JP3564845B2 - レーザ光の減衰装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、色素が溶解された減衰媒体中にレーザ光を透過させ、減衰媒体中の色素にレーザ光を吸収させてレーザ光を減衰させる減衰方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、超400W級の高出力YAGレーザ装置において、出力を0〜数W程度の低出力域に設定しようとすると、その出力がレーザ発振器の最低保障出力をはずれる結果、出力変動が非常に大きくなる場合があり、場合によってはレーザ光の発振が停止することもある。この状態でレーザ加工等を実施すると、安定した加工結果が得られず、特に微細加工は困難であった。
これを解決するために、2つの方法が知られている。その第一の方法は、出力が安定している高出力領域にレーザ出力を設定しておき、ND(ニュートラルデンシティ)フィルタ等の減衰フィルタ等でレーザ光の一部を吸収し、所定の出力レベルまで減衰させることによって、レーザ出力の変動率を低減させるという方法である。
また第二の方法は、ワイヤスクリーンを用いてレーザ光を回折、反射させて減衰させると共に、加熱されたハウジング及びスクリーンをガスを用いて空冷するという方法である(USP4561721)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の第一の方法では、高出力のレーザ光を吸収する時点で、減衰フィルタ自体が高温に加熱され、短時間で変形して機能が低下するという問題がある。
第二の方法では、ハウジング及びスクリーンの冷却方法が空冷であるため、高出力で長時間使用する場合には、冷却効果が低く、温度上昇により機器に悪影響を与えるという問題がある。
【0004】
従って、本発明の目的は、上記課題に鑑み、十分な冷却機能を有し、長時間の使用時においても加熱による機器の変形を生じることがなく、高出力のレーザ発振器から任意の低出力のレーザ光を安定して得ることができるようにすることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の手段によれば、水冷室の入射部及び出射部に、レーザ光を透過し外気を遮断する外気遮蔽体を設ける。そして色素が溶解した液状の減衰媒体を、外気遮蔽体に直接接して水冷室内に充填する。この減衰媒体を水冷室内と外部との間を循環手段を用いて循環させ、冷却手段にて減衰媒体の有する熱を吸熱する。この際、水冷室の入射部及び出射部に配された外気遮蔽体近傍にそれぞれ配管アタッチメントが設けられ、当該配管アタッチメントを通して減衰媒体が循環される。
これによりレーザ光を減衰媒体中に溶解された色素を用いて減衰させることができる。またレーザ光の吸収により加熱した色素を冷却手段によって冷却することで、減衰媒体の温度上昇によるレーザ光の減衰量の変動を防止することができる。さらに、液状の減衰媒体を用いた構成であるため、外気遮蔽体等を効果的に冷却でき、長時間の使用に十分に耐えれる減衰装置とすることができる。また、外気遮蔽体近傍にそれぞれ配管アタッチメントが設けられ、減衰媒体が外気遮蔽体表面近傍を循環して流れるため、外気遮蔽体も効果的に冷却でき、外気遮蔽体の損傷も防止することが可能である。
【0007】
請求項2に記載の手段によれば、外気遮蔽体にレーザ光に対して透明なガラスまたはフィルタを用いることで、レーザ光の透過及び外気の遮蔽を容易に行うことができる。
【0008】
請求項3に記載の手段によれば、透過長可変機構を用いて水冷室の入射部から出射部までの長さを変化させる。これにより、水冷室の入射部から出射部までの長さを調節することで、色素溶液内を透過するレーザ光の透過長さを調整できるため、レーザ光の減衰量を無段階に任意に設定することができる。
【0009】
請求項4に記載の手段によれば、駆動手段を用いて透過長可変機構を駆動することにより、水冷室の入射部から出射部までの長さを容易に調整することができ、レーザ光の減衰量の設定を容易に行うことができる。
【0010】
請求項5に記載の手段によれば、検出手段にて出射部から出力されたレーザ光の出力レベルを検出し、制御手段にて検出手段からの検出信号を入力し、その検出信号が所定の出力レベルとなるように駆動手段を駆動して、水冷室の入射部から出射部までの長さを制御する。これにより、レーザ光の減衰量を自動的に任意の値に設定することができる。
【0011】
請求項6に記載の手段によれば、減衰媒体中に溶解された色素の量を変化させることで、減衰媒体中の色素濃度を変化させ、減衰媒体中を透過するレーザ光の減衰量を任意に設定することができる。
【0012】
請求項7に記載の手段によれば、減衰媒体中に溶解された色素の種類を変化させることで、レーザ光の波長を吸収しやすい色素から吸収しにくい色素まで変化させ、レーザ光の減衰量を任意に設定することができる。
【0013】
請求項8に記載の手段によれば、減衰媒体中に溶解された1種類または複数種類の色素を選択することで、不要な波長を吸収させ、必要な波長のレーザ光だけを透過させることで、レーザ光の波長を任意に設定することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
(第一実施例)
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。
図1は、本発明に係わるレーザ光減衰装置100の全体構成を示した模式的構造図である。レーザ光減衰装置100は、レーザ発振器10から出力されたレーザ光Lを透明ガラス3bから入射し、水冷室50内に充填された色素溶液16中の色素でレーザ光Lを吸収して減衰させ、透明ガラス3aから減衰されたレーザ光L1を出力する装置である。そして減衰されたレーザ光L1を半反射鏡12を透過させて加工等に用いる構成としている。
【0015】
レーザ光減衰装置100の水冷室50は、主として筒状の減衰ハウジング1及び伸縮ハウジング2から構成されている。
減衰ハウジング1のレーザ発振器10側の開口部にはOリング31cを介して透明ガラス3bが配されている。この透明ガラス3bは、入射部の外気遮蔽体に相当し、レンズホルダ30bにて外側より押さえられている。これにより減衰ハウジング1のレーザ発振器10側の開口部はOリング31cによって十分に気密が保持されている。
減衰ハウジング1の内側には、その他方の開口部から伸縮ハウジング2が挿入されている。伸縮ハウジング2は減衰ハウジング1に対して軸方向(図中のx軸方向)にスライド可能に設けられており、複数(図では3個)のOリング31bにより伸縮ハウジング2の外側面2bと減衰ハウジング1の内側面1aとの気密が保持されている。この減衰ハウジング1に対する伸縮ハウジング2のスライド機構が透過長可変機構に相当する。
【0016】
伸縮ハウジング2は、半反射鏡12側の開口部にはOリング31aを介して透明ガラス3aが配されている。この透明ガラス3aは、出射部の外気遮蔽体に相当し、外側よりガラスホルダ30aにて押さえられている。これにより伸縮ハウジング2の半反射鏡12側の開口部は、Oリング31aによって十分に気密が保持されている。また伸縮ハウジング2の他方の開口部は、開放状態としている。このようにして減衰ハウジング1及び伸縮ハウジング2の内部に水冷室50が構成されており、この水冷室50内に色素が溶解された減衰媒体としての色素溶液16が透明ガラス3a、3bに直接接触するように充填されている。
尚、減衰ハウジング1及び伸縮ハウジング2の周辺の拡大断面図及び左側面図は、それぞれ図2及び図3に示した構成となっている。
【0017】
減衰ハウジング1の透明ガラス3b近傍の下部には配管アタッチメント7bが設けられている。また伸縮ハウジング2の透明ガラス3a近傍の上部には配管アタッチメント7aが設けられている。配管アタッチメント7a、7bのそれぞれには配管19a、19bが接続されている。
タンク15内には色素溶液16が注入されており、配管19a、19bのそれぞれの端部が色素溶液16の表面より深く位置している。配管19b上には循環手段としてのポンプ14が挿設されており、ポンプ14の作用により水冷室50の透明ガラス3a付近から色素溶液16が取り出され、水冷室50の透明ガラス3b付近に色素溶液16が吐出される。
タンク15の下側に接触して冷却器17が設けられ、タンク15内の色素溶液16を冷却する。この冷却器17は恒温装置18により色素溶液16の温度が所定の温度に保持されるように作用するものであり、凝縮器、ファン、蒸発器、冷媒、及び圧縮器等を用いた通常の冷媒を用いた冷却方式でもよく、放熱フィンとファンを備えた空冷式でもよい。尚、冷却器17の取付け位置は、タンク15の下側に限定されるものではない。
【0018】
減衰ハウジング1の外側面上には調整ロッド5aを備えたリニアモーションモータ5が設けられている。このリニアモーションモータ5は駆動手段に相当し、ボルト32dにて取付けアングル6に固定されている。そして取付けアングル6がボルト32aにて減衰ハウジング1に固定されることにより、リニアモーションモータ5が減衰ハウジング1に固定される。
伸縮ハウジング2の外側面上に設けられたフランジ部2aには、ボルト32bにて取付けフランジ4が固定されている。この取付けフランジ4に調整ロッド5aがセットビス32cにより固定されている。
これによりリニアモーションモータ5が回転すると調整ロッド5aが変位し、取付けフランジ4、フランジ部2aを介して伸縮ハウジング2が軸方向(図中のx軸方向)に変位し、透明ガラス3aと3bとの間の長さ(透過長)が変化する。
【0019】
伸縮ハウジング2の透明ガラス3a側には半反射鏡12が配されている。また半反射鏡12にて反射されたレーザ光L1のパワーレベルを測定するためのパワーメータ13が配されている。このパワーメータ13は検出手段に相当する。
パワーメータ13にて検出されたレーザ光L1の検出信号を入力し、所定のレーザパワーを得るべく透明ガラス3aと3bとの間の長さを調整するために、リニアモーションモータ5の駆動を制御する制御回路11が設けられている。この制御回路11は、モータ5の制御に加えてレーザ発振器10の出力レベルの制御も行うものであり、制御手段に相当する。
【0020】
次に、上記構成から成るレーザ光減衰装置100の作用について説明する。
レーザ発振器10から出力されるレーザ光Lは、透明ガラス3bから入射し、減衰ハウジング1及び伸縮ハウジング2内の色素溶液16中を透過する。このときレーザ光Lは色素溶液16中の色素に吸収されるために次第に減衰し、透明ガラス3aから出力される時には、減衰したレーザ光L1となっている。
一方色素溶液16は、ポンプ14の作用により配管19b、配管アタッチメント7b、減衰ハウジング1、伸縮ハウジング2、配管アタッチメント7a、配管19aの順に流れて循環している。また色素溶液16はタンク15内にある時に、冷却器17及び恒温装置18により所定の温度に冷却保持されている。
【0021】
レーザ光L1は半反射鏡12にて透過、反射され、反射されたレーザ光L1のパワーレベルをパワーメータ13にて検出する。そしてパワーメータ13の検出信号に基づいて所定のパワーレベルとなるように制御回路11でリニアモーションモータ5またはレーザ発振器10を制御する。一例として図4に制御回路11の処理手順をフローチャートとして示す。
まず図示しない操作盤等を用いて減衰されたレーザ光L1のパワーレベルを設定値Mに設定する(ステップ110)。
次にレーザ発振器10から出力されるレーザ光Lのパワーレベルを設定値Mに対応するレベルに制御する(ステップ120)。
続いてパワーメータ13が検出したレーザ光L1のパワーレベルVを入力し(ステップ130)、設定値Mとの差Eを算出する(ステップ140)。
【0022】
この算出値Eを用いて例えば比例積分制御により制御量Iを演算し(ステップ150)、制御量Iに応じてリニアモーションモータ5を駆動させる(ステップ160)。即ちレーザ光L1のパワーレベルVが設定値Mより大きい場合は、透明ガラス3a、3b間が長くなるように(レーザ光Lの透過長が大きくなるように)リニアモーションモータ5を駆動させ、レーザ光L1のパワーレベルVが小さくなるように制御して設定値Mに近づける。またレーザ光L1のパワーレベルVが設定値Mより小さい場合は、透明ガラス3a、3b間が短くなるように(レーザ光Lの透過長が小さくなるように)リニアモーションモータ5を駆動させ、レーザ光L1のパワーレベルVが大きくなるように制御して設定値Mに近づける。
そして設定値Mに変更があるか否かを判定し(ステップ170)、設定値Mに変更がないときはステップ130に戻り、設定値Mに変更のあるときはステップ110に戻る。このようにして透明ガラス3aから出力されるレーザ光L1のパワーレベルVが所定の設定値Mに制御される。
【0023】
従来は、1〜数枚のNDフィルタを組み合わせて減衰量を決定するために、定められた減衰量の範囲内でしか減衰量が設定できず、また段階的な減衰量の設定しかできなかったが、減衰装置100を本実施例に示される構成とすることにより、色素溶液16中の色素にレーザ光Lを吸収させ、モータ5、パワーメータ13、及び制御回路11を用いて、透明ガラス3a、3b間の長さを変化させて自動的に任意の減衰量を設定することができる。
また、NDフィルタを用いた構成では、レーザ光を吸収する際の発熱を抑制することができず、機器の損傷を生じるために短時間に限定された加工を行っていたが、本実施例では長時間の使用に耐えることができる。即ち、冷却器17及び恒温装置18を用いて色素溶液16を所定温度に冷却保持し、ポンプ14にて色素溶液16をタンク15内とハウジング1、2内との間を循環させることにより、ハウジング1、2及び色素溶液16の温度上昇を抑えることができるため、機器の損傷を生じることなく、長時間の使用に耐えることができる。特に、配管アタッチメント7a、7bがそれぞれ透明ガラス3a、3bの近傍に設けることで、ポンプ14によって吐出された色素溶液16が透明ガラス3a、3bの表面近傍を循環して流れるため、透明ガラス3a、3bも効果的に冷却でき、透明ガラス3a、3bの損傷も防止することが可能である。
さらに色素溶液16が所定温度に保持されるため、色素溶液16の温度上昇によるレーザ光Lの減衰量の変動を小さくすることができる。
【0024】
例えば、従来の方法では、レーザ光の減衰量を1/20に設定し、レーザ光の入射側より透過率50%、50%、20%の順に3枚の減衰フィルタを配置した場合、レーザ出力10Wにて30秒間照射しただけで機器が変形していた。また減衰フィルタが変形しない領域では、レーザ出力の減衰量も非常に小さいという問題があった。
しかし本実施例では、純水5リットルに対してニュートラルレッド(和光純薬工業製、C15H17ClN4)から成る色素を35グラム溶かして色素溶液16とし、透過長(透明ガラス3a、3b間の長さ)を60mmに設定し、レーザ発振器10の出力を80Wにして5分以上連続照射した場合であっても、減衰後の出力が4W±2%とごく微小な変動に収まると共に、機器の損傷を生じなかった。
同様に1Wのレーザ出力を得たい場合には、レーザ発振器10の出力を20Wに設定し、他の条件を同一にすることで、安定した1Wの出力を得ることができた。尚、この場合には透明ガラス3a、3bなどによる損失があるため、レーザ発振器10の設定値を20Wより若干高くオフセットするか、透過長を減少させる必要がある。
またレーザ光Lの減衰量を大きくとることによって、レーザ発振器10の保証最低出力以下の出力においても、安定したレーザ出力を得ることができる。
【0025】
なお、色素溶液16を循環する方向は、上記に限定されるものではなく、逆方向に循環しても問題はない。またポンプ14の位置は配管19bの間に限定されるものではないが、ハウジング1内への色素溶液16を注入する際に色素溶液16の拡散による気泡の発生により透明ガラス3a、3bに気泡が付着してレーザ光の透過を遮断することがあるため、ポンプ14の吐出量等を考慮する必要がある。
上記実施例では透明ガラス3a、3b間の長さを変化させることで、レーザ光L1を変化させる構成としたが、色素溶液16の色素濃度や色素の種類を変化させて、レーザ光の減衰量を変化させてもよく、またこれらを複合的に変化させる構成としてもよい。
【0026】
(第二実施例)
上記の実施例では色素としてニュートラルレッドのみを用いた構成としたが、本実施例の特徴は、色素溶液中の色素を複数種類で構成し、レーザ光の特定の波長のみを透過させる構成とした点である。
図5は色素溶液中の色素を複数種類(図では2種類)の色素D1、D2で構成したときに、色素溶液を透過したレーザ光の波長を模式的に示した図である。図5(a)は、色素溶液を透過する前のレーザ光のスペクトル分布を模式的に示した図である。また図5(b)は、色素D1、D2の波長と吸収係数との関係を示した模式図である。このような特性を有する色素D1、D2を純水中に溶解させて色素溶液とし、この色素溶液に図5(a)に示されるスペクトル分布を有するレーザ光を透過させると、色素D1、D2の吸収係数の大きい波長領域内にある波長は、色素D1、D2に吸収される。従ってレーザ光は、色素D1、D2の吸収係数が小さい波長領域だけが色素溶液を透過することができる。色素溶液を透過した後のレーザ光のスペクトル分布を図5(c)に模式的に示す。図5(c)に示されるように色素溶液中に複数の色素を溶解させ、その色素溶液にレーザ光を透過させることにより、特定の波長のみを透過させることができる。
このようにしてレーザ光の減衰量を任意に設定してもよい。
【0027】
上記に示されるように、本発明によれば、入射部と出射部との間の長さ、色素溶液中の色素量、色素の種類等を変化させることで、レーザ光を所定のパワーレベルに容易に設定することができる。また制御回路を用いて、減衰されたレーザ光のパワーレベルが所定のレベルになるように、リニアモーションモータを駆動させて入射部と出射部との間の長さを変化させることでレーザ光を自動的に所定のパワーレベルに設定することができる。さらに色素溶液を冷却して循環させることで、加熱による機器の損傷を防止でき、長時間の使用が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる第一実施例の構成を示した模式的構造図。
【図2】本発明に係わる第一実施例の水冷室周辺の構成を示した模式的拡大断面図。
【図3】本発明に係わる第一実施例の水冷室周辺の構成を示した左側面図。
【図4】本発明に係わる第一実施例の制御回路の処理手順を示したフローチャート。
【図5】本発明に係わる第二実施例において色素溶液中の色素を複数種類で構成することによって、色素溶液を透過したレーザ光の波長が特定されることを示した説明図。
【符号の説明】
1 減衰ハウジング
2 伸縮ハウジング
3a、3b 透明ガラス
4 取付けフランジ
5 リニアモーションモータ
6 取付けアングル
7a、7b 配管アタッチメント
10 レーザ発振器
11 制御回路
12 半反射鏡
13 パワーメータ
14 ポンプ
15 タンク
16 色素溶液
17 冷却器
18 恒温装置
19a、19b 配管
100 レーザ光減衰装置
L レーザ光
L1 減衰後のレーザ光
Claims (8)
- レーザ発振器から出力されるレーザ光を入射部より導入し、減衰媒体中を透過させ、出射部より減衰して出力するレーザ光の減衰装置であって、
前記入射部及び出射部に、前記レーザ光を透過し外気を遮断する外気遮蔽体が配された水冷室と、
前記外気遮蔽体に直接接して前記水冷室内に充填され、前記レーザ光を吸収する色素が溶解された液状の前記減衰媒体と、
前記減衰媒体を前記水冷室内と外部との間を循環させる循環手段と、
前記減衰媒体の有する熱を吸熱する冷却手段と
を備え、
前記水冷室の前記入射部及び出射部に配された外気遮蔽体近傍にそれぞれ配管アタッチメントが設けられ、当該配管アタッチメントを通して前記減衰媒体が循環されること
を特徴とするレーザ光の減衰装置。 - 前記外気遮蔽体は、前記レーザ光に対して透明なガラスまたはフィルタであること
を特徴とする請求項1に記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記水冷室は、前記入射部から前記出射部までの長さを変化させる透過長可変機構を備え、
前記入射部から前記出射部までの長さを調節することにより前記レーザ光の減衰量を変化できること
を特徴とする請求項1または2に記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記透過長可変機構を駆動する駆動手段を備え、
前記駆動手段を介して前記透過長可変機構を駆動させることにより、前記入射部から前記出射部までの長さを変化させ、前記レーザ光の減衰量を変化できること
を特徴とする請求項3に記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記出射部から出力された前記レーザ光の出力レベルを検出する検出手段と、
前記検出手段からの検出信号を入力し、該検出信号が所定の出力レベルとなるように前記駆動手段を駆動し、前記入射部から前記出射部までの長さを制御する制御手段と
を備えたことを特徴とする請求項4に記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記色素の量を変化させることにより、前記レーザ光の減衰量を変化できること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記色素の種類を変化させることにより、前記レーザ光の減衰量を変化できること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のレーザ光の減衰装置。 - 前記色素を1種類選択し、または複数種類組み合わせることにより、前記レーザ光の波長を選択できること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のレーザ光の減衰装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2585196A JP3564845B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | レーザ光の減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2585196A JP3564845B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | レーザ光の減衰装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09197301A JPH09197301A (ja) | 1997-07-31 |
JP3564845B2 true JP3564845B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=12177348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2585196A Expired - Fee Related JP3564845B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-01-19 | レーザ光の減衰装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3564845B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070085429A (ko) * | 2004-10-25 | 2007-08-27 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 그 용도, 및 광학 필터에 사용되는 포르피린화합물 |
JP2011022524A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-03 | Hitachi Consumer Electronics Co Ltd | 投射型映像表示装置 |
RU2608933C2 (ru) * | 2015-04-06 | 2017-01-26 | Максим Яковлевич Афанасьев | Устройство для поглощения излучения оптического диапазона длин волн |
-
1996
- 1996-01-19 JP JP2585196A patent/JP3564845B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09197301A (ja) | 1997-07-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040113 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040311 |
|
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