JP2001168432A - 紫外線を放出するガスレーザ装置 - Google Patents
紫外線を放出するガスレーザ装置Info
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 12
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 60
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0977—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser having auxiliary ionisation means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0384—Auxiliary electrodes, e.g. for pre-ionisation or triggering, or particular adaptations therefor
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- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
中の放電回路ループの断面積を小さくしてそのインダク
タンスをより小さくし、レーザ発振効率を向上させる。 【解決手段】 封入されたレーザガスを内部で循環させ
る循環手段を有するレーザチェンバ1と、レーザチェン
バ1内に所定間隔離間して配置された一対の主放電電極
3、4と、主放電電極3、4に並列に接続されたピーキ
ングコンデンサC 3 とからなる放電回路と、誘電体8を
介して第1電極9と第2電極7が対向配置されてなる予
備電離手段15とを有し、予備電離手段15が一方の主
放電電極4に沿うようにその両側に近接して配置されて
なる紫外線を放出するガスレーザ装置において、一方の
主放電電極4とピーキングコンデンサC3 とが、一方の
主放電電極4と予備電離手段15との間を通る通電部材
25により接続されている。
Description
ガスレーザ装置に関し、特に、発振効率が高いエキシマ
レーザ装置等の紫外線を放出するガスレーザ装置に関す
るものである。
れ、投影露光装置においては解像力の向上が要請されて
いる。このため、露光用光源から放出される露光光の短
波長化が進められており、次世代の半導体露光用光源と
してArFエキシマレーザ装置及びフッ素レーザ装置等
の紫外線を放出するガスレーザ装置が有力である。
ッ素(F2 )ガス、アルゴン(Ar)ガス及びバッファ
ーガスとしてのネオン(Ne)等の希ガスからなる混合
ガス、また、フッ素レーザ装置においては、フッ素(F
2 )ガス及びバッファーガスとしてのヘリウム(He)
等の希ガスからなる混合ガスであるレーザガスが数10
0kPaでレーザチェンバ内に封入され、そのレーザチ
ェンバ内部に所定間隔離間して対向配置された一対の主
放電電極が設けられている。レーザチェンバの内部でこ
の主放電用電極で放電を発生されることにより、レーザ
媒質であるレーザガスが励起される。
電電極間で一様な放電を発生させることが必要である
が、数100kPaという高圧ガス雰囲気で一様な放電
を発生させるためには、通常、主放電開始前に主放電電
極間の放電空間に存在するレーザガスを予備電離するこ
とが一般的である。
の手段の一つとして、誘電体を介して2つの電極が対向
配置されている予備電離方式がある。その予備電離部の
例が、特開平5−327070号、特許第2,794,
792号、特開平10−242553号、特表平8−5
02145号等に記載されている。何れに記載の予備電
離部も、誘電体で形成される筒体の外部表面と接触する
第1の電極(以下、外電極と呼称する。)と、上記筒体
内部に挿入されている第2の電極(以下、内電極と呼称
する。)とを備えた構成であり、上記外電極と内電極と
の間に電位差を発生させることにより、外電極と誘電体
筒体との間でコロナ放電を発生させ、このとき発生した
紫外光により、上記した主放電電極間の放電空間に存在
するレーザガスを予備電離するものである。なお、上記
予備電離手段においては、他に、誘電体筒体と外電極と
が接触せず、近接している場合や、外電極も誘電体物質
で覆われている場合もある。
放出するガスレーザ装置(以下、単にガスレーザ装置と
する。)の励起回路の構成例を図5に示す。この励起回
路においては、IGBTのような固体スイッチSWを用
いて容量移行型回路と呼ばれる回路構成になっている。
この回路図に従って簡単に動作を説明すると、スイッチ
SWが開いた状態においては、高圧電源HVからの電荷
がコンデンサC1 に溜められる。コンデンサC1 に電荷
が溜まった状態でスイッチSWを閉じると、コンデンサ
C1 の電荷はコンデンサC2 に移行する。コンデンサC
2 に移行した電荷は、磁気スイッチあるいは過飽和イン
ダクタンスと呼ばれる非線形インダクタンスLm を経て
ピーキングコンデンサC3 に移行する。この際、磁気ス
イッチL m の作用により印加電圧のパルス幅が圧縮され
る。なお、磁気スイッチLm の作用は、コンデンサC1
の電荷がコンデンサC2 に移行する間はインダクタンス
が大きく、その磁束密度が大きく飽和するとインダクタ
ンスが急激に減少するもので、効率良くコンデンサC2
の電荷をピーキングコンデンサC3 に移行させる。ピー
キングコンデンサC3 の電圧が高くなり、放電破壊電圧
に達すると、レーザチェンバ1内に対向配置された主放
電電極3と4の間にパルス放電が生じ、レーザガスの励
起が行われる。すなわち、この放電により、図5の太線
で示した放電回路ループを電流が流れる。
とC12、及び、インダクタンスL0からなる分圧回路が
接続されており、後述する図6に示すように、主放電電
極3と4の間に加わるパルス電圧を分圧してその25%
〜75%の範囲に降圧して、主放電電極3、4間の主放
電空間の上流側と下流側に近接して配置されたコロナ予
備電離部15の内電極7と外電極9の間にコロナ放電の
ための電圧を印加するようになっている。この分圧回路
中の分圧比、コンデンサC11、C12の容量、インダクタ
ンスL0 の値を最適に選択して時定数を所望の値にし
て、主放電に対するコロナ予備放電のタイミングを調整
する。この分圧回路の合成容量はピーキングコンデンサ
C3 の10%以下に調整される。
プが作るインダクタンスが低い程、レーザの発振効率が
向上することが知られている(前田三男編「エキシマレ
ーザ」第64〜65頁、(株)学会出版センター 19
83年8月20日 初版)。
プの実際の構成例を図6に示す。図6は、ガズレーザ装
置の要部のレーザ発振方向に垂直な断面図であり、図5
と同じ符号を付した構成要素は図5に示した構成要素に
対応している。
部壁に放電空間の長手に沿うように絶縁ベース21が気
密に嵌め込まれ、そのレーザチェンバ1内側中央に他方
の主電極(例えばカソード)3が取り付けられ、絶縁ベ
ース21を貫通して電流導入部材23により高圧電源1
0に接続されている。ここで、高圧電源10は、図5の
ピーキングコンデンサC3 より左側の非線形インダクタ
ンスLm を含む回路部分に対応する。レーザチェンバ1
内において主電極3の両側に沿うように一対の通電部材
25が略平行に絶縁ベース21に取り付けられており、
通電部材25先端間には導電性ベース26が張り渡され
ており、その中央であって上部の主電極3に対向する位
置に一方の主電極4(例えばアノード)が取り付けられ
ている。そして、レーザチェンバ1外部には、電流導入
部材23両側に並列接続の多数のコンデンサからなるピ
ーキングコンデンサC3 が接続され、そのピーキングコ
ンデンサC3 は絶縁ベース21を貫通している電流導入
部材24を介して通電部材25に接続されている。ま
た、導電性ベース26の上部の矢印で示したレーザガス
流2の上流側と下流側であって、主電極3、4間の主放
電空間を見込む位置には、誘電体筒体8を介して外電極
9と内電極7が対向配置されてなる予備電離部15が配
置され、外電極9は導電性ベース26に直接接続されて
おり、内電極7は図示しない端子を介して、高圧電源1
0のコンデンサC11とC12の間に接続されている。
れた部分が図5に関して説明した放電回路ループであ
り、絶縁ベース21を貫通した電流導入部材23、電流
導入部材23に接続されている主電極3、主電極4、主
電極4が設置されている導電性ベース26、導電性ベー
ス26に接続されている通電部材25、通電部材25と
接続され、絶縁ベース21を貫通した電流導入部材2
4、電流導入部材24と電流導入部材23とが接続され
たピーキングコンデンサC3 から構成されている。
るインダクタンスが低い程、レーザの発振効率が向上す
る。このインダクタンスは放電回路ループの断面積(図
6の断面の面積)に比例するので、この断面積ができる
だけ小さくなるよう構成する必要がある。すなわち、図
6の一点鎖線に囲まれた電流導入部材23、主電極3、
主電極4、導電性ベース26、通電部材25、電流導入
部材24、ピーキングコンデンサC3 で囲まれる空間の
断面積が小さくなるように構成する必要がある。
3、ピーキングコンデンサC3 と、通常接地されている
レーザチェンバ1とは、電位差が20〜30kV程度と
大きく、これらの距離が近すぎると絶縁破壊が生じる。
したがって、絶縁ベース21の大きさを余り小さくでき
ない。
レーザ光の大きさを規定するが、レーザ光の大きさは用
途に応じてある程度限定され、例えば半導体露光用Ar
Fエキシマレーザの場合は15〜18mmとなるので、
むやみに短くできない。
極4の両側に予備電離部15を配置するので、余り小さ
くできない。
4を繋ぐ通電部材25の位置を予備電離部15側に近づ
ければ、上記放電回路ループの断面積を小さくすること
ができる。しかし、通電部材25は予備電離部15を形
成する外電極9と同電位であるので、通電部材25を予
備電離部15に近づけすぎると、通電部材25が外電極
9と同様に作用することになる。すると、コロナ放電が
主電極3、4間の放電空間と反対側でも発生し、このコ
ロナ放電によって生じる紫外線が放電空間に達しないこ
とになり、放電空間に存在するレーザガスの予備電離に
寄与しない。すなわち、外電極9と誘電体筒体8との間
で発生するコロナ放電への供給エネルギーが上記した余
分なコロナ放電により少なくなり、予備電離が不十分と
なる恐れが生じる。
も、Applied PhysicsB 63巻,1〜
7頁や、特開平3−283785号等に記載されている
ように、通電部材が一対の予備電離用電極の外側(電極
とは反対側)に位置し、かつ、予備電離電極に近づけす
ぎると、予備電離電極の高電圧側との間で放電破壊が発
生するため、余り近づけることができないので、放電回
路ループの断面積を小さくすることはできない。
装置の場合、図6の放電回路ループが作るインダクタン
スは最小で10nHであった。
決するためになされたものであり、その目的は、紫外線
を放出するガスレーザ装置の励起回路中の放電回路ルー
プの断面積を小さくしてそのインダクタンスをより小さ
くし、レーザ発振効率等の特性を向上させることであ
る。
明の紫外線を放出するガスレーザ装置は、レーザガスが
封入され、このレーザガスを内部で循環させる循環手段
を有するレーザチェンバと、このレーザチェンバ内に所
定間隔離間して配置された一対の主放電電極と、この一
対の主放電電極に並列に接続されたピーキングコンデン
サとからなる放電回路と、誘電体を介して第1電極と第
2電極が対向配置されてなる予備電離手段とを有し、こ
の予備電離手段が一方の主放電電極に沿うようにその両
側に近接して配置されてなる紫外線を放出するガスレー
ザ装置において、前記一方の主放電電極と前記ピーキン
グコンデンサとが、前記一方の主放電電極と前記予備電
離手段との間を通る通電部材により接続されていること
を特徴とするものである。
導電板で構成され、その開口は、主放電電極間の主放電
空間を通過するレーザガスが通過し、かつ、予備電離手
段からの紫外線が主放電空間に達するように配置されて
いることが望ましい。
れた第2電極と、第2電極の周囲の誘電体物質の外面に
当接する第1電極とから構成され、その通電部材と第1
電極とが一体化されているものとしてもよい。
ーキングコンデンサとが、一方の主放電電極と予備電離
手段との間を通る通電部材により接続されているので、
励起回路中の放電回路ループの断面積が小さくなり、そ
の放電回路ループのインダクタンスをより小さくするこ
とができるので、紫外線を放出するガスレーザ装置のレ
ーザ発振効率等の特性を向上させることができる。
実施例について説明する。
ザ装置の要部のレーザ発振方向に垂直な断面図であり、
図2は、その側面図である。この実施例において、励起
回路は、従来と同様に例えば図5に示すような構成のも
のを用いる。なお、図1、図2において、レーザチェン
バ1内に封入されているレーザガスをその中で循環させ
るファン、レーザガスを冷却する熱交換器等は図示を省
いてある。また、図2の側面図においては、予備電離部
15の図示は省いてある。
の上部壁に放電空間の長手に沿うように絶縁ベース21
が気密に嵌め込まれ、そのレーザチェンバ1内側中央に
他方の主電極(例えばカソード)3が取り付けられ、絶
縁ベース21を貫通して電流導入部材23により高圧電
源10に接続されている。ここで、高圧電源10は、図
5のピーキングコンデンサC3 より左側の非線形インダ
クタンスLm を含む回路部分に対応する。
側に沿うように一対の通電部材25が先端に向かうにつ
れて相互に近づくように絶縁ベース21に取り付けられ
ており、通電部材25の先端間とその両側に広がるよう
に導電性ベース26が張り渡されており、一対の通電部
材25の先端間の主電極3に対向する位置の導電性ベー
ス26上には一方の主電極4(例えばアノード)が取り
付けられている。
25の先端が接続されている位置の両方の外側の上部領
域であって、それぞれの通電部材25を通して主電極
3、4間の主放電空間を見込む位置には、誘電体筒体8
を介して外電極9と内電極7が対向配置されてなる予備
電離部15が配置されており、外電極9は導電性ベース
26に直接接続されており、また、内電極7は図示しな
い端子を介して、高圧電源10のコンデンサC11とC12
の間に接続されている。
入部材23両側に並列接続の多数のコンデンサからなる
ピーキングコンデンサC3 が接続され、そのピーキング
コンデンサC3 は絶縁ベース21を貫通している電流導
入部材24を介して通電部材25に接続されている。
ら明らかなように、所定間隔で縦に伸びる細い通電部を
除いてくり抜いて開口部27とした導電板で構成されて
おり、この開口部27を通って主電極3、4間の主放電
空間にレーザガス流2が妨げなく流れるようになってお
り、また、予備電離部15でのコロナ放電によって生じ
る紫外線16が開口部27を通過して主電極3、4間の
主放電空間に達するようになっている。
れた部分が図5に関して説明した放電回路ループを構成
しており、絶縁ベース21を貫通した電流導入部材2
3、電流導入部材23に接続されている主電極3、主電
極4、主電極4が設置されている導電性ベース26、導
電性ベース26に接続されている通電部材25、通電部
材25と接続され、絶縁ベース21を貫通した電流導入
部材24、電流導入部材24と電流導入部材23とが接
続されたピーキングコンデンサC3 から構成されてい
る。
は、導電性ベース26と絶縁ベース21を貫通した電流
導入部材24とに、各端部が接続された通電部材25の
配置にある。図6の従来技術においては、通電部材25
と導電性ベースと21の接続点が予備電離部15の外側
(主電極4と反対側)に配置されているのに対し、本実
施例においては、通電部材25と導電性ベース21との
接続点が主電極4と予備電離部15との間となるように
配置されている。
15との間を通電部材25が通るようにすることによ
り、主電極4の両側に予備電離部15を配置することに
より導電性ベース21の大きさを余り小さくできないの
にも係わらず、放電回路ループにおける主電極4から、
導電性ベース26、通電部材25を経由して電流導入部
材24に至る経路を短くすることができ、放電回路ルー
プの断面積をより小さくすることができる。
発生した予備電離用の紫外線16が主放電空間に到達す
るように、通電部材25には図2に示すような開口部2
7が設けられている。
ては、主電極3、4間で主放電発生後は、その主放電空
間に存在するレーザガスの温度分布等が不均一となり、
そのままでは次回の主放電が不均一となって効率良くレ
ーザ発振をさせることができない。そのため、次回の主
放電が発生する前に、主放電空間に位置するレーザガス
を置換するために、レーザチェンバ1内でレーザガスを
不図示のファンで循環させている。そのレーザガス流を
図1に符号2で示してある。通電部材25の上記開口部
27は、この主放電空間を流れる循環レーザガス流2が
主放電空間へ到達するのを阻害しないという作用も有す
る。開口部27の一枚の金属板における開口率は90%
以上とすると効果的である。
ガス流2、紫外線16が通過する開口部27を確保する
よう、所定間隔毎に配置して構成しても、一枚の金属板
に開口部27を抜いて設けるように構成してもよいが、
後者の方が以下の点で有利である。
主電極4と予備電離部15との間に配置される。複数の
薄い平板を所定間隔毎に配置して開口部27を確保する
場合、複数の薄い平板の厚みはそれ自体の強度を確保す
るため、ある程度の厚さが必要となる。その際、レーザ
ガス流2の方向と垂直方向に厚くするとレーザガス流2
の妨げとなるので、レーザガス流2の方向と平行な方向
に厚くすることになる。すると、この厚み分だけ主放電
空間から予備電離部15が遠ざかるので、放電部材の厚
みが厚くなるにつれて主放電空間に到達する紫外線16
の強度がその分低下して予備電離が弱くなり、レーザ特
性が低下していくことになる。
部27を抜いて設けた一体構造であるので、レーザガス
流2の方向と平行な方向の厚みを前者に比べて薄くして
も、強度を確保することができる。そのため、前者の場
合に比べ主放電空間に予備電離部15を近づけることが
でき、主放電空間に到達する紫外線16の強度が強くな
って予備電離が強くなり、レーザ特性を向上させること
ができる。
例のガスレーザ装置の要部のレーザ発振方向に垂直な断
面図を図3に、図4にその側面図を示す。この実施例の
第1の実施例との相違点は、図1、図2の通電部材25
と、予備電離部15の外電極9を一体化した点にある。
その他は第1の実施例と同じである。
予備電離部15の誘電体筒体8に近接する位置に外電極
9を構成する直線状の金属部材を溶接等で一体化し、こ
の外電極9が予備電離部15の内電極7の周囲の誘電体
筒体8の外面に当接するように取り付ければよい。
電極9とが一体化しているので、第1の実施例より主放
電空間に予備電離部15を近づけることができ、主放電
空間に到達する紫外線16の強度が強くなって予備電離
が強くなり、レーザ特性を向上させることができる。
構成を採用することにより、本発明者が製作したガスレ
ーザ装置において、放電回路のインダクタンスを従来の
10nHあったものを6nHとすることができた。
ザ装置を実施例に基いて説明してきたが、本発明は上記
実施例に限定されるものではなく種々の変形が可能であ
る。
の紫外線を放出するガスレーザ装置においては、通電部
材25と導電性ベース26との接続点を主電極4と予備
電離部15との間となるように配置したので、放電回路
ループにおける主電極4から、導電性ベース26、通電
部材25を経由して電流導入部材24に至る経路を短く
することができ、放電回路ループの断面積を小さくする
ことができる。
ことにより、予備電離用の紫外線16が通電部材25に
遮られることなく、主放電空間に到達でき、また、主放
電空間を流れる循環レーザガス流2の主放電空間への到
達が阻害されない。
部27を抜いて設けた一体構造とすれば、レーザガス流
2の方向と平行な方向の厚みを薄くすることができるの
で、主放電空間に予備電離部15を近づけることがで
き、主放電空間に到達する紫外線16の強度が強くなっ
て予備電離が強くなり、レーザ特性を向上させることが
できる。
すれば、主放電空間に予備電離部15を近づけることが
でき、主放電空間に到達する紫外線16の強度が強くな
って予備電離が強くなり、レーザ特性を向上させること
ができる。
のレーザ発振方向に垂直な断面図である。
のレーザ発振方向に垂直な断面図である。
である。
に垂直な断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 レーザガスが封入され、このレーザガス
を内部で循環させる循環手段を有するレーザチェンバ
と、このレーザチェンバ内に所定間隔離間して配置され
た一対の主放電電極と、この一対の主放電電極に並列に
接続されたピーキングコンデンサとからなる放電回路
と、誘電体を介して第1電極と第2電極が対向配置され
てなる予備電離手段とを有し、この予備電離手段が一方
の主放電電極に沿うようにその両側に近接して配置され
てなる紫外線を放出するガスレーザ装置において、 前記一方の主放電電極と前記ピーキングコンデンサと
が、前記一方の主放電電極と前記予備電離手段との間を
通る通電部材により接続されていることを特徴とする紫
外線を放出するガスレーザ装置。 - 【請求項2】 前記通電部材が開口を設けた導電板で構
成され、その開口は、前記主放電電極間の主放電空間を
通過するレーザガスが通過し、かつ、前記予備電離手段
からの紫外線が前記主放電空間に達するように配置され
ていることを特徴とする請求項1記載の紫外線を放出す
るガスレーザ装置。 - 【請求項3】 前記予備電離手段は、誘電体物質で覆わ
れた第2電極と、第2電極の周囲の誘電体物質の外面に
当接する第1電極とから構成され、前記通電部材と前記
第1電極とが一体化されていることを特徴とする請求項
2又は3記載の紫外線を放出するガスレーザ装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34863799A JP3399517B2 (ja) | 1999-12-08 | 1999-12-08 | 紫外線を放出するガスレーザ装置 |
| EP00126695A EP1107401B1 (en) | 1999-12-08 | 2000-12-05 | Gas laser device for emission of ultraviolet radiation |
| KR10-2000-0073414A KR100505085B1 (ko) | 1999-12-08 | 2000-12-05 | 자외선을 방출하는 가스 레이저 장치 |
| DE60018252T DE60018252T2 (de) | 1999-12-08 | 2000-12-05 | Gaslaservorrichtung zur Emission von ultravioletter Strahlung |
| US09/732,017 US6480519B2 (en) | 1999-12-08 | 2000-12-08 | Gas laser device that emits ultraviolet rays |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34863799A JP3399517B2 (ja) | 1999-12-08 | 1999-12-08 | 紫外線を放出するガスレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001168432A true JP2001168432A (ja) | 2001-06-22 |
| JP3399517B2 JP3399517B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=18398348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34863799A Expired - Lifetime JP3399517B2 (ja) | 1999-12-08 | 1999-12-08 | 紫外線を放出するガスレーザ装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6480519B2 (ja) |
| EP (1) | EP1107401B1 (ja) |
| JP (1) | JP3399517B2 (ja) |
| KR (1) | KR100505085B1 (ja) |
| DE (1) | DE60018252T2 (ja) |
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| JP2014511036A (ja) * | 2012-03-02 | 2014-05-01 | 中國科學院光電研究院 | 単一チャンバの二重電極放電チャンバ及びエキシマレーザー |
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Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6650679B1 (en) | 1999-02-10 | 2003-11-18 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for gas laser |
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| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6570901B2 (en) | 2000-02-24 | 2003-05-27 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60018252D1 (de) | 2005-03-31 |
| EP1107401A1 (en) | 2001-06-13 |
| KR100505085B1 (ko) | 2005-07-29 |
| US20010024463A1 (en) | 2001-09-27 |
| JP3399517B2 (ja) | 2003-04-21 |
| KR20010062136A (ko) | 2001-07-07 |
| US6480519B2 (en) | 2002-11-12 |
| DE60018252T2 (de) | 2006-01-12 |
| EP1107401B1 (en) | 2005-02-23 |
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Legal Events
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|
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