JP2020098812A - ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 - Google Patents
ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020098812A JP2020098812A JP2018235276A JP2018235276A JP2020098812A JP 2020098812 A JP2020098812 A JP 2020098812A JP 2018235276 A JP2018235276 A JP 2018235276A JP 2018235276 A JP2018235276 A JP 2018235276A JP 2020098812 A JP2020098812 A JP 2020098812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- temperature
- gas
- discharge
- laser gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/0014—Monitoring arrangements not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
レーザガスが循環する循環路の一部の放電領域に放電を生じさせてレーザビームを出力するガスレーザ装置であって、
前記循環路を循環する前記レーザガスを冷却する熱交換器と、
前記熱交換器から前記放電領域に向かう前記レーザガスの温度を測定する温度センサと、
前記温度センサによる温度の測定値に基づいて、前記温度センサの測定値が、30℃以下の目標温度になるように前記熱交換器の冷却能力を制御する制御装置と
を有するガスレーザ装置が提供される。
放電領域を通ってレーザガスを循環させながら、前記放電領域で放電を生じさせてレーザ発振させている間に、前記放電領域に流入する前記レーザガスの温度が30℃以下になるように前記レーザガスの温度を調整するレーザ発振方法が提供される。
図1は、実施例によるガスレーザ装置の光軸を含む断面図である。チェンバ10にレーザガスが収容される。チェンバ10の内部空間が、相対的に上側に位置する光学室11と、相対的に下側に位置するブロワ室12と区分されている。光学室11とブロワ室12とは、上下仕切り板13で仕切られている。なお、上下仕切り板13には、レーザガスを光学室11とブロワ室12との間で流通させる開口が設けられている。ブロワ室12の側壁から光学室11の底板14が光軸方向に張り出しており、光学室11の光軸方向の長さが、ブロワ室12の光軸方向の長さより長くなっている。チェンバ10は、光学室11の底板14においてチェンバ支持部材16により光学ベースに支持される。
CR=v/(W×f)
ここで、vはレーザガスの流速を表し、Wはガス流方向の放電幅を表し、fはパルスの繰り返し周波数を表す。
上記実施例では、レーザガスの放電前温度が30℃以下になるように温度制御を行っている。その結果、ガスレーザ装置を高い効率で動作させることができる(図3参照)。さらに、ビームスポット位置のばらつきを抑制することができる(図4参照)。また、上記実施例では、レーザガスの放電前温度が目標温度を中心として±1℃の範囲に収まるように温度制御を行っている。その結果、ビームスポットの平均位置の変位量を一定の許容範囲内に収めることができる。
制御装置40は、入出力装置41に、発振条件及び温度制御条件をオペレータに入力させるための入力画面を表示する。発振条件には、例えばパルスの繰り返し周波数、パルス幅等が含まれる。温度制御条件には、目標温度、フィードバック周期、フィードバックゲイン等が含まれる。さらに、制御装置40は、レーザガスの現在温度を入出力装置41に表示する。
本実施例では、オペレータがレーザガスの適切な目標温度を入力することにより、ビームスポット位置のばらつきが少なく、かつ高効率な条件でレーザ発振器70を運転することができる。
11 光学室
12 ブロワ室
13 上下仕切り板
13A、13B 開口
14 底板
15 仕切り板
16 チェンバ支持部材
21 放電電極
22、23 放電電極支持部材
24 放電領域
25 共振器ミラー
26 共通支持部材
27 光共振器支持部材
28 光透過窓
30 ブロワ
40 制御装置
41 入出力装置
51 第1ガス流路
52 第2ガス流路
55 温度センサ
56 熱交換器
57 冷却器
58 流出穴
59 フィルタ
70 レーザ発振器
71 ビーム整形走査光学系
72 ステージ
75 加工対象物
Claims (5)
- レーザガスが循環する循環路の一部の放電領域に放電を生じさせてレーザビームを出力するガスレーザ装置であって、
前記循環路を循環する前記レーザガスを冷却する熱交換器と、
前記熱交換器から前記放電領域に向かう前記レーザガスの温度を測定する温度センサと、
前記温度センサによる温度の測定値に基づいて、前記温度センサの測定値が、30℃以下の目標温度になるように前記熱交換器の冷却能力を制御する制御装置と
を有するガスレーザ装置。 - 前記目標温度が14℃以上である請求項1に記載のガスレーザ装置。
- 前記制御装置は、前記温度センサの測定値が、前記目標温度を中心として±1℃の範囲内に収まるように前記熱交換器の冷却能力を制御する請求項1または2に記載のガスレーザ装置。
- さらに、前記目標温度の値を入力する入力装置を有し、
前記制御装置は、前記入力装置に入力された前記目標温度の値に基づいて、前記熱交換器の冷却能力を制御する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガスレーザ装置。 - 放電領域を通ってレーザガスを循環させながら、前記放電領域で放電を生じさせてレーザ発振させている間に、前記放電領域に流入する前記レーザガスの温度が30℃以下になるように前記レーザガスの温度を調整するレーザ発振方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018235276A JP2020098812A (ja) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 |
KR1020190140158A KR20200074851A (ko) | 2018-12-17 | 2019-11-05 | 가스레이저장치 및 레이저발진방법 |
TW108140194A TW202038523A (zh) | 2018-12-17 | 2019-11-06 | 氣體雷射裝置及雷射振盪方法 |
CN201911087506.XA CN111326942A (zh) | 2018-12-17 | 2019-11-08 | 气体激光装置及激光振荡方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018235276A JP2020098812A (ja) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020098812A true JP2020098812A (ja) | 2020-06-25 |
Family
ID=71106137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018235276A Pending JP2020098812A (ja) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020098812A (ja) |
KR (1) | KR20200074851A (ja) |
CN (1) | CN111326942A (ja) |
TW (1) | TW202038523A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117791288B (zh) * | 2024-02-27 | 2024-05-07 | 深圳市智鼎自动化技术有限公司 | 一种稳定激光光路能量和指向的方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154188A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ装置 |
JPS61229383A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | ガス流動形レ−ザ発振器 |
JPS63172481A (ja) * | 1987-01-10 | 1988-07-16 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPH0369262U (ja) * | 1989-11-10 | 1991-07-09 | ||
US5065405A (en) * | 1990-01-24 | 1991-11-12 | Synrad, Incorporated | Sealed-off, RF-excited gas lasers and method for their manufacture |
JPH09122946A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-13 | Hitachi Cable Ltd | 炭酸ガスレーザ光を用いた基板の加工方法およびその加工装置 |
JP2005251855A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Fanuc Ltd | レーザ装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6145122B2 (ja) * | 2015-02-27 | 2017-06-07 | ファナック株式会社 | 温度調整が可能なガスレーザ発振器 |
-
2018
- 2018-12-17 JP JP2018235276A patent/JP2020098812A/ja active Pending
-
2019
- 2019-11-05 KR KR1020190140158A patent/KR20200074851A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-11-06 TW TW108140194A patent/TW202038523A/zh unknown
- 2019-11-08 CN CN201911087506.XA patent/CN111326942A/zh active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154188A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ装置 |
JPS61229383A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | ガス流動形レ−ザ発振器 |
JPS63172481A (ja) * | 1987-01-10 | 1988-07-16 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
JPH0369262U (ja) * | 1989-11-10 | 1991-07-09 | ||
US5065405A (en) * | 1990-01-24 | 1991-11-12 | Synrad, Incorporated | Sealed-off, RF-excited gas lasers and method for their manufacture |
JPH09122946A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-13 | Hitachi Cable Ltd | 炭酸ガスレーザ光を用いた基板の加工方法およびその加工装置 |
JP2005251855A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Fanuc Ltd | レーザ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111326942A (zh) | 2020-06-23 |
KR20200074851A (ko) | 2020-06-25 |
TW202038523A (zh) | 2020-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5729107B2 (ja) | レーザ発振器制御装置 | |
JP2020098812A (ja) | ガスレーザ装置及びレーザ発振方法 | |
KR101617080B1 (ko) | 레이저 가공장치 및 레이저 가공방법 | |
US9583909B2 (en) | Temperature controllable gas laser oscillator | |
JP4072544B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
JP5995767B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
KR101449824B1 (ko) | 가스 레이저 및 그 작동 방법 | |
JP2020188234A (ja) | パルスレーザ発振器の制御装置 | |
JP5401374B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP2800593B2 (ja) | レーザ発振器 | |
JP2001332793A (ja) | レーザ装置 | |
JP2010212572A (ja) | ガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機 | |
JP2010212557A (ja) | ガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機 | |
TWI761828B (zh) | 脈衝雷射振盪器及脈衝雷射輸出方法 | |
TW202203529A (zh) | 光圈及雷射振盪器 | |
JP3564845B2 (ja) | レーザ光の減衰装置 | |
JPH11274614A (ja) | レーザ共振器のビーム軸ずれ検出装置およびビーム軸位置制御装置 | |
JPH1168213A (ja) | Qスイッチco2レーザ装置 | |
JP2562367B2 (ja) | レーザ発振装置 | |
KR102088116B1 (ko) | 열전달 모델 예측 기법 기반의 전자 현미경 및 그 제어 방법 | |
JPH05102554A (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
JP2022059993A (ja) | レーザ制御装置、パルスレーザビーム出力方法、及びプログラム | |
JPH05138380A (ja) | レーザ穴あけ方法及び装置 | |
JP2020038299A (ja) | 投射表示装置 | |
JP2004288874A (ja) | パルス発振型ガスレーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210826 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220714 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220906 |