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、パルス発振型ガスレーザ装置における、衝撃波の影響を低減する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、エキシマレーザ装置等のパルス発振型ガスレーザ装置において、パルス放電の際に衝撃波や音響波(以下、衝撃波として総称する)が発生することが知られている。この衝撃波により、レーザガスのガス密度に揺らぎが生じ、レーザ光のビームプロファイルが不安定になる。
これを防止するための技術が、例えば特開平4−328889号公報に開示されている。図4は、同公報に開示されたエキシマレーザ装置の構成図を表しており、以下図4に基づいて従来技術を説明する。
【0003】
図4において、フッ素(F2)を含むレーザガスを封止したレーザチャンバ12の内部には、一対の放電電極14,15が対向して配置されている。上側のカソード15は、絶縁性のカソードベース36に固定され、カソードベース36はレーザチャンバ12に固定されている。また、下側のアノード14は、レーザチャンバ12に電気的に接続されたアノードベース40上に搭載されている。
図示しない高圧電源から、放電電極14,15間に高電圧を印加し、放電空間37にパルス放電を起こすことにより、パルス状のレーザ光(図示せず)を発生させている。
【0004】
このとき、パルス放電により、放電空間37から衝撃波41が発生する。この衝撃波41が、アノードベース40やカソードベース36等の、放電電極14,15近傍の部品に反射して、放電空間37に戻ってくることにより、放電空間37のレーザガスの密度が変動する。その結果、パルス放電が不安定になったり、レーザ光のビームプロファイルが乱れたりする。
これを防止するために、前記公報においては、多孔体46,46をカソードベース36及びアノードベース40上にそれぞれ固定し、多孔体46,46によって衝撃波41を吸収して放電空間37に戻らないようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来技術には、次に述べるような問題がある。
即ち、多孔体46は表面積が大きく、レーザチャンバ12の内部に組み込む際に、その表面に付着している有機物等の不純物を除去することが難しい。その結果、これらをレーザチャンバ12の内部に組み込んでレーザ発振を開始すると、多孔体46の表面から不純物がレーザガス中に混入することがあり、レーザ出力を低下させたり、光学部品の表面に付着したりして、レーザ発振を妨げる。
【0006】
本発明は、上記の問題に着目してなされたものであり、不純物を発生させる恐れのある部品をレーザチャンバ内部に持ち込むことなく、しかも衝撃波が放電空間に与える影響を低減させたパルス発振型ガスレーザ装置を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
上記の目的を達成するために、本発明は、パルス発振型ガスレーザ装置において、内部に封止したレーザガスをパルス放電によって励起し、レーザ光を発振させるレーザチャンバ(12)と、レーザガスのガス温度(T)を検出する温度センサ(38)と、レーザ光の発振周波数(f)を検出するレーザコントローラ(29)と、レーザコントローラ(29)の指令に基づいてレーザガスのガス温度(T)を変化させるガス温度変更手段とを備え、レーザコントローラ(29)は、レーザ発振時のレーザガスのガス温度(T)におけるレーザ光のビームプロファイルが乱れる極大周波数fn(T)を予め測定したレーザガスの所定のガス温度(T0)におけるレーザ光のビームプロファイルが乱れる極大周波数fn(T0)に基づき予測し、極大周波数fn(T)がレーザ光の発振周波数(f)から所定値以上ずれるようにレーザガスのガス温度(T)を変更するようにしている。
これにより、パルス放電の際に、以前に発生した衝撃波を放電空間からずらすことができるので、レーザ光のビームプロファイルの乱れを防止できる。
【0008】
また本発明によれば、レーザチャンバ内部にレーザガスを冷却する熱交換器を備え、
前記温度変更手段が、熱交換器を流れる冷媒の温度又は流量を変更することによってレーザガスの温度を変更している。
熱交換器は、大出力のパルス発振型ガスレーザ装置には備わっていることが多く、新たな構成をつけ加えることなく、容易にガス温度の変更が可能である。
【0009】
また本発明によれば、レーザコントローラは、極大周波数をレーザ光の発振周波数から少なくとも50Hz以上ずらすようにしている。
実験より、極大周波数を50Hz以上ずらせば、衝撃波の影響が低減されることがわかっており、確実にレーザ光のビームプロファイルの乱れを防止できる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照しながら、本発明に係る実施形態を詳細に説明する。
図1は、本実施形態に係るエキシマレーザ装置の構成図を示している。図1において、エキシマレーザ装置11は、フッ素を含むレーザガスを封止したレーザチャンバ12を備えている。レーザチャンバ12の内部には、対向した一対の放電電極14,15と、放電電極14,15間にレーザガスを送り込む貫流ファン24と、放電電極14,15間のパルス放電によって熱せられたレーザガスを冷却する熱交換器13とが設置されている。矢印47は、レーザガスの流れを示している。
【0011】
放電電極14,15のうち、上側のカソード15は、絶縁性のカソードベース36に固定され、カソードベース36はレーザチャンバ12に固定されている。また、下側のアノード14は、レーザチャンバ12に電気的に接続されたアノードベース40上に搭載されている。
図示しない高圧電源から、放電電極14,15間に高電圧を印加し、放電空間37にパルス状のパルス放電を起こすことにより、パルス状のレーザ光(図示せず)を発生させている。このレーザ光は、図1中紙面と垂直に出射し、図示しない露光機等に入射して、露光用光となる。
【0012】
このとき、カソードベース36の下部には、カソード15を取り囲むようにして、ヒダ部42が一体に形成されている。これは、カソード15とレーザチャンバ12との間で沿面放電が起きて、パルス放電が不安定になるのを、防止するためのものである。
【0013】
熱交換器13には、内部を流れる冷媒35を冷却するチラー39が接続されている。チラー39は、レーザコントローラ29の指示に基づいて、冷媒35の設定温度を変更自在となっており、これによってレーザチャンバ12内部のガス温度を制御できる。
また、レーザチャンバ12には、温度センサ38が付設されている。温度センサ38は、レーザコントローラ29と電気的に接続されており、レーザコントローラ29は、温度センサ38の出力信号に基づいて、レーザチャンバ12内部のガス温度Tを計測できるようになっている。
【0014】
従来技術の項で説明したように、放電電極14,15間でパルス放電を起こした際に、放電空間37から衝撃波41が発生する。この衝撃波41が、アノードベース40やカソードベース36等の、放電電極14,15近傍の部品に反射して、放電空間37に戻ってくることにより、放電空間37のレーザガスの密度分布が乱される。
【0015】
このとき、貫流ファン24によって、放電空間37のレーザガスは、常に入れ替わっている。従って、パルス放電の際に、以前に起きたパルス放電によって発生した衝撃波41が放電空間37に届いていなかったり、放電空間37を通り過ぎてから所定時間経過していた場合には、放電空間37のレーザガスの乱れは軽減される。
即ち、衝撃波41の速度Vを、速くするか遅くするかすることにより、パルス放電の際に、以前に発生した衝撃波41が、放電空間37を通過するか、或いは放電空間37にまだ届かないようにすることが可能である。
尚、上記の以前に起きたパルス放電とは、直前のものだけではなく、それよりも前に起きたものも含んでいる。
【0016】
このとき、衝撃波41の速度Vは、ガス温度Tの平方根に略比例することが知られている。従って、ガス温度Tを変えることによって、衝撃波41の速度Vを変え、衝撃波41の戻ってくるタイミングをパルス放電からずらすことが可能である。
その結果、衝撃波41によってビームプロファイルが乱れるのを、防止することができる。
【0017】
尚、衝撃波41は、レーザチャンバ12内部の、放電空間37からの距離がそれぞれ異なる様々な部位で反射するため、様々なタイミングで放電空間37に戻ってくる。そのため、すべての衝撃波41の戻ってくるタイミングを、パルス放電に対してずらすことは困難である。
しかしながら、発明者の実証試験の結果、カソード15とカソードベース36との間に生じた溝や、カソードベース36のヒダ部42内部で反射した衝撃波41が、放電空間37に対して最大の影響を及ぼし、ビームプロファイルが最も大きく乱れることがわかった。これに対して、レーザチャンバ12の内壁等、放電空間37から離れた部位で反射した衝撃波41は、途中で減衰されるために、パルス放電に及ぼす影響は少ない。従って、前記溝やヒダ部42内部で反射した衝撃波41の速度Vを変化させることにより、ビームプロファイルが乱れるのを、防止することができる。
【0018】
図2に、ガス温度Tを変えることによって衝撃波41の速度Vを変化させ、以前に発生し、ビームプロファイル乱れに大きな影響を及ぼす衝撃波41が、パルス放電の際に放電空間37に返ってくるのを防止する手順の一例を、各ステップ番号にSを付したフローチャートで示す。
【0019】
まず予め、さまざまな発振周波数fでエキシマレーザ装置11を発振させ、あるガス温度T0において、どのような発振周波数fの際に、ビームプロファイルが乱れるかを測定する(ステップS11)。
これは、温度センサ38によってガス温度Tを測定し、これが略一定値T0になったところで、レーザ光の発振周波数fを変化させていく。そして、その都度ビームプロファイルを測定して、これが大きく乱れる周波数fを検出することにより、求められる。
【0020】
図3に、あるガス温度T0でエキシマレーザ装置11を運転した場合の、周波数fとビームプロファイルの乱れ具合との関係を示す。横軸が周波数fであり、縦軸が、例えば正常な状態のビームプロファイルに比較した、ビームプロファイルの乱れの大きさを示す指標である。このような指標は、例えばビームプロファイルの強度分布について、正常なビームプロファイルに対する相関を取ることによって求めることができる。
【0021】
図3に示すように、このエキシマレーザ装置11をガス温度T0で運転した場合、周波数f1(T0),f2(T0),f3(T0),f4(T0)……において、最もビームプロファイルの乱れが激しくなっている。このとき、以前のパルス放電で発生した衝撃波41の反射波のうち、パルス放電への影響が大きい成分が、パルス放電時に、ちょうど放電空間37に戻ってくるものと推測できる。これらの周波数f1(T0),f2(T0),f3(T0),f4(T0)……を、極大周波数fn(T0)と呼ぶ。
【0022】
次に、レーザ発振を開始する。(ステップS12)。そして、温度センサ38によって、ガス温度T1を測定し(ステップS13)、このガス温度T1に相当する極大周波数fn(T1)を演算によって求める(ステップS14)。
上述したように、衝撃波41の速度Vは、ガス温度Tの平方根に略比例する。従って、極大周波数fn(T0),fn(T1)もガス温度T0,T1の平方根にそれぞれ略比例するため、次の数式1が成り立つ。
fn(T1)=fn(T0)・(T1/T0)^(1/2) …………(1)
但し、(T1/T0)^(1/2)は、(T1/T0)の平方根を示すものである。
従って、ステップ14において、数式1よりガス温度T1における極大周波数fn(T1)を求めることができる。
【0023】
次に、レーザコントローラ29は、発振周波数fを検出する(ステップS15)。発振周波数fは、例えば図示しない露光機からレーザコントローラ29に指示される場合もあれば、レーザコントローラ29が設定する場合もある。
そして、この発振周波数fを極大周波数fn(T1)と比較し(ステップS16)、発振周波数fが極大周波数fn(T1)に対して、所定値以上離れていれば、ステップS13に戻る。また、ステップS16で、発振周波数fと極大周波数fn(T1)との差が所定値以下であれば、レーザコントローラ29はチラー39に指令を出力して、ガス温度T1をT2に変更する(ステップS17)。
【0024】
実験により、極大周波数fn(T)と発振周波数fとの差が50Hz以上であれば、以前に生じた衝撃波41が、パルス放電の際に放電空間37の乱れが許容範囲内であるということが判明している。従って、ステップS16における所定値は、例えば50Hzとするか、或いは50Hzよりも大きな値とするのがよい。
【0025】
また、ステップS17においては、新しいガス温度T2に対する極大周波数fn(T2)が、発振周波数fに対して、50Hz以上離れるようにする必要がある。
例えば、ガス温度Tが303K(30゜C)の場合に、3500Hzのところに極大周波数fnがあるとする。この場合には、ガス温度Tを311.7K(38.7゜C)にすれば、極大周波数fnを約50Hzシフトさせ、3550Hzとすることができる。これにより、発振周波数を3500Hzにしても、衝撃波41が放電空間37に悪影響を与えることがなく、ビームプロファイルの乱れが少ない。
さらに、ガス温度T2を上昇させるか下降させるかの選択は、温度T1と温度T2との差が、より小さくなるように選択するのがよい。
【0026】
以上説明したように本発明によれば、衝撃波41がビームプロファイルに影響を与えそうな発振周波数fでレーザ発振を行なう場合に、レーザガスのガス温度Tを変更することにより、衝撃波41の影響を低減している。
これにより、衝撃波41の速度が変わるために、パルス放電時に衝撃波41が放電空間37を乱すことが少なく、ビームプロファイルの乱れも少なくなる。
また、従来技術のようにレーザチャンバ12内部に多孔体46を配置する必要がなく、多孔体46から不純物が発生するようなこともない。尚、多孔体46をベーキングするなどして、内部の不純物を充分に除去するならば、多孔体46を設置した上に、本発明のようにガス温度Tを制御することにより、より確実に衝撃波41による放電空間37のレーザガスの乱れを低減させられる。
【0027】
尚、レーザガスのガス温度Tを変化させるガス温度変更手段としては、チラー39を例にとって説明したが、例えばレーザチャンバ12の外側にヒータや冷却器等を接触させ、レーザチャンバ12を介して、レーザガスを熱したり冷やしたりしてもよい。また、チラー39の設定温度ではなく、冷媒35の流量を制御してもよい。
また、上記の説明は、エキシマレーザ装置を例にとって行なったが、フッ素分子レーザ装置等、パルス発振型のガスレーザ装置であれば、同様に応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態に係るエキシマレーザ装置の構成図。
【図2】ガス温度を変える手順の一例を示すフローチャート。
【図3】周波数とビームプロファイルの乱れ具合との関係を示すグラフ。
【図4】従来技術に係わるエキシマレーザ装置の構成図。
【符号の説明】
11:エキシマレーザ装置、12:レーザチャンバ、13:熱交換器、14:アノード、15:カソード、24:貫流ファン、29:レーザコントローラ、35:冷媒、36:カソードベース、37:放電空間、38:温度センサ、39:チラー、40:アノードベース、41:衝撃波、42:ヒダ部、46:多孔体。
Claims (4)
- パルス発振型ガスレーザ装置において、
内部に封止したレーザガスをパルス放電によって励起し、レーザ光を発振させるレーザチャンバ(12)と、
レーザガスのガス温度(T)を検出する温度センサ(38)と、
レーザ光の発振周波数(f)を検出するレーザコントローラ(29)と、
レーザコントローラ(29)の指令に基づいてレーザガスのガス温度(T)を変化させるガス温度変更手段とを備え、
レーザコントローラ(29)は、レーザ発振時のレーザガスのガス温度(T)におけるレーザ光のビームプロファイルが乱れる極大周波数fn(T)を予め測定したレーザガスの所定のガス温度(T0)におけるレーザ光のビームプロファイルが乱れる極大周波数fn(T0)に基づき予測し、
極大周波数fn(T)がレーザ光の発振周波数(f)から所定値以上ずれるようにレーザガスのガス温度(T)を変更することを特徴とする、パルス発振型ガスレーザ装置。 - 請求項1記載のパルス発振型ガスレーザ装置において、
レーザチャンバ(12)内部にレーザガスを冷却する熱交換器(13)を備え、
前記ガス温度変更手段が、熱交換器(13)を流れる冷媒(35)を冷却するチラー(39)であり、
冷媒(35)の温度を変更することによってレーザガスのガス温度(T)を変更することを特徴とする、パルス発振型ガスレーザ装置。 - 請求項1記載のパルス発振型ガスレーザ装置において、
レーザチャンバ(12)内部にレーザガスを冷却する熱交換器(13)を備え、
前記ガス温度変更手段が、熱交換器(13)を流れる冷媒(35)の流量を変更することによってレーザガスのガス温度(T)を変更することを特徴とする、パルス発振型ガスレーザ装置。 - 請求項1〜3のいずれかに記載のパルス発振型ガスレーザ装置において、 レーザコントローラ(29)は、極大周波数fn(T)をレーザ光の発振周波数(f)から少なくとも50Hz以上ずらすようにしたことを特徴とする、パルス発振型ガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001276778A JP4653360B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | パルス発振型ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001276778A JP4653360B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | パルス発振型ガスレーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003086874A JP2003086874A (ja) | 2003-03-20 |
JP4653360B2 true JP4653360B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=19101428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001276778A Expired - Fee Related JP4653360B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | パルス発振型ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4653360B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4798687B2 (ja) | 2004-07-09 | 2011-10-19 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化レーザ装置 |
JP5312567B2 (ja) * | 2011-12-26 | 2013-10-09 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化レーザ装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11317556A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-16 | Cymer Inc | 音波及び衝撃波の妨害を最小にするレ―ザチャンバ |
WO2001056122A1 (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-02 | Cymer, Inc. | Electric discharge laser with acoustic chirp correction |
JP2002043667A (ja) * | 2000-02-09 | 2002-02-08 | Cymer Inc | 能動的波長チャープ補正を用いる電気放電レーザ |
JP2005502208A (ja) * | 2001-08-29 | 2005-01-20 | サイマー, インコーポレイテッド | 線幅選択型2室式レーザシステム |
-
2001
- 2001-09-12 JP JP2001276778A patent/JP4653360B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11317556A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-16 | Cymer Inc | 音波及び衝撃波の妨害を最小にするレ―ザチャンバ |
WO2001056122A1 (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-02 | Cymer, Inc. | Electric discharge laser with acoustic chirp correction |
JP2001308419A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-11-02 | Cymer Inc | 音響チャープ補正を備えた放電レーザ |
JP2002043667A (ja) * | 2000-02-09 | 2002-02-08 | Cymer Inc | 能動的波長チャープ補正を用いる電気放電レーザ |
JP2005502208A (ja) * | 2001-08-29 | 2005-01-20 | サイマー, インコーポレイテッド | 線幅選択型2室式レーザシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003086874A (ja) | 2003-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3971115B2 (ja) | 音響チャープ補正を備えた放電レーザ | |
JP2724993B2 (ja) | レーザ加工装置およびレーザ装置 | |
JPH10125981A (ja) | レーザー | |
TW201438361A (zh) | 雷射加工裝置及雷射加工方法 | |
KR100639585B1 (ko) | 레이저 제어방법, 레이저 장치, 및 이에 이용되는 레이저가공방법, 레이저 가공기 | |
US6516013B1 (en) | Laser beam monitoring apparatus and method | |
JP4653360B2 (ja) | パルス発振型ガスレーザ装置 | |
JP3864287B2 (ja) | レーザ装置 | |
JP4271247B2 (ja) | レーザ装置 | |
JP5995767B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
JP2020188234A (ja) | パルスレーザ発振器の制御装置 | |
JP7203944B2 (ja) | ガスレーザ装置、ガスレーザ装置のレーザ光の出射方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2020098812A (ja) | ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 | |
KR20220109471A (ko) | 광원용 제어 시스템 | |
JP2002223020A (ja) | フッ素分子レーザ装置、及びフッ素露光装置 | |
TWI761828B (zh) | 脈衝雷射振盪器及脈衝雷射輸出方法 | |
Golubev et al. | Stability of the emission from fast-flow gas discharge industrial CO2 lasers | |
JP7228810B2 (ja) | レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置 | |
JP3916734B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
WO2021048947A1 (ja) | レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP7357054B2 (ja) | レーザチャンバ及び電子デバイスの製造方法 | |
JP4204214B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
JP2557691B2 (ja) | 狭帯域発振エキシマレーザ | |
Paetzel et al. | Excimer lasers for superhigh NA 193-nm lithography | |
JP2799710B2 (ja) | エキシマレーザの制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20030331 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20030506 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080612 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100824 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4653360 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |