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^94823 A7 B7 五、發明説明（1 ) (發明之領域） 本發明係實施半導體晶片（下面簡稱晶片）等之被處 理體之洗淨後之乾燥裝置以及方法。 (背景技術） 在實施晶片等之被處 處理槽之底部加熱氣化具 異丙醇（下面稱I PA) 體表面之水份。再以設置 由此承盤介著排液管排出 I P A之蒸氣不致於逸出 部沿著側壁配設冷卻螺旋 氣凝結（液化）使I PA 理液槽。 在上述承盤中，也會 液之液滴。處理槽內之環 溫度，例如約8 0 °C，惟 承盤，在承盤附近即處理 承盤之處理液之凝結係， 在乾燥理（去除水份）之 燥裝置係採從介著排液管 於處理液係在被處理液體 惟，在被處理體之乾 沒有混有水份之乾淨處理 理體之洗淨後之乾燥之裝置係於 有揮發性之規定之處理液，例如 ，使用該蒸氣去除附著於被處理 在處理槽內之承盤接受該水份， 於處理槽外之排洩槽。又使該 於處理槽外起見，在處理槽之上 管，藉冷卻螺旋管而使I PA蒸 之液滴回流至被處理槽底部之處 存儲處理 境溫度係 介經排液 液之蒸氣 除了被處 待命中也 而從承盤 之乾燥中 燥待命中 液，故將 液之蒸氣 雖然保持 管而外氣 會被冷卻 理體之乾 會發生， 排液之方 或待命中 存儲於承 它排除是 所凝結 在大致 之溫度 而凝結 燥中會 以往之 式，所 一律被 盤之處 一種浪 之處理 均一之 會傳至 。此種 發生， 基板乾 以存儲 排液。 理液係 费。賁 請 先 閱 請 背 ft 之 注 意 事 再 填Ϊ裝 頁 I 丁 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 經濟部中夬悽隼笱員工消費合咋ίΑ中" Μ Β7 五、發明説明（2 ) 際上此種基板乾燥裝置維持二十四小時連績操作是經常的 事，即實動時間（用於乾燥處理之實際時間）係1/3程 度，其他係待命時間，所以在待命時間中無謂的從承盤所 排出之處理液在單位時間爲微量，但是一天總計之即有相 當量，例如2 0公升程度。 再者，在以往之基板乾燥裝置係將用於承接從冷卻螺 旋管自然地落下之處理液之液滴之導溝設成於冷卻螺旋管 直下，沿著處理槽之側壁，而從導溝與內壁之間隙將此導 溝所承接之處理液向處理槽底部之處理液槽部放流而回收 。惟此種處理液回收方式時附著於導溝或處理槽內壁之髒 污，塵埃也很容易與處理液一齊掉落於處理液槽，所以易 使處理液之純度降低劣化，因此須頻繁地更換處理液，又 從導構與處理槽內壁之間隙所落下之處理液很容易跳彈而 附著於被處理體或承盤之虞。 (發明之概要） 本發明之目的係提供，不致於在乾燥處理中浪費地排 出存儲於，用做存儲藉處理液之蒸氣而從被處理體上去除 水份之容器之處理液之蒸氣所凝結處理液，而有效地回收 於處理槽內之處理液槽部，以資減少處理液消费量之基板 乾燥裝置及基板乾燥方法。 又本發明之目的係提供，可去除混入於處理液之塵埃 以抑制處理液之劣化以資減少處理液消费置之基板乾燥裝 e。本發明之目的係由：具備：備有收容被處理體之被處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） ---------批衣------ΪΤ------線’ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟郎中夬螵草苟員Μ消費合泎汪印" A7 B7 五、發明説明（3) 理體收容領域，及收容揮發性之處理液之處理液收容領域 ，以及使處理液氣化之加熱手段之處理槽；及配設於被處 理體收容領域之下方，以接受使用被氣化之處理液而由被 處理髖所去除之水份之容器：及裝設於容器，以便將容器 之水份排出於槽之外部之排液管；以及配設於處理槽之被 處理體收容領域之上方，以資凝固被氣化之處理液之冷卻 手段，及配設於上述處理槽，以資將上述處理液循環之處 理液循環手段，上述排液管係備有開閉閥，且在較上述開 閉閥更近於上述容器之位置，備有由排液管所分岐之管， 上述處理液循環手段係具有處理液循環淨化手段之基板乾 燥裝®所能達成。 依具有上述構成之基板乾燥裝®時，乾燥處理時，開 閉閥開啓，所以從被處理雅之表面所去除之水份係，先被 集存於容器之後從排液管排出，又在乾燥處理之待命中即 ，閉合開閉閥，故凝結於容器中之處理液將不會排出於外 部，由從排液管所分岐之管排出，回收於處理槽內，又以 處理液循環手段所循環之處理液係藉處理淨化手段去除其 不純物及塵埃等而被淨化而可抑制處理液之劣化，該結果 可減低處理液消费量。 Μ式之簡單說明： 第1圖及第2圖係本發明之例一之基板乾燥裝置之一 實施例之概略圚。 第3圚係，第1圖之基板乾燥裝e中，對於水份去除 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） ---------种衣------1Τ------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7五、發明説明（4 ) 位置之承盤之領域圖。 第4圖係，第1圖之基板乾燥裝»中，說明處理時間 中之作用之圖。 第5圖係，第1圖之基板乾燥裝置中，說明待命時間 中之作用圖。 第6圖係，例一之基板乾燥裝置中，以溝板之折返部 來承接由冷卻螺旋管之處理液之樣子之圖。 第7圖係，例一之基板乾燥裝置中，表示分割式之板 溝構造之平面圖。 第8圖係表示在冷卻手段上適用第7圖上所示之分割 式板溝構造時之構成例。 第9圖係表示第8圖所示之分割式板溝構造之作用圖 0 第1 0圖及第1 1圖係例一之基板乾燥裝置之其他實 施例概略圖。 第1 2圖係使用本發明之基板乾燥裝置之晶片洗淨系 統之一例概略圖。 第1 3〜1 5圖係表示本發明之例二之基板乾燥裝置 概略圖。 第1 6，第1 7圚及第2 2圖係使用本發明之基板乾 燥裝置之洗淨系統之說明圖。 第1 8圖係表示在第1 6圖所示之洗淨系統之藥液處 理槽附近之斜視圖。 第19圖係表示在第16圖所示之洗淨系統之排洩盤 ---------i------ΐτ------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本f ) 本紙張尺渡適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 申請案 民国β年6月修美 B7 修正 須請委員明示本案是否變更實質内容 M濟部中央樣华局Η工消f合作社印¾ 五、發明説明（5 ) · 斜視圖。 胃2 〇圖係表示在第1 6圖所示之洗淨系統之氣流狀 態圚.。 胃21圖係表示第16圖所示之洗淨系統之排氣板之 正面圇0 ^-^—2圖係例E|:fe洗淨；^之.實:施例概略圖...—， 第2 3圖及第2 4圖係第2 2圖所示之洗淨系統之移 送機構及洗淨機構關係之平面圖。 第2 5圖係第2 4圖所示之第1晶片移送機構斜視圖_ 第2 6圇係表示第2 2 _所示之洗淨系統之.晶片夾具 與洗淨裝S本體關係之斜視圖。 第2 7圖係表示有關於例四之洗淨系統之晶片夾具， 卡匣及移送用工模之關係之斜視圖。 第2 8圖係表示有關於例四之洗淨系統之其他移送用 工摸之斜視圖。 • ^ 第...、2 9圖係有關於例五之膜形成裝置之斜視圖。 第3 0' W.梦第2 9圖所示之膜形成裝奪之平面圖。 第3 1圖係ί'於移載屬辦理體之移載手段斜視圖。 第3 2圖及第3 3 塗佈處理部用圖 第3 4圖係說明熱齋奄具動作圖。 第3 5圖係#杀熱處理爐& —例之徽面圖。 第3 6围係表示熱處理爐之加熱部之斷面圃。 第3 7圖係表示熱處理爐內之溫度，對於電阻發熱體 本紙浪尺度適用中國國家揉準（CNS) A4規格（2丨OX297公釐） (請先閏讀背面之注意事項再填寫本K ) A7 B7 五、發明説明（6 ) ’ [力，處理氣體之流量，冷卻空氣之送風置及氮氣體之 流量之相-5、關係之圖表。 第3 8圖i第β 9圖於說明例六之膜形成裝置之 圖。

第4 0圖係表示諷整作秦*巍>掷之環境手段之一例縱斷 面圖。 ..... 第4 1圇係說明熱處理爐內之溫度範圍，及加熱部及 、 强制冷卻手段之動作之說明圖。 (實施例之說明） 下面參照圖面具體的說^明本發明之實施例。 --------- .裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 哩齊郎中失^咋fiirsoi 例一 第1 施例構成 在第2圖 鋼所成之 熱裝置1 ，由容器 之有底角 液面水平 I P A 1 之處理液 理液1 6 圖及第 之正面 中予以 有底角 2，在 1 0之 简狀Ζ· 爲止存 6。而 導入口 之更換 2圖係 圖及側 省略。 简狀容 該加熱 側壁稍 處理槽 儲有具 介著設 及排液 或補充 表示本 面圖。 在本基 器1 0 裝匱1 留間隙 14° 有揮發 置於處 口（不 。如上 發明之基 又第1圖 板乾燥裝 所構成。 2之上方 地載置有 處理槽1 性之規定 理槽1 4 圖示）而 所述處理 板乾燥 中之移 面係， 在其底 ，且在 ，例如 4之底 處理液 之壁面 視其必 榷1 4 裝e之一寅 送臂2 2係 例如由不銹 部配置了加 容器1 0內 由石英所成 部以規定之 ，例如 或設於底面 要可實施處 本紙張尺度逍用十國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） .經濟部中央標隼局員工消費合作社印裂 A7 B7 五、發明説明（7 ) 成處理液收容領域之處理液槽部1 8。 對於該基板乾燥裝置有電源供給時，不管在乾燥處理 中或乾燥待命中，處理液槽部18之處理液16係受加熱 裝置12之加熱而蒸發，在處理液槽部18之上方形成處 理液16之蒸氣之環境，在處理液14內之大致中央之高 度，設定被處理體收容領域即蒸氣處理部或空間2 0 ，在 實施處理時，對於該蒸氣處理部2 0以把持或擔持於移送 臂2 2狀態，配置多數片例如5 0片之晶片Wi〜W5〇。 該時晶片W係由其他之移送手段移載於移送臂2 2後，以 移送臂2 2配置於蒸氣處理部2 0亦可，或以移送臂2直 接配置於蒸氣處理部2 0亦行。 在處理槽1 4之底部之蒸氣處理部2 0之直下，並且 在比處理液1 6之液面高之位置，設置例如石英製之承盤 2 4。該承盤2 4係以成一體安裝在其下面之腳2 4 a而 安裝於處理槽1 4之底部。如第3圖所示，承盤2 4之上 面（承接水份面）係被設定比晶片W之蒸氣處理部2 0廣 ，故乾燥處理中從晶片Wi〜W 5。脫離落下之包括處理液 之水份得由其直下之承盤2 4來承接。 承盤2 4之底部設有排液口 2 4 b，在該排液口 2 4 b連接有排液管2 6。排液管2 6係通過處理液槽部 1 8內，霣通處理槽1 4及裝置容器1 0，通至外部之排 液回收部，例如排洩槽（不圖示）。排液槽2 6係，至少 在處理槽14內，使用宜以石英或鐵弗龍製之管製成者。 又貫插排液管2 6之處之處理槽1 4及裝置容器1 0之壁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 裝 .1 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經齊郎中夬漂隼苟員二消費合泎；Μ印裝 A7 B7 五、發明説明（8) 孔即用適當之封閉構件（不圖示）來密封亦可。 在本實施例中，在容器1 0之外部，於排液管2 6設 有U字狀之閘部2 6 a，同時在比該閘部2 6 a更下游側 ，即在排洩槽側，設有例如由氣動閥所成之開閉閥3 0。 另一方面在處理槽1 4內之排液管2 6上，成一體地形成 有，由比閘部2 6 a之上端更高處（位置）朝斜上方分岐 之處理液回收用之枝管3 2。該枝管3 2之上端係延伸至 比承盤排液口 2 4 b低之位置，而開口。如後面所述，在 乾燥處理之待命時間中，凝結於承盤2 4之處理液係通經 枝管3 2而回收於處理液槽部1 8。 在承盤2 4之下方，以罩_處理液槽部1 8似地，設 置有具有無數之貫通孔之例如鐵弗龍所成之保護板3 4。 該保護板3 4之各腳3 4 a也安裝於處理槽1 4之底部。 由於有此保護板3 4所以當晶片在無意地從移送臂 2 2脫落時，晶片W,得由保護板3 4所接，不會碰衝於 處理槽1 4之底部。 處理槽14內之上部，沿著側壁地設置有冷卻螺旋管 3 6。在冷卻螺旋管3 6中，循環有冷卻媒體，例如冷卻 水，由而冷卻從蒸氣處理部2 0所上昇之處理液之蒸氣， 使之凝結（液化），不致於逸出處理槽1 4之外部。 在冷卻螺旋管3 6之下方，沿著處理槽1 4之側壁地 設置有用於承接從螺旋管3 6落下之處理液之例如石英製 之溝板3 8。 該溝板3 8係，以其外周緣密著於處理槽1 4之側壁 ---------种衣------、玎------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） · 11 - A7 B7五、發明説明（9) ，以愈朝具有折回部3 8 a之內周緣部愈使板面高度提高 狀，傾斜狀態地固定支持於支持構件4 0，又溝板3 8係 設成在處理槽1 4之周圍方向有高低差狀，而在最低之溝 板部附近之處理槽1 4之側壁形成有處理液排出口 1 4 a 。處理液排出口 1 4 a係介著處理液回收用之排出管4 2 而連接於配置於容器1 0外之過濾器4 4之入口，過濾器 4 4之出口即介著處理液回收用之導入管4 6連接於處理 槽1 4之側壁之處理液導入口 1 4 b，該處理液導入口 1 4 b係形成在比儲存於處理液槽部1 8之處理液1 6之 液面高之位置。 下面參照第4〜第6圚，說明本實施例之基板乾燥裝 置之作用。又在第4圖及第5圖省略保護板3 4。移送臂 2 2係移送例如藉噴純水之洗淨處理直後之一批份之晶片 Wi-Wso，而如第1圖所示，下降到處理槽1 4內之蒸 氣處理部2 0，在乾燥處理時間中，在其位置2 0保持晶 片贾1〜贾5〇。在乾燥處理之開始前，以不圖示之控制裝 置打開開閉閥3 0。 如上述，在基板乾燥裝置上供給電源之間，即加熱裝 置1 2在動作之間，處理槽內，特別是蒸氣處理部2 0附 近即由來自處理液槽部18之處理液16之蒸氣而大致成 爲飽和狀態。在此環境中，配置晶片评1時，附著於晶片 i 表面之水份即由處理液之蒸氣而脫離晶片，落下於其#下 之承盤2 4。如此地落至承盤2 4之水份係，如第4圖所 示，由承盤2 4之底部之排液口 2 4 b，流經排液管2 6 、τI ^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） A7 B7 五、發明説明（i〇) 通過開閉閥3 0送至排洩槽。又處理中在承盤2 4附近凝 結生成之處理液之蒸氣所生之處理液係混入於水份，通過 排液管2 6被排液。 乾燥處理終了後，移送臂2 2係提起晶片Wi-Wso ，而由處理槽14取出。該時附著於晶片表面之處理液之 蒸氣會擴散分離而晶片表面將成楱乾蜾狀態。該時爲促使 迅速乾燥，在處理槽1 4之上部開口部近設置可朝晶片W 噴吹空氣或氮氣等之隨性氣體之乾燥機構亦可。 在處理槽1 4內，晶片Wi-Ws。被移走後，雖然由 蒸氣處理部2 0對於承盤2 4不會有水份落下，惟短暫時 間留在於承盤2 4之水份將介著排液管2 6被排液，自乾 燥處理終了時經過規定時間之後，即由承盤2 4完全的排 出水份，且排液管2 6內之水份下降到至少比枝管3 2低 之位置時，以控制部關閉開閉閥3 0 ，又在關閉開閉閥 3 0之前，如果將排液管2 6內之水份下降到比枝管3 2 低之位置時，由於排液會滯留於比閘部2 6 a上游部份， 所以外氣環境得於在此處被遮斷因此外氣不會侵入於處理 槽1 4內。以如上所述，進入於乾燥待命時間，經過規定 時間後關閉開閉閥3 0。關閉開閉閥3 0之後留存於承盤 2 4之液係，由處理液1 6之蒸氣冷卻凝結而成者，係不 含水份之處理液1 6。如第5圖所示，存儲於承盤2 4之 處理液1 6係由承盤排液口 2 4 a送至排液管2 6後，立 即進入枝管3 2，由枝管3 2之口，以液滴1 6 b姿態落 下，回收於處理液槽部1 8。又開閉閥3 0之開閉之時機 裝 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13 _ 裡濟郎中夬嘌隼局員工消費合作社印裝 ^9^S23 at _ ___ B7 五、發明説明（11) 係除了上述之外有三種可能。①抵在乾燥處理時間開啓。 ②檢測出處理液之比m阻値，當比電阻値達到規定之値爲 止打開。③有排液要求之信號或比電阻値不回復時打開。 如上所述，進入於乾燥處理待命時間，經過規定時間 (殘留水份去除時間）後，凝結於承盤2 4之處理液1 6 即，介著排液管2 6及枝管3 2而0取於處理槽1 4內之 處理液槽部1 8。所以待命時間在佔裝置運轉時間之比例 相當大，所以以一天單位或一個月單位來換算即可節減相 當量之處理液。 另一方面在處理槽1 4內之上部，即在乾燥處理時間 中，及待命時間中，處理液1 6之蒸氣係由冷卻螺旋管 3 6所冷卻而被液化。如第6圖所示，凝結附著於冷卻螺 旋管3 6之各段層之表面之處理液之滴係，垂直方向依序 傳遞於下段層管之外周面，在最下段之管附近成長爲很大 的 '液滴，脫離螺旋管而落下。在該落下時處理液之液滴 1 6 a有濺至管側方之可能。在本實施例中，濺跳於螺旋 管3 6之內側，即濺至處理槽中心部側之液滴1 6 a，即 由溝板3 8之折回部3 8 a所捕捉，不至於濺落於晶片W 或承盤2 4等之虞。 由冷卻螺旋管3 6落下於溝板3 8之處理液係，在溝 板3 8中以處理槽1 4之周園方向移動於低處，由處理液 排出口 1 4 a介經排出管4 2送至過濾器4 4，在過濾器 除去不純物或塵埃之後，引導至處理液導入口 i 4 b，由 該處順著處理槽1 4之槽壁落下於處理液槽部1 8。又該 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) A4規格（210X297公釐） · 14 - 裝 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Μ Β7 經濟部中夬標隼局員工消費合作社印裝 五、發明説明（12 ) 時亦可使處理液導入管4 6突出於比處理液導入口 1 4 b 之內側，於是可使處理液由處理液導入管4 6之出口直接 落下於處理液槽部。 如上所述，依本實施例之基板乾燥裝匣時，冷卻螺旋 管3 6液化之處理液1 6，將由溝板3 8而安全且確實地 捕捉，同時以處理液回收用之排出管4 2及導入管4 6以 及過濾器4 4而去除不純物或塵埃等之後才回收於處理液 槽部1 8，因此在處理槽1 4中處理液1 6不易劣化，所 以處理液1 6之更換次數可以減少，處理液1 6之消费量 又在處理槽1 4之內壁安裝溝板3 8 (或支持材4 0 )時，一開始就將形成爲框狀之溝板3 8正確地定位設置 係由於尺寸精度之關係往往之不容易，於是如第7圖所示 ，分割形成爲多數片，例如四個溝板片38A，38B， 3 8C，3 8D，而將各溝板片3 8 i個別安裝於各內壁 ，就可以在尺寸精度上有偏差之下，仍能對準於正確地位 置設置溝板3 8。又如第8圖及第9圖所示，以分割式之 溝板構造，而在溝板與處理槽之間設置間隙，由而從該間 隙落下處理液亦可。在此構成例中，框狀地被構成之溝板 支持構件4 0係在處理槽1 4之內壁面上以隔著規定之間 隔，以數處（例如六處）擔持於以熔接突設之石英製之溝 板托座5 0，而在該溝板托座5 Q上，以盡可能接近（例 如0〜0 · 5mm)於處理槽之內壁地將四分割式之溝板 38 (38八，386，38(：，380)予以配設〇依 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 「15 - ---------1衣------ΪΤ------# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（13) 此構成時，由螺旋管3 6落下之處理液係由溝板3 8與處 理槽14之內壁面之間之微小間隙在內壁上順暢地流下， 因此不會濺跳至晶片W或承盤2 4而附著之虞。 在本實施例中，在排液管2 6中，開閉閥3 0係設於 比閘部2 6 a下游側，但也可設於比閘部2 6 a更上游之 處，也可設於處理槽1 4內，又枝管3 2之形狀尺寸也可 隨意決定。視其必要可設於多數。又用於承接由被處理體 脫離落下之處理液之器具係不侷限於本實施例之承盤2 4 之形狀，構造。可採用任意之形狀構造，例如盒形成碗形 。又導溝手段也不侷限於本實施例之溝板3 8 ，可用任意 之形狀，構造例如斷面呈彎曲者亦可。又設於溝板3 8之 傾斜也可以使之連績以資將處理液迅速順暢地送至排出口 1 4 a。排出口 1 4 a之個數或處理液回收用之管4 2 ， 4 6之支數也可以採多數。視其必要在處理液回收用之管 4 2，4 6安裝泵浦亦行，過濾器4 4亦可能省略。又冷 卻手段段也不限於螺旋管構造，例如板構造亦可用。 ^者，如第1 0圖所示，預先在排液管2 6上裝設俥 導率計6 1 ，以資檢出排液之傳導率，由傳導率之變化實 施開閉閥3 0之開閉亦可。 又如第1 1圖所示，以控制移送臂2 2之驅動手段之 控制部2 2來控制開閉閥3 0之開閉亦可。此時在排液管 2 6安設如第1 〇圖所示之傅導率計6 1 ，依據該傳導率 計6 1之情報來控制移送臂2 2之驅動及開閉閥3 0之開 閉亦可。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I , 辦衣 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾隼局員工消費合作社印裝 A7 __ B7 五、發明説明（μ) 第1 2圖係表示採用本實施例之基板乾燥裝置之晶片 洗滌系統之一例之斜視圖。該洗淨系統係由，輸入緩衝機 構7 0，及洗淨裝置本體7 2，以及輸出緩衝機構7 3所 構成。在洗淨裝置本體7 2之兩端分別設有裝載部（晶片 搬入部）7 4及卸載部（晶片搬出部）7 6，在中間部成 —列地配置多數台，例如9台之處理部7 8 a〜7 8 i 。 例如第1之處理部7 8 a係移送臂洗淨乾燥部，第2處理 部7 8 b係晶片藥液洗淨部，第3及第4處理部7 8 c， 7 8 d係分別爲晶片水洗部，第5處理部7 8 e係晶片藥 液洗淨部，第6及第7處理部7 8 f ，7 8g係晶片水洗 部，第8處理部7 8 h係移送臂洗淨乾燥部，以及第9處 理部7 8 i係晶片乾燥部。本實施例之基板乾燥裝®係設 置於第9處理部78i (晶片乾燥部）。 在這些處理部7 8 a〜7 8 i之前方以鉛直方向及Y 方向移動可能地配β，分別備有晶片夾具1 0 6之多數台 ，例如3台之移送用機器人1 0 2。各個移送機器人1 〇 2係於Υ方向限定其移動或移送範圍，分別對於各分配之 處理部實施操作。 在输入緩衝機構7 G及輸出緩衝機構7 3設置有，移 送晶片架台C用之架台移送機構8 6，暫時保管晶片架台 C之架台收納部8 8，實施與系統外部晶片架台C之傅交 之架台搭載台9 0 ，以及使空之晶片架台C上昇或下降之 架台昇降機9 2等。在洗淨裝置本體7 2中設有由裝載部 7 4之上部通過移送裝置8 2 a〜8 2 c之上方至到卸載 奸衣 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17 - 經濟部中央瞟隼局員X消費合作社印製 A 7 B7 五、發明説明（15) 部7 6之架台移送機構9 4。 在输入緩衝機構7 0而已卸下載置物之晶片架台C係 藉架台昇降機構9 2移送於架台移送機構9 4 ，移送至输 出緩衝機構7 3。 在此移送中，晶片架台C係由噴水裝置等之洗淨裝置 所洗淨，洗淨後以乾燥空氣吹噴機等之乾燥裝置所烘乾。 所以在輸出緩衝機構7 3中，在經洗淨乾燥後之清淨之晶 片架台C上移載收容經洗淨處理過之晶片也。 本實施例中，被處理體係以採用晶片W爲例來說明。 惟本實施例亦可適用於乾燥其他被處理體，例L C D基板 ，玻璃基板之用。 例二： 在本實施例中，係提供以簡單的構造就可去除處理液 中之不純物而可求得裝置之小型化及可減低成本之基板乾 燥裝置。具體的說，在收容被處理體之處理槽的內之下方 ，具有儲存處理液之處理液收容部，而加熱該處理液收容 部之處理液將發生之蒸氣接觸於上述被處理體以資乾燥被 處理體之基板乾燥裝置中，在上述處理槽安裝具備有不純 物去除手段之處理液循環手段，由而使處理液收容部之 處理液循環，去除混入於處理液中之不純物或塵埃爲其特 徵。 此中，處理液循環手段係具備，使由處理槽外將處理 液導入於處液理液收容部而使之循環之液循環管，及$設 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) $. 、τ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18 - 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明（16 ) 於該液循環管之循環泵，以及以規定之定時地驅動控制上 述循環泵之控制部爲宜。由於採用此構成，所以定期且確 實地可實施處理液中之不純物之去除。又在該液循環管上 連結補給處理液之液補給管爲宜。由於採用此構成不需另 外之獨立液補給管，更可求裝置更小型化，又液循環管及 循環泵，不純物去除手段，以及控制部係總括地收容於殻 體內爲宜，採用此構成之後，不純物去除機梅之部份成爲 由基板乾燥裝置本體而獨立之組成化之小型構成，不須改 造既有之基板乾燥裝置之下很容易適用。 第1 3圖係表示本實施例之基板乾燥裝置之一例之斜 視圖。 圖中，標號1 2 2係形成基板乾燥裝®之裝e本體之 上部開放之箱狀容器。在此容器1 2 2中由下依序向上方 設®，處理液，例如發生IPA蒸氣之蒸氣產生部1 1 0 ，令由該蒸氣產生部110所發生之蒸氣與晶片W接觸之 處理槽1 2 0，及令通過了處理槽1 2 0之I PA蒸氣凝 結之冷卻部1 3 0。蒸氣產生部1 1 0即形成於容器 1 2 2內之底部，由規定量存儲I PA之處理液槽部 1 1 1 ，以及設於容器1 2 2之外底部而將I PA加熱於 規定之溫度例如8 0°C以資產生蒸氣之加熱器（加熱部） 1 1 2所構成。 在處理槽1 2 0內以規定之間隔横架具有保持溝（不 圖示）之互相平行之多數條保持棒121，以該保持棒 1 2 1而以規定之間隔地保持例如5 0片晶片W。 ---------择------1T------.it (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） -19 · 經濟部中夬標隼局員工消費合作社印敦 A 7 B7 五、發明説明（17) 冷卻部1 3 0係由沿著處理槽1 2 0之上方內壁所配 管之冷卻螺旋管所形成，在供給於該冷卻螺旋管中之冷卻 媒體與通過處理槽1 2 0之蒸氣之間實施熱交換，而使蒸 氣凝結，使處理槽1 2 0內充滿I PA之蒸氣。 另一方面，在容器1 2 2之上方配置有，使處理液槽 部1 1 1之I PA循環，而使混入於I PA中之不純物用 之不純物去除機構之箱型之殻體1 2 3。從該殻體1 2 3 而有使I PA循環之液循環管1 2 4之兩端部1 2 4 a及 1 2 4 b係垂下於容器1 2 2內地被配管。在液循環管 1 2 4上介設有例如膜盒式之循環泵1 2 5，及擔任不純 物去除手段之例如具備有由氟樹脂所成之過濾元件之過濾 器1 2 6。這循環泵1 2 5及過濾器1 2 6以及以規定定 時地驅動控制之控制部係收容於殻體1 2 3內。 又控制部1 2 7所對循環泵1 2 5之控制定時可採用 ，例如每一規定時間，或IPA之昇溫時（設定溫度）， 或在處理液槽部1 1 1設液位察覺器，而在液量少時，隨 著不圚示之液補給管補給I PA之同時，驅動循環泵 1 1 2 5亦可。 下面說明本實施例之作用。首先以不圖示之晶片移送 手段而將例如5 0片之晶片W保持於處理槽1 2 0之保持 棒1 2 1。接著對加熱器1 1 2通電將處理液槽部1 1 1 中之IPA加熱蒸發。由而蒸發之IPA係上昇流入於晶 片W間，接觸於晶片W。接觸於晶片W表面之蒸氣即凝結 成液滴，將附著於晶片W表面之水份等一面溶解於液滴落 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 20 - (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 、νβ A7 B7

2^482S 五、發明説明（18 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本1) 下到處理液槽部。使晶片W到著與蒸氣環境大致相等之溫 度至反復上述現象，於是將附著於晶片W之水滴等水份及 顆粒等之不純物去除，使晶片W表面成爲清淨的乾燥狀態 。通過處理槽1 2 0之蒸氣係與流過冷卻部1 3 0之冷卻 螺旋管內之冷媒予以熱交換凝結，由而使處理槽1 2 0內 之蒸氣之上昇慢化，在處理槽120內造成蒸氣環境。而 被凝結之I PA之凝結液即流下容器1 2 2之內壁部回流 至處理液槽部1 1 1。另一方面不純物去除機構之循環泵 1 2 5係由控制部1 2 7以規定之定時被驅動控制， I P A係介著液循環泵管1 2 4而循環至處理液槽部 1 1 1。在此循環泵之過程I PA係在過濾器1 2 6被過 濾。去除IPA中之不純物，清淨IPA係介著端部 124b而回流至液槽部111。 .經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 如上所述，於本實施例之基板乾燥裝置中，由於，在 處理液槽部1 1 1配管了使處理液循環之液循環管1 2 4 ，而在該液循環1 2 4介設了用於去除混入於處理液中之 不純物之過濾器1 2 6，所以以簡單的構造就可去除處理 液中之不純物，可減低I PA中之顆粒，同時可期裝置之 小型化及成本之降低。特別是在使處理液循環泵之液循環 管1 2 4介設了循環泵1 2 5及過濾器1 2 6，同時將這 些循環泵1 2 5及過濾器1 2 6，與循環泵1 2 5之控制 部1 2 7 —齊總括於般髏1 2 3內而收容，因此不純物去 除機構部份係由基板乾燥裝置本髋獨立被組成化而變爲小 型，在既存之基板乾燥裝置中不須任何改造即可適用。 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 _ A7 B7 經濟部中央橾隼局員工消費合作社印裝 五、發明説明（ 19) 1 I 第 1 4 圖 係 本 實 施 例 之 基 板 乾 燥 裝 置 之 其 他 例 之 概 略 1 1 圖 〇 在 此 基 板 乾 /PrZ 裝 置 中 > 在 與 第 1 3 圇 所 示 之 基 板 乾 燥 1 I 裝 置 之 相 同 部 份 係 檫 上 同 一 標 號 省 略 其 說 明 〇 在 第 1 4 圖 1 I 所 示 之 基 板 乾 燥 ΖΡΙχ 裝 置 中 在 該 裝 置 本 體 之 容 器 1 2 2 之 側 請 先 1 1 方 配 置 有 不 純 物 去 除 裝 置 之 殻 體 1 2 3 由 該 殼 體 1 2 3 Ρί) 讀 背 1 1 所 延 伸 出 之 液 循 環 管 1 2 4 之 兩 部 1 2 4 a 及 1 2 4 b 之 注 1 1 係 貫 插 容 器 1 2 2 之 側 壁 9 導 至 容 器 1 2 2 內 之 處 理 液 槽 意 事 項 1 1 1 | 部 1 1 1 0 填 1 馬 本 裝 又 在 液 循 環 管 1 2 4 之 端 部 1 2 4 a 介 著 開 閉 閥 頁 1 I 1 2 9 連 接 有 補 於 I P A 用 之 液 補 給 管 1 2 8 9 開 啓 1 1 1 2 9 驅 動 循 環 泵 1 2 5 即 可 介 著 端 部 1 2 4 a 即 可 將 1 1 I P A 補 給 於 處 理 液 槽 部 1 1 1 0 又 在 端 部 1 2 4 a 設 置 i 訂 逆 止 閥 以 防 止 由 液 補 給 管 1 2 8 所 吸 之 I P A 之 逆 流 爲 宜 1 1 I 在 容 器 1 2 2 內 之 處 理 液 槽 部 1 1 1 設 置 有 液 位 察 覺 1 1 | 器 1 3 1 0 由 液位 察 覺 器 1 3 1 之 檢 出 信 號 9 控 制 部 1 線 1 2 7 將 驅 動 控 制 循 環 泵 1 2 5 及 開 閉 閥 1 2 9 Ο 詳 述 之 1 1 9 控 制 部 1 2 7 係 液位 於 察 覺 器 1 3 1 中 5 I P A 之 液 1 1 位 下 降 至 設 定 液 位 於 下 時 開 啓 開 閉 閥 1 2 9 ， 同 時 驅 動 循 1 I 環 泵 1 2 5 9 當 I P A 之 液 位 達 到 設 定 液 位 開 閉 開 閉 閥 同· 1 I 時 停 止 循 環 泵 1 2 5 0 1 1 在 如 此 構 成 之 基 板 乾 燥 裝 置 中 J 在 晶 片 W 表 面 及 冷 卻 1 1 部 1 3 0 所 凝 結 之 I P A 雖 被 回 收 於 處 理 液 槽 部 1 1 1 9 1 1 惟 I P A 之 蒸 氣 之 . 部 份 係 由 容 器 1 2 2 之 上 部 開 放 部 而 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 22 - A7 B7 經濟部中央標準扃員工消費合作杜印裂 五、發明説明（2〇) 介著不予圖示之排氣系而被排氣，所以處理液槽部1 1 1 之I P A之液量係隨著乾燥處理之進行逐漸地減少。當由 液位察覺器1 3 1檢出I PA之液位降下至設定液位時， 由控制部1 2 7開啓了液補給管1 2 8之開閉閥1 2 9 ， 同時驅動循環管1 2 5。於是處理液槽部1 1 1之I PA 即介著液循環管1 2 4之循環泵12 5及過滤器1 2 6而 被循環泵。處理液槽部1 1 1之I PA係在過濾器1 2 6 被去除其不純物後回流至處理液槽部111，同時由液補 給管1 2 8而介著液循環管1 2 4之端部1 2 4 b而有新 的I PA供給於處理液槽部1 1 1。並且由液位察覺器 1 3 1而檢出由I PA之補給而處理液槽部1 1 1之液位 達到規定液位時，即以控制部1 2 7關閉液補給管1 2 8 之開閉閥1 2 9同時停止循環泵1 2 5之驅動。 如上所述，依第1 4圖所示之基板乾燥裝置時，得與 第1 3圖所示者同樣，以簡單的構造而可去除處理液槽部 1 1 1之I PA中之不純物，可期裝置之小型化及成本之 減少，同時不需要別的液補給管之下，自動的可補給 I PA，更可期裝e之更小型化。 第1 5圖係表示，本實施例之基板乾燥裝置之其他例 之概略圖，在此基板乾燥裝e中，與第1 3圖所示之基板 乾燥裝置相同部份即標上同一標號省略其說明。在第1 5 圖所示之基板乾燥裝置中，保持棒121之下方配®有由 處理液槽部111所立設之支柱所支持之溝槽狀之承盤 1 4 0，由此承盤1 4 0來接收已供處理之I PA之液滴 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4规格（210 X 297公釐） A 7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（21) 。該承盤1 4 0之底部即介著排洩孔（不圖示）配設有排 洩管1 4 2 ，由此將匯集於承盤1 4 0之已處理過之凝結 處理液排出於外部。又在容器1 2 2之內部之冷卻部 1 3 0之下方，全周圍地設置有回收通過處理槽1 2 0之 未處理蒸氣收凝結之IPA回收用之凝結液捕集溝板部 1 4 3。又令由該捕集溝板1 4 3所回收之I PA之凝結 液介著不圖示之過濾器回收於處理液槽部111也可以。 如上所述，將已處理過之凝結處理液回收於承盤 1 4 0之後排出於外部，利用捕集溝板1 4 3未處理之上 述凝結之I P A回收後再利用，又以控制部1 2 7以規定 之定時驅動控制不純物去除機構之循環泵1 2 5，由而介 著液循環管1 2 4將I PA循環於處理液槽部1 1 1 ，於 是可去除匯集於處理液槽部111之IPA中之不純物， 介著端部1 2 4 b將清淨之I PA回流於處理液槽部 1 1 1。所以經常地將清淨之I PA提供於乾燥處理，更 可提供乾燥處理能力。 如上所述地構成之本實施例之基板乾燥裝置係當然可 做爲單獨的裝置來使用，也可以組入於如第1 2圖所示之 爲去除晶片表面之顆粒及有機污染物，金屬不純物等之混 雜物用之洗淨系統而使用。 本實施例中，被處理體係使用晶片W爲例，但本實施 例也可適用於其他被處理體，例如L C D基板，玻璃基板 等之乾燥，又本實施例之不純物去除手段也用爲去除混入 於IPA中之水份之用。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-° 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -?4 _ 沒濟部中央枕华局Μ工消费合作社印裂 A7 B7 五、發明説明（22) 例三 以往之洗淨系統中，由於不設置滴開處理槽上部與位 過於處理槽前面之移送機構之移動空間之遮蔽物，所以裝 置內部整體成爲單一之環境，所以如爲防止顆粒，蕖物霧 之擴散必須增加對於處理槽吹出氣流之裝e之FFU( Fan Filter Unit)(風扇過濾組成）之給氣量以及隨它 之排氣量。再者處理槽係據位於在移送機構之移動空間之 同一環境內因此隨著移送機構之移動而發生氣流之亂流， 使F F U之朝下氣流之效果，有時使移送機構之移動空間 內所發生之顆粒捲入於處理槽側之虞。 於是本實施例係提供一方面可減少朝下氣流所需之給 氣量，排氣量，且有效的可抑制槊液霧或顆粒之擴散，又 可防止顆粒等之流入於處理槽側之洗淨系統也。 具體的說，在由側板所形成之領域內，配列洗淨被處 理體用之處理槽，且在上述領域內之上述處理槽之前面側 之位置，備有沿著上述配列方向移送上述被處理體之移送 機構，又具有至少朝上述處理槽由方向吹出氣流之吹出裝 置之洗淨系統中，在上述處理槽之前端上部，設置由上端 備有切缺凹部之遮蔽板，同時在上述處理槽之後端上部設 置隔板爲其特徴。 由於有此構成，所以從吹出裝置所吹出之氣流係由上 述各隔板至少被隔開於處理槽之前後，由而至少該份量對 於處理槽不浪费的形成朝下氣流。又如上所述在處理槽之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） 25 ---------¾衣------ΐτ-----0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟郎中央嘌羋苟員工消費合"fi印" A7 B7 五、發明説明（23) 前後端上部分別設有遮蔽板及隔板，所以可防止處理槽之 霧之從其前後擴散，所以以比以往之給氣量，排氣量來期 防止藥液環境之擴散。 又配置於處理槽之前面以使移送晶片之移送機構係一 般而言，在處理槽前之規定位置而可令晶片夾具等之把持 裝置下降於處理槽內之構成，惟由於如前面所述設於處理 槽前端上部之遮蔽板係具有由其上端之切缺凹部，所以把 持裝置之臂等之支持構件係在其切缺凹部而可上下動不會 有妨礙其下降之虞。 在此例中，也構成由上方吹出氣流至由遮蔽板與前面 側之側板所形成之領域爲宜。由於有此構成，某一程度地 環境分開，處理槽前面側之備有移送機構之領域，及處理 槽側領域，並且不但對於處理槽側，對於有移送機構之領 域也可以從上方吹出氣流，所以上述領域內之顆粒等均可 抑制領域內之下方。所以可防止顆粒之侵入於處理槽側領 域而可形成清淨的環境，又對於遮蔽板與前面側之側板所 形成之領域實施排氣之排氣機構係另外地設置爲宜。 由於採用如此構成，所以得於別途的排出對於例如發 生於上述領域之顆粒與處理槽側別途獨立地控制此領域內 之氣流控制，以洗淨系統整體之給氣排氣之平衡維持於最 適合之狀態使裝置運轉。又在此鄰接之處理槽上端部間設 置排洩盤爲宜，由此當由移送機構來移送晶片等之被處理 體時很容易承接附著於被處理體上之落下之藥液等之液滴 可移送於規定之排水系，可防止由落下薬滴所致之裝置內 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，-» 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26 _ 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明（24) 之污染。並且由於該排洩盤係設於處理槽上端部間，因此 在該上端部間有間隙時可阻塞該間隙，對於減輕排氣量有 所助益。 第16圖係表示具備有本發明之基板乾燥裝置之洗淨 系統之斜視圖。本洗淨系統2 0 1係如第1 6圖所示由， 以架台單位地，將洗淨處理前之晶片投入之輸入緩衝機構 2 0 2 ，及實施晶片之洗淨處理之洗淨裝S本體2 0 3 ， 以及以架台單位地取出處理後之晶片之輸出緩衝機構 2 0 4等三個面所構成。 在輸入緩衝機構2 0 2設置，將未洗淨處理之晶片， 收納規定片數（例如2 5片）之架台移入載置之載置部 2 0 5，及將所載置之架台C移送至保持裝置2 0 6之移 送裝置2 0 7。又洗淨裝置本體2 0 3係在其前面側（第 1 6圖之靠身旁）配置有三個移送用機器人2 1 1， 2 1 2 ，2 1 3，在這些各移送機器人2 1 1 ，2 1 2， 2 1 3設有分別所對應之晶片夾具2 1 4，2 1 5， 2 1 6。移送機器人2 1 1之晶片夾具2 1 4係由保持裝 S2 0 6把持二份架台之晶片（5 0片），而後將此晶片 移送至後述之洗淨處理槽。又，這些输出緩衝機構2 0 4 也分別設有與載置部2 0 5相同構成之載置部2 0 8，與 保持裝S2 0 6相同構成之保持裝® (不圖示），以及與 移送裝置2 0 7同一構成之移送裝S (不圖示）。 在洗淨裝置本體2 0 3之前面側配®有前側板2 1 7 ，又在洗淨系統2 0 1整髖之載置部2 0 5側之側面，及 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-° 丁 本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -27 - 經濟部中央樣隼局員工消費合作社印製 五、發明説明（25) 載置部2 0 8側之側面分別設有側板2 1 8，2 1 9 ，又 該洗淨系統2 0 1之背面側設置背面板2 2 〇。 洗淨裝置2 0 3上，由載置部2 0 5側依序分別的配 設有，用於洗淨乾燥移送機器人2 1 1之晶片夾具2 1 4 之夾具洗淨，乾燥處理槽2 2 1，以藥液洗淨處理晶片表 面之有機污染物，金屬不純物，顆粒等之不純物質之藥液 洗淨處理槽2 2 2，例如以純水等來洗淨經藥液洗淨處理 槽2 2 2所洗淨之晶片之二個水洗洗淨處理槽2 2 3， 2 2 4，用與藥液洗淨處理槽2 2 2之藥液不同之藥液來 洗淨處理之藥液洗淨處理槽2 2 5，例如以純水洗淨處理 經藥液處理槽2 2 5所洗淨之晶片之二個水洗洗淨處理槽 2 2 6 ，2 2 7 ，洗淨乾燥移送機器人2 1 3之晶片夾具 2 1 6之夾具洗淨乾燥處理槽2 2 8，以及例如以I P A 來蒸氣乾燥已去除不純物質之晶片之乾燥處理槽2 2 9。 又藥液洗淨處理槽2 2 2，2 2 5係令各洗淨處理液 溢流來循環，在此循環中，去除蓄稹於洗淨液內之不純物 Ο 又乾燥處理槽2 2 9中使用例一及例二所示之本發明 之基板乾燥裝置。 又，在洗淨系統2 0 1之天板部設置，由另設之空氣 調節機所供給之清淨空氣吹出於本洗淨裝置2 Q 1之洗淨 裝置本體2 0 3內下方之FFU (Fi-Fa)。即各 FFU (Fa-Fs)係分別對應於各洗淨處理槽之上方而 設。這些各FFU (F1〜F9)係例如第1 7圖所示，配 本紙張尺jl適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) . 、-·* A7 B7 五、發明説明（26) a於藥液洗淨處理槽2 2 5及移送機器人2 1 2之上方。 將來自該FFU (F5)之吹出氣流係如第丨7圖所示， 分別吹同藥液洗淨處理槽2 2 5側與移送機器人2 1 2側 0 下面以第1 9圖所示之藥液洗淨處理槽2 2 5，及據 位於及兩側位置之水洗洗淨處理槽2 2 4 ，2 2 6爲例.， 說明各洗淨處理槽周園之構成。 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本S )

I 藥液洗淨處理槽2 2 5係由，外側之外槽2 2 5 a， 及供給藥液浸渍晶片W於其中之內槽2 2 5 b所構成。該 外槽2 2 5 a之後端部配設有隔板2 3 1，在前端部設有 遮蔽板（霧分離板）2 3 2，隔板2 3 1係如第1 7圖所 示，由位於天板部之F FU ( F5)吊下，又遮蔽板 2 3 2係以螺栓固著於外槽2 2 5 a之外側。這些隔板 2 3 1及遮蔽板2 3 2係由優於耐藥品性之材質所構成。 又隔板2 3 1之再一背面側，在於與上述背面板2 2 0之 間配設有後側板3 3。這些後側板2 3 3與背面板2 2 0 間之空間即成爲各種配管用空間S。遮蔽板2 3 2係整髋 而言，成形爲略U字型，在其略中央部備有切缺凹部 2 3 2 a，又該切缺凹部2 3 2 a係配合移送機器人 212之晶片夾具215之上下動之動作而設定其尺寸。 又切缺凹部2 3 2 a之角部或隅即如第i 9圖之鍊鎖線所 示以賦予R來形成而有效率地可使移送機器人212之晶 片夾具2 1 5。 移送機器人2 1 2係如第1 9圚所示，由：由左右一 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X 297公釐） —29 - 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（27) 對之把持構件所構成例如將5 0片之晶片W —括地把持之 晶片夾具2 1 5。及支持該晶片2 1 5之支持體2 4 1 ， 及將該支持體2 4 1昇降於上下方向（Z方向），同時亦 移動於前後方向（Y方向）之驅動機構2 4 2 ，以及將該

驅動機構2 4 2沿著洗淨裝S本體2 0 3之長軸方向（X 方向）移動之移送基台2 4 3 (圖示於第1 6圖及第1 7 圖）所構成。而將把持於晶片夾具215之晶片W保持於

內槽2 2 5內之呼稱謂小船（boat)之保持具而將晶片W 以供給於內槽2 2 5內之藥液來洗淨處理。該時由於遮蔽 板2 3 2形成有上述切缺凹部2 3 2 a，所以晶片2 1 5 可在該切缺凹部2 3 2 a內下降。 又該遮蔽板2 3 2之形態亦可形成，將晶片夾具 215之一對臂部份之各臂部份之分別地獨立地上下動之 形狀，詳述之，即二處地形成比上述切缺凹部2 3 2 a更 狹之略U字形之切缺凹部，例如整體而呈略W字型形狀， 此時切缺凹部之面稹即成爲必要最小限，更可提高環境之 分離，防止费之擴散也。 外槽2 2 5 a之兩側端部上緣，分別設S排洩盤 2 4 4，2 4 4。該排洩盤2 4 4係如第1 8圖所示，在 傾斜之底板2 4 5上，安裝有側板2 4 6 ，2 4 7，2 4 8，2 4 9，又在底板2 4 5之背面設置一對之卡止部 2 5 0，又在該底板2 4 5之傾斜下端部適宜數目地鑽設 適宜之排水孔2 5 1。該排洩盤2 4 4係使各排水孔 2 5 1係能據位於鄰接之水洗洗淨處理槽2 2 4，2 2 6 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ 30 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（28) 之排水槽（不圇示）之上方地將卡止部2 5 0分別卡止固 定於外槽2 2 5 a之兩側端部上緣。所以落下於各排洩盤 2 4 4上之液體係由位於傾斜之底板2 4 5之傾斜下端部 之排水孔2 5 1，而經各水洗洗淨處理槽2 2 4，2 2 6 之排水槽而被排出。又排洩盤2 4 4係使之延出於藥液處 理槽2 2 2 ，2 2 5之上方，即可提高排氣效率，防止藥 液费之飛散。 在藥液洗淨處理槽2 2 5之內槽2 2 5 a之前後端部 各外側，設有受容從內槽2 2 5 b所溢出之藥液之受容小 槽 2 5 2，2 5 3 ° 又在內槽2 2 5 b之左右兩外側設有軍蓋2 5 4 ， 2 5 5。由而在藥液洗淨處理中，由這些各罩蓋2 5 4 ， 2 5 5而罩蓋內槽2 2 5 b之上面，以資防止藥液麝之對 外部之飛散。又如第1 7圚所示，在內槽2 2 5 b之外側 底面設有控制供給於內槽2 2 5 b內之藥液之溫度用之加 熱裝置。 在內槽2 2 5 b之下方形成有如第1 7圖第2 0圖所 示之空間P，在該空間P內收納有藥液之供給，回收等之 水系之配管。又該空間p內係介經設於外槽2 2 5 a之下 方之排氣口 2 6 1 ，再經設於背面板2 0下方之排氣口 2 6 2 ，而由集中排氣裝置（不圖示）而可排氣地構成。 又該外槽2 2 5 a之前面側（移送機器人2 1 2側）上方 附近，有第2 1圖所示地設有排氣板2 6 3。 該，排氣板2 6 3係如同圖所示，具有多數之排氣孔 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) M規格（210x297公釐） -31 - ---------批衣------ΪΤ------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央榡隼局員工消費合作社印製 A7 B7 ---— _ __—-- 五、發明説明（29) 2 6 4 ，又在該排氣孔2 6 4設有滑動自如之開閉門 2 6 5。所以適宜地滑動該開閉門2 6 5即可在〇〜 1 0 0%之間任意之値地調節排氣孔2 6 4。 另一方面，上述各水洗洗淨處理槽2 2 4 ，2 2 6係 基本的說，具有與上述藥液洗淨處理槽2 2 5相同之構成 。又各水洗洗淨處理槽2 2 4，2 2 6相同之同一構成。 在水洗洗淨處理槽2 2 4，2 2 4 a之前後端係設有與上 述各遮蔽板2 3 2，隔板2 3 1與各相同構成之遮蔽板 2 7 1，隔板2 7 2。又在水洗洗淨處理槽2 2 6之前後 端設有遮蔽板2 7 3，隔板2 7 4。各遮蔽板2 3 2， 2 7 1 ，2 7 3係互相氣密地連接，又隔板2 3 1 ， 2 7 2 ，2 7 4也互相氣密地連接。該洗淨系統2 0 1之 上述其他各處理槽之前後也設有與上述遮蔽板2 3 2， 271 ，273及隔板231 ，272 ，274相同之遮 蔽板及隔板。故該洗淨系統2 0 1之洗淨裝置本體2 0 3 係如第1 7圖所示，以遮蔽板列爲境界被面分爲，前面側 係移送機器人所移動之空間領域之驅動面X，及背面側係 各處理槽所存在之處理區Y，予以環境分離。 本實施例之洗淨系統2 0 1係具如上述之構成。下面 說明其動作。首先，以移送臂（不圖示）將收納未處理之 晶片W各2 5片之架台C載®於載ff部2 0 5之規定位置 (第1 6圖），由收納於該載置部2 0 5內之移動機構（ 不圖示）而上述架台C係移動於後方側，接著將下一個架 台C載®於上述規定位置，即同樣地被移動於後方側，二 ^衣 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標车（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -32 - Μ Β7 經濟部中夬橾隼局員工消費合作杜印製 五、發明説明（30) 個架台C將成爲前後排列狀態，由此狀態而二個架台C係 由移送裝置2 0 7同時的被挾持，被移送至保持裝置 2 0 6之保持部（不圖示），晶片W ( 5 0片）係以整齊 的保持於保持具，而後由各移送機器人2 1 1 ，2 1 2， 2 1 3，將這些晶片W依序移送至各洗淨處理槽，實施規 定之洗淨處理。 下面說明洗淨處理中之上述藥液洗淨處理槽2 2 5附 近之環境。首先在內槽2 2 5 b之前後分別配置有遮蔽板 2 3 2及隔板2 3 1 ，又由上方，以FFU (F5)朝下 方吹出清淨的空氣，所以在晶片夾具215之上下動等時 所發生之藥液隳係由外槽2 2 5 a與內槽2 2 5 b間之空 隙而經過內槽2 2 5 b之下方之空間P，有效率地由排氣 口 2 6 2排氣。所以可防止上述藥液耮之裝置內之擴散， 該時由於內槽2 2 5 b之後方係由隔板2 3 1而完全遮蔽 ，另一方面前方側也由遮蔽板2 3 2而相當程度地被遮蔽 ，所以上述藥液隳係與氣流一齊很有效率地被排氣。即與 沒有這些隔板2 3 1及遮蔽板2 3 2之情形相比可減少爲 排氣上述藥液霧所需之給氣量，排氣量少量就可完成。所 以F FU ( Fs)本身也可使用比以往容量小之小型者。 再者，各處理槽所存在之洗淨裝置本體2 0 3內之環 境係，如前述，由遮蔽板列分離成驅動區X及處理區Y， 並且對各區即分別以F FU ( Fs)給氣，另一方面對於 驅動菡X即由排氣板2 6 3實施排氣，又對處理區Y即如 前面所述，由外槽2 2 5 a與內槽2 2 5 b之間之空隙實 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) '\=° Γ 良 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210X297公釐） -33 _ A7 2^4823 B7 五、發明説明（31) 施排氣。所以以各區地控制給排氣量，對各個區可創出最 適合的環境也，由而控制洗淨系統2 0 1內之環境，可實 施清淨順暢之氣流環境，有效地可抑制在洗淨系統2 0 1 內之藥液霧及顆粒之擴散。此時除了 FFU (F5)側之 給氣量之調整，例如也併用排氣板6 3之開閉門2 6 5之 開度調整而可贲施上述之控制，當然在排氣口 2 6 1側設. 置開度調整之閥等時即更可實施微調整。 以晶片夾具215而把持晶片W而移送時，例如移送 ，在於藥液洗淨處理槽2 2 5完成藥液洗淨處理後之晶片 W時，晶片W之表面附著有藥液，在移至下一過程之水洗 洗淨處理槽2 2 6之移送途中，該藥液之滴會落下附著於 外槽2 2 5 a，2 2 6 a之表面，或就此飛散擴散於裝® 內，由而有引起污染之虞。惟在上述藥液洗淨處理槽 2 2 5與水洗洗淨處理槽2 2 6之間，設置有排洩盤 2 4 4 ，因此落下之滴係由該排洩盤2 4 4所接容，經由 該底板2 4 5之排水孔2 5 1而排出於水洗洗淨處理槽 2 2 6之排水槽。由而可防止這種污染。並且藉排洩盤 2 4 4而相當份量地阻塞藥液洗淨處理槽2 2 5與水洗洗 淨處理槽2 2 6之各外槽2 2 5 a，2 2 6 a與內槽 2 2 5 b，2 2 6 b之間之間隙，結果對於這些領域之排 氣量之減少上有所助益。即可抑制由必要以上之間隙所致 之排氣量，所以與上述遮蔽板2 3 2 ，2 7 3及隔板 23 1 , 274之相乘效果更可減少必要給排氣量之減少化也。 又在本實施例中，藉遮蔽板列而將洗淨裝置本體 ---------1衣------.玎------0 (請先閱讀背面之法意事項再填寫本頁) 經濟部中央愫隼局員工消費合作社印装 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -34 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7 五 '發明説明（32) 2 0 3環境分離成驅動區X及處理BEY，惟如第1 7圇所 示，於遮蔽板2 3 2之上方開啓晶片夾具2 1 5之移動空 間，又由FFU (F5)吊下上部遮蔽板2 8 1 ，更可明 確的實施驅動區X及處理區Y之環境分離。並且上部遮蔽 板2 8 1也有FFU (Fs)之整流板之機能作用，因此 對於驅動區X及處理區Y所噴出之氣流不會互相干涉，更 可實施各區之氣流之良好控制。 再者本實施例中，擔任驅動區X之排氣之排氣板 2 6 3係，例如在藥液洗淨處理槽2 2 5係設於其外槽 2 2 5 a之前面側上部，惟並不侷限於此構造，設置於該 外槽2 2 5 a之前面下部亦可，或例如第2 0圖所示，採 用設於前側板2 1 7下部之排氣板2 6 3 >亦可。 本實施例中，以晶片W爲被處理體爲例加以說明，惟 本實施例也可適用於其他之被處理體，例L C D基板或玻 璃基板等之洗淨之用也。 例四 在以往之洗淨系統中，晶片移送機構係爲了在洗淨處 理之各階段不受洗淨處理液之不良影響起見，設爲在各資 任區範園以同一行走線上移動於一方向地移送晶片，所以 個別地在不同之處分別需設置，由架台取出晶片之裝載機 構，及將晶片收納於架台之卸載機構，不但裝置上複雜， 而且其所佔於價格昂貴之清潔室中之面稹也該份量地增加 ，致使提髙設置成本之問題。又相關連地也需要設置，將 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本I) 、va r 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -35 - 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 A 7 B7 五、發明説明（33) 架台從裝載機構送至卸載機構之架台移送機構，所以洗淨 系統之構造更形複雜，有致使其設置更髙昂之問題。加上 在晶片W之搬入，搬出時，自走型搬運車（AGV)係衹 能做裝載機構側及卸載機構側之二處操作，所以A G V之 送貨操作很煩雜。 於是本實施例係提供一種。將P械的同種之裝載機構 與卸載機構整括於一處，隨而省略架台移送機構，使裝置 簡單化，同時使之小型化而大幅度地削減裝蜃成本之洗淨 系統。具體的說，本實施例係，具備：備有一方向地依序 排列之多數之洗淨處理槽之洗淨處理機構，及沿著該洗淨 處理機構而移送被處理體，在各洗淨處理槽之間而遞交被 處理體之移送機構，而移送機構係由，遍及洗淨處理機構 之全範圍地移動之第1移送機構，以及與該第1移送機構 所不同之徑路而沿著洗淨處理機構地移動之第2移送機構 所構成。第1移送機構係主要使用於將未處理之被處理體 移送於洗淨處理槽，同時在各洗淨處理槽之間移送被處理 體。第2移送機構係使用於將處理後之被處理體移送於處 理前之原來之處所，而構成爲其特徵。 依本實施例時，當洗淨裝置接受被處理體時，以移送 機構之第1移送機構來接受未處理之被處理體，而將被處 理體移送於洗淨處理機構之規定之洗淨處理槽，在該洗淨 處理槽對於被處理體實施規定之處理之後，以第1移送機 構將該被處理體依序移送於其他洗淨處理槽，在各洗淨處 理槽之間依序遞交被處理體之下，分別實施規定之洗淨處 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -36 - 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（34) 理，然後以第2移送機構將處理妥之被處理髏送回至接受 未處理之被處理體之原處，由而完成一連串之洗淨處理。 本實施例之洗淨系統3 0 1係，如第2 2圖及第2 3 圖所示，由具有三方向依序排列之多數之洗淨處理槽之洗 淨裝置本體3 0 2，及沿著該洗淨裝®本體3 0 2而移送 被處理體（例如晶片W)，而在各洙淨處理槽之間實施遞 交接受之晶片移送機構3 0 3所構成。該晶片移送裝置 3 0 3係由：沿著第1之行走線往復移動之第1移送機器 人3 3 1 (第1移送機構），及沿著第2之行走線往復移 動之第2移送機器人3 3 3 (第2移送機構）及第3移送 機器人3 3 2 (第2移送移送機構）所構成第1之移送機 器人3 3 1與第2及第3之移送機器人3 3 3，3 3 2係 沿著洗淨裝置本髖3 0 2之不同之行走線而移動。又洗淨 系統3 0 1之圖上之紙面上之左端配設有暫時的保管收納 有晶片W之架台C之緩衝機構3 0 4 ，又該緩衝機構 3 0 4與洗淨裝置本體3 0 2之間配設裝載，卸載機構 3 0 5，由該裝載卸載機構3 0 5之昇降機構（不圖示） (而對於二個架台C分別移送收納2 5片之晶片W。又第 2 3圖中，晶片移送機構3 0 3之行走線係方便上以實線 來表示。 在洗淨裝置本體3 0 2上，如第2 2圖所示，由紙面 右端到左端之裝載卸載機構3 0 5地依序配設有，以氨處 理液等之鹸性處理液洗淨晶片表面之有機污染物等之鹸性 處理槽3 2 1，水洗鹸性處理後之晶片之水洗處理槽 ---------參------ΪΤ------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -37 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（35) 3 2 2 ，及以氟酸處理液等之酸處理液來洗淨金屬時之不 純物之酸處理槽3 2 3，水洗酸處理後之晶片之水洗處理 槽3 2 4，洗淨乾燥晶片夾具3 3 1A，3 3 2A，3 3 3A之夾具洗淨乾燥處理槽3 2 5，例如以I PA等來蒸 氣乾燥已去除了不純物之晶片之乾燥處理槽3 2 6，以及 洗淨乾燥晶片夾具331A，33 2 A，333A之夾具 洗淨，乾燥處理槽3 2 7。 又乾燥處理槽係使用例一及例二所示本發明之基板乾 燥裝置。 在鹸性處理槽3 2 1 ，水洗處理槽3 2 2，酸處理槽 3 2 3及水洗處理槽3 2 4等收容有上端開口之內槽，當 各處理液在內槽內溢流時使該溢流之處理液排出或循環， 將去除蓄稹之不純物去除，以資循環使用各處理液。 又這些內槽之開口，分別安裝有開閉門（不圖示）， 以這些開閉門使各洗淨處理槽之處理液之藥液環境等極力 不洩漏於外部。又在洗淨裝置本體3 0 2之天板部係如第 2 2圖所示配設有FFU3 0 6。該FFU3 0 6係具有 對應於洗淨裝置本體3 0 2之洗淨處理槽3 2 1〜3 2 7 所設之風扇（不圚示）及HEPA濾器等之過濾器，由天 板部朝各洗淨處理槽3 2 1〜3 2 7賦予朝下氣流由下部 排出由各洗淨處理槽3 2 1〜3 2 7所發生之藥液霧等。 又如第2 6圖所示，例如在鹸性處理槽3 2 1之內檜 3 2 1 A內，配設有保持5 0片之晶片W之優於耐蝕性， 耐發塵性之石英等材料所形成之晶片載置器3 2 1 B。該 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •va

T 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -38 _ A 7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裂 五、發明説明 (: )6) 1 I 晶 片 載 朦 器 3 2 1 B 上 形 成 有 5 0 條 溝 9 由 此 溝 而 分 別 垂 1 1 直 地 支 持 5 0 片 之 晶 片 W 〇 又 該 晶 片 載 置 器 3 2 1 B 係 藉 1 1 螺 栓 3 2 1 C 支 持 於 內 槽 3 2 1 A 之 前 後 壁 面 0 1 I 晶 片 載 面 器 3 2 1 B 之 位 置 係 藉 螺 栓 3 2 1 C 而 可 調 請 先 閱 1 1 I 整 於 X > Y ， Z 及 Q 方 向 > 如 同 圖 所 示 ， 在 第 2 移 送 爾 器 讀 背 1 1 人 3 3 2 之 晶 片 夾 具 3 3 2 A 之 間 可 高 精 度 地 交 接 晶 片 W 之 注 1 I 意 1 I 事 1 〇 項 I 再 1 | 另 一 方 面 晶 片 移 送 Uti 俄 構 3 之 第 1 移 送 機 俄 器 人 3 3 1 及 4 % 本 1 裝 第 2 及 第 3 之 移 送 機 器 人 3 3 3 9 3 3 2 係 > 如 第 2 2 圖 頁 1 I 乃 至 第 2 4 圖 所 示 ， 配 設 在 洗 淨 系 統 3 0 1 之 正 面 壁 1 1 1 3 3 1 與 洗 淨 裝 置 本 體 3 0 2 之 正 面 壁 之 間 之 2 列 之 第 1 1 1 9 第 2 行 走 線 上 > 第 1 之 移 送 俄 器 人 3 3 1 係 沿 著 洗 淨 系 1 訂 統 3 0 1 之 正 面 壁 3 1 1 側 之 第 1 行 走 線 上 移 動 ， 第 2 之 1 1 移 送 饿 器 人 3 3 3 及 第 3 移 送 俄 器 人 3 3 2 係 5 沿 著 洗 淨 1 I 裝 置 本 體 3 0 2 側 之 第 2 行 走 線 而 移 動 9 這 些 移 送 機 器 人 1 I 係 被 構 成 在 各 白 之 移 動 時 互 不 會 干 涉 狀 0 各 移 送 機 器 人 1 線 I 3 3 1 3 3 2 3 3 3 係 9 例 如 可 把 持 5 0 片 晶 片 W 地 1 1 分 別 具 有 由 P E E K 5 石 英 等 之 耐 熱 9 耐 發 塵 性 材 料 製 之 1 ! 晶 片 夾 具 3 3 1 A 3 3 2 A > 3 3 3 A 0 在 這 些 晶 片 夾 1 1 具 3 3 1 A > 3 3 2 A > 3 3 3 A 之 晶 片 把 持 部 形 成 有 | 5 0 條 溝 藉 此 溝 而 — 括 地 把 持 5 0 片 晶 片 W 也 〇 I | 即 如 第 2 4 圖 所 示 在 洗 淨 系 統 3 0 1 之 正 面 壁 3 1 1 1 1 | 之 內 面 9 以 序 上 下 方 向 規 定 之 間 隔 地 水 平 的 安 裝 有 導 軌 1 1 3 3 4 A 9 3 3 5 A 9 及 齒 條 3 3 6 A 0 在 導 軌 3 3 4 A 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -39 _ Μ B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裂 五、發明説明（ 37 ) 1 I 9 3 3 5 A 滑 動 白 如 地 嵌 合 對 rrtg ifsk 於 道 些 之 第 1 移 送 機 器 人 1 | 3 3 1 之 滑 動 構 件 3 3 1 B > 3 3 1 C Ο 又 在 齒 條 1 I 3 3 6 A 即 嚙 合 有 對 應 之 第 1 移 送 機 器 人 3 3 1 之 框 體 1 1 | 3 3 1 D 內 所 內 藏 之 馬 達 3 3 1 E 之 小 齒 輪 3 3 1 F Ο 由 請 先 1 1 於 第 1 移 送 機 器 人 3 3 1 E 之 ss 稱 動 而 介 著 小 齒 餘 TTIU 3 3 1 F 閲 讀 背 1 1 及 齒 條 3 3 6 A 9 沿 著 導 軌 3 3 4 A 3 3 5 A 而 移 動 〇 面 1 I 意 1 I 又 這 些 導 Off. 軌 J 齒 條 及 滑 動 構 件 所 用 之 材 料 爲 均 屬 耐 摩 耗 性 事 項 1 | 而 發 塵 性 優 異 之 P E E K 氟 樹 脂 等 之 合 成 樹 脂 爲 宜 〇 再 填 1 第 1 之 移 送 機 器 人 3 3 1 係 主 要 係 往 復 移 動 於 裝 載 卸 載 機 寫 本 頁 '—- 裝 1 構 3 0 5 與 鹼 性 處 理 槽 3 2 1 > 以 及 其 水 洗 處 理 槽 3 2 2 1 1 之 領 域 以 資 移 送 晶 片 W 也 0 1 1 又 洗 淨 裝 置 本 體 3 0 2 之 正 面 壁 之 外 面 即 安 裝 有 如 第 1 訂 2 4 圖 所 示 9 具 有 與 導 軌 3 3 4 A ， 3 3 5 A 及 齒 條 1 I 3 3 6 A 相 同 構 成 之 導 軌 3 3 4 B ， 3 3 5 B 及 齒 條 1 1 I 3 3 6 B 0 在 導 軌 3 3 4 B 9 3 3 5 B 上 滑 動 白 如 地 嵌 合 1 1 有 對 應 於 這 些 之 第 2 移 送 機 器 人 3 3 2 之 滑 動 構 件 3 3 2 1 線 B 9 3 3 2 C 0 又 在 齒 條 3 3 6 B 嚙 合 有 9 內 藏 在 對 rag 應 於 1 1 它 之 第 2 移 送 機 器 人 3 3 2 之 框 體 3 3 2 D 之 馬 達 3 3 2 1 I E 之 小 齒 輪 3 3 2 F 0 於 是 第 2 移 送 機 器 人 3 3 2 之 馬 達 1 I 驅 動 時 介 著 小 齒 輪 3 3 2 F 及 齒 條 3 3 6 B > 而 沿 著 導 1 1 I 軌 3 3 4 B ， 3 3 5 B 移 動 於 洗 淨 裝 置 本 體 3 0 2 之 領 域 1 1 1 再 者 第 3 移 送 機 器 人 3 3 3 係 主 要 係 往 復 移 動 於 水 洗 1 1 1 處 理 槽 3 2 2 酸 處 理 槽 3 2 3 9 該 水 洗 處 理 槽 3 2 4 之 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -40 · 294823 A7 B7 埵濟郎令矢漂隼苟員二省費含阼江印茛 五、發明説明（ 38 ) 1 1 領 域 以 資 移 送 晶 片 W 〇 1 1 又 第 2 移 送 機 機 器 人 3 3 3 雖 不 圚 示 於 第 2 4 圚 1 惟 在 1 I 於 第 3 移 送 愤 器 人 3 3 2 之 同 -- 行 走 線 上 主 要 係 往 復 移 1 I 動 於 夾 具 洗 淨 乾 姆 ZPTC 處 理 槽 3 2 5 > 乾 通 處 理 槽 3 2 6 及 夾 請 先 1 1 具 洗 淨 9 乾 燥 處 理 槽 3 2 7 之 領 域 以 便 將 洗 淨乾 燥 後 之 讀 背 1 1 晶 片 W 移 送 至 原 來 位 置 ( 裝 載 • 卸 載 機 構 3 0 5 ) 〇 W 之 注 1 1 晶 片 移 送 機構 3 0 3 之 第 1 移 送 機 器 人 3 3 1 ， 第 2 意 事 XS 1 I 再 1 移 送 機 器 人 3 3 3 及 第 3 移 送 機 器 人 3 3 2 均 具 有 相 同 構 4- I 之 寫 本 裝 成 故 在 第 2 4 圖 及 第 2 5 圖 中 > 以 第 3 移 送 機 器 人 頁 1 | 3 3 2 爲 例 更 加 詳 述 0 如 同 ran 圃 所 示 在 第 3 移 送 機 器 人 1 1 I 3 3 2 之 晶 片 夾 具 3 3 2 A 之 基 端 連 結 有 夾 具 基 台 3 3 2 1 1 G 9 由 內 藏 於 該 夾 具 基 台 3 3 2 G 內 之 BB. m 動 機 構 ( 不 圖 示 1 訂 ) 9 而 驅 動 晶 片 夾 具 3 3 2 A 而 一 括 地 把 持 開 放 5 0 片 之 1 | 晶 片 W 〇 該 夾 具 基 台 3 3 2 G 係 介 著 一 對 之 昇 降 棒 1 I 3 3 2 1 9 3 3 2 1 連 結 於 內 藏 於 框 體 3 3 2 D 之 昇 降 機 1 1 構 3 3 2 Η 0 昇 降 概 構 3 3 2 Η 係 主 要 由 馬 達 3 3 2 J 及 I 線 連 結 於 馬 達 之 球 形 螺 旋 3 3 2 Κ 所 構 成 0 又 第 2 5 圖 所 示 1 1 之 第 3 移 送 4Hk 俄 器 人 3 3 2 之 昇 降 棒 3 3 2 1 > 3 3 2 1 係 1 1 如 第 2 4 圚 所 示 ， 由 伸 縮 袋 密 封 套 3 3 2 L 而 由 外 部 密 封 1 又 配 設 於 洗 淨 系 統 3 0 1 左 端 之 緩 衝 機 構 3 0 4 係 如 1 1 第 2 2 圖 所 示 ， 由 載 置 由 外 部 所 供 給 之 架 台 C 之 架 台 載 1 1 置 於 3 4 1 及 由 架 台 昇 降 機 構 3 4 2 將 該架 台 載 置 台 1 1 3 4 1 之 架 台 C 移 載 而 暫 時 地 保 管 不 能 立 即 處 理 之 架 台 C 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（210X297公釐〉 -41 _ 經濟部中夬標隼局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明（39 ) 之架台收納部3 4 3所構成。 在道些緩衝機構3 Q 4與洗淨裝賦本髏3 0 2之間， 配置有裝載•卸載機構3 0 5，藉此裝載•卸載機構 3 0 5之昇降機構（不圖示）而由二個之架台C提出放入 分別收納之2 5片之晶片W。即使用裝載卸載機構3 0 5 而從架台C取出晶片W時，即以昇降機構從直列之配置之 架台C中同時提起各2 5片之晶片W，同時將各鄰接之晶 片成一體的拉靠，而後使用第1移送機器人3 3 1而如上 述以晶片拉具3 3 1 A將5 0片之晶片W同時的把持也。 另一方，由第3移送機器人3 3 3接受洗淨後之晶片W時 ，裝載•卸載機構3 0 5係實施與取出時相反之動作。又 在此裝載•卸載機構3 Q 5設有將晶片W之定位切標（ Orientation flat)對整於上側或下側之對準位置之機構 (不圇示）。 下面說明有關本實施例之洗淨系統3 0 1之動作。 當自走型搬送車（AGV)以2. 5片單位地收納在架 台C之晶片W送到第2 2圖所示之洗淨系統3 0 1之緩衝 機構3 0 4之載置台3 4 1時，架台昇降機構3 4 2會驅 動，而將二個單位之架台C移載於裝載，卸載機構3 0 5 。而在此後供給之架台C即，以架台移送機構3 4 2移載 於架台收納部3 4 3，於收納部3 4 3暫時保管架台C之 晶片W。 在裝載•卸載機構3 0 5接受二個架台後，裝載•卸 載機構3 0 5產生驅動，而將二個架台c內之晶片w之定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 經濟部中央榡準局員工消費合作社印裝 A7 _____B7_ 五、發明説明（4〇) 位切標整理對準於一方向，而將5 0片之晶片W推舉到規 定位®，另一方面第1移送機器人3 3 1將驅動，將晶片 夾具3 3 1 A移動於夾具洗淨乾燥室3 2 7內，將晶片夾 具3 3 1 A洗淨乾燥後，以晶片夾具3 3 1 A接受待命於 裝載•卸載機構3 0 5之5 0片之晶片W。然後第1移送 機器人3 3 1係，如第2 4圚及第2 5圖所示，囅動昇降 裝置。介著昇降棒將晶片夾具3 3 1 A提髙到，在於下降 端之其他第2及第3之移送機器人3 3 2，3 3 3之晶片 W夾具3 3 3A，3 3 2A不干涉之高度，同時藉馬達， 3 3 1E而驅動小齒輪3 3 1F，介著齒條3 3 6A及導 軌3 3 4 A，3 3 5 A移送至右端之鹼性處理槽3 2 1， 在該位置將晶片W移交於晶片載置器3 2 1 B (參照第 2 5圖）以鹸洗淨晶片W。 晶片W之鹸性洗淨處理完成後，第1之移送機器人 3 3 1之晶片夾具3 3 1A係，以上述之相反之動作而由 鹼性處理槽3 2 1而一括地接受晶片W，移載於下一過程 之水洗處理槽3 3 2，而以上述同樣動作實施晶片W之水 洗處理。水洗處理後最靠近之第2移送機器人3 3 2將騸 動，而由水洗處理槽3 2 2接受酸處理槽3 2 3，對於該 晶片載置器遞交晶片W而以氟酸施予酸處理後，藉該第2 移送機器人332而從酸處理槽323移至水洗處理槽 3 2 4實施水洗處理。在此間，第1移送機器人3 3 1係 在於夾具洗淨。乾燥室3 2 7洗淨乾燥晶片夾具3 3 1 A 之後回至裝載♦卸載機構3 0 5，實施下面之晶片W之移 裳 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2IOX 297公釐） -43 - 經濟部中夬標隼局員工消費合作社印製 A7 ---_£Z_ 五、發明説明（41) 送。又其他之第2及第3移送機器人3 3 3，3 3 2在適 當之洗淨。乾燥室3 2 5而分別洗淨各個晶片夾具 3 3 3A，3 3 2A之後移至下一動作。 接著，晶片W在水洗處理槽3 2 4之水洗處理後，以 第2移送機器人3 3 3而從水洗處理槽3 2 4接受晶片W ，於乾燥處理槽3 2 6內，賁施以I P A之蒸氣乾燥後， 將晶片移載於裝載•卸載機構3 0 5，於裝載•卸載機構 3 0 5之二個架台C收納乾燥後之晶片W。洗淨處理後之 晶片W係利用架台移載機構3 4 2，將架台C從裝載•卸 載機構3 0 5移載於緩衝機構3 0 4後搬出，由緩衝機構 3 0 4介著AGV以架台單位移送於下一過程。 即在本實施例中，第1移送機器人3 3 1係使用於， 將未處理之晶片W移送至離開裝載卸載機構3 0 5最遠之 鹸性處理槽3 2 1 ，水洗處理槽3 2 2以施予鹸性處理。 又一方之第3移送機器人3 3 2係使用於，與第1移送機 器人3 3 1不同之行走線，而將經過鹸性處理之晶片W， 從水洗處理槽3 2 2移至酸性處理槽3 2 3，水洗處理槽 3 2 4以施予酸處理。而第2移送機器人3 3 3係移動於 與前述之第3移送機器人3 3 2同一行走線，將經酸處理 之晶片W從水洗處理槽3 2 4移送於乾燥處理槽3 2 6以 施予乾燥處理，同時將晶片W移送至原處（裝載•卸載機 構3 0 5 )時所用。 因此依本實施例時，使用第1移送機器人3 3 1 ，使 之可移動於洗淨裝置本體3 0 2之全範圍，同時在於與該 ---------^------IT------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X：297公嫠） -44 - 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（42 ) 第1移送機器人3 3 1所不同之行走線上，沿著洗淨裝e 本體3 0 2地使第2及第3移送機器人3 3 3，3 3 2可 移動，所以以往需二台之裝載機構及卸載機構可調整成一 台裝載•卸載機構3 0 5，由而可省略一台卸載機構。又 隨著此改變以往必要之架台移送機構也可省略。於是可以 將整體裝置簡單化，可削減洗淨系統3 0.1之設置成本。 並且將裝載機構與卸載機構併成一台，由而可削減高價之 清潔室之設S空間，更可削減設置成本，並且AGV之操 作處所減至一處，可簡化其驅動控制及移動範圍。 再者在本實施例中，假使第2及第3移送機器人 3 3 3 ，3 3 2其中之一故障時，由於外側之第1移送機 器人3 3 1可移動於洗淨裝®本體3 0 2之全範圍，所以 得以用第1移送機器人3 3 1來補完故障之第2及第3移 送機器人333，332之任務。 本實施例之洗淨系統3 0 1係不直接以晶片夾具 3 3 1A，3 3 2A及3 3 3A把持晶片W，介著移送用 工模來移送晶片W，以該移送用工模用做上述晶片載置器 之代替品來實施洗淨處理亦行。 於是參照第2 8圇說明使用於本實施例之洗淨系統 3 0 1之晶片移送機構3 0 3及移送用工模。 晶片W之移送用工模3 0 7係如第2 8圖所示，用做 架台C內，將2 5片晶片W垂直地支持之晶片支持構材而 以石英等之耐熱，耐發塵性材料製成。被構成得對於架台 C裝卸自如。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -45 - 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 '*~·~· ---—- 五、發明説明（幻） 在移送用工模3 0 7之底面，互相平行地形成有2 5 個配合於晶片W之周緣形狀之晶片支持溝3 0 7 A，以各 晶片支持溝3 Ο 7A來支撑晶片W。又在移送用工模 3 0 7之長軸方向之上端形成有左右一對之突緣部 3 0 7 B。在突緣部3 0 7 B之背面，以長軸方向隔著規

定之間隔地形成有，直交於突緣部之一對園弧溝3 0 7 C 0 介著這些園弧溝3 0 7 C而藉後述之晶片移送機構 3 0 3之晶片夾具3 Ο 3A而把持移送用工模3 0 7。又 移送用工模3 0 7之底面之宽度方向之中央，以長度方向 全長範圔形成有開口部3 0 7 D。 介著該開口部3 0 7 D使洗淨處理液可流向於上方。 另一方面，晶片移送機構3 0 3之晶片夾具3 Ο 3A 係被形成得同時將直列的密著之二個移送用工模3 0 7予 以把持。詳述之即在晶片夾具3 0 3 A之左右下端分別四 處形成朝內側延伸之圃棒狀之卡合部3 Ο 3B，而以該四 處之卡合部3 0 3 B，分別卡合於直列之移送用工模 3 0 7之左右兩側之園弧溝3 0 7 C。故以晶片夾具 3 Ο 3A來把持移送用工模3 0 7時，令晶片夾具 3 0 3 A之左右卡合部3 0 3 B搖動於同圖箭頭方向，而 以圆弧溝3 0 7 C把持二個移送用工模3 0 7。當然把持 移送用工模3 0 7時也可利用裝載•卸載機構3 0 5之昇 降機檐而從架台C內將移送用工模3 0 7推舉於其上方也 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------參------ΪΤ------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印聚 A7 B7_ 五、發明説明（44) 由於採用此構成，可以藉第1〜第3移送機器人 331 ，333，332將晶片W與移送用工模307 — 齊移送，與這些移送用工模一齊浸溃於洗淨裝置本體3 〇 2之各洗淨處理槽內，分別施予洗淨處理等也。因此可省 略各洗淨處理槽之晶片載置器。所以可免除以往之晶片載 置器之位置之調整，可提髙洗淨系統3 〇 1之操作性。 再者，本實施例中，可以用如第2 7圖所示之移送用 工模3 0 8以替代上述移送用工模3 0 7。該移送用工模 3 0 8係如同圖所示，具有，以下端周緣周方向隔著等間 隔支撑晶片W之三支支持棒3 0 8 A，以及分別連結於三 支支持棒3 0 8A之兩端之一對支持體3 0 8 B。在三支 支持棒3 0 8 A等間隔地例如形成有5 0條晶片W之周緣 可嵌入之溝3 0 8C，而以這些溝3 0 8C垂直地支撑 5 0片之晶片W。又在支持板3 0 8 B之上端形成有突緣 部3 0 8D。以晶片移送機構3 0 3之晶片夾具3 0 3A 由兩側將該突緣部3 0 8 D予以把持也。 這些突緣部3 0 8 D，係在洗淨處理時，以洗淨處理 槽內槽之上端吊掛移送用工模3 0 8時也可用。因此依本 實施例時，除了多出需要從架台C將晶片W移載至移送至 移送用工模3 0 8之手績之外，具有與上述相同之作用效 果也。 又上述實施例中，晶片移送機構3 0 3係沿著導軌 334A，334B，335A，335B 及齒條 336 A，3 3 6 B等之補助機構而移動爲例加以說明，惟上述 ---------装------ΪΤ------0 (請先閱读背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） * 47 - A7 B7 五 '發明説明（45) 補助機構係並不對於本實施例有任何限定，又晶片移送機 構3 0 3之晶片夾具之驅動機構也不受上述實施例之限定 。視其必要可適宜變更設計也。即具有，移送機構3 0 3 係洗淨裝e本體之全範圍地可移動之第1移送機構，及移 動於第1移送機構不同之經路之第2移送機構，而以一處 來搬入搬出被處理體而構成時，即可包含於本實施例。 又上述實施例中，所洗淨之被處理體係以晶片W爲例 加以說明，惟本實施例亦可適用於LCD基體爲被處理體 之洗淨。又本發明中，適宜地組合例一乃至例四來使用。

I 如上所述，本發明之基板乾燥裝e係，提供在承接藉 處理液之蒸氣而從被處理體去除之水份之器具中，所存儲 之，在於乾燥處理之待命時間中，由處理液之蒸氣所凝結 存儲之處理液之不致於浪费地被排出於外部，有效率地回 收，由而可減低處理液消費量者。又本發明之基板乾燥裝 置係，可去除混入於處理液之塵埃等，以抑制處理液之劣 化可減低處理液消费置也。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -s

T 經濟部中夬標準局舅工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -48 -

Claims (1)

1. 煩請委員明示本案是否變更實質内容 民國85看6月料 l ^ 六、申請專利範圍 1.—種基板乾燥裝置，具備有： -收容被處理體之被處理體收容領域及收容揮發性之 處理液收容領域，以及令上述處理液氣化用之加熱手段之 處理槽：及 配設於上述被處理體收容領域之下方，承接利用上述 氣化之上述處理液，由從上述被處理體所去除之水份之容 器；及 安裝於上述容器，而將上述容器之水份排出於上述處 理槽之外部之排液管；以及 配設於上述處理槽之上述被處理體收容頜域之上方， 以便凝結上述被氣化之處理液之冷卻手段， 上述排液管係具備有開閉閥，且在比上述開閉閥更靠 近於上述容器之位置，具有從上述排液管分岐之管者。 2 .如申請專利範圍第1項所述之基板乾燥裝置，其 中， • 位於上述處理槽外部之排液管係備有閘部者。 3.如申請專利範園第2項所述之基板乾燥裝置，其 中，由上述排液管所分岐之管之先端位置係高於上述閘部 之最高部。 4 .如申請專利範園第1項所述之基板乾燥裝置，其 中， 又具備連接於上述排液管，用於測定流動於上述排液 管中之排液之傳導率之傅導率計者。 5.如申請專利範圍第4項所述之基板乾燥裝置，其 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾率局貞工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 中， 又具備連接於上述傳導率計及上述開閉閥，依據所測 定傅導率之情報，控制上述開閉閥之開閉之控制手段者。 6. 如申請專利範園第5項所述之基板乾燥裝置，其 中 上述控制手段係連接於，將上述被處理體搬入於上述 被處理體收容領域之移送手段者。 7. 如申請專利範園第1項所述之基板乾燥裝置，其 中 上述冷卻手段係備有，沿著上述處理槽之內壁而螺旋 狀的配置之管內流通冷媒之構成者。 8 .如申請專利範圍第1項所述之基板乾燥裝置，其 中， 上述承接藉上述冷卻手段所凝結，以液滴態地落下之 處理液之處理液回收手段係，設於上述冷卻手段之下方。 9 .如申請專利範園第8項所述之基板乾燥裝e，其 中 上述處理液回收手段係，沿著上述處理槽內壁而設之 溝板體。 10.如申請專利範圍第9項所述之基板乾燥裝置， 其中， 更具備，連接於上述溝板體，而將存儲於上述溝板體 之處理液回流至上述處理液收容領域之回收管者。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項所述之基板乾燥裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 裝 訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 A8 B8 C8 D8 294823 六、申請專利範圍 ，其中 在上述回收管設有過濾手段者。 12.如申請專利範園第8項所述之基板乾燥裝置， (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其中 上述處理液回收手段係，沿著上述處理槽之內壁而具 有間隙狀的設置之溝板體者。 1 3 .如申請專利範圍第1 2項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 上述溝板體係組合多數之板狀體所構成。 1 4 .如申請專利範園第1項所述之基板乾燥裝置， 其中， 更具備有，遮蔽板，該遮蔽板係安裝在上述被處理體 收容領域之對面於搬入上述被處理體之移送手段之處理槽 之面，且具有容許上述移送手段之昇降可能之切缺凹部， 以及隔板，該隔板係安裝在該安裝上述遮蔽板之處理槽之 面之相反側之面。 1 5 種基板乾燥裝置，具備有： 經濟部中央梯準局貞工消費合作社印袈 收容被處理體之被處理體收容領域及收容揮發性之處 理液收容領域，以及令上述使處理液氣化用之加熱手段之 處理槽：及 配設於上述被處理體收容領域之下方，承接利用上述 氣化之上述處理液，由從上述被處理體所去除之水份之容 器；及 安裝於上述容器，而將上述容器之水份排出於上述處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3 々、申請專利範圍 理槽之外部之排液管：以及 配設於上述處理槽之上述被處理體收容領域之上方， 以便凝結上述被氣化之處理液之冷卻手段， 配設於上述處理槽，而令上述處理液循環之處理液循 環手段： 而上述處理液循環手段係具備處理液淨化手段者。 1 6 .如申請專利範園第1 5項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 上述處理液循環手段係由：令處理液循環之液循環管 ，及介設於上述液循環管而由上述處理液收容領域吸取上 述處理液之泵，以及以規定之定時驅動泵之控制部所構成 0 17. 如申請專利範園第16項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 上述液循環管連接有補給處理液之液補給管。 18. 如申請專利範圍第16項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 再具備，收容上述泵，處理淨化手段以及控制部之般 經濟部中央梂车局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 體° 19. 如申請專利範圍第15項所述之基板乾燥裝ff ，其中， 位於上述處理槽外部之排液管係備有閘部者。 2 0 .如申請專利範園第1 9項所述之基板乾燥裝置 ’其中，由上述排液管所分岐之管之先端位置係高於上述 本紙張尺度適用申國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 4 經濟部中央標窣局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 閘部之最高部。 2 1 .如申請專利範園第1 5項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 又具備連接於上述排液管，用於測定流動於上述排液 管中之排液之傳導率之傅導率計者。 2 2 .如申請專利範園第2 1項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 又具備連接於上述傳導率計及上述開閉閥，依據所測 定傳導率之情報，控制上述開閉閥之開閉之控制手段者。 2 3 .如申腈專利範圍第2 2項所述之基板乾燥裝置 ，其中 上述控制手段係連接於，將上述被處理體搬入於上述 被處理體收容領域之移送手段者。 2 4 .如申請專利範園第1 5項所述之基板乾燥裝E ，其中 上述冷卻手段係備有，沿著上述處理榷之內壁而螺旋 狀的配置之管內流通冷媒之構成者。 2 5.如申請專利範圍第1 5項所述之基板乾燥裝置 ，其中， 更具備有，遮蔽板，該遮蔽板係安裝在上述被處理體 收容領域之對面於搬入上述被處理體之移送手段之處理槽 之面，且具有容許上述移送手段之昇降可能之切缺凹部， 以及隔板，該隔板係安裝在該安裝上述遮蔽板之處理槽之 面之相反側之面。 〔 裝 訂 (請先閱讀背面之注$項存填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4况格（210X297公釐〉 5 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 Α« Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 T ^2 6 —種基板乾燥方法，具備： 令收容於處理槽之處理液收容領域之揮發性®理蒸發 ，產生處理液蒸氣之過程：及 將上述處理液蒸氣接觸於收容在上述處理槽之被處理 體收容領域之被處理體’以除去除附著於上述被處理髖之 水份之過程；以及 冷卻上述處理液蒸氣使之凝結成處理液以資歸還於上 述處理液收容領域之過程。 2 7.如申請專利範圍第2 6項所述之基板乾燥方法 ，其中 以規定的定時來實施上述水份之排出於上述處理槽外 部之操作之開始及停止者。 2 8 .如申請專利範園第2 6項所述之基板乾燥方法 ，其中 又，具備將上述處理液蒸氣冷卻凝結之處理液予以淨 化之過程者。 2 9 .如申請專利範圍第2 6項所述之基板乾燥方法 ，其中， 又，具備將收容於上述處理液收容領域之處理液予以 循環之過程者。 3 0 .如申請專利範圍第2 9項所述之基板乾燥方法 ，其中， 又，具備將循環中之處理液之淨化過程者。 ---------^------tT------泉 - ί (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 6