JP3273282B2

JP3273282B2 - 処理装置

Info

Publication number: JP3273282B2
Application number: JP04039694A
Authority: JP
Inventors: 裕司田中; 賢治横溝
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1994-02-15
Filing date: 1994-02-15
Publication date: 2002-04-08
Anticipated expiration: 2017-04-08
Also published as: JPH07222902A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の処理装置では、処理槽の底部で
揮発性を有する所定の処理液たとえばＩＰＡ（イソプロ
ピルアルコール）を加熱して気化させ、このＩＰＡの蒸
気を被処理体たとえば半導体ウエハの表面に付着してい
る水分と置換させることによって、ウエハ表面から水分
を落下させるようにしている。そして、ウエハ表面から
脱離した水分を処理槽内に設置した受皿に落とし、この
受皿より排液管を介して処理槽の外のドレインタンクへ
排液するようにしている。また、ＩＰＡの蒸気を処理槽
の外へ逃がさないように、処理槽の上部側壁に沿って冷
却蛇管を配設し、この冷却蛇管でＩＰＡの蒸気を凝縮
（液化）させ、ＩＰＡの液滴を処理槽底部の処理液溜部
へ戻すようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の受皿
には、処理液の蒸気が凝縮してできた処理液の液滴も溜
る。処理槽内の雰囲気温度はほぼ均一な温度たとえば約
８０゜Ｃに保たれているが、配液管を通じて外気の温度
が受皿に伝わり、受皿付近で処理液の蒸気が冷えて凝縮
してしまう。このような受皿における処理液の凝縮は水
分脱離処理の間に行われるのはもちろんであるが、待機
中であっても受皿によって処理液は凝縮され排液され
る。

【０００４】従来のこの種処理装置は、受皿より排液管
を介して垂れ流しで排液する方式であるため、受皿に溜
った処理液を水分脱離処理中でも待機中でも一律に排液
していた。しかし、受皿に溜る処理液は、水分脱離処理
中は被処理体から脱離した水分と混じるためこれを排液
するのは致し方ないにしても、待機中は水分と混じらな
い純な処理液であり、これを排液するのは無駄である。
実際、この種の処理装置は２４時間稼働するのも珍しく
はなく、そのうち実働時間（水分脱離処理に費やす実時
間）は１／３程度で、残りは待機時間に費やされてい
る。したがって、待機時間中に受皿から無駄に排液され
る処理液は、単位時間当たりでは微量であっても、一日
を通じてみるとかなりの量（たとえば２０リットル程）
になる。

【０００５】また、従来のこの種処理装置では、冷却蛇
管の真下に冷却蛇管から自然落下する処理液の液滴を受
ける樋を処理槽の側壁に沿って設け、この樋で受けた処
理液を樋と内壁との隙間から処理槽底部の処理液溜部側
へ落として回収していた。しかし、このような従来の処
理液回収方式においては、回収される処理液と一緒に樋
や処理槽内壁に付着している汚れ、塵芥等も処理液溜部
へ流れ落ちやすく、このため、処理液が劣化しやすく、
処理液の入れ替えを頻繁に行わなくてはならなかった。
また、樋と処理槽内壁との隙間から落ちた処理液が跳ね
て被処理体や受皿に付着するおそれもあった。

【０００６】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み
てなされたもので、処理液の蒸気によって被処理体から
脱離した水分を受けるための器に待機時間中に凝縮して
溜まった処理液を無駄に排液することなく処理槽内で効
率的に回収して、処理液消費量の節約化をはかる処理装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の処理装置は、被処理体を収容可能な処理
槽を有し、前記処理槽の底部に溜めた揮発性の処理液を
加熱して発生させた蒸気の雰囲気の中で前記被処理体の
表面から落下した揮発性処理液を含む水分を、前記処理
液の溜部の上方に設置した皿状の器に集め、前記器より
排液管を介して排液するようにした処理装置において、
前記排液管の途中に設けられた開閉弁と、前記処理槽内
で処理が行われる間は前記開閉弁を開状態とし、処理が
行われない待機時間中に前記開閉弁を閉状態にする弁制
御手段と、前記開閉弁よりも上流側でかつ前記処理槽の
中で前記処理液溜部よりも高い位置にて前記排液管より
枝状に分岐して、先端が開口している枝管とを有し、前
記待機時間中に前記開閉弁を閉じて前記器より前記排液
管に送られた処理液を前記枝管を介して前記処理液溜部
に戻す構成とした。

【０００８】上記の構成において、処理中は、被処理体
表面から脱離した水分はいったん器に集められてから排
液管を通って排液される。また、処理液の蒸気が凝縮し
てできた液滴も器に集められ水分と一緒に排液管を通っ
て排液される。非処理中または待機中は、凝縮した処理
液だけが器に集液される。本発明の処理装置において
は、待機時間中は開閉弁を閉じることにより、器から排
液管に送られた処理液は途中の枝菅から溢れるようにし
て処理槽底部の処理液溜部へ回収される。

【０００９】本発明の処理装置において、好ましくは、
排液管が枝管と開閉弁との間で排液管にトラップ部を有
する構成としてよい。かかる構成においては、開閉弁が
閉じる前に排液管内の液が枝管よりも低い位置まで下が
ったときは、トラップ部よりも上流側部分に排液が滞留
するので、外気の雰囲気はここで遮断され、処理槽へ上
がっていくことはない。この場合、トラップ部の最も高
い部分の位置よりも枝管の先端位置を高くすることが好
ましい。

【００１０】また、本発明の処理装置において、好まし
くは、処理槽の被処理体を収容する領域の上方に、揮発
性処理液の蒸気を冷却して凝縮させる冷却手段を配置す
る構成としてよい。この冷却手段は、処理槽の内壁に沿
ってスパイラル状に配置された冷却管を有し、この冷却
管内に冷却媒体を供給する構成としてよい。また、処理
液の回収のために、この冷却手段の下方に、冷却手段に
よる冷却で凝縮して液滴となって落下する処理液を受け
る処理液受け手段を設ける構成も好ましい。この処理液
受け手段は、好ましくは、処理槽の内壁に沿って設けら
れた樋状体で構成されてよい。

【００１１】本発明の第２の処理装置では、冷却体で冷
やされて凝縮した処理液は、樋手段に受けられて、処理
液回収用の管を介してフィルタに送られ、そこで不純物
や塵芥等を除去されてから、処理液回収用の管を通って
処理槽内の処理液溜部に回収される。

【００１２】

【実施例】以下、添付図を参照して本発明の実施例を説
明する。

【００１３】図１および図２は、本発明の一実施例によ
る処理装置の構成を示す一部断面正面図および一部断面
側面図である。なお、図解の簡略化のため、図１におけ
る搬送アーム２２は、図２では省かれて図示されていな
い。

【００１４】この処理装置は、たとえばステンレスから
なる有底角筒状の容器１０の底に加熱装置１２を配置
し、この加熱装置１２の上に容器１０の側壁と幾らか隙
間を空けてたとえば石英からなる有底角筒状の処理槽１
４を載置してなる。

【００１５】処理槽１４の底には、揮発性を有する所定
の処理液たとえばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）１
６が所定の液面レベルまで貯留され、処理槽１４の壁面
または底面に設けられた処理液導入口および排液口（図
示せず）を介して必要に応じて処理液１６の入れ替えま
たは補充が行われるようになっている。このように、処
理槽１４の底部が処理液溜部１８を形成している。

【００１６】この処理装置に電源が投入されている間は
常時つまり処理中でも待機中でも処理液溜部１８の処理
液１６は加熱装置１２からの加熱で蒸発し、処理液溜部
１８の上方に処理液１６の蒸気の雰囲気が形成される。
しかして、処理槽１４内のほぼ中間の高さ位置に蒸気処
理部または空間２０が設定されており、処理時にはこの
蒸気処理部２０に複数枚たとえば５０枚の被処理体たと
えば半導体ウエハＷ1〜Ｗ50が搬送アーム２２に把持ま
たは担持された状態で置かれるようになっている。

【００１７】処理槽１４の底部には、蒸気処理部２０の
真下で、かつ処理液１６の液面よりは高い位置に、たと
えば石英製の受皿２４が設置されている。受皿２４の下
面に一体に取付された脚２４ａは処理槽１４の底に付い
ている。図３に示すように、受皿２４の上面（水分受
面）は被処理体Ｗの蒸気処理部２０よりも広い面積に選
ばれており、処理中に半導体ウエハＷ1 〜Ｗ50より脱離
・落下した処理液を含む水分は真下の受皿２４に受けら
れるようになっている。

【００１８】受皿２４の底には排液口２４ｂが設けら
れ、この排液口２４ｂに排液管２６が接続されている。
排液管２６は、処理液溜部１８内を通り、処理槽１４お
よび装置容器１０を貫通して、外部の排液回収部たとえ
ばドレインタンク（図示せず）に通じている。排液管２
６は、少なくとも処理槽１４内では石英またはテフロン
製の管で構成されるのが好ましい。また、排液管２６を
通す処理槽１４および装置容器１０の壁穴には適当なシ
ール部材（図示せず）が設けられてよい。

【００１９】本実施例では、装置容器１０の外で排液管
２６にＵ字状のトラップ部２６ａが設けられるととも
に、このトラップ部２６ａよりも下流側つまりドレイン
タンク側にたとえばエアオペバルブからなる開閉弁３０
が設けられている。そして、処理槽１４内で該トラップ
部２６ａの上端よりも高い排液管２６の位置（箇所）か
ら斜め上方に分岐する処理液回収用の枝管３２が排液管
２６に一体形成されており、この枝管３２の上端は受皿
排液口２４ｂよりも低い位置にて開口している。後述す
るように、待機時間中に受皿２４に凝縮した処理液は枝
管３２を通って処理液溜部１８へ回収されるようになっ
ている。

【００２０】受皿２４の下側には、処理液溜部１８を覆
うように無数の通孔を有するたとえばテフロンからなる
保護板３４が設置されている。この保護板３４の各脚３
４ａも処理槽１４の底に付いている。誤って半導体ウエ
ハＷi が搬送アーム２２から脱落しても、この保護板３
４で受け止められ、処理槽１２の底には当たらないよう
になっている。

【００２１】処理槽１４内の上部にはスパイラル状の冷
却蛇管３６が側壁に沿って延在するように設けられてい
る。この冷却蛇管３６には冷却媒体たとえば冷却水が循
環供給されており、蒸気処理部２０より上昇してきた処
理液の蒸気は冷却蛇管３６で冷やされて凝縮（液化）す
ることで、処理槽１４の外へ逃げないようになってい
る。

【００２２】冷却蛇管３６の下には、蛇管３６より落ち
た処理液を受けるためのたとえば石英からなる板樋３８
が処理槽１４の側壁に沿って回廊状に設けられている。
この板樋３８は、その外周縁部を処理槽１４の側壁に密
着させて内周縁部に向かうほど板面が高くなるように、
つまり外周縁部側に底を形成するように傾いた姿勢で支
持部材４０に固定支持されており、内周縁部３８ａを起
立させて返し部３８ａを形成している。また、板樋３８
は周回方向において高低差をもって延在しており、最も
低い板樋部分付近の処理槽１４の側壁に処理液排出口１
４ａが形成されている。

【００２３】板樋３８の処理液排出口１４ａは処理液回
収用の排出管４２を介して装置容器１０の外に配置され
ているフィルタ４４の入口に接続され、フィルタ４４の
出口は処理液回収用の導入管４６を介して処理槽１４の
側壁の処理液導入口１４ｂに接続されている。この処理
液導入口１４ｂは、処理液溜部１８に貯留される処理液
１６の液面よりも高い位置に形成されている。

【００２４】次に、図４〜図６をも参照して本実施例に
おける処理装置の作用を説明する。なお、図４および図
５では図解の簡略化のため保護板３４が省かれている。

【００２５】搬送アーム２２は、たとえば純水スプレー
による洗浄処理を受けた直後の１ロット分の半導体ウエ
ハＷ1 〜Ｗ50を搬送してきて、図１に示すように処理槽
１４内の蒸気処理部２０まで下ろし、処理時間中その位
置２０で半導体ウエハＷ1 〜Ｗ50を保持する。処理の開
始に先立って、図示しない制御装置により開閉弁３０が
開けられる。上記したように、この処理装置に電源が入
っている間は、つまり加熱装置１２が作動している間
は、処理槽１４の底部の処理液溜部１８より処理液１６
の蒸気が立ち籠めて槽内とりわけ蒸気処理部２０付近は
処理液の蒸気がほぼ飽和状態で充満している。この雰囲
気の中に半導体ウエハＷi が被処理体として置かれるこ
とによって、ウエハ表面に付着している水分が処理液の
蒸気で置換され、ウエハ表面から脱離した水分は真下の
受皿２４に落ちる。

【００２６】このようにして受皿２４に溜った水分は、
図４に示すように、皿底の排液口２４ｂより出て排液管
２６を流れ、開閉弁３０を通ってドレインタンク側へ送
られる。また、処理中に受皿２４付近で処理液の蒸気が
凝縮して生じた処理液は、水分に混じって排液管２６を
通って排液される。

【００２７】処理が終わると、搬送アーム２２は半導体
ウエハＷ1 〜Ｗ50を持ち上げて処理槽１４から取り出
す。この際に、ウエハ表面に付着していた洗浄液の蒸気
が拡散分離して、ウエハ表面は乾燥状態になる。もっと
も、被処理体の乾燥を早めるために、処理槽１４の上部
開口付近で被処理体に向けてエアまたはＮ2 ガス等の不
活性ガスを吹き付けるような乾燥機構を設けてもよい。

【００２８】処理槽１４内では、半導体ウエハＷ1 〜Ｗ
50が搬出されると、もはや蒸気処理部２０から受皿２４
に水分は落ちなくなるが、しばらく受皿２４に残ってい
る水分が排液管２６を介して排液される。そして、処理
終了時から所定時間が経過した後、つまり受皿２４から
水分が完全に排出され、かつ排液管２６内の水分が少な
くとも枝管３２よりも低い位置まで下がった頃合いに、
制御部によって開閉弁３０が閉じられる。なお、開閉弁
３０が閉じる前に、排液管２６内の水分が枝管３２より
も低い位置まで下がったときは、トラップ部２６ａより
も上流部分に排液が滞留するので、外気の雰囲気はここ
で遮断され、処理槽１４内に上がってくることはない。
このようにして、待機時間に入ってから所定時間経過後
に開閉弁３０が閉じられる。

【００２９】開閉弁３０が閉じた後、受皿２４に溜る液
は処理液１６の蒸気が冷えて凝縮したものであり、水分
を含んでいない処理液１６である。図５に示すように、
この受皿２４に溜った処理液１６は、受皿排液口２４ｂ
より排液管２６に送られるや否や枝管３２に入り、枝管
３２の口から液滴１６ｂとして落下し、処理液溜部１８
へ回収される。

【００３０】このように、待機時間に入って所定時間
（残留水分除去時間）経過後は、受皿２４に凝縮した処
理液１６は、排液管２６および枝管３２を介して処理槽
１４内の処理液溜部１８に回収される。運転時間に占め
る割合は処理時間よりも待機時間の方がずっと大きいの
で、一日単位あるいは１月単位でみると、かなりの量の
処理液が節減されることになる。

【００３１】一方、処理槽１４内の上部では、処理時間
中も待機時間中も本処理装置が運転している間は、処理
液１６の蒸気が冷却蛇管３６で冷やされて凝縮液化す
る。

【００３２】図６に示すように、冷却蛇管３６の各段の
管の表面に凝縮して付いた処理液の滴は、垂直方向に下
段の管の外周面を順次伝って、最下段の管付近で大きな
液滴１６ａに成長して蛇管から離脱落下する。その離脱
落下の際に、処理液の液滴１６ａが管の側方へ跳ねるこ
とがある。本実施例では、蛇管３６の内側つまり処理槽
中心部側へ跳ねた液滴１６ａは、板樋３８の返し部３８
ａで捕捉されるようになっており、被処理体Ｗや受皿２
４等にかかるおそれはない。

【００３３】冷却蛇管３６より板樋３８に落ちた処理液
は、板樋３８を周回方向に低い方へ移動して処理液排出
口１４ａより排出管４２を通ってフィルタ４４に送ら
れ、そこで不純物や塵芥等を除去されてから、導入管４
６を通って処理液導入口１４ｂへ導かれ、そこから処理
槽１４の壁伝いに処理液溜部１８に落ちるようになって
いる。なお、処理液導入管４６を処理液導入口１４ｂよ
り内側に突出させ、管４６の出口から処理液が処理液溜
部１８へ直接落ちるようにしてもよい。

【００３４】このように、本実施例の処理装置では、冷
却蛇管３６で凝縮液化した処理液１６が、板樋３８によ
って安全確実に捕捉されるとともに、処理液回収用の排
出管４２および導入管４６ならびにフィルタ４４によっ
て不純物や塵芥等を除去してから処理液溜部１８に回収
されるので、処理槽１４において処理液１６は劣化しに
くく、そのぶん処理液１６の入れ替え回数が少なくな
り、処理液１６の消費量が少なくなっている。

【００３５】なお、処理槽１４の内壁に板樋３８（ない
し支持材４０）を取付するに当たっては、最初から枠状
に形成された板樋３８を正しく位置合わせして設置する
のは寸法精度の点から難しいことが多い。そこで、図７
に示すように、複数たとえば４つの板樋片３８Ａ，３８
Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄに分割形成し、各板樋片３８ｉを別
々に各内壁に取付するようにすると、寸法精度にバラツ
キがあっても、正しい位置合わせで板樋３８を設置する
ことができる。

【００３６】また、図８および図９に示すように、この
分割式の樋構造を、板樋と処理槽との間に隙間を設けて
その隙間から処理液を落とすような場合にも適用するこ
とが可能である。この構成例において、枠状に構成され
た樋支持部材４０は処理槽１４の内壁面に所定の間隔を
置いて数箇所たとえば６箇所に溶接で突設された石英製
の樋受座５０に担持され、この樋支持部材４０の上に４
分割式の板樋３８（３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄ）
がその外周面を処理槽１４の内壁面に可及的に（たとえ
ば０〜０．５ｍｍ）に接近させて配設される。かかる構
成によれば、蛇管３６から板樋３８に落ちた処理液は、
板樋３８と処理槽１４の内壁面との間のわずかな隙間か
ら内壁伝いにスムースに流れ、被処理体や受皿２４側へ
跳ねてそれらに付着するようなことはない。

【００３７】上記した実施例では、排液管２６において
開閉弁３０をトラップ部２６ａより下流側に設けたが、
トラップ部２６ａより上流側に設けることも可能であ
り、処理槽１４内に設けることも可能である。また、枝
管３２の形状・寸法も任意のものが可能であり、必要に
応じて複数の箇所に設けることも可能である。本発明の
処理装置において被処理体から脱離落下した処理液を受
ける器は、上記実施例における受皿２４のような形状・
構造に限るわけではなく、任意の形状・構造が可能であ
り、たとえば箱形や椀形のものでもよい。

【００３８】樋手段も、上記実施例の板樋３８に限ら
ず、任意の形状・構造が可能であり、たとえば断面が湾
曲したものでもよい。また、周回方向における傾斜を連
続的にして処理液をより迅速・円滑に排出口１４ａ側へ
送るようにしてもよく、排出口１４ａの個数または処理
液回収用の管４２，４６の本数を複数にすることも可能
である。また、必要に応じて、処理液回収用の管４２，
４６にポンプを取り付けてもよく、フィルタ４４を省く
ことも可能である。また、冷却体も蛇管構造に限るもの
ではなく、たとえばパネル構造のものでも可能である。

【００３９】図１０は、上記した実施例による搬送アー
ム洗浄装置の適用可能な半導体ウエハ洗浄システムの一
構成例を示す。

【００４０】この洗浄システムは、インプットバッファ
機構７０と洗浄装置本体７２とアウトプットバッファ機
構７３とで構成されている。洗浄装置本体７２の両端部
にはローダ部（ウエハ搬入部）７４およびアンローダ部
（ウエハ搬出部）７６がそれぞれ設けられ、中間部には
一列に複数台たとえば９台の処理部７８ａ〜７８ｉが配
置されている。

【００４１】たとえば、第１の処理部７８ａは搬送アー
ム洗浄・乾燥部、第２の処理部７８ｂはウエハ薬液洗浄
部、第３および第４の処理部７８ｃ，７８ｄはそれぞれ
ウエハ水洗部、第５の処理部７８ｅはウエハ薬液洗浄
部、第６および第７の処理部７８ｆ，７８ｇはウエハ水
洗部、第８の処理部７８ｈは搬送アーム洗浄・乾燥部、
第９の処理部７８ｉはウエハ乾燥部である。上記した実
施例による処理装置は、第９の処理部７８ｉ（ウエハ乾
燥部）に設置されてよい。

【００４２】これらの処理部７８ａ〜７８ｉの手前に
は、ウエハチャック１０６，１０６，１０６をそれぞれ
備えた複数台たとえば３台の搬送ロボット１０２，１０
２，１０２が矢印Ｙ方向に移動可能に配置されている。
各々の搬送ロボット１０２はＹ方向において移動または
搬送範囲を制限され、それぞれ割り当てられた処理部７
８にのみアクセスするようになっている。

【００４３】インプットバッファ機構７０およびアウト
プットバッファ機構７３には、ウエハキャリアＣを搬送
するためのキャリア搬送アーム８６、ウエハキャリアＣ
を一時的に保管するためのキャリア収納部８８、システ
ム外部とウエハキャリアＣの受け渡しを行うためのキャ
リア載置台９０、空のウエハキャリアＣを上昇または下
降させるためのキャリア昇降機９２等が設けられてい
る。洗浄装置本体７２においては、ローダ部７４の上部
から搬送装置８２ａ〜８２ｃの上方を通ってアンローダ
部７６に至るキャリア搬送機構９４が設けられている。

【００４４】インプットバッファ機構７０で空になった
ウエハキャリアＣは、キャリア昇降機９２によってキャ
リア搬送機構９４に渡され、アウトプットバッファ機構
７３まで搬送される。その搬送の途中で、ウエハキャリ
アＣは、シャワー装置等の洗浄装置で洗浄され、洗浄後
に乾燥エアー吹付機等の乾燥装置によって乾かされるよ
うになっている。したがって、アウトプットバッファ機
構７３においては、洗浄・乾燥された清浄なウエハキャ
リアＣに洗浄処理済のウエハが移載収容されるようにな
っている。

【００４５】上記した実施例における被処理体は半導体
ウエハであったが、本発明は他の被処理体たとえばＬＣ
Ｄ基板やガラス基板等を乾燥させる処理装置にも適用可
能である。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理装置
によれば、処理液の蒸気によって被処理体から脱離した
水分を受けるための器に待機時間中に凝縮して溜まった
処理液を無駄に排液することなく処理槽内で効率的に回
収して、処理液消費量の節約化をはかることができる。

【００４７】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による処理装置の全体構成を
示す一部断面正面図である。

【図２】実施例における処理装置の全体構成を示す一部
断面側面図である。

【図３】実施例の処理装置において水分脱離位置に対す
る受皿の面積を示す略平面図である。

【図４】実施例の処理装置において処理時間中の作用を
説明するための略部分斜視図である。

【図５】実施例の処理装置において待機時間中の作用を
説明するための略部分斜視図である。

【図６】実施例の処理装置において冷却蛇管から落ちた
処理液が板樋の返し部によって受けられる様子を示す略
断面図である。

【図７】実施例の処理装置において分割式の板樋構造を
示す略平面図である。

【図８】冷却体からの処理液を樋手段と処理槽との間の
隙間より落として回収する方式に実施例の分割式板樋構
造を適用した構成例を示す略斜視図である。

【図９】図８の分割式板樋構造の作用を示す略側面図で
ある。

【図１０】本発明における処理装置が使用される半導体
ウエハ洗浄システムの構成例を示す図である。

【符号の説明】

１２加熱装置１４処理槽１６処理液１８処理液溜部２０蒸気処理部２４受皿２６排液管３０開閉弁３２枝管３６冷却蛇管３８板樋４２処理液回収用排出管４４フィルタ４６処理液回収用導入管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 12/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を収容可能な処理槽を有し、前
記処理槽の底部に溜めた揮発性の処理液を加熱して発生
させた蒸気の雰囲気の中で前記被処理体の表面から落下
した揮発性処理液を含む水分を、前記処理液の溜部の上
方に設置した皿状の器に集め前記器より排液管を介して
排液するようにした処理装置において、前記排液管の途中に設けられた開閉弁と、前記処理槽内で処理が行われる間は前記開閉弁を開状態
とし、処理が行われない待機時間中に前記開閉弁を閉状
態にする弁制御手段と、前記開閉弁よりも上流側でかつ前記処理槽の中で前記処
理液溜部よりも高い位置にて前記排液管より枝状に分岐
して、先端が開口している枝管とを有し、前記待機時間中に前記開閉弁を閉じて前記器より前記排
液管に送られた処理液を前記枝管を介して前記処理液溜
部に戻すことを特徴とする処理装置。
【請求項２】前記排液管が前記枝管と前記開閉弁との
間にトラップ部を有することを特徴とする請求項１に記
載の処理装置。
【請求項３】前記トラップ部の最も高い部分の位置よ
りも前記枝管の先端位置が高いことを特徴とする請求項
２に記載の処理装置。
【請求項４】前記処理槽の前記被処理体を収容する領
域の上方に配置され、前記揮発性処理液の蒸気を冷却し
て凝縮させる冷却手段を有することを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載の処理装置。
【請求項５】前記冷却手段が前記処理槽の内壁に沿っ
てスパイラル状に配置された冷却管を有し、この冷却管
内に冷却媒体が供給されることを特徴とする請求項４に
記載の処理装置。
【請求項６】処理液の回収のために前記冷却手段の下
方に設けられ、前記冷却手段による冷却で凝縮して液滴
となって落下する処理液を受ける処理液受け手段を有す
ることを特徴とする請求項４または５に記載の処理装
置。
【請求項７】前記処理液受け手段が、前記処理槽の内
壁に沿って設けられた樋状体であることを特徴とする請
求項６に記載の処理装置。