JP3524367B2 - 高パルス繰返し速度エキシマーレーザーのための空気力学的チャンバー設計 - Google Patents

高パルス繰返し速度エキシマーレーザーのための空気力学的チャンバー設計

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JP3524367B2 JP02958498A JP2958498A JP3524367B2 JP 3524367 B2 JP3524367 B2 JP 3524367B2 JP 02958498 A JP02958498 A JP 02958498A JP 2958498 A JP2958498 A JP 2958498A JP 3524367 B2 JP3524367 B2 JP 3524367B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的にはレーザ
ー、さらに具体的には１キロヘルツ(kHz）の繰返し速度
のパルスを達成可能なエキシマーレーザーに関する。
【０００２】
【従来の技術】集積回路の要求される構造的な寸法が小
さくなるにつれ、光学的リトグラフィー技術の要求が高
くなる。これらの要求は、色々な光源の探求と同時に、
近接回折を制限された光学的投影系の開発へ導いた。同
等な光学系であると仮定すると、より短い波長で動作す
る照明光源は、より小さな構造を形作る能力によって、
より長い波長で動作する照明光源よりも望ましい。ガス
放電レーザー、特にエキシマーレーザーは、短い放電波
長と高いパワーとの組み合わせによってこれらの応用に
対して唯一適している。例えば、クリプトンふっ化物
（KrF ）エキシマーレーザーの波長は約248.4 ナノメー
ターである。エキシマーレーザーは一般にパルスモード
で動作する。パルス発生は、その最初の熱的状態に戻る
に十分な時間にわたって放電領域内にガスを供給するこ
とが要求される。静的ガスシステムにおいては、ガスは
この状態に到達するために秒オーダーの時間を要し、そ
れにより繰返し速度を厳しく制限する。現代のレーザー
システムは、代表的にはガスを循環させるための横流ブ
ロワーファンを使用して、ガス放電領域内のガスを能動
的に循環させることによって高い繰返し速度を達成して
いる。
【０００３】“ガス運搬レーザーシステム" と題される
米国特許第4,611,327 号は、高平均パワー、高繰返し速
度パルスガスレーザーを記載している。その開示された
システムは、偏心して取り付けられた電極アッセンブリ
ーを通り抜けるガスを高速で運搬するために、二つの横
流ブロワーを利用している。そのシステムは、５００Ｈ
ｚのパルス速度と１００ワット(W）の平均出力パワーを
達成した。“ガスレーザー" と題される米国特許第5,03
3,056 号は、閉ガス流路を有するガスレーザーを記載し
ている。ガスは、放電チャンバーを貫け、電極アッセン
ブリーを高速で通過して流れる。そのレーザーは、所望
の流速を達成するために、交差流ブロワーと、良く形成
された経路とを使用している。乱れが減少され、適当な
圧力差が一対のバッフル体を使用して得られている。
【０００４】“レーザー放射発生のための装置" と題さ
れる米国アメリカ特許第4,637,031号は、高パルス周波
数で横方向に励起された大気圧レーザーを記載してい
る。矩形または正方形の断面のレーザーチャンバーが使
われている。一つ又はそれ以上のファンで循環させられ
るレーザーガスは、放電チャンバーに入る前に冷却器を
通過する。“電気放電領域中のガスの流れを滑らかにす
るためのガス流平滑化装置を有するガスレーザー発振
器" と題される米国特許第4,771,436 号は、高速、軸流
ガスレーザー発振器について記載する。安定した放電を
維持しながら非常に高い流れ速度を達成するために、ガ
ス流平滑化装置が放電領域のガス入口に装備されてい
る。その好ましい実施例は、平滑化機能を達成するため
に円筒メッシュを使用している。
【０００５】前記より、ガス流を増加させたエキシマー
レーザーチャンバーが高パルス繰返し速度を達成するた
めに望ましい、ということが明らかである。
【０００６】
【課題を解決する手段】本発明は、１kHz 以上の繰返し
パルス速度においてアークを発生しない動作が可能なエ
キシマーレーザーチャンバーを提供する。チャンバー
は、適切に形成される放電チャンネルをつくるために必
要な電極設計基準を、障害物除去の高速性を達成するた
めに必要な流れ設計基準に均衡させる。障害物を除去す
る速度は、放電領域内のガスが新しいガスと置き換わ
り、それによって光学的及び電気的非均質性のないレー
ザー媒体を提供することができる速度である。本発明
は、陰極／予備イオン化装置アッセンブリーの両側に置
かれたセラミック絶縁体を利用する。セラミック絶縁体
は、電極領域の乱れを減ずることにより放電領域を通る
ガスの流量を増加させる。セラミック材料は、高電圧電
極から接地されたチャンバーハウジングへアークするこ
とを防止するために使われる。
【０００７】一連の特別に設計されたフロー羽根は、本
発明のレーザーチャンバー内に含まれることが望まし
い。ブロワーファンを出たガスは１つの羽根によって放
電領域へ導かれる。陽極支持棒は下方へ延長され、それ
によりまた横流ブロワーの効率を改善し、放電領域を迂
回するガスの量を最小にする。一対の羽根は、放電領域
を出たガスを熱交換器の方向へなめらかに向けるために
使われる。一対の羽根と連結したセラミック絶縁体は、
電極領域を出た時の流速の低下を減じ、それによって乱
流を最小にする。本発明の特徴と利点のさらなる理解
は、明細書の残りの部分と図を参照することにより実現
されるであろう。
【０００８】
【発明の実施の形態】高パルス繰返し速度に対する主要
な制約の一つは、放電領域中のガスが置換できる速さで
ある。各個々のパルスの間に、放電領域中のガスが完全
に置換されなければならず、その結果レーザー媒体は光
学的及び電気的非均質性がなくなる。これは、エネルギ
ー量及び空間強度輪郭の両方について高度な再現性でパ
ルスを発生させるために要求される。パルス間における
放電領域内のガス置換は、パルス速度が増加するに従っ
て、一般に、ブロワーファン組立体に対しより高度の要
求をする。ファン速度の増加は、ファン、モーター、ベ
アリング及び他の駆動系機材により大きな機械的応力を
もたらす。
【０００９】ブロワーファンに大きなガス処理量を要求
することに加えて、チャンバー全体は、放電領域近くの
撹流及び淀み領域を最小にしながら、必要な流速を達成
するように設計されなければならない。さらに、陰極と
陽極は、レーザー光学キャビティの軸に沿った電界を適
切に集中させるために、典型的には、それらに電極設計
の制約を有する。高電圧電極からアース電位にある金属
チャンバーハウジングへの全体的な弧絡を避けるため
に、高パルス反復速度エキシマーレーザーの設計におい
て別の制約が必要である。エキシマーレーザーに使用さ
れる電圧は、典型的には１０から２０キロボルト(kV)の
範囲である。これらの電圧レベルにおいて絶縁材料に沿
った表面トラッキングも潜在的な問題である。意図した
放電領域の外で起こる弧絡は、レーザー媒体をポンピン
グするために利用できるエネルギーを減らし、それによ
ってＵＶパルスエネルギーを減少させる。弧絡は、電極
以外にチャンバーコンポーネントの腐食の原因にもな
り、それによりシステムの寿命を制限する。さらには、
もし不可能でないならば、弧絡は、線量制御を困難にす
る不安定なパルスエネルギーとなる。
【００１０】１kHz領域のような非常に高い繰返し速度
パルスにおいては、ちょうどレーザーモード体積を含む
領域だけではなく、電極領域全体のガスを置換すること
が重要になる。これは、もしガスが高電界を含む領域の
外で完全に一掃されないとすれば、放電中に発生するイ
オンの寿命は次の放電中に下流へのアークを引き起すに
十分な程長いからである。パルスを継続させるために単
にレーザー領域中に新しいガスを保持するということ
は、一貫したパルスエネルギーとビーム特性を保証する
ためには十分ではない。図１は、従来技術によるレーザ
ー１００の断面図である。このレーザーの概略的な構成
は、米国特許第4,959,840号(“レーザーの壁に対し絶縁
関係で装着された電極を有するコンパクトエキシマーレ
ーザー”と題される。)、第5,033,055号(“コンパクト
エキシマーレーザー”と題される。)、第 5,337,330 号
(“レーザーのための予備イオン化装置”と題され
る。）に相当し、これら全ては、共通にこの出願の譲受
人に譲渡され、如何なるそして全ての目的のために参照
することによりここに組込まれる。
【００１１】レーザー１００は一対の半部材１０２と１
０４によって形成されるハウジングを含む。半部材１０
２と１０４は組み合わされ、例えばハウジングの周囲を
巡って延びるＯリング１０６によってシールされる。陰
極１０８と接地された陽極１１０はハウジングの中で間
隔を置いた関係で配置される。陰極１０８と陽極１１０
は、金属の腐食を最小にし、生成される腐食生成物によ
ってレーザーガスが汚染されることを避けるために、適
当な高純度金属で作られる。放電領域１１２は、陰極１
０８と陽極１１０の間に位置決めされる。領域１１２に
おける放電は、陰極１０８に印加される２０kVオーダー
のような高電圧パルスによって発生させられる。適当な
導電材料で作られたベース部材１１４は陽極１１０を支
持する。陽極１１０と部材１１４は、接地帰還ケージ
（図示せず）によってハウジング１０２に電気的に接続
される。接地帰還ケージは、多数のカットアウトを有
し、それによりレーザー１００を通るガスの循環に最小
の衝撃を与える。
【００１２】導電部材１１６は、陰極１０８と接続し、
主絶縁板１１８に隣接して配置される。主絶縁板１１８
は分離していて、ねじ山付きの金属棒１２０を他のもの
から絶縁する。ねじ山付きの金属棒１２０は、高電圧を
陰極１０８に導くために導電部材１１６と係合する。ね
じ山付きの棒１２０は、セラミックのような適当な材料
で作られた絶縁ブッシュ１２２を通って延びる。上部ハ
ウジング部品１０２は下方に延びる壁部分１２４を含
み、主絶縁板１１８がハウジング部材１０２の上側の壁
から間隔を置く。Ｏリング１２６は、主絶縁板１１８の
一方の側の導電部材１１６の凹みに配置され、Ｏリング
１２８は、主絶縁板１１８のもう一方の側の凹みに配置
され、板１１８の中心部分がＯリングの間に圧縮状態で
保持される。主絶縁板１１８は、陰極１０８をハウジン
グ構造の壁から電気的に絶縁し、それにより適当な放電
が陰極１０８と陽極１１０の間に発生することを保証す
る。
【００１３】電圧パルスがコネクターロッド１２０と導
電部材１１６を介して陰極１０８に加えられたとき、放
電が領域１１２において生ずる。この放電は、領域１１
２付近のガスをイオン化し、ガスの間に発生する化学反
応を引き起こす。例えば、ＫｒとＦ2 は化学的に反応し
ＫｒＦを生成する。この化学反応が起こったとき、光の
形態のエネルギーは、特定の波長において生成される。
可干渉なエネルギーが、高い強度でそして狭い光束で発
生される。それは、キャビティーから窓（図示せず）を
通して方向決めされる。１３０で全体的に示す予備イオ
ン化装置はキャビティーの中に配置され、紫外線を導入
することによってガスのイオン化を促進する。その紫外
線は、主放電領域におけるガスが陽極１１０と陰極１０
８の間で電気伝導性になる直前のガスへのコロナ放電に
よって生成される。
【００１４】予備イオン化装置１３０は、電極１０８と
１１０の間に配置され、第一の方向を横切る、望ましく
はこれと直交する第二の方向に互に分離される。予備イ
オン化装置１３０は、キャビティーの中で、第一と第二
の方向を横切る、望ましくはこれらと直交する第三の方
向へ延びる。電極１０８と１１０もキャビティーの中で
第三の方向へ延びる。この第三の方向は、図１において
紙の面内であると考えられる。各予備イオン化装置１３
０は、高誘電率と高絶縁耐力を有する適当な材料で作ら
れた中空の管１３２を含む。管１３２は、多結晶半透明
酸化アルミニウムのようなセラミック材料で作られるこ
とが望ましい。その材料は、管１３２の外面におけるあ
らゆるコロナ放電が管に入ることを妨げることが望まし
い。
【００１５】電気伝導体１３４は各管１３２の中に配置
される。導体１３４はアース電位に保たれているレーザ
ーハウジングに電気的に接続されることが望ましい。電
気伝導体１３６は管１３２の表面に配置され、電極１０
８のほぼ全長にわたって延びている。導電体１３６は、
締め付けられた弾性バネの形態であり、組み合わされた
管１３２の表面を適当な力によって押すように配置され
る。導電体１３６は、陰極１０８の電位に保たれる。レ
ーザーの中のガスの再循環は、複数の羽根１４０を持つ
ファン１３８によってもたらされる。ファン１３８は、
ガスを放電領域１１２を通り経路１４２に沿って動か
す。ガスの流れを促進するために、この装置は羽根１４
４、１４６、１４８及び１５０を有する。ほぼ円形断面
のガス取入れ部１５２は、濾過するためにガスの一部を
ハウジングの外へ吸い出し、これによりガスから塵や種
々の汚染物質を取り除く。
【００１６】陰極１０８と陽極１１０の間の放電によっ
てガスに滞積された電気的エネルギーの大部分は、熱に
変換される。この熱は、放射状にフィンを有する水冷熱
交換機１５４によって強制対流熱交換によって取り除か
れる。ファン１３８によってガスに対してなされる機械
的作動も最終的には、熱交換機１５４によって取り除か
れる熱に変換される。図２は、図１に示したエキシマー
レーザーの陰極と予備イオン化装置の斜視図である。こ
の図の中で陰極１０８と予備イオン化管１３２が、明確
に見える。図示したように、主絶縁板１１８は４つに分
離された板からなる。板１１８は、例えばアルミニウム
酸化物の一枚の板のような、単体の絶縁材料から作られ
ていてもよい。
【００１７】ブッシュ２０１が、管１３２の両端に配置
される。ブッシュ２０１は、導体１３６からレーザーハ
ウジングへの放電やアークを防止する。ブッシュ２０１
の材料は管１３２の材料と同質のものが望ましい。更に
望ましくは、ブッシュ２０１の材料が管１３２の材料と
同一であることである。管１３２とブッシュ２０１は、
単体の材料から作ることができ、それによって同一の高
誘電特性が達成され、管１３２とブッシュ２０１の間に
如何なる接着剤も必要なくなる。管１３２は、導体１３
６に対していくつかの位置決め部材２０３によって適所
に保持される。位置決め部材２０３は絶縁材料で作られ
ることが望ましい。部材２０３は導電材料によることも
できるが、この構成は下流のアークを引き起こすかもし
れない。導電性位置決め部材は、部材に極近接した周囲
の領域のコロナ放電の発生にも干渉するかもしれない。
【００１８】電気伝導体１３４と１３６はコンデンサー
の第一と第二プレートを形成する。管１３２はコンデン
サーの２つのプレートの間の誘電材料として作用する。
陰極電位のように高電圧が電気伝導体１３６に加られ、
電気伝導体１３４は接地されていることが望ましい。管
１３２の誘電材料は、誘電破壊をすることなく容量性コ
ロナ放電を助ける特性を持つ。２つの電気伝導体１３４
と１３６の間に電圧パルスが加えられたとき、電荷は、
管１３２の表面から生じるコロナ放電を引き起こす。こ
れらコロナ放電は、領域１１２を渡る電磁波を放射す
る。電磁波は、領域１１２内のガスを予備的にイオン化
して、陰極１０８と陽極１１０の間で電圧パルスが生成
されたときにガスのイオン化を促進する。
【００１９】図３は本発明によるエキシマーレーザーの
概略断面図である。このレーザーは、多数のガス流れ羽
根及びこれと関係する構造の付加及び／又は変形を除い
て、図１に示したレーザーと本質的に均等である。これ
らの変更によって、１kHz かそれ以上の速度においてさ
え、レーザーパルス間に電極領域１１２を完全に一掃す
るに必要な流速を達成することが可能である。この装置
は、ブロワー１３８が必要とする電力も最小にする。こ
れらの変形の構成に使用される全ての材料は、フッ素に
対し相溶性のあるものであり、放電領域１１２における
電界を歪ませることがない。羽根３０１は、ガスをブロ
ワーファン１３８から放電領域１１２へ滑らかに向ける
ように設計される。羽根３０１の終端も、従来技術の羽
根より放電領域１１２の方へさらに延ばされ、放電領域
１１２に到達する前のガスの淀の発生を防ぐ。この実施
例において従来技術のように、ガス取入れ部３０３は、
ガスの一部を濾過のために吸い出す。しかしながら、取
入れ部３０３は、領域１１２から離れたところでガスを
吸い出すことを可能にする延長部３０５を含む。これ
は、羽根３０１が電極放電領域に入る前に流れを回復さ
せることを可能にする。
【００２０】陰極１０８と予備イオン化装置１３０のど
ちらの側にも、セラミック絶縁体３０７がある。絶縁体
３０７は放電領域１１２の中の乱流を減じる。絶縁体３
０７は、酸化アルミニウムのようなセラミック製である
ことが望ましく、それにより高電圧の電極から接地され
たハウジングへのアークを引き起こすことなく、流れの
誘導を行う。従来技術において、カットオフ羽根１４６
は、ガスが放電領域１１２を迂回することを防ぐために
含まれていた。この羽根は、取り除かれ、陽極１１０の
支持体３０９が下向きに延ばされることが望ましく、そ
れにより横向きブロワーの効率を改善し、放電領域を迂
回するガスの量も最小にする。従来技術において、出口
羽根１５０は、放電領域を出た熱せられたガスが熱交換
器１５４を通ることを確保するために用いられていた。
しかしながら、羽根１５０が支持体１１４の底の近くに
取り付けられていたため、放電領域を出たガスが断面積
の小さい領域から断面積の非常に大きい領域へ行く。こ
の構成が、放電領域の外へ通過した時にガスの流れを崩
す結果を招き、放電領域１１２を通るガスの円滑な通過
を妨げる非常に乱れた領域を引き起こす。本発明の好ま
しい実施例では、羽根１５０は、陽極１１０と支持体３
０９の間に装着された出口羽根３１１に置き換えられ
る。羽根３１１は、絶縁体３０７と関連して、流れ断面
積の緩やかな変化を可能にする。この緩やかな変化は流
速の崩れを減らし、それにより放電領域１１２の外の領
域の乱れを最小にする。さらに、羽根３１１の滑らかな
弧は、熱せられたガスの熱交換器１５４への方向付けを
助ける。
【００２１】羽根１４８は出口羽根３１３に置き換えら
れることが望ましい。羽根３１３は、ハウジング１０２
から従来技術の羽根１４８より大きく延ばされ、そのよ
うにしてガスが放電領域１１２を出た時に流速の減少を
妨ぐことを助ける。羽根３１３も曲面３１５を含み、そ
れは羽根３１１と関連して、放電領域を出た熱せられた
ガスの流れを熱交換器１５４の方へ円滑に向けなおす。
図４は、陰極／予備イオン化装置の斜視図である。前に
記述したように、予備イオン化装置１３０が陰極１０８
のどちらの側にもある。放電領域１１２を通るガスの流
れを促進するように設計されたセラミック絶縁体３０７
が、各予備イオン化装置１３０を囲んでいる。図５は、
放電領域１１２の下流において測定された流れの乱れの
グラフである。２００マイクロ秒オーダーの時間スケー
ルにおける速度変化を分析することができる熱線風速計
が、これらの計測に使用された。曲線５０１は、図１に
示した従来技術の装置において計測された乱れを示す。
曲線５０３は、図３に示した本発明の好ましい実施例に
おいて計測された乱れを図示する。速度のピークからピ
ークの軌跡によれば、チャンバーの変形は、乱れのレベ
ルを約３分の１に減少させた。さらに、変形されたチャ
ンバーによって同一ブロワー速度に対して平均流速は約
１７パーセント上昇した。
【００２２】図６は、本発明により製作されたエキシマ
ーレーザーにおける出力パワー対繰返し速度を示すグラ
フである。図示するように、出力パワーは、繰返し速度
に対し１kHz で、約１１ワットに達するまで直線的に比
例する。図７は、変形されたエキシマーレーザーにおけ
るパルスエネルギー安定性データを提供する。パルスエ
ネルギー安定性は、マイクロリトグラフに対する応用に
おいて特に重要である。グラフ７０１は、パルスエネル
ギー変動の３シグマ値が、５０パルスウインドウに対し
５ないし５パーセント以下であることを示している。図
８は、本発明のもう一つの実施例を示す。この実施例に
おいては、出口羽根３１１は出口羽根８０１に置き換え
られている。羽根８０１の目的は同じであるが、それ
は、熱交換器１５４に向かって下方へ延びる前に大きく
チャンバーハウジングの方へ延びている。羽根８０３は
陽極アッセンブリーの前縁に加えられ、それによって更
にこの場所における乱れを減らし、放電領域１１２を通
る流れを促進する。
【００２３】この技術に通じた人々によって理解される
ように、本発明は、それらの精神や本質的特徴から外れ
ることなく他の特有の形態によって具体化されるかもし
れない。それ故に、ここでの公開と記述は、例示であっ
て限定的なものではないということを意図しており、本
発明の範囲は、以下の特許請求の範囲に示される。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、従来技術による予備イオン化装置を含
むエキシマーレーザーの概略端面図である。
【図２】図２は、図１に示したエキシマーレーザーの陰
極と予備イオン化装置の斜視図である。
【図３】図３は、本発明によるエキシマーレーザーの概
略端面図である。
【図４】図４は、本発明による陰極及び予備イオン化装
置の斜視図である。
【図５】図５は、放電領域のすぐ下流において計測され
た流れの乱れのグラフである。
【図６】図６は、本発明により製作されたエキシマーレ
ーザーの出力パワー対反復速度を示すグラフである。
【図７】図７は、変形されたエキシマーレーザーのパル
スエネルギー安定性データを提供する。
【図８】図８は、本発明の他の実施例の図である。
【符号の説明】
１００ レーザー １０２、１０４ 半部材 １０６ Ｏリング １０８ 陰極 １１０ 陽極 １１２ 放電領域 １１４ ベース部品 １１６ 導電部品 １１８ 主絶縁板 １２０ 金属棒 １２２ 絶縁ブッシュ １３０ 予備イオン化装置 １３２ 管 １３４ 電気伝導体 １３８ ファン １４４、１４４ 羽根 １４６、１４８ 羽根 １５２ ガス取入れ部 １５４ 熱交換機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード ジー モートン アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92177 サン ディエゴ アグアミール ロード 17786 (72)発明者 イーゴル ヴィー フォメンコフ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92109 サン ディエゴ ジャーナル ウェイ 14390 (72)発明者 ウィリアム エヌ パートロ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92128 サン ディエゴ アルタ カー メル コート 12055−176 (56)参考文献 特開 昭62−181482（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−218082（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−205485（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−52466（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01S 3/097

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レーザーを放出することができるガスを
    含むレーザーキャビティを形成するハウジング構造と、 ハウジングの中に離れた関係で配置され放電領域を形成
    する第一と第二の電極と、前記第一の電極を前記ハウジング構造から絶縁する主絶
    縁体と 、 前記ガスを前記レーザーキャビティを通って循環させる
    ためのファンと、 前記ガスを冷却するために前記ハウジングの中に配置さ
    れた熱交換器と、 前記第一電極に近接して配置され、前記ガスが前記放電
    領域に入る前に通過するとき、前記放電領域におけるガ
    スの乱れを減少させる第一絶縁部材と、 前記第一電極に近接して配置され、前記ガスが前記放電
    領域を出た後に通過するとき、前記放電領域におけるガ
    スの乱れを減少させる第二絶縁部材と、 を包含するエキシマーレーザー。
  2. 【請求項２】 前記第一電極に隣接する予備イオン化装
    置をさらに包含し、前記第一絶縁部材が部分的に前記予
    備イオン化装置を取り囲む請求項１に記載のエキシマー
    レーザー。
  3. 【請求項３】 前記第一電極に隣接する第一予備イオン
    化装置であって、前記第一絶縁部材が部分的に前記第一
    予備イオン化装置を取り囲んでおり、 前記第二電極に隣接する第二予備イオン化装置であっ
    て、前記第二絶縁部材が部分的に前記第二予備イオン化
    装置を取り囲む、 をさらに包含する請求項１に記載のエキシマーレーザ
    ー。
  4. 【請求項４】 前記ファンを部分的に取り囲むアーチ状
    の羽根をさらに包含し、前記羽根がガスを前記ファンか
    ら前記放電領域へ向ける請求項１に記載のエキシマーレ
    ーザー。
  5. 【請求項５】 ガス吸引管をさらに包含し、前記ガス吸
    引管が前記羽根の一部を通過する入口を持ち、前記ファ
    ンからの前記ガスの一部が前記入口を通り抜ける請求項
    ４に記載のエキシマーレーザー。
  6. 【請求項６】 前記第二電極と組み合わせられた支持部
    材をさらに包含し、前記支持部材が前記第二電極と前記
    ファンの間に実質的に延びており、前記支持部材は前記
    ファンによって循環させられる前記ガスが前記放電領域
    を迂回することを防止する請求項１に記載のエキシマー
    レーザー。
  7. 【請求項７】 前記第二電極と組み合わせられた第一ア
    ーチ状羽根をさらに包含し、前記第一アーチ状羽根が前
    記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ向ける
    請求項１に記載のエキシマーレーザー。
  8. 【請求項８】 前記ハウジングと組み合わせられた第二
    アーチ状羽根をさらに包含し、前記第二アーチ状羽根が
    前記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ向け
    る請求項７に記載のエキシマーレーザー。
  9. 【請求項９】 前記ファンを取り囲む第一アーチ状羽根
    であって、該アーチ状羽根は、ガスを前記ファンから前
    記放電領域の方へ向け、 前記第二電極と組み合わせられた支持部材であって、該
    支持部材は、前記第二電極と前記ファンの間に延びてお
    り、前記支持部材は、前記ファンによって循環させられ
    る前記ガスが前記放電領域を迂回することを実質的に防
    止し、 前記第二電極及び前記支持部品と組み合わせられた第二
    アーチ状羽根と、 前記ハウジングと組み合わせられた第三アーチ状羽根で
    あって、前記第二アーチ状羽根と結合した前記第三アー
    チ状羽根は前記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器
    の方へ向ける、 をさらに包含する請求項１に記載のエキシマーレーザ
    ー。
  10. 【請求項１０】 レーザーを放出することができるガス
    を含むレーザーキャビティを形成するハウジング構造
    と、 第一の方向に沿って分離され、放電領域を形成する陰極
    と陽極と、 前記陰極を前記ハウジング構造から絶縁する主絶縁体
    と、 前記陰極に近接し、前記第一の方向を横断する第二の方
    向に沿って分離された第一予備イオン化装置と第二予備
    イオン化装置と、 前記陰極と前記第一予備イオン化装置に近接し、前記ガ
    スが前記放電領域に入る前に通過するとき前記放電領域
    におけるガスの乱れを減じる第一絶縁部材と、 前記陰極と前記第二予備イオン化装置に近接し、前記ガ
    スが前記放電領域を通り過ぎた後に通過するとき前記放
    電領域におけるガスの乱れを減じる第二絶縁部材と、 前記ガスを前記レーザーキャビティを通って循環させる
    ためのファンと、 前記ガスを冷却するために前記ハウジング構造の中に配
    置された熱交換器とを包含するエキシマーレーザー。
  11. 【請求項１１】 部分的に前記ファンを囲み、ガスを前
    記ファンから前記放電領域へ向ける第一アーチ状羽根
    と、 前記第二電極と組み合わせられた第二アーチ状羽根と、 前記ハウジング構造と組み合わせられた第三アーチ状羽
    根であって、該第二と第三のアーチ状羽根は前記放電領
    域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ向ける、 をさらに包含する請求項１０に記載のエキシマーレーザ
    ー。
  12. 【請求項１２】 陽極支持部材をさらに有し、該陽極支
    持部材が、前記陽極と前記ファンの間に実質的に延びて
    おり、前記支持部材は前記ファンによって循環させられ
    る前記ガスが前記放電領域を迂回することを実質的に防
    止する請求項１１に記載のエキシマーレーザー。
  13. 【請求項１３】 前記支持部材と組み合わせられた第四
    羽根をさらに包含し、前記ガスが前記放電領域に入る前
    に前記第四羽根が前記ガスの乱れを減じる請求項１２に
    記載のエキシマーレーザー。
  14. 【請求項１４】 前記第一と第二の絶縁部材が酸化アル
    ミニウムで作られている請求項１０に記載のエキシマー
    レーザー。
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Families Citing this family (104)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5748656A (en) * 1996-01-05 1998-05-05 Cymer, Inc. Laser having improved beam quality and reduced operating cost
JP3813269B2 (ja) * 1996-11-01 2006-08-23 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射システム
JP3917698B2 (ja) * 1996-12-12 2007-05-23 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザーアニール方法およびレーザーアニール装置
US5991324A (en) * 1998-03-11 1999-11-23 Cymer, Inc. Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser
US5901167A (en) * 1997-04-30 1999-05-04 Universal Laser Systems, Inc. Air cooled gas laser
US6330261B1 (en) 1997-07-18 2001-12-11 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser
US6757316B2 (en) * 1999-12-27 2004-06-29 Cymer, Inc. Four KHz gas discharge laser
US6014397A (en) * 1998-06-02 2000-01-11 Cymer, Inc. Laser chamber incorporating ceramic insulators coated with dielectric material
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6466599B1 (en) 1999-04-07 2002-10-15 Lambda Physik Ag Discharge unit for a high repetition rate excimer or molecular fluorine laser
US6208675B1 (en) 1998-08-27 2001-03-27 Cymer, Inc. Blower assembly for a pulsed laser system incorporating ceramic bearings
US6061376A (en) * 1998-08-28 2000-05-09 Cymer, Inc. Tangential fan for excimer laser
US6034984A (en) * 1998-08-28 2000-03-07 Cymer, Inc. Tangential fan with cutoff assembly and vibration control for electric discharge laser
US6144686A (en) * 1998-08-28 2000-11-07 Cymer, Inc. Tangential fan with cutoff assembly and vibration control for electric discharge laser
US6023486A (en) * 1998-08-28 2000-02-08 Cymer, Inc. Soldered fan assembly for electric discharge laser
US6208674B1 (en) * 1998-09-18 2001-03-27 Cymer, Inc. Laser chamber with fully integrated electrode feedthrough main insulator
US6188709B1 (en) * 1998-09-18 2001-02-13 Cymer, Inc. Aerodynamic electrode support bar
WO2000038286A1 (en) * 1998-12-15 2000-06-29 Cymer, Inc. ArF LASER WITH LOW PULSE ENERGY AND HIGH REP RATE
US6965624B2 (en) * 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6727731B1 (en) 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
US6795474B2 (en) * 2000-11-17 2004-09-21 Cymer, Inc. Gas discharge laser with improved beam path
US6882674B2 (en) * 1999-12-27 2005-04-19 Cymer, Inc. Four KHz gas discharge laser system
US7856044B2 (en) 1999-05-10 2010-12-21 Cymer, Inc. Extendable electrode for gas discharge laser
US6414979B2 (en) 2000-06-09 2002-07-02 Cymer, Inc. Gas discharge laser with blade-dielectric electrode
US6546036B1 (en) 1999-06-08 2003-04-08 Lambda Physik Ag Roof configuration for laser discharge electrodes
US6785316B1 (en) 1999-08-17 2004-08-31 Lambda Physik Ag Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
DE10190427T1 (de) 2000-01-25 2002-06-06 Lambda Physik Ag Energieüberwachungsvorrichtung für einen Fluormolekül-Laser
JP3389912B2 (ja) * 2000-02-08 2003-03-24 ウシオ電機株式会社 ガスレーザ装置
US6480517B1 (en) 2000-02-22 2002-11-12 Tuilaser Ag Shadow device for a gas laser
US6522679B1 (en) 2000-02-22 2003-02-18 Tuilaser Gas laser discharge unit
US6782029B1 (en) 2000-02-22 2004-08-24 Tuilaser Ag Dedusting unit for a laser optical element of a gas laser and method for assembling
US6493375B1 (en) 2000-02-22 2002-12-10 Tuilaser Ag Adjustable mounting unit for an optical element of a gas laser
US6603790B1 (en) 2000-02-22 2003-08-05 Hans Kodeda Gas laser and a dedusting unit thereof
US6804284B1 (en) 2000-02-22 2004-10-12 Tuilaser Ag Optical element holding and extraction device
US6859482B1 (en) 2000-02-22 2005-02-22 Tuilaser Ag Modular gas laser discharge unit
US6570901B2 (en) 2000-02-24 2003-05-27 Lambda Physik Ag Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes
US6847671B1 (en) 2000-03-29 2005-01-25 Lambda Physik Ag Blower for gas laser
JP3884213B2 (ja) * 2000-03-31 2007-02-21 三菱電機株式会社 レーザ発振器
WO2001084678A2 (en) 2000-04-18 2001-11-08 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US7190708B2 (en) 2000-11-01 2007-03-13 Cymer, Inc. Annealed copper alloy electrodes for fluorine containing gas discharge lasers
US6711202B2 (en) 2000-06-09 2004-03-23 Cymer, Inc. Discharge laser with porous insulating layer covering anode discharge surface
US6363094B1 (en) * 2000-06-09 2002-03-26 Cymer, Inc. Gas discharge laser electrode with reduced sensitivity to adverse boundary layer effects
US6466602B1 (en) * 2000-06-09 2002-10-15 Cymer, Inc. Gas discharge laser long life electrodes
US6690706B2 (en) 2000-06-09 2004-02-10 Cymer, Inc. High rep-rate laser with improved electrodes
US7132123B2 (en) * 2000-06-09 2006-11-07 Cymer, Inc. High rep-rate laser with improved electrodes
US6560263B1 (en) 2000-06-09 2003-05-06 Cymer, Inc. Discharge laser having electrodes with sputter cavities and discharge peaks
US7180081B2 (en) * 2000-06-09 2007-02-20 Cymer, Inc. Discharge produced plasma EUV light source
US6654403B2 (en) 2000-06-09 2003-11-25 Cymer, Inc. Flow shaping electrode with erosion pad for gas discharge laser
US6904073B2 (en) * 2001-01-29 2005-06-07 Cymer, Inc. High power deep ultraviolet laser with long life optics
US6570899B1 (en) * 2000-08-28 2003-05-27 Komatsu Ltd. Gas laser device
US6771685B1 (en) * 2000-08-28 2004-08-03 Komatsu, Ltd. Discharge electrodes connecting structure for laser apparatus and laser apparatus therewith
US6507596B1 (en) * 2000-09-08 2003-01-14 Komatsu Ltd. Gas laser apparatus
US6628693B1 (en) * 2000-09-18 2003-09-30 Komatsu Ltd. Discharge electrode for laser device
US6839372B2 (en) * 2000-11-17 2005-01-04 Cymer, Inc. Gas discharge ultraviolet laser with enclosed beam path with added oxidizer
US20050025882A1 (en) * 2001-01-29 2005-02-03 Partlo William N. Optical elements with protective undercoating
US6704339B2 (en) * 2001-01-29 2004-03-09 Cymer, Inc. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control
US7230965B2 (en) * 2001-02-01 2007-06-12 Cymer, Inc. Anodes for fluorine gas discharge lasers
US7079564B2 (en) * 2001-04-09 2006-07-18 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US7039086B2 (en) * 2001-04-09 2006-05-02 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US7230964B2 (en) * 2001-04-09 2007-06-12 Cymer, Inc. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control
US7009140B2 (en) * 2001-04-18 2006-03-07 Cymer, Inc. Laser thin film poly-silicon annealing optical system
US7061959B2 (en) * 2001-04-18 2006-06-13 Tcz Gmbh Laser thin film poly-silicon annealing system
US20050259709A1 (en) * 2002-05-07 2005-11-24 Cymer, Inc. Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate
DE50107572D1 (de) * 2001-07-05 2006-02-09 Tuilaser Ag Gaslaser
US7088758B2 (en) 2001-07-27 2006-08-08 Cymer, Inc. Relax gas discharge laser lithography light source
JP2003060270A (ja) * 2001-08-10 2003-02-28 Gigaphoton Inc パルス発振ガスレーザ装置
US6998620B2 (en) * 2001-08-13 2006-02-14 Lambda Physik Ag Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection
US7830934B2 (en) * 2001-08-29 2010-11-09 Cymer, Inc. Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing
US7339973B2 (en) * 2001-09-13 2008-03-04 Cymer, Inc. Electrodes for fluorine gas discharge lasers
US7095774B2 (en) * 2001-09-13 2006-08-22 Cymer, Inc. Cathodes for fluorine gas discharge lasers
US20050100072A1 (en) * 2001-11-14 2005-05-12 Rao Rajasekhar M. High power laser output beam energy density reduction
US7671349B2 (en) * 2003-04-08 2010-03-02 Cymer, Inc. Laser produced plasma EUV light source
US7301980B2 (en) * 2002-03-22 2007-11-27 Cymer, Inc. Halogen gas discharge laser electrodes
JP4484697B2 (ja) * 2002-05-07 2010-06-16 サイマー インコーポレイテッド 長寿命光学部品を有する高出力遠紫外線レーザ
KR101024559B1 (ko) 2002-05-07 2011-03-31 사이머 인코포레이티드 수명이 긴 광학기구를 갖춘 고 전력 딥 자외선 레이저
US6999492B2 (en) * 2002-11-20 2006-02-14 Lambda Physik Ag Reduced-maintenance excimer laser with oil-free solid state pulser
US7741639B2 (en) * 2003-01-31 2010-06-22 Cymer, Inc. Multi-chambered excimer or molecular fluorine gas discharge laser fluorine injection control
US20040254567A1 (en) * 2003-02-12 2004-12-16 Holz Frank G. Surgical method for ablating tissue
US7277188B2 (en) * 2003-04-29 2007-10-02 Cymer, Inc. Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate
US20050286599A1 (en) * 2004-06-29 2005-12-29 Rafac Robert J Method and apparatus for gas discharge laser output light coherency reduction
US20060222034A1 (en) 2005-03-31 2006-10-05 Cymer, Inc. 6 Khz and above gas discharge laser system
US7633989B2 (en) * 2005-06-27 2009-12-15 Cymer, Inc. High pulse repetition rate gas discharge laser
US8379687B2 (en) 2005-06-30 2013-02-19 Cymer, Inc. Gas discharge laser line narrowing module
US7706424B2 (en) * 2005-09-29 2010-04-27 Cymer, Inc. Gas discharge laser system electrodes and power supply for delivering electrical energy to same
US20070071047A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 Cymer, Inc. 6K pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements
US7317179B2 (en) 2005-10-28 2008-01-08 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate
US7679029B2 (en) 2005-10-28 2010-03-16 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations
US7321607B2 (en) * 2005-11-01 2008-01-22 Cymer, Inc. External optics and chamber support system
US8814522B2 (en) * 2007-06-15 2014-08-26 Cymer, Llc Cross-flow fan impeller for a transversley excited, pulsed, gas discharge laser
US7812329B2 (en) * 2007-12-14 2010-10-12 Cymer, Inc. System managing gas flow between chambers of an extreme ultraviolet (EUV) photolithography apparatus
US7655925B2 (en) * 2007-08-31 2010-02-02 Cymer, Inc. Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source
JP5499432B2 (ja) * 2007-10-05 2014-05-21 ソニー株式会社 撮像装置
US8519366B2 (en) * 2008-08-06 2013-08-27 Cymer, Inc. Debris protection system having a magnetic field for an EUV light source
US7756171B2 (en) * 2008-10-21 2010-07-13 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
US7720120B2 (en) * 2008-10-21 2010-05-18 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
US7751453B2 (en) * 2008-10-21 2010-07-06 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
JP5687488B2 (ja) 2010-02-22 2015-03-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
RU2467442C1 (ru) * 2011-06-27 2012-11-20 Олег Борисович Христофоров Эксимерный лазер
CN102779706B (zh) * 2011-10-20 2015-07-22 中国科学院光电研究院 一种放电腔内的气动结构
CN102969645B (zh) * 2012-11-21 2015-07-15 中国科学院光电研究院 双电极放电腔的导流装置及应用其的放电腔、准分子激光器
WO2015186224A1 (ja) * 2014-06-05 2015-12-10 ギガフォトン株式会社 レーザチャンバ

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4005374A (en) * 1975-03-31 1977-01-25 Xonics, Inc. Pulsed gas laser with low-inductance flow-through electrodes
DE3242085A1 (de) * 1982-11-13 1984-05-17 Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt Vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung
US4611327A (en) * 1983-11-25 1986-09-09 Amoco Corporation Gas transport laser system
EP0637106B1 (en) * 1984-10-09 1996-12-18 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Discharge excitation type laser device
US4771436A (en) * 1986-07-29 1988-09-13 Amada Engineering & Service Co., Inc. Gas laser oscillator having a gas flow smoothing device to smooth gas flow in the electrical discharge region
US4891818A (en) * 1987-08-31 1990-01-02 Acculase, Inc. Rare gas-halogen excimer laser
US5029177A (en) * 1988-01-15 1991-07-02 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
US5023884A (en) * 1988-01-15 1991-06-11 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
US4959840A (en) * 1988-01-15 1990-09-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser
DE3914919A1 (de) * 1989-05-06 1990-11-08 Heraeus Holding Entladungsvorrichtung
DE3916008C1 (ja) * 1989-05-17 1990-11-08 Heraeus Holding Gmbh, 6450 Hanau, De
US5337330A (en) * 1992-10-09 1994-08-09 Cymer Laser Technologies Pre-ionizer for a laser
US5373523A (en) * 1992-10-15 1994-12-13 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Excimer laser apparatus
US5377215A (en) * 1992-11-13 1994-12-27 Cymer Laser Technologies Excimer laser
US5319663A (en) * 1992-12-18 1994-06-07 Lumonics Inc. Dust precipitation in a gas laser
CA2322005C (en) * 1998-03-04 2003-03-18 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band krf excimer laser

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