JPH10223955A - 高パルス繰返し数イクシマーレーザーのための空気力学的チャンバー設計 - Google Patents
高パルス繰返し数イクシマーレーザーのための空気力学的チャンバー設計Info
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- JPH10223955A JPH10223955A JP10029584A JP2958498A JPH10223955A JP H10223955 A JPH10223955 A JP H10223955A JP 10029584 A JP10029584 A JP 10029584A JP 2958498 A JP2958498 A JP 2958498A JP H10223955 A JPH10223955 A JP H10223955A
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 １キロヘルツ(kHz）の繰返し数のパルスを達
成可能なイクシマーレーザーを提供すること 【解決手段】 １kHz かそれ以上の連続パルス速度にお
けるアークの起こらない動作を可能にしたイクシマーレ
ーザーチャンバーが提供される。チャンバーは、流れ設
計標準によってうまく形成されたチャンネルをつくるた
めに必要な電極設計標準を調整して、比較的高いブロワ
ー効率で高いクリアー速度を達成する。陰極及びプリイ
オナイザーアッセンブリーの両側に置かれたセラミック
絶縁体は、電極領域における乱れを減らすことによっ
て、放電領域を通るガスの流れを高める。一連の特別に
設計されたフローベーンはさらにガスの流れを高める。
ブロワーファンを出たガスは、一つのベーンによって放
電領域の中へ導かれる。
成可能なイクシマーレーザーを提供すること 【解決手段】 １kHz かそれ以上の連続パルス速度にお
けるアークの起こらない動作を可能にしたイクシマーレ
ーザーチャンバーが提供される。チャンバーは、流れ設
計標準によってうまく形成されたチャンネルをつくるた
めに必要な電極設計標準を調整して、比較的高いブロワ
ー効率で高いクリアー速度を達成する。陰極及びプリイ
オナイザーアッセンブリーの両側に置かれたセラミック
絶縁体は、電極領域における乱れを減らすことによっ
て、放電領域を通るガスの流れを高める。一連の特別に
設計されたフローベーンはさらにガスの流れを高める。
ブロワーファンを出たガスは、一つのベーンによって放
電領域の中へ導かれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、概略的にはレーザ
ー、さらに具体的には１キロヘルツ(kHz）の繰返し数の
パルスを達成可能なイクシマーレーザーに関する。
ー、さらに具体的には１キロヘルツ(kHz）の繰返し数の
パルスを達成可能なイクシマーレーザーに関する。
【０００２】
【従来の技術】要求される集積回路のサイズが小さくな
るにつれ、光学的リソグラフィー技術の要求が高くな
る。これらの要求は、光源の種類の探求と同時に、光学
的投影システムを制限している近接回折の発達へ導い
た。同様な光学システムが与えられるとすると、より短
い波長で動作する光源は、より小さな機構を作るための
それらの能力から、より長い波長で動作する光源よりも
望ましい。ガス放電レーザー、特にイクシマーレーザー
は、高いパワーと短い放電波長の組み合わせのためにこ
れらの応用に対して唯一適している。例えば、クリプト
ンふっ化物(KrF）イクシマーレーザーの波長は約248.4
ナノメーターである。イクシマーレーザーは一般にパル
スモードで動作する。パルスは、そのもとの熱的状態に
戻すのに十分な時間で放電領域の中のガスを供給するこ
とが要求される。静的ガスシステムにおいては、ガスは
この状態に到達するために秒オーダーの時間を要し、そ
れにより繰返し数に厳しい制限が加えられる。現代のレ
ーザーシステムは、代表するように、ガス放電領域中の
ガスを能動的に循環させること、代表的にはガスを循環
させるための横流ブロワーファンを使用することにより
高い繰返し数を達成している。
るにつれ、光学的リソグラフィー技術の要求が高くな
る。これらの要求は、光源の種類の探求と同時に、光学
的投影システムを制限している近接回折の発達へ導い
た。同様な光学システムが与えられるとすると、より短
い波長で動作する光源は、より小さな機構を作るための
それらの能力から、より長い波長で動作する光源よりも
望ましい。ガス放電レーザー、特にイクシマーレーザー
は、高いパワーと短い放電波長の組み合わせのためにこ
れらの応用に対して唯一適している。例えば、クリプト
ンふっ化物(KrF）イクシマーレーザーの波長は約248.4
ナノメーターである。イクシマーレーザーは一般にパル
スモードで動作する。パルスは、そのもとの熱的状態に
戻すのに十分な時間で放電領域の中のガスを供給するこ
とが要求される。静的ガスシステムにおいては、ガスは
この状態に到達するために秒オーダーの時間を要し、そ
れにより繰返し数に厳しい制限が加えられる。現代のレ
ーザーシステムは、代表するように、ガス放電領域中の
ガスを能動的に循環させること、代表的にはガスを循環
させるための横流ブロワーファンを使用することにより
高い繰返し数を達成している。
【０００３】“ガス運搬レーザーシステム”と題される
アメリカ特許No.4,611,327は、高平均パワー、繰返し数
パルスガスレーザーについて記述している。その開示さ
れたシステムは、偏心して取り付けられた電極アッセン
ブリーを高速で通り抜けるガスを運搬するために二つの
横流ブロワーを利用している。そのシステムは、500Hz
のパルス数と１００ワット(W）の平均出力パワーを達成
した。“ガスレーザー”と題されるアメリカ特許No.5,0
33,056は、閉ガス流路を有するガスレーザーについて記
述している。ガスは、高速で放電チャンバーを通り、電
極アッセンブリーを通過して流れる。そのレーザーは、
所望の流速を達成するために、交差流ブロワーと、良く
形成された経路とを使用している。乱れは抑制され、適
当な圧力差は一対のバッフル体の使用により得られてい
る。
アメリカ特許No.4,611,327は、高平均パワー、繰返し数
パルスガスレーザーについて記述している。その開示さ
れたシステムは、偏心して取り付けられた電極アッセン
ブリーを高速で通り抜けるガスを運搬するために二つの
横流ブロワーを利用している。そのシステムは、500Hz
のパルス数と１００ワット(W）の平均出力パワーを達成
した。“ガスレーザー”と題されるアメリカ特許No.5,0
33,056は、閉ガス流路を有するガスレーザーについて記
述している。ガスは、高速で放電チャンバーを通り、電
極アッセンブリーを通過して流れる。そのレーザーは、
所望の流速を達成するために、交差流ブロワーと、良く
形成された経路とを使用している。乱れは抑制され、適
当な圧力差は一対のバッフル体の使用により得られてい
る。
【０００４】“レーザー光線の発生のための装置”と題
されるアメリカ特許No.4,637,031は、大気圧レーザーを
横断的に励起された高いパルス周波数について記述して
いる。矩形または正方形の断面のレーザーチャンバーが
使われている。一つ又はそれ以上のファンで循環するレ
ーザーガスは、放電チャンバーに入いる前に冷却器を通
過する。“電気放電領域中のガスの流れを滑らかにする
ためのガス流スムージング装置を有するガスレーザー発
生器”と題されるアメリカ特許No.4,771,436は、高速、
軸流ガスレーザー発振器について記述する。安定した放
電を維持しながら非常に高い流れ速度を達成するため
に、ガス流スムージング装置が放電領域のガス入口に装
備されている。その好ましい実施例は、スムージング機
能を達成するために円筒メッシュを使用している。
されるアメリカ特許No.4,637,031は、大気圧レーザーを
横断的に励起された高いパルス周波数について記述して
いる。矩形または正方形の断面のレーザーチャンバーが
使われている。一つ又はそれ以上のファンで循環するレ
ーザーガスは、放電チャンバーに入いる前に冷却器を通
過する。“電気放電領域中のガスの流れを滑らかにする
ためのガス流スムージング装置を有するガスレーザー発
生器”と題されるアメリカ特許No.4,771,436は、高速、
軸流ガスレーザー発振器について記述する。安定した放
電を維持しながら非常に高い流れ速度を達成するため
に、ガス流スムージング装置が放電領域のガス入口に装
備されている。その好ましい実施例は、スムージング機
能を達成するために円筒メッシュを使用している。
【０００５】前記より、ガス流を増加させたイクシマー
レーザーチャンバーが高繰返し数パルスを達成するため
に要求されている、ということが明らかにされた。
レーザーチャンバーが高繰返し数パルスを達成するため
に要求されている、ということが明らかにされた。
【０００６】
【課題を解決する手段】本発明は、１kHz かそれ以上の
繰返し数パルスにおけるアークフリー動作が可能なイク
シマーレーザーチャンバーを提供する。チャンバーは、
高清算速度を達成するために必要な流れ設計標準によっ
て良く形成された放電チャンネルをつくるためはの電極
設計標準を均衡させる。良く限定された清算速度は、放
電領域の中のガスが新しいガスと置き換わり、それによ
って光学的及び電気的非等質性がないレーザー媒質を提
供することができる速度である。本発明は、陰極／プリ
イオナイザーアッセンブリーの両側に置かれたセラミッ
ク絶縁体を利用する。セラミック絶縁体は、電極領域の
乱れを減ずることにより放電領域を通るガスの流量を増
強する。セラミック材料は、高電圧電極から接地された
チャンバーハウジングへのアークを防ぐために使われ
る。
繰返し数パルスにおけるアークフリー動作が可能なイク
シマーレーザーチャンバーを提供する。チャンバーは、
高清算速度を達成するために必要な流れ設計標準によっ
て良く形成された放電チャンネルをつくるためはの電極
設計標準を均衡させる。良く限定された清算速度は、放
電領域の中のガスが新しいガスと置き換わり、それによ
って光学的及び電気的非等質性がないレーザー媒質を提
供することができる速度である。本発明は、陰極／プリ
イオナイザーアッセンブリーの両側に置かれたセラミッ
ク絶縁体を利用する。セラミック絶縁体は、電極領域の
乱れを減ずることにより放電領域を通るガスの流量を増
強する。セラミック材料は、高電圧電極から接地された
チャンバーハウジングへのアークを防ぐために使われ
る。
【０００７】特別に設計されたフローベーンのシリーズ
は、本発明のレーザーチャンバーに含まれることが望ま
しい。ブロワーファンを出たガスは１つのベーンによっ
て放電領域へ導かれる。陽極支持棒は下方へ延長され、
それによりまた横流ブロワーの効率を改善し、放電領域
を迂回するガスの量を最小にする。一対のベーンは、放
電領域を出たガスをなめらかに熱交換器の方向に向ける
ために使われる。セラミック絶縁体は一対のベーンと共
に、電極領域を通り過ぎる流速の低下を抑え、それによ
って乱れを最小にする。更に進んだ本質の理解と本発明
の利点は、明細書の残りの部分と図を参照することによ
り実現されるであろう。
は、本発明のレーザーチャンバーに含まれることが望ま
しい。ブロワーファンを出たガスは１つのベーンによっ
て放電領域へ導かれる。陽極支持棒は下方へ延長され、
それによりまた横流ブロワーの効率を改善し、放電領域
を迂回するガスの量を最小にする。一対のベーンは、放
電領域を出たガスをなめらかに熱交換器の方向に向ける
ために使われる。セラミック絶縁体は一対のベーンと共
に、電極領域を通り過ぎる流速の低下を抑え、それによ
って乱れを最小にする。更に進んだ本質の理解と本発明
の利点は、明細書の残りの部分と図を参照することによ
り実現されるであろう。
【０００８】
【発明の実施の形態】高パルス繰返し数を達成するため
の一つの原理的な制約は、放電領域中のガスが置き換わ
ることができる速さである。放電領域中のガスは、各個
々のパルスの間に、レーザー媒質が光学的、電気的非等
質性から解放されるために完全に置き換えられなければ
ならない。高度な再現性でパルスを発生させるために、
エネルギー量と空間的強度分布の両方が要求される。パ
ルスの間に放電領域中のガスの置き換えをすることは、
パルス速度が増加するに従って、一般に、ブロワーファ
ンアッセンブリーにより高い要求をする。増加したファ
ン速度は、ファン、モーター、ベアリング及び他の駆動
系機材により高い機械的応力をもたらす。
の一つの原理的な制約は、放電領域中のガスが置き換わ
ることができる速さである。放電領域中のガスは、各個
々のパルスの間に、レーザー媒質が光学的、電気的非等
質性から解放されるために完全に置き換えられなければ
ならない。高度な再現性でパルスを発生させるために、
エネルギー量と空間的強度分布の両方が要求される。パ
ルスの間に放電領域中のガスの置き換えをすることは、
パルス速度が増加するに従って、一般に、ブロワーファ
ンアッセンブリーにより高い要求をする。増加したファ
ン速度は、ファン、モーター、ベアリング及び他の駆動
系機材により高い機械的応力をもたらす。
【０００９】ブロワーファンに高いガス処理量を要求す
ることに加えて、全体のチャンバーは、放電領域近くの
乱れと淀みの領域を最小にしながら、必要な流速を達成
するように設計されなければならない。さらに、陰極と
陽極は、典型的には、レーザー光学キャビティの軸に沿
った電界を適切に集中させるようにするためにそれらに
電極設計の制約を有する。高電圧電極からアース電位に
ある金属チャンバーハウジングへの著しいアークオーバ
ーを避けるために、高パルス反復速度イクシマーレーザ
ーの設計における別の制約が必要である。イクシマーレ
ーザーに使用されている代表的な電圧は１０から２０キ
ロボルト(kV)の範囲である。これらの電圧レベルの表面
における絶縁材料に沿ったトラッキングも潜在的な問題
である。予定した放電領域の外で起こるアークオーバー
は、レーザー媒質をポンピングするために利用できるエ
ネルギーを減らし、それによってＵＶパルスエネルギー
が減少する。アークオーバーは、電極以外にチャンバー
部材の腐食の原因にもなり、それによりシステムの寿命
が制限される。さらには、もし不可能でないならば、ア
ークオーバーは、線量制御を困難にする不安定なパルス
エネルギーを引き起こす。
ることに加えて、全体のチャンバーは、放電領域近くの
乱れと淀みの領域を最小にしながら、必要な流速を達成
するように設計されなければならない。さらに、陰極と
陽極は、典型的には、レーザー光学キャビティの軸に沿
った電界を適切に集中させるようにするためにそれらに
電極設計の制約を有する。高電圧電極からアース電位に
ある金属チャンバーハウジングへの著しいアークオーバ
ーを避けるために、高パルス反復速度イクシマーレーザ
ーの設計における別の制約が必要である。イクシマーレ
ーザーに使用されている代表的な電圧は１０から２０キ
ロボルト(kV)の範囲である。これらの電圧レベルの表面
における絶縁材料に沿ったトラッキングも潜在的な問題
である。予定した放電領域の外で起こるアークオーバー
は、レーザー媒質をポンピングするために利用できるエ
ネルギーを減らし、それによってＵＶパルスエネルギー
が減少する。アークオーバーは、電極以外にチャンバー
部材の腐食の原因にもなり、それによりシステムの寿命
が制限される。さらには、もし不可能でないならば、ア
ークオーバーは、線量制御を困難にする不安定なパルス
エネルギーを引き起こす。
【００１０】１kHz のような非常に高い繰返し数パルス
においては、ちょうどレーザーモード体積を含む領域だ
けではなく、電極領域全体のガスを置き換えることが重
要になる。これは、もしガスが高電界を含む領域の外へ
全て一掃されないとすれば、放電中に発生するイオンの
寿命は次の放電の時の下流へのアークを引き起すに十分
な程長くなる。単純に、パルスを継続させるためにレー
ザー領域中に新しいガスを保つことは、一貫したパルス
エネルギーとビーム特性を保証するためには十分ではな
い。図１は、従来技術によるレーザー１００の断面図で
ある。このレーザーの概略の構成は、アメリカ公開特許
Nos.4,959,840(“レーザーの壁との間が絶縁されて装着
された電極を有するコンパクトイクシマーレーザー”と
題される。）、5,033,055(“コンパクトイクシマーレー
ザー”と題される。）、5,377,330(“レーザーのための
プリイオナイザー”と題される。）に相当し、これら全
ては、共通にこの出願の譲受人に譲渡され、如何なるそ
して全ての目的のために参照することによりここに組込
まれる。
においては、ちょうどレーザーモード体積を含む領域だ
けではなく、電極領域全体のガスを置き換えることが重
要になる。これは、もしガスが高電界を含む領域の外へ
全て一掃されないとすれば、放電中に発生するイオンの
寿命は次の放電の時の下流へのアークを引き起すに十分
な程長くなる。単純に、パルスを継続させるためにレー
ザー領域中に新しいガスを保つことは、一貫したパルス
エネルギーとビーム特性を保証するためには十分ではな
い。図１は、従来技術によるレーザー１００の断面図で
ある。このレーザーの概略の構成は、アメリカ公開特許
Nos.4,959,840(“レーザーの壁との間が絶縁されて装着
された電極を有するコンパクトイクシマーレーザー”と
題される。）、5,033,055(“コンパクトイクシマーレー
ザー”と題される。）、5,377,330(“レーザーのための
プリイオナイザー”と題される。）に相当し、これら全
ては、共通にこの出願の譲受人に譲渡され、如何なるそ
して全ての目的のために参照することによりここに組込
まれる。
【００１１】レーザー１００は一対の半部品１０２と１
０４によって形成されるハウジングを含む。半部品１０
２と１０４は組み合わされ、例えばハウジングの周囲を
巡って延びるＯリング１０６によってシールされる。陰
極１０８と接地された陽極１１０はハウジングの中で間
隔をあけた関係で配置される。陰極１０８と陽極１１０
は、金属の腐食を最小にし、それが作られているものの
腐食生成物でレーザーガスが汚染されることを避けるた
めに、適当な高純度金属で作られる。放電領域１１２
は、陰極１０８と陽極１１０の間に位置する。領域１１
２における放電は、陰極１０８に印加される２０kVオー
ダーの高電圧パルスによって引き起こされる。適当な導
電材料で作られたベース部品１１４は陽極１１０を支持
する。陽極１１０と部品１１４は、接地帰還ケージ（図
示せず）によってハウジング１０２に電気的に接続され
る。接地帰還ケージは多数のカットアウトを有し、それ
によりレーザー１００を通るガスの循環に微少な影響を
与える。
０４によって形成されるハウジングを含む。半部品１０
２と１０４は組み合わされ、例えばハウジングの周囲を
巡って延びるＯリング１０６によってシールされる。陰
極１０８と接地された陽極１１０はハウジングの中で間
隔をあけた関係で配置される。陰極１０８と陽極１１０
は、金属の腐食を最小にし、それが作られているものの
腐食生成物でレーザーガスが汚染されることを避けるた
めに、適当な高純度金属で作られる。放電領域１１２
は、陰極１０８と陽極１１０の間に位置する。領域１１
２における放電は、陰極１０８に印加される２０kVオー
ダーの高電圧パルスによって引き起こされる。適当な導
電材料で作られたベース部品１１４は陽極１１０を支持
する。陽極１１０と部品１１４は、接地帰還ケージ（図
示せず）によってハウジング１０２に電気的に接続され
る。接地帰還ケージは多数のカットアウトを有し、それ
によりレーザー１００を通るガスの循環に微少な影響を
与える。
【００１２】導電部品１１６は、陰極１０８に接続し、
主絶縁板１１８に隣接して配置される。主絶縁板１１８
は分離していて、ねじ山付きの金属棒をそれらから絶縁
する。ねじ山付きの金属棒１２０は、高電圧を陰極１０
８に導くために導電部品１１６と接続される。ねじ山付
きの１２０は、セラミックのような適当な材料で作られ
た絶縁ブッシュ１２２を通って延びる。上部ハウジング
部品１０２は下方に延びる壁部分１２４を含み、主絶縁
板１１８がハウジング部材１０２の上側の壁から離れ
る。Ｏリング１２６は、主絶縁板１１８の片側の導電部
材１１６の凹みに配置され、主絶縁板１１８のもう一方
の側の凹みに配置され、Ｏリング１２８は、板１１８の
中心部分がＯリングの間に圧縮状態で保持される。主絶
縁板１１８は、陰極１０８をハウジング構造の壁から電
気的に絶縁し、それにより陰極１０８と陽極１１０の間
に適正な放電が起こることを保証する。
主絶縁板１１８に隣接して配置される。主絶縁板１１８
は分離していて、ねじ山付きの金属棒をそれらから絶縁
する。ねじ山付きの金属棒１２０は、高電圧を陰極１０
８に導くために導電部品１１６と接続される。ねじ山付
きの１２０は、セラミックのような適当な材料で作られ
た絶縁ブッシュ１２２を通って延びる。上部ハウジング
部品１０２は下方に延びる壁部分１２４を含み、主絶縁
板１１８がハウジング部材１０２の上側の壁から離れ
る。Ｏリング１２６は、主絶縁板１１８の片側の導電部
材１１６の凹みに配置され、主絶縁板１１８のもう一方
の側の凹みに配置され、Ｏリング１２８は、板１１８の
中心部分がＯリングの間に圧縮状態で保持される。主絶
縁板１１８は、陰極１０８をハウジング構造の壁から電
気的に絶縁し、それにより陰極１０８と陽極１１０の間
に適正な放電が起こることを保証する。
【００１３】陰極１０８にコネクターロッド１２０と導
電部材１１６を通して電圧パルスが加えられたとき、放
電が領域１１２において生ずる。この放電は、領域１１
２付近のガスをイオン化し、ガスの間に引き起こされる
化学反応の原因になる。例えば、Ｋr とＦ2 は化学的に
反応しＫr Ｆを生成する。この化学反応が起こったと
き、光の形のエネルギーは、特定の波長において生成さ
れる。コヒーレントなエネルギーが、高い強度でそして
狭い光束で発生される。それは、キャビティーから窓
（図示せず）を通して放射される。１３０で全体的に示
すプリイオナイザーを、紫外線を導入することによって
ガスのイオン化を容易にするためにキャビティーの中に
配置する。その紫外線は、主放電領域におけるガスが陽
極１１０と陰極１０８の間で電気伝導になる直前のガス
へのコロナ放電によって生み出される。
電部材１１６を通して電圧パルスが加えられたとき、放
電が領域１１２において生ずる。この放電は、領域１１
２付近のガスをイオン化し、ガスの間に引き起こされる
化学反応の原因になる。例えば、Ｋr とＦ2 は化学的に
反応しＫr Ｆを生成する。この化学反応が起こったと
き、光の形のエネルギーは、特定の波長において生成さ
れる。コヒーレントなエネルギーが、高い強度でそして
狭い光束で発生される。それは、キャビティーから窓
（図示せず）を通して放射される。１３０で全体的に示
すプリイオナイザーを、紫外線を導入することによって
ガスのイオン化を容易にするためにキャビティーの中に
配置する。その紫外線は、主放電領域におけるガスが陽
極１１０と陰極１０８の間で電気伝導になる直前のガス
へのコロナ放電によって生み出される。
【００１４】プリイオナイザー１３０は、電極１０８と
１１０の間に配置され、第一の方向を横切る。望ましく
は直交する第二の軸方向にそれぞれを分離することがで
きる。プリイオナイザー１３０は、キャビティーの中
で、第一と第二の方向を横切る。望ましくは直交する第
三の方向に延びる。電極１０８と１１０もキャビティー
の中で第三の方向に延びる。この第三の方向は、図１に
おいて紙の面内であると考えられる。各プリイオナイザ
ー１３０は、高誘電率と絶縁耐力を有する適当な材料で
作られた中空の管１３２を含む。管１３２は、多結晶半
透明酸化アルミニウムのようなセラミック材料で作られ
ることが望ましい。その材料は、管１３２の外面におけ
るあらゆるコロナ放電が管に入ることを妨げることが望
ましい。
１１０の間に配置され、第一の方向を横切る。望ましく
は直交する第二の軸方向にそれぞれを分離することがで
きる。プリイオナイザー１３０は、キャビティーの中
で、第一と第二の方向を横切る。望ましくは直交する第
三の方向に延びる。電極１０８と１１０もキャビティー
の中で第三の方向に延びる。この第三の方向は、図１に
おいて紙の面内であると考えられる。各プリイオナイザ
ー１３０は、高誘電率と絶縁耐力を有する適当な材料で
作られた中空の管１３２を含む。管１３２は、多結晶半
透明酸化アルミニウムのようなセラミック材料で作られ
ることが望ましい。その材料は、管１３２の外面におけ
るあらゆるコロナ放電が管に入ることを妨げることが望
ましい。
【００１５】電気伝導体１３４は各管１３２の中に配置
される。導体１３４はアース電位に保たれているレーザ
ーハウジングに電気的に接合されることが望ましい。電
気伝導体１３６は管１３２の表面に配置され、電極１０
８のほぼ全長にわたって延びている。導電体１３６は、
組み合わされた管１３２の表面に適当な力をかけるよう
に束縛された弾性バネの形である。導電体１３６は、陰
極１０８の電位に保たれる。レーザーの中のガスの再循
環は、複数の扇１４０を持つファン１３８によってもた
らされる。ファン１３８は、経路１４２に沿って放電領
域１１２を通ってガスを動かす。ガスの流れを容易にす
るために、この装置はベーン１４４、１４６、１４８及
び１５０を有する。ほぼ円形断面のガス取入れ口１５２
は、濾過するためにガスの一部をハウジングの外に吸い
込み、これによりガスから塵や種々の汚染物を取り除
く。
される。導体１３４はアース電位に保たれているレーザ
ーハウジングに電気的に接合されることが望ましい。電
気伝導体１３６は管１３２の表面に配置され、電極１０
８のほぼ全長にわたって延びている。導電体１３６は、
組み合わされた管１３２の表面に適当な力をかけるよう
に束縛された弾性バネの形である。導電体１３６は、陰
極１０８の電位に保たれる。レーザーの中のガスの再循
環は、複数の扇１４０を持つファン１３８によってもた
らされる。ファン１３８は、経路１４２に沿って放電領
域１１２を通ってガスを動かす。ガスの流れを容易にす
るために、この装置はベーン１４４、１４６、１４８及
び１５０を有する。ほぼ円形断面のガス取入れ口１５２
は、濾過するためにガスの一部をハウジングの外に吸い
込み、これによりガスから塵や種々の汚染物を取り除
く。
【００１６】陰極１０８と陽極１１０の間の放電による
ガスに含まれる電気的エネルギーの大部分は、熱に変換
される。この熱は、放射状にフィンを有する水冷熱交換
機１５４による強制対流熱交換によって取り除かれる。
ファン１３８によってガスに対してなされる機械的作動
も最終的には、熱交換機１５４によって取り除かれる熱
に変換される。図２は、図１に示したイクシマーレーザ
ーの陰極とプリイオナイザーアッセンブリーの斜視図で
ある。この図の中で陰極１０８とプリイオナイザー管１
３２が、明確に示されている。図示したように、主絶縁
板１１８は４つに分離された板からなる。板１１８は、
例えばアルミニウム酸化物の一枚の板のような、単体の
絶縁材料から作られていてもよい。
ガスに含まれる電気的エネルギーの大部分は、熱に変換
される。この熱は、放射状にフィンを有する水冷熱交換
機１５４による強制対流熱交換によって取り除かれる。
ファン１３８によってガスに対してなされる機械的作動
も最終的には、熱交換機１５４によって取り除かれる熱
に変換される。図２は、図１に示したイクシマーレーザ
ーの陰極とプリイオナイザーアッセンブリーの斜視図で
ある。この図の中で陰極１０８とプリイオナイザー管１
３２が、明確に示されている。図示したように、主絶縁
板１１８は４つに分離された板からなる。板１１８は、
例えばアルミニウム酸化物の一枚の板のような、単体の
絶縁材料から作られていてもよい。
【００１７】管１３２の両端に配置されているのはブッ
シュ２０１である。ブッシュ２０１は、管１３２に沿っ
た導体１３６からレーザーハウジングへの放電やアーク
を防止する。ブッシュ２０１の材料は管１３２の材料と
同種のものが望ましい。更に望ましくは、ブッシュ２０
１の材料が管１３２の材料と同一であることである。管
１３２とブッシュ２０１は、単体の材料から作ることが
でき、それによって同一の高誘電特性が達成され、管１
３２とブッシュ２０１の間に如何なる接着剤も必要なく
なる。管１３２は、導体１３６に対していくつかの保持
部材２０３によって適所に保持される。保持部材２０３
は絶縁材料で作られることが望ましい。部材２０３は導
電材料によることもできるが、この構成は下流へのアー
クを引き起こすかもしれない。導電性保持部材は、部材
の近接した周囲の領域のコロナ放電の発生と干渉するか
もしれない。
シュ２０１である。ブッシュ２０１は、管１３２に沿っ
た導体１３６からレーザーハウジングへの放電やアーク
を防止する。ブッシュ２０１の材料は管１３２の材料と
同種のものが望ましい。更に望ましくは、ブッシュ２０
１の材料が管１３２の材料と同一であることである。管
１３２とブッシュ２０１は、単体の材料から作ることが
でき、それによって同一の高誘電特性が達成され、管１
３２とブッシュ２０１の間に如何なる接着剤も必要なく
なる。管１３２は、導体１３６に対していくつかの保持
部材２０３によって適所に保持される。保持部材２０３
は絶縁材料で作られることが望ましい。部材２０３は導
電材料によることもできるが、この構成は下流へのアー
クを引き起こすかもしれない。導電性保持部材は、部材
の近接した周囲の領域のコロナ放電の発生と干渉するか
もしれない。
【００１８】電気伝導体１３４と１３６はコンデンサー
の第一と第二プレートを形成する。管１３２はコンデン
サーの２つのプレートの間の誘電材料として作用する。
陰極電位のように高電圧が電気伝導体１３６に加られ、
電気伝導体１３４は接地されていることが望ましい。管
１３２の誘電材料は、誘電破壊をすることなく容量性コ
ロナ放電を助ける特性を持つ。２つの電気伝導体１３４
と１３６の間に電圧パルスが加えられたとき、電荷は、
管１３２の表面から生じるコロナ放電を引き起こす。こ
れらコロナ放電は、領域１１２を渡る電磁波を放射す
る。電磁波は、陰極１０８と陽極１１０の間で電圧パル
スが生じたときに領域１１２の中でガスのイオン化が起
こりやすいようにガスを予備的にイオン化を行う。
の第一と第二プレートを形成する。管１３２はコンデン
サーの２つのプレートの間の誘電材料として作用する。
陰極電位のように高電圧が電気伝導体１３６に加られ、
電気伝導体１３４は接地されていることが望ましい。管
１３２の誘電材料は、誘電破壊をすることなく容量性コ
ロナ放電を助ける特性を持つ。２つの電気伝導体１３４
と１３６の間に電圧パルスが加えられたとき、電荷は、
管１３２の表面から生じるコロナ放電を引き起こす。こ
れらコロナ放電は、領域１１２を渡る電磁波を放射す
る。電磁波は、陰極１０８と陽極１１０の間で電圧パル
スが生じたときに領域１１２の中でガスのイオン化が起
こりやすいようにガスを予備的にイオン化を行う。
【００１９】図３は本発明によるイクシマーレーザーの
概略図である。このレーザーは、多数のガス流ベーン及
びこれと関係する構造の付加及び／又は改良を除いて、
図１に示したレーザーと本質的に同じである。これらの
変更によって、１kHz かそれ以上の速度においてさえ、
レーザーパルス間に電極領域１１２を完全に一掃するに
十分な流速を達成することが可能になる。この装置は、
ブロワー１３８の要する電力も最小にする。これらの変
形の構成に使用される全ての材料は、フッ素と互換性が
あり、放電領域１１２における電界を歪ませることがな
い。ベーン３０１は、ブロワーファン１３８から放電領
域１１２へスムーズにガスを向けるように設計される。
ベーン３０１の終端も、従来技術のベーンより放電領域
１１２の方へさらに拡張され、放電領域１１２に到達す
る前にガスの淀を回避している。この実施例において従
来技術のように、ガス取入れ口３０３は、ガスの一部を
外へ濾過のために吸い込む。しかしながら、取入れ口３
０３は、領域１１２から離れたところでガスを吸い出す
ことを可能にする外延３０５を含む。これは、ベーン３
０１が電極放電領域に入る前に流れを回復させることを
可能にする。
概略図である。このレーザーは、多数のガス流ベーン及
びこれと関係する構造の付加及び／又は改良を除いて、
図１に示したレーザーと本質的に同じである。これらの
変更によって、１kHz かそれ以上の速度においてさえ、
レーザーパルス間に電極領域１１２を完全に一掃するに
十分な流速を達成することが可能になる。この装置は、
ブロワー１３８の要する電力も最小にする。これらの変
形の構成に使用される全ての材料は、フッ素と互換性が
あり、放電領域１１２における電界を歪ませることがな
い。ベーン３０１は、ブロワーファン１３８から放電領
域１１２へスムーズにガスを向けるように設計される。
ベーン３０１の終端も、従来技術のベーンより放電領域
１１２の方へさらに拡張され、放電領域１１２に到達す
る前にガスの淀を回避している。この実施例において従
来技術のように、ガス取入れ口３０３は、ガスの一部を
外へ濾過のために吸い込む。しかしながら、取入れ口３
０３は、領域１１２から離れたところでガスを吸い出す
ことを可能にする外延３０５を含む。これは、ベーン３
０１が電極放電領域に入る前に流れを回復させることを
可能にする。
【００２０】陰極１０８とプリイオナイザー１３０のど
ちらの側にも、セラミック絶縁体３０７がある。絶縁体
３０７は放電領域１１２の中の乱れを減じる。絶縁体３
０７は、酸化アルミニウムのようなセラミック製である
ことが望ましく、それにより高電圧の電極から接地され
たハウジングへのアークを引き起こすことなく、流れを
導くことを可能にする。従来技術において、カットオフ
ベーン１４６は、放電領域１１２をガスが迂回すること
を防ぐために含まれていた。このベーンは、取り除か
れ、陽極１１０のサポート３０９を下方に拡張すること
が望ましく、それにより接線方向のブロワーの効率を改
善し、放電領域を迂回するガスの量も最小にする。従来
技術において、出口ベーン１５０は、熱せられたガスが
放電領域を出て熱交換器１５４を通ることを保証するた
めに用いられていた。しかしながら、ベーン１５０がサ
ポート１１４の底の近くに取り付けられていたため、放
電領域を出たガスが断面積の小さい領域から断面積の非
常に大きい領域へ行くことになる。この構成が、放電領
域の外へ通過したガスの流れを崩す結果を招き、放電領
域１１２を通るガスのスムーズな通過を妨げる非常に乱
れた領域を引き起こす。本発明の好ましい実施例では、
ベーン１５０は、陽極１１０とサポート３０９の間に装
着された出口ベーン３１１に置き換えられる。ベーン３
１１は絶縁体３０７と関連して、流れ断面積の緩やかな
変化を可能にする。この緩やかな変化は流速の崩れを減
らし、それにより放電領域１１２の外の領域の乱れを最
小にする。さらに、ベーン３１１の滑らかな弧は、熱交
換器１５４への熱せられたガスの方向付けを助ける。
ちらの側にも、セラミック絶縁体３０７がある。絶縁体
３０７は放電領域１１２の中の乱れを減じる。絶縁体３
０７は、酸化アルミニウムのようなセラミック製である
ことが望ましく、それにより高電圧の電極から接地され
たハウジングへのアークを引き起こすことなく、流れを
導くことを可能にする。従来技術において、カットオフ
ベーン１４６は、放電領域１１２をガスが迂回すること
を防ぐために含まれていた。このベーンは、取り除か
れ、陽極１１０のサポート３０９を下方に拡張すること
が望ましく、それにより接線方向のブロワーの効率を改
善し、放電領域を迂回するガスの量も最小にする。従来
技術において、出口ベーン１５０は、熱せられたガスが
放電領域を出て熱交換器１５４を通ることを保証するた
めに用いられていた。しかしながら、ベーン１５０がサ
ポート１１４の底の近くに取り付けられていたため、放
電領域を出たガスが断面積の小さい領域から断面積の非
常に大きい領域へ行くことになる。この構成が、放電領
域の外へ通過したガスの流れを崩す結果を招き、放電領
域１１２を通るガスのスムーズな通過を妨げる非常に乱
れた領域を引き起こす。本発明の好ましい実施例では、
ベーン１５０は、陽極１１０とサポート３０９の間に装
着された出口ベーン３１１に置き換えられる。ベーン３
１１は絶縁体３０７と関連して、流れ断面積の緩やかな
変化を可能にする。この緩やかな変化は流速の崩れを減
らし、それにより放電領域１１２の外の領域の乱れを最
小にする。さらに、ベーン３１１の滑らかな弧は、熱交
換器１５４への熱せられたガスの方向付けを助ける。
【００２１】ベーン１４８は出口ベーン３１３に置き換
えられることが望ましい。ベーン３１３は、従来技術の
ベーン１４８よりハウジング１０２から大きく拡張さ
れ、そのようにして放電領域１１２を出たガスの流速の
崩れを妨ぐことを助ける。ベーン３１３も曲面３１５を
含み、それはベーン３１１と関連して、放電領域を出た
熱せられたガスの流れを熱交換器１５４の方へスムーズ
に向けなおす。図４は、陰極／プリイオナイザーアッセ
ンブリーの斜視図である。前に記述したように、陰極１
０８のどちらの側もプリイオナイザー１３０である。各
プリイオナイザー１３０の回りは、放電領域１１２を通
るガスの流れを助けるように設計されたセラミック絶縁
体３０７である。図５は、放電領域１１２の下流におい
て測定された流れの乱れのグラフである。２００マイク
ロ秒オーダーの時間スケールにおける速度変化を解析す
ることができる熱線風速計が、これらの計測に使用され
た。曲線５０１は、図１に示した従来技術のシステムに
おいて計測された乱れを表す。曲線５０３は、図３に示
した本発明の好ましい実施例において計測された乱れを
表す。速度のピークからピークの軌跡によれば、チャン
バーに対する改良は、乱れのレベルを約３分の１に減少
させる。さらに、改良されたチャンバーによって同一ブ
ロワー速度に対して平均流速は約１７パーセント上昇し
た。
えられることが望ましい。ベーン３１３は、従来技術の
ベーン１４８よりハウジング１０２から大きく拡張さ
れ、そのようにして放電領域１１２を出たガスの流速の
崩れを妨ぐことを助ける。ベーン３１３も曲面３１５を
含み、それはベーン３１１と関連して、放電領域を出た
熱せられたガスの流れを熱交換器１５４の方へスムーズ
に向けなおす。図４は、陰極／プリイオナイザーアッセ
ンブリーの斜視図である。前に記述したように、陰極１
０８のどちらの側もプリイオナイザー１３０である。各
プリイオナイザー１３０の回りは、放電領域１１２を通
るガスの流れを助けるように設計されたセラミック絶縁
体３０７である。図５は、放電領域１１２の下流におい
て測定された流れの乱れのグラフである。２００マイク
ロ秒オーダーの時間スケールにおける速度変化を解析す
ることができる熱線風速計が、これらの計測に使用され
た。曲線５０１は、図１に示した従来技術のシステムに
おいて計測された乱れを表す。曲線５０３は、図３に示
した本発明の好ましい実施例において計測された乱れを
表す。速度のピークからピークの軌跡によれば、チャン
バーに対する改良は、乱れのレベルを約３分の１に減少
させる。さらに、改良されたチャンバーによって同一ブ
ロワー速度に対して平均流速は約１７パーセント上昇し
た。
【００２２】図６は、本発明により製作されたイクシマ
ーレーザーにおける出力パワー対繰返し数を示すグラフ
である。図示するように、出力パワーは、繰返し数に対
し１kHz 、約１１ワットに達するまで直線的に比例す
る。図７は、改良されたイクシマーレーザーにおけるパ
ルスエネルギー安定性データを与える。パルスエネルギ
ー安定性は、マイクロリソグラフに対する応用において
特に重要である。グラフ７０１は、パルスエネルギー変
動の３シグマ値が、５０パルスウインドウに対し５ない
し５パーセント未満であることを示している。図８は、
本発明のもう一つの実施例を示す。この実施例において
は、出口ベーン３１１は出口ベーン８０１に置き換えら
れている。ベーン８０１の目的は同じであるが、それ
は、熱交換器１５４に向かって下方へ拡張する前に大き
くチャンバーハウジングの方へ拡張されている。ベーン
８０３は陽極アッセンブリーの先行端に加えられ、それ
によって更にこの場所における乱れを減らし、放電領域
１１２を通る流れを促進する。
ーレーザーにおける出力パワー対繰返し数を示すグラフ
である。図示するように、出力パワーは、繰返し数に対
し１kHz 、約１１ワットに達するまで直線的に比例す
る。図７は、改良されたイクシマーレーザーにおけるパ
ルスエネルギー安定性データを与える。パルスエネルギ
ー安定性は、マイクロリソグラフに対する応用において
特に重要である。グラフ７０１は、パルスエネルギー変
動の３シグマ値が、５０パルスウインドウに対し５ない
し５パーセント未満であることを示している。図８は、
本発明のもう一つの実施例を示す。この実施例において
は、出口ベーン３１１は出口ベーン８０１に置き換えら
れている。ベーン８０１の目的は同じであるが、それ
は、熱交換器１５４に向かって下方へ拡張する前に大き
くチャンバーハウジングの方へ拡張されている。ベーン
８０３は陽極アッセンブリーの先行端に加えられ、それ
によって更にこの場所における乱れを減らし、放電領域
１１２を通る流れを促進する。
【００２３】これらの技術を熟知し理解することによっ
て、本発明は、それらの意図や本質的特徴から外れるこ
となく他の特有の形によって具体化されるかもしれな
い。それ故に、ここでの公開と記述は、限定されたもの
ではなく、特許請求の範囲に示される本発明の範囲の実
施例とすることが意図されている。
て、本発明は、それらの意図や本質的特徴から外れるこ
となく他の特有の形によって具体化されるかもしれな
い。それ故に、ここでの公開と記述は、限定されたもの
ではなく、特許請求の範囲に示される本発明の範囲の実
施例とすることが意図されている。
【図１】図１は、従来技術によるプリイオナイザーを含
むイクシマーレーザーの概略図である。
むイクシマーレーザーの概略図である。
【図２】図２は、図１に示したイクシマーレーザーの陰
極とプリイオナイザーアッセンブリー斜視図である。
極とプリイオナイザーアッセンブリー斜視図である。
【図３】図３は、本発明によるイクシマーレーザーの概
略図である。
略図である。
【図４】図４は、本発明による陰極及びプリイオナイザ
ーアッセンブリーの斜視図である。
ーアッセンブリーの斜視図である。
【図５】図５は、放電領域の下流において計測された流
れの乱れのグラフである。
れの乱れのグラフである。
【図６】図６は、本発明により製作されたイクシマーレ
ーザーの出力パワー対反復レートを示すグラフである。
ーザーの出力パワー対反復レートを示すグラフである。
【図７】図７は、変形されたイクシマーレーザーのパル
スエネルギー安定性データを与える。
スエネルギー安定性データを与える。
【図８】図８は、本発明のもう一つの実施例の図であ
る。
る。
１００ レーザー １０２、１０４ 半部品 １０６ Ｏリング １０８ 陰極 １１０ 陽極 １１２ 放電領域 １１４ ベース部品 １１６ 導電部品 １１８ 主絶縁板 １２０ 金属棒 １２２ 絶縁ブッシュ １３０ プリイオナイザー １３２ 管 １３４ 電気伝導体 １３８ ファン １４４、１４４ ベーン １４６、１４８ ベーン １５２ ガス取入れ口 １５４ 熱交換機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イーゴル ヴィー フォメンコフ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92109 サン ディエゴ ジャーナル ウ ェイ 14390 (72)発明者 ウィリアム エヌ パートロ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92128 サン ディエゴ アルタ カーメ ル コート 12055−176
Claims (14)
- 【請求項１】 レーザーを発することができるガスを含
むレーザーキャビティを形成するハウジング構造と、 ハウジングの中に離れた関係で配置され放電領域を形成
する第一と第二の電極と、 前記レーザーキャビティを通って前記ガスを循環させる
ためのファンと、前記ガスを冷却するための前記ハウジ
ングの中に配置された熱交換器と、 前記放電領域に入る前に前記ガスが前記第一絶縁部材を
通り、前記絶縁体が前記放電領域におけるガスの乱れを
減少する前記第一電極に近接して配置された第一絶縁部
材と、 前記放電領域を出た後にその中で前記ガスが前記第二絶
縁部材を通り、前記絶縁体が前記放電領域におけるガス
の乱れを減少させる前記第二電極に近接して配置された
第二絶縁部材を包含するイクシマーレーザー。 - 【請求項２】 前記第一電極に隣接するプリイオナイザ
ーをさらに包含し、前記第一絶縁部材が部分的に前記プ
リイオナイザーを取り囲む請求項１に記載のイクシマー
レーザー。 - 【請求項３】 前記第一絶縁部材が部分的に前記第一プ
リイオナイザーを取り囲む前記第一電極に隣接する第一
プリイオナイザーと、前記第二絶縁部材が部分的に前記
第二プリイオナイザーを取り囲む前記第二電極に隣接す
る第二プリイオナイザーとを、さらに包含する請求項１
に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項４】 前記ファンを部分的に取り囲むアーチ状
のベーンをさらに包含し、前記ベーンがガスを前記ファ
ンから前記放電領域へ向ける請求項１に記載のイクシマ
ーレーザー。 - 【請求項５】 ガス吸引管をさらに包含し、前記ガス吸
引管が前記ベーンの一部を通った入口を持ち、前記ガス
の一部が前記ファンから前記入口を通って通り抜ける請
求項４に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項６】 前記第二電極と組み合わせられた支持部
材をさらに包含し、前記支持部材が前記第二電極と前記
ファンの間に実質的に延長され、前記支持部材が前記フ
ァンによって循環させられる前記ガスが前記放電領域を
迂回することを妨げる請求項１に記載のイクシマーレー
ザー。 - 【請求項７】 前記第二電極と組み合わせられた第一ア
ーチ状ベーンをさらに包含し、前記第一アーチ状ベーン
が前記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ向
ける請求項１に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項８】 前記ハウジングと組み合わせられた第二
アーチ状ベーンをさらに包含し、前記第二アーチ状ベー
ンが前記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ
向ける請求項７に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項９】 ガスを前記ファンから前記放電領域の方
へ向ける部分的に前記ファンを取り囲む第一アーチ状ベ
ーンと、 前記第二電極と前記ファンの間に延長され、前記ファン
によって循環させられる前記ガスが前記放電領域を迂回
することを実質的に妨げる前記第二電極と組み合わせら
れた支持部品と、 前記第二電極及び前記支持部品と組み合わせられた第二
アーチ状ベーンと、 前記第二アーチ状ベーンと関連して前記放電領域を出た
前記ガスを前記熱交換器の方へ向ける前記ハウジングと
組み合わせられた第三アーチ状ベーンとをさらに包含す
る請求項１に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項１０】 レーザーを発することができるガスを
含むレーザーキャビティを形成するハウジング構造と、 第一の方向に沿って分離され、放電領域を形成する陰極
と陽極と、 前記陰極を前記ハウジングから絶縁する主絶縁体と、 前記陰極に近接し、前記第一の方向を横断して第二の方
向に沿って分離された第一プリイオナイザーと第二プリ
イオナイザーと、 前記ガスが前記放電領域に入る前に通る前記放電領域に
おけるガスの乱れを減じる前記陰極と前記第一プリイオ
ナイザーに近接した第一絶縁部材と、 前記ガスが前記放電領域を通り過ぎた後に通る前記放電
領域におけるガスの乱れを減じる前記陰極と前記第二プ
リイオナイザーに近接した第二絶縁部材と、 前記レーザーキャビティの中で前記ガスを循環させるた
めのファンと、 前記ハウジング構造の中に配置された前記ガスを冷却す
るための熱交換器とを包含するイクシマーレーザー。 - 【請求項１１】 ガスを前記ファンから前記放電領域へ
向け、部分的に前記ファンを囲む第一アーチ状ベーン
と、 前記放電領域を出た前記ガスを前記熱交換器の方へ向け
る前記第二電極と組み合わせられた第二アーチ状ベーン
と、 前記ハウジング構造と組み合わせられた第三アーチ状ベ
ーンとをさらに包含する請求項９に記載のイクシマーレ
ーザー。 - 【請求項１２】 陽極支持部材をさらに有し、該陽極支
持部材が、前記陽極と前記ファンの間に実質的に延長さ
れ、前記ファンによって循環させられる前記ガスが前記
放電領域を迂回することを実質的に妨げる請求項１１に
記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項１３】 前記支持部材と組み合わせられた第四
のベーンをさらに包含し、前記第四ベーンが前記ガスが
前記放電領域に入る前の前記ガスの乱れを減じる請求項
１２に記載のイクシマーレーザー。 - 【請求項１４】 前記第一と第二絶縁部材が酸化アルミ
ニウムで作られている請求項１０に記載のイクシマーレ
ーザー。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3789597P | 1997-02-11 | 1997-02-11 | |
| US08/857608 | 1997-05-16 | ||
| US08/857,608 US5771258A (en) | 1997-02-11 | 1997-05-16 | Aerodynamic chamber design for high pulse repetition rate excimer lasers |
| US60/037895 | 1997-05-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10223955A true JPH10223955A (ja) | 1998-08-21 |
| JP3524367B2 JP3524367B2 (ja) | 2004-05-10 |
Family
ID=26714600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02958498A Expired - Fee Related JP3524367B2 (ja) | 1997-02-11 | 1998-02-12 | 高パルス繰返し速度エキシマーレーザーのための空気力学的チャンバー設計 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5771258A (ja) |
| EP (1) | EP1008210B1 (ja) |
| JP (1) | JP3524367B2 (ja) |
| AU (1) | AU6318998A (ja) |
| TW (1) | TW367639B (ja) |
| WO (1) | WO1998037601A2 (ja) |
Cited By (2)
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