JP2001274493A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JP2001274493A JP2001274493A JP2000085925A JP2000085925A JP2001274493A JP 2001274493 A JP2001274493 A JP 2001274493A JP 2000085925 A JP2000085925 A JP 2000085925A JP 2000085925 A JP2000085925 A JP 2000085925A JP 2001274493 A JP2001274493 A JP 2001274493A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 主放電電極間の放電が均一に行われ効率の良
いレーザ出力を得られるとともに、レーザ装置の延命を
図ることのできるガスレーザ装置を提供する。 【解決手段】 一対の主放電電極によりレーザ媒質ガス
を放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装置にお
いて、主放電電極の放電に先立ってレーザ媒質ガスを予
備電離する棒状の予備電離電極を、主放電電極の長手方
向に沿って並列に複数個設置すると共に、主放電電極の
中央部に対してその両端部では隣合う予備電離電極の間
隔を狭く設置したことを特徴とする。
いレーザ出力を得られるとともに、レーザ装置の延命を
図ることのできるガスレーザ装置を提供する。 【解決手段】 一対の主放電電極によりレーザ媒質ガス
を放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装置にお
いて、主放電電極の放電に先立ってレーザ媒質ガスを予
備電離する棒状の予備電離電極を、主放電電極の長手方
向に沿って並列に複数個設置すると共に、主放電電極の
中央部に対してその両端部では隣合う予備電離電極の間
隔を狭く設置したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ媒質ガスを
放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装置に関す
る。
放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術】一対の主放電電極と予備電離電極とを備
え、レーザ媒質ガスを放電励起してエキシマレーザを発
振するガスレーザ装置が知られている。このようなガス
レーザ装置は対向する予備電離電極間にてスパーク放電
を行い、これにより発生した紫外光や電子が主放電電極
間に供給され、主放電電極間にてグロー放電が起こり、
光共振を経てレーザ光が出力される。このとき主放電電
極の長手方向での放電の均一性が良いほど、効率よく安
定したレーザ出力が得られる。
え、レーザ媒質ガスを放電励起してエキシマレーザを発
振するガスレーザ装置が知られている。このようなガス
レーザ装置は対向する予備電離電極間にてスパーク放電
を行い、これにより発生した紫外光や電子が主放電電極
間に供給され、主放電電極間にてグロー放電が起こり、
光共振を経てレーザ光が出力される。このとき主放電電
極の長手方向での放電の均一性が良いほど、効率よく安
定したレーザ出力が得られる。
【０００３】こうしたガスレーザ装置における予備電離
電極の配置は、従来、主放電電極の長手方向に沿って等
間隔で複数個配置するのが普通であった。
電極の配置は、従来、主放電電極の長手方向に沿って等
間隔で複数個配置するのが普通であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の予備電
離電極の配置では、主放電電極間に供給される電子の密
度が主放電電極の両端部側で低くなる傾向にあるため、
主放電電極全体の放電が均一とならず、必ずしも効率の
良いレーザ出力が得られていなかった。
離電極の配置では、主放電電極間に供給される電子の密
度が主放電電極の両端部側で低くなる傾向にあるため、
主放電電極全体の放電が均一とならず、必ずしも効率の
良いレーザ出力が得られていなかった。
【０００５】また、放電の不均一によって主放電電極の
両端部では電界強度が大きくなるため、スパッタリング
等が起こりやすくなり、電極面の損傷が生じるようにな
る。これはレーザ装置の寿命を縮める原因の一つになっ
ていた。
両端部では電界強度が大きくなるため、スパッタリング
等が起こりやすくなり、電極面の損傷が生じるようにな
る。これはレーザ装置の寿命を縮める原因の一つになっ
ていた。
【０００６】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、
主放電電極間の放電が均一に行われ効率の良いレーザ出
力を得られるとともに、レーザ装置の延命を図ることの
できるガスレーザ装置を提供することを特徴とする。
主放電電極間の放電が均一に行われ効率の良いレーザ出
力を得られるとともに、レーザ装置の延命を図ることの
できるガスレーザ装置を提供することを特徴とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
【０００８】（１） 一対の主放電電極によりレーザ媒
質ガスを放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装
置において、前記主放電電極の放電に先立ってレーザ媒
質ガスを予備電離する棒状の予備電離電極を、前記主放
電電極の長手方向に沿って並列に複数個設置すると共
に、前記主放電電極の中央部に対してその両端部では隣
合う前記予備電離電極の間隔を狭く設置したことを特徴
とする。
質ガスを放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装
置において、前記主放電電極の放電に先立ってレーザ媒
質ガスを予備電離する棒状の予備電離電極を、前記主放
電電極の長手方向に沿って並列に複数個設置すると共
に、前記主放電電極の中央部に対してその両端部では隣
合う前記予備電離電極の間隔を狭く設置したことを特徴
とする。
【０００９】（２） （１）のガスレーザ装置におい
て、前記主放電電極の両端部では中央部に対して隣合う
前記予備電離電極の間隔を徐々に狭くなるように設置し
たことを特徴とする。
て、前記主放電電極の両端部では中央部に対して隣合う
前記予備電離電極の間隔を徐々に狭くなるように設置し
たことを特徴とする。
【００１０】（３） （１）のガスレーザ装置におい
て、隣合う前記予備電離電極の設置間隔は、レーザ光の
光軸上の電子密度が前記主放電電極の中央部付近と両端
部付近で略均一となるように、主放電電極の長さとの関
係で決定することを特徴とする。
て、隣合う前記予備電離電極の設置間隔は、レーザ光の
光軸上の電子密度が前記主放電電極の中央部付近と両端
部付近で略均一となるように、主放電電極の長さとの関
係で決定することを特徴とする。
【００１１】（４） （１）のガスレーザ装置は、エキ
シマレーザ装置であることを特徴とする。
シマレーザ装置であることを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１はエキシマレーザ装置の励起
回路の概略構成図である。本実施形態で使用するエキシ
マレーザ装置は、Ａｒ（アルゴン）ガスとＦ2（フッ
素）ガスとが混合されたレーザ媒質ガスによりエキシマ
レーザ（発振波長１９３ｎｍ）を発振する。
に基づいて説明する。図１はエキシマレーザ装置の励起
回路の概略構成図である。本実施形態で使用するエキシ
マレーザ装置は、Ａｒ（アルゴン）ガスとＦ2（フッ
素）ガスとが混合されたレーザ媒質ガスによりエキシマ
レーザ（発振波長１９３ｎｍ）を発振する。
【００１３】１はレーザ媒質ガスが充填されて封入され
るレーザガス容器（以下、チャンバとする）である。チ
ャンバ１の材料にはアルミニウム等が一般的に使用され
る。２は高圧電源、３はスイッチ、４はコイル、５はス
トレージコンデンサ、６はピーキングコンデンサであ
る。
るレーザガス容器（以下、チャンバとする）である。チ
ャンバ１の材料にはアルミニウム等が一般的に使用され
る。２は高圧電源、３はスイッチ、４はコイル、５はス
トレージコンデンサ、６はピーキングコンデンサであ
る。
【００１４】図２（ａ）はチャンバ１内部の構成を説明
するための概略構成断面図である。
するための概略構成断面図である。
【００１５】チャンバ１の外壁にはチャンバ１内部を冷
やすための冷却水が通る冷却パイプ２０（図１参照）が
ロー付け等によって外壁に密着して取り付けられてい
る。１０は高反射ミラー、１１は出力ミラーであり、こ
の対向する２つのミラーにて共振光学系を形成し、出力
ミラー１１側からレーザ光が出力される。
やすための冷却水が通る冷却パイプ２０（図１参照）が
ロー付け等によって外壁に密着して取り付けられてい
る。１０は高反射ミラー、１１は出力ミラーであり、こ
の対向する２つのミラーにて共振光学系を形成し、出力
ミラー１１側からレーザ光が出力される。
【００１６】チャンバ１内部はフッ素ガスが充填される
ため、チャンバ１の内壁は予めフッ素にて不動態を形成
させておく等の耐食性を向上させるための処理が施され
ている。また、チャンバ１内部には対を成すエルンスト
型主放電電極１２ａ、１２ｂが設けられている。この主
放電電極１２ａ、１２ｂは電極間で一様なグロー放電を
行うに適した蒲鉾状の形状をしている。
ため、チャンバ１の内壁は予めフッ素にて不動態を形成
させておく等の耐食性を向上させるための処理が施され
ている。また、チャンバ１内部には対を成すエルンスト
型主放電電極１２ａ、１２ｂが設けられている。この主
放電電極１２ａ、１２ｂは電極間で一様なグロー放電を
行うに適した蒲鉾状の形状をしている。
【００１７】主放電電極１２ａの両側には棒状の予備電
離電極１３ａが、主放電電極１２ｂの両側には同じく棒
状の予備電離電極１３ｂが、主放電電極の長手方向に沿
って並列に複数個設けられている。主放電電極１２ａの
両側に設けられた予備電離電極１３ａは、板状の絶縁体
１４を通してピーキングコンデンサ６にそれぞれ取り付
けられている。予備電離電極１３ｂは主放電電極１２ｂ
が固定された導電板１５に取り付けられており、予備電
離電極１３ａの先端と予備電離電極１３ｂの先端は所定
の間隔を持って対向するように位置する。
離電極１３ａが、主放電電極１２ｂの両側には同じく棒
状の予備電離電極１３ｂが、主放電電極の長手方向に沿
って並列に複数個設けられている。主放電電極１２ａの
両側に設けられた予備電離電極１３ａは、板状の絶縁体
１４を通してピーキングコンデンサ６にそれぞれ取り付
けられている。予備電離電極１３ｂは主放電電極１２ｂ
が固定された導電板１５に取り付けられており、予備電
離電極１３ａの先端と予備電離電極１３ｂの先端は所定
の間隔を持って対向するように位置する。
【００１８】本実施の形態では、図示するように主放電
電極１２ａの中央付近に設置される予備電極１３ａ同士
（隣合う予備電極１３ａ）の設置間隔に対して、主放電
電極１２ａの両端付近に設置される予備電離電極１３ａ
同士の設置間隔が狭くなる（密になる）ようにして、各
予備電離電極１３ａが設置されている。予備電離電極１
３ａに対向する予備電離電極１３ｂも同様の設置間隔に
て主放電電極１２ｂを挟んで、その両側に設置されてい
る。
電極１２ａの中央付近に設置される予備電極１３ａ同士
（隣合う予備電極１３ａ）の設置間隔に対して、主放電
電極１２ａの両端付近に設置される予備電離電極１３ａ
同士の設置間隔が狭くなる（密になる）ようにして、各
予備電離電極１３ａが設置されている。予備電離電極１
３ａに対向する予備電離電極１３ｂも同様の設置間隔に
て主放電電極１２ｂを挟んで、その両側に設置されてい
る。
【００１９】さらに具体的に述べると、図２（ａ）に示
す９個の予備電離電極１３ａ（１３ｂ）の各隣合う設置
間隔を、左端側（高反射ミラー１０側）から順にＤ１，
Ｄ２，……，Ｄ８としたとき、主放電電極１２ａの中央
付近の設置間隔Ｄ３〜Ｄ６は等間隔であるが、主放電電
極１２ａ両端付近の設置間隔Ｄ１，Ｄ２，Ｄ７，Ｄ８は
中央付近に比べて徐々に狭くなるように設定している。
すなわち、隣合う予備電離電極１３ａ（１３ｂ）の設置
間隔の大きさは、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６
＞Ｄ７＞Ｄ８となる関係としている。
す９個の予備電離電極１３ａ（１３ｂ）の各隣合う設置
間隔を、左端側（高反射ミラー１０側）から順にＤ１，
Ｄ２，……，Ｄ８としたとき、主放電電極１２ａの中央
付近の設置間隔Ｄ３〜Ｄ６は等間隔であるが、主放電電
極１２ａ両端付近の設置間隔Ｄ１，Ｄ２，Ｄ７，Ｄ８は
中央付近に比べて徐々に狭くなるように設定している。
すなわち、隣合う予備電離電極１３ａ（１３ｂ）の設置
間隔の大きさは、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６
＞Ｄ７＞Ｄ８となる関係としている。
【００２０】ここで、従来のエキシマレーザ装置におけ
る予備電離電極の設置間隔を図３に示す。なお、図２と
同一部分には同一符号で示す。
る予備電離電極の設置間隔を図３に示す。なお、図２と
同一部分には同一符号で示す。
【００２１】図３（ａ）に示すように、隣合う予備電離
電極１３ａ、１３ｂの設置間隔はすべて等しい間隔（Ｄ
１＝Ｄ２＝Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６）である。このよう
な設置間隔にてスパーク放電が行われた時、主放電１２
ａ、１２ｂの長手方向にて得られる光軸上の電子密度分
布は均一とはならない。図３（ａ）に示すレーザ光の光
軸Ｌ上における電子密度の分布状況を表す模式図を図３
（ｂ）に示す。
電極１３ａ、１３ｂの設置間隔はすべて等しい間隔（Ｄ
１＝Ｄ２＝Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６）である。このよう
な設置間隔にてスパーク放電が行われた時、主放電１２
ａ、１２ｂの長手方向にて得られる光軸上の電子密度分
布は均一とはならない。図３（ａ）に示すレーザ光の光
軸Ｌ上における電子密度の分布状況を表す模式図を図３
（ｂ）に示す。
【００２２】この図に示すように、隣合う予備電離電極
１３ａ、１３ｂが等間隔に設置されている場合、主放電
電極１２ａ、１２ｂの両端部周辺における光軸上の電子
密度は低くなってしまう。したがって、光軸Ｌ上の電子
密度が均一とならないため、主放電電極１２ａ、１２ｂ
による放電時には、中央付近と両端付近では放電強度が
異なってしまい、均一なグロー放電が行われ難くなる。
１３ａ、１３ｂが等間隔に設置されている場合、主放電
電極１２ａ、１２ｂの両端部周辺における光軸上の電子
密度は低くなってしまう。したがって、光軸Ｌ上の電子
密度が均一とならないため、主放電電極１２ａ、１２ｂ
による放電時には、中央付近と両端付近では放電強度が
異なってしまい、均一なグロー放電が行われ難くなる。
【００２３】光軸Ｌ上における電子密度は、スパーク放
電によって発生する電子の量によるものであり、光軸上
の電子量は予備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔によ
って増減し、予備電離電極同士の設置間隔が狭いほど光
軸Ｌ上の電子量は増加するため、得られる電子密度は高
くなる。
電によって発生する電子の量によるものであり、光軸上
の電子量は予備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔によ
って増減し、予備電離電極同士の設置間隔が狭いほど光
軸Ｌ上の電子量は増加するため、得られる電子密度は高
くなる。
【００２４】したがって、本実施の形態に示すような予
備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔の場合、その設置
間隔が狭いところは電子密度が高くなるため、図２
（ｂ）に示すような電子密度分布となる。このため、主
放電電極１２ａ、１２ｂの全域に対して、均一な電子密
度分布が得られ易くなる。
備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔の場合、その設置
間隔が狭いところは電子密度が高くなるため、図２
（ｂ）に示すような電子密度分布となる。このため、主
放電電極１２ａ、１２ｂの全域に対して、均一な電子密
度分布が得られ易くなる。
【００２５】以上のような構成を備えるエキシマレーザ
装置において、その動作を簡単に説明する。スイッチ３
が開いている状態で、高圧電源１からストレージコンデ
ンサ５に充電する。この充電終了後、スイッチ３を閉じ
ると、ストレージコンデンサ５に蓄積されている電荷
は、スイッチ３を通してピーキングコンデンサ６に移行
する。この電荷の移行により、予備電離電極１３ａ，１
３ｂ、主放電電極１２ａ，１２ｂに電圧が印加される。
そして、まず予備電離電極１３ａと予備電離電極１３ｂ
との間で絶縁破壊し、スパーク放電が起こる。
装置において、その動作を簡単に説明する。スイッチ３
が開いている状態で、高圧電源１からストレージコンデ
ンサ５に充電する。この充電終了後、スイッチ３を閉じ
ると、ストレージコンデンサ５に蓄積されている電荷
は、スイッチ３を通してピーキングコンデンサ６に移行
する。この電荷の移行により、予備電離電極１３ａ，１
３ｂ、主放電電極１２ａ，１２ｂに電圧が印加される。
そして、まず予備電離電極１３ａと予備電離電極１３ｂ
との間で絶縁破壊し、スパーク放電が起こる。
【００２６】次に、このスパーク放電によって発生した
紫外光が主放電に先立ってレーザ媒質ガスを予備電離
し、これによって発生した電子が主放電電極１２ａ，１
２ｂに供給されて、主放電電極１２ａと主放電電極１２
ｂとの間でグロー放電が行われてレーザ媒質ガスが励起
される。それにより、高反射ミラー１０と出力ミラー１
１との間で光共振が起こり、出力ミラー１１側からレー
ザ光が出力される。
紫外光が主放電に先立ってレーザ媒質ガスを予備電離
し、これによって発生した電子が主放電電極１２ａ，１
２ｂに供給されて、主放電電極１２ａと主放電電極１２
ｂとの間でグロー放電が行われてレーザ媒質ガスが励起
される。それにより、高反射ミラー１０と出力ミラー１
１との間で光共振が起こり、出力ミラー１１側からレー
ザ光が出力される。
【００２７】先に延べたように、本実施の形態に示す予
備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔の場合、光軸Ｌ上
の電子密度が主放電電極１２ａ、１２ｂの全域に渡って
略均一となるため、放電強度も略均一となり、安定した
グロー放電が行われやすくなる。その結果主放電電極１
２ａ、１２ｂの両端部でのスパッタリングが起こり難く
なるため、電極表面の消耗が抑制される。
備電離電極１３ａ、１３ｂの設置間隔の場合、光軸Ｌ上
の電子密度が主放電電極１２ａ、１２ｂの全域に渡って
略均一となるため、放電強度も略均一となり、安定した
グロー放電が行われやすくなる。その結果主放電電極１
２ａ、１２ｂの両端部でのスパッタリングが起こり難く
なるため、電極表面の消耗が抑制される。
【００２８】以上の実施形態では、予備電離電極の設置
間隔をＤ１＜Ｄ２＜Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６＞Ｄ７＞Ｄ
８となるようにしたが、これに限るものではなく、予備
電離電極の設置間隔を狭くすることにより、光軸Ｌ上の
電子密度が高くなることを利用して、主放電電極中央部
から両端部に近づくほど、徐々に狭くなるように構成し
ても良い（例えば、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３＜Ｄ４＝Ｄ５＞Ｄ
６＞Ｄ７＞Ｄ８とする）。隣合う予備電離電極の設置間
隔は、主放電電極の長さとの関係で、電子密度が全体に
渡って略均一になるように決定する。
間隔をＤ１＜Ｄ２＜Ｄ３＝Ｄ４＝Ｄ５＝Ｄ６＞Ｄ７＞Ｄ
８となるようにしたが、これに限るものではなく、予備
電離電極の設置間隔を狭くすることにより、光軸Ｌ上の
電子密度が高くなることを利用して、主放電電極中央部
から両端部に近づくほど、徐々に狭くなるように構成し
ても良い（例えば、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３＜Ｄ４＝Ｄ５＞Ｄ
６＞Ｄ７＞Ｄ８とする）。隣合う予備電離電極の設置間
隔は、主放電電極の長さとの関係で、電子密度が全体に
渡って略均一になるように決定する。
【００２９】また、本実施の形態では片側の予備電離電
極１３ａ、１３ｂを９本としているが、これに限るもの
ではなく、必要に応じて予備電離電極の設置数は増減さ
れる。
極１３ａ、１３ｂを９本としているが、これに限るもの
ではなく、必要に応じて予備電離電極の設置数は増減さ
れる。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、予備電
離電極の設置間隔を変えたため、光軸上の電子密度が略
均一となるため、発振効率が良く、主放電電極の寿命が
長くなる。
離電極の設置間隔を変えたため、光軸上の電子密度が略
均一となるため、発振効率が良く、主放電電極の寿命が
長くなる。
【図１】エキシマレーザ装置の励起回路の概略構成図で
ある。
ある。
【図２】本実施形態における予備電離電極の配置構成、
及びレーザ光軸上の電子密度分布を示す模式図である。
及びレーザ光軸上の電子密度分布を示す模式図である。
【図３】従来における予備電離電極の配置構成、及びレ
ーザ光軸上の電子密度分布を示す模式図である。
ーザ光軸上の電子密度分布を示す模式図である。
１ チャンバ ６ ピーキングコンデンサ １２ａ 主放電電極 １２ｂ 主放電電極 １３ａ 予備電離電極 １３ｂ 予備電離電極
Claims (4)
- 【請求項１】 一対の主放電電極によりレーザ媒質ガス
を放電励起してレーザ光を発生するガスレーザ装置にお
いて、前記主放電電極の放電に先立ってレーザ媒質ガス
を予備電離する棒状の予備電離電極を、前記主放電電極
の長手方向に沿って並列に複数個設置すると共に、前記
主放電電極の中央部に対してその両端部では隣合う前記
予備電離電極の間隔を狭く設置したことを特徴とするガ
スレーザ装置。 - 【請求項２】 請求項１のガスレーザ装置において、前
記主放電電極の両端部では中央部に対して隣合う前記予
備電離電極の間隔を徐々に狭くなるように設置したこと
を特徴とするガスレーザ装置。 - 【請求項３】 請求項１のガスレーザ装置において、隣
合う前記予備電離電極の設置間隔は、レーザ光の光軸上
の電子密度が前記主放電電極の中央部付近と両端部付近
で略均一となるように、主放電電極の長さとの関係で決
定することを特徴とするガスレーザ装置。 - 【請求項４】 請求項１のガスレーザ装置は、エキシマ
レーザ装置であることを特徴とするガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000085925A JP2001274493A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000085925A JP2001274493A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001274493A true JP2001274493A (ja) | 2001-10-05 |
Family
ID=18602170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000085925A Withdrawn JP2001274493A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001274493A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111656626A (zh) * | 2018-01-17 | 2020-09-11 | 西默有限公司 | 用于在激光器腔室中调谐放电性能的装置 |
-
2000
- 2000-03-27 JP JP2000085925A patent/JP2001274493A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111656626A (zh) * | 2018-01-17 | 2020-09-11 | 西默有限公司 | 用于在激光器腔室中调谐放电性能的装置 |
| JP2021510926A (ja) * | 2018-01-17 | 2021-04-30 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置 |
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| JP7169359B2 (ja) | 2018-01-17 | 2022-11-10 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置 |
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