JP3301585B2 - 蒸気洗浄乾燥装置 - Google Patents
蒸気洗浄乾燥装置Info
- Publication number
- JP3301585B2 JP3301585B2 JP19808196A JP19808196A JP3301585B2 JP 3301585 B2 JP3301585 B2 JP 3301585B2 JP 19808196 A JP19808196 A JP 19808196A JP 19808196 A JP19808196 A JP 19808196A JP 3301585 B2 JP3301585 B2 JP 3301585B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steam
- cleaning
- cleaned
- cleaning liquid
- drying apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体基板、液晶基
板などの被洗浄物を洗浄乾燥させる装置に係り、詳しく
は、有機溶媒（例えば、イソプロピルアルコ−ルなど）
の洗浄液を使って洗浄および乾燥を行うのに極めて好適
な蒸気洗浄乾燥装置に関する。
板などの被洗浄物を洗浄乾燥させる装置に係り、詳しく
は、有機溶媒（例えば、イソプロピルアルコ−ルなど）
の洗浄液を使って洗浄および乾燥を行うのに極めて好適
な蒸気洗浄乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程では、純水、アルカリ性
および酸性溶液などを用いて半導体基板のウエット洗浄
を行い、このウエット洗浄の後には、半導体基板の表面
に残留した異物および水分を除去するために洗浄乾燥処
理が伴なう。この異物および水分を除去する洗浄乾燥処
理は、有機溶媒が水と任意の割合で混合する性質を利用
して行われる。この処理には有機溶媒としてイソプロピ
ルアルコ−ルを利用した装置が知られている。この種の
装置としては、たとえば特開平２−１０８３１号公報、
特開平６−２０４２０２号公報または特開平７−２２１
０６３号公報に記載がある。
および酸性溶液などを用いて半導体基板のウエット洗浄
を行い、このウエット洗浄の後には、半導体基板の表面
に残留した異物および水分を除去するために洗浄乾燥処
理が伴なう。この異物および水分を除去する洗浄乾燥処
理は、有機溶媒が水と任意の割合で混合する性質を利用
して行われる。この処理には有機溶媒としてイソプロピ
ルアルコ−ルを利用した装置が知られている。この種の
装置としては、たとえば特開平２−１０８３１号公報、
特開平６−２０４２０２号公報または特開平７−２２１
０６３号公報に記載がある。
【０００３】図３は、電気式ヒ−タ−を加熱源に利用し
た従来の蒸気洗浄乾燥装置を示す構成図である。また図
４は、熱媒体油を加熱源に利用した従来の他の蒸気洗浄
乾燥装置を示す構成図である。図４、図３において共通
する構成要素には同一の番号が付されている。図３およ
び図４に示すように、蒸気槽１内の底面には有機溶媒の
洗浄液２０（イソプロピルアルコ−ルなど）が貯留され
ている。図３に示す装置では、蒸気槽１内の底面に、加
熱源である電気式ヒ−タ４が洗浄液２０内に挿入される
ように設けてある。また、図４に示す装置では蒸気槽１
の底面に、加熱源である熱媒体油５中に電気式ヒ−タ４
が設けてあり、この熱媒体油５の加熱によって蒸気槽１
内の洗浄液２０が加熱されるように構成されている。図
３および図４に示すように、蒸気槽１に貯留された洗浄
液２０の液面上方には、受け皿１５が設置してあり、こ
の受け皿１５の底面には受け皿配管１７が接続され洗浄
槽１の外部へと配管されている。また蒸気槽１の上部内
側には、螺旋状の冷却管１１が配設されており、この冷
却管１１の内側には、内周に沿って冷却管１１を包囲す
るように受け樋１３が設けられている。
た従来の蒸気洗浄乾燥装置を示す構成図である。また図
４は、熱媒体油を加熱源に利用した従来の他の蒸気洗浄
乾燥装置を示す構成図である。図４、図３において共通
する構成要素には同一の番号が付されている。図３およ
び図４に示すように、蒸気槽１内の底面には有機溶媒の
洗浄液２０（イソプロピルアルコ−ルなど）が貯留され
ている。図３に示す装置では、蒸気槽１内の底面に、加
熱源である電気式ヒ−タ４が洗浄液２０内に挿入される
ように設けてある。また、図４に示す装置では蒸気槽１
の底面に、加熱源である熱媒体油５中に電気式ヒ−タ４
が設けてあり、この熱媒体油５の加熱によって蒸気槽１
内の洗浄液２０が加熱されるように構成されている。図
３および図４に示すように、蒸気槽１に貯留された洗浄
液２０の液面上方には、受け皿１５が設置してあり、こ
の受け皿１５の底面には受け皿配管１７が接続され洗浄
槽１の外部へと配管されている。また蒸気槽１の上部内
側には、螺旋状の冷却管１１が配設されており、この冷
却管１１の内側には、内周に沿って冷却管１１を包囲す
るように受け樋１３が設けられている。
【０００４】このように、洗浄液２０は、加熱源（電気
式ヒ−タ４または熱媒体油５）により加熱され蒸気化
し、蒸気槽１内部の蒸気ライン２２の位置まで充満す
る。蒸気ライン２２の位置には冷却管１１があり、この
管内部には冷却水を循環させている。この冷却管１１に
より蒸気化された洗浄液２０は冷えて凝縮し、洗浄槽１
の低部へと還流する。このように蒸気槽１内を上部から
下部へ蒸気化した洗浄液２０が還流し充満するとともに
蒸気槽１内には一定の圧力が加わる。
式ヒ−タ４または熱媒体油５）により加熱され蒸気化
し、蒸気槽１内部の蒸気ライン２２の位置まで充満す
る。蒸気ライン２２の位置には冷却管１１があり、この
管内部には冷却水を循環させている。この冷却管１１に
より蒸気化された洗浄液２０は冷えて凝縮し、洗浄槽１
の低部へと還流する。このように蒸気槽１内を上部から
下部へ蒸気化した洗浄液２０が還流し充満するとともに
蒸気槽１内には一定の圧力が加わる。
【０００５】ウエット洗浄を終えた被洗浄物３０は、蒸
気槽１の中央に設けた受け皿１５の上部に収納される。
この被洗浄物３０は、蒸気流２４のように還流する洗浄
液２０を表面に付着させ凝縮させる。また蒸気化した洗
浄液２０は冷却管１１に付着し冷却され下部に滴下す
る。この滴下する洗浄液２０により蒸気槽１に貯留した
洗浄液２０内の温度が低下しないように受け樋１３を備
えている。被洗浄物３０の表面に付着し凝縮した洗浄液
２０は、表面に残留した水分および異物を取り込んで凝
縮洗浄液２６として滴下する。従って、水分と異物を含
んだ凝縮洗浄液２６は底面にある受け皿１５に滴下し、
受け皿配管１７へ流入され蒸気槽１の外へと排出され
る。このように従来の装置では加熱源により加熱した蒸
気槽１内の温度は変化しやすいので、受け皿１５および
受け樋１３を設け滴下する冷えた洗浄液２０を除去し、
温度を維持していた。
気槽１の中央に設けた受け皿１５の上部に収納される。
この被洗浄物３０は、蒸気流２４のように還流する洗浄
液２０を表面に付着させ凝縮させる。また蒸気化した洗
浄液２０は冷却管１１に付着し冷却され下部に滴下す
る。この滴下する洗浄液２０により蒸気槽１に貯留した
洗浄液２０内の温度が低下しないように受け樋１３を備
えている。被洗浄物３０の表面に付着し凝縮した洗浄液
２０は、表面に残留した水分および異物を取り込んで凝
縮洗浄液２６として滴下する。従って、水分と異物を含
んだ凝縮洗浄液２６は底面にある受け皿１５に滴下し、
受け皿配管１７へ流入され蒸気槽１の外へと排出され
る。このように従来の装置では加熱源により加熱した蒸
気槽１内の温度は変化しやすいので、受け皿１５および
受け樋１３を設け滴下する冷えた洗浄液２０を除去し、
温度を維持していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３お
よび図４に示す装置では、洗浄を終えて水分を付着させ
た被洗浄物３０が蒸気槽１に投入されると洗浄槽１内の
温度が低下し、これとともに加熱源（電気式ヒ−タ４、
熱媒体油５）の温度が下がってしまい結果、洗浄液２０
を加熱できず充分な洗浄および乾燥が行なえなくなる。
図５は従来の蒸気洗浄乾燥装置内の被洗浄物投入前後の
温度変化を示すグラフである。Ｔａは被洗浄物を蒸気槽
内に投入する前の蒸気槽内の温度（洗浄液の沸点）であ
り、Ｔｂは被洗浄物を投入した後の蒸気槽内の温度であ
る。またＴｃは被洗浄物が蒸気槽内に投入された時の時
間であり、Ｔｄは蒸気槽内の温度がＴｂからＴａに戻っ
た時の時間である。
よび図４に示す装置では、洗浄を終えて水分を付着させ
た被洗浄物３０が蒸気槽１に投入されると洗浄槽１内の
温度が低下し、これとともに加熱源（電気式ヒ−タ４、
熱媒体油５）の温度が下がってしまい結果、洗浄液２０
を加熱できず充分な洗浄および乾燥が行なえなくなる。
図５は従来の蒸気洗浄乾燥装置内の被洗浄物投入前後の
温度変化を示すグラフである。Ｔａは被洗浄物を蒸気槽
内に投入する前の蒸気槽内の温度（洗浄液の沸点）であ
り、Ｔｂは被洗浄物を投入した後の蒸気槽内の温度であ
る。またＴｃは被洗浄物が蒸気槽内に投入された時の時
間であり、Ｔｄは蒸気槽内の温度がＴｂからＴａに戻っ
た時の時間である。
【０００７】図５に示すように、従来の方式では洗浄後
に水分を付着した被洗浄物３０が蒸気槽１内に投入され
ると、投入される前の温度Ｔａから投入された後の温度
Ｔｂまで下がってしまう。従って、再び投入する前の温
度Ｔａに戻るまでは、かなり時間がかかる。この結果、
蒸気槽１内から蒸気化した洗浄液２０が減少してしま
い、被洗浄物３０は水分を付着したまま大気にさらされ
る事になる。従って被洗浄物３０の表面に付着した水分
がそのまま乾燥し、乾燥ジミの問題を起こすという不具
合があった。また蒸気槽１内には一定の圧力が加わって
いるが、被洗浄物３０が蒸気槽１内に投入されると被洗
浄物３０が蒸気槽１内零囲気より低温であるため、蒸気
槽１内の圧力は低下してしまう。蒸気槽１内の圧力が低
下すると、蒸気槽１内と外部とが受け皿配管１７により
連通されているため、受け皿配管１７から蒸気槽１外の
外気を内部に吸込み結果、温度が低下し被洗浄物３０の
乾燥が良好に行われないという不具合があった。
に水分を付着した被洗浄物３０が蒸気槽１内に投入され
ると、投入される前の温度Ｔａから投入された後の温度
Ｔｂまで下がってしまう。従って、再び投入する前の温
度Ｔａに戻るまでは、かなり時間がかかる。この結果、
蒸気槽１内から蒸気化した洗浄液２０が減少してしま
い、被洗浄物３０は水分を付着したまま大気にさらされ
る事になる。従って被洗浄物３０の表面に付着した水分
がそのまま乾燥し、乾燥ジミの問題を起こすという不具
合があった。また蒸気槽１内には一定の圧力が加わって
いるが、被洗浄物３０が蒸気槽１内に投入されると被洗
浄物３０が蒸気槽１内零囲気より低温であるため、蒸気
槽１内の圧力は低下してしまう。蒸気槽１内の圧力が低
下すると、蒸気槽１内と外部とが受け皿配管１７により
連通されているため、受け皿配管１７から蒸気槽１外の
外気を内部に吸込み結果、温度が低下し被洗浄物３０の
乾燥が良好に行われないという不具合があった。
【０００８】また、図３及び図４に示す従来の装置で
は、蒸気化した洗浄液２０が被洗浄物３０に対して蒸気
流２４のように上下左右バラバラに還流し付着するため
表面の異物等は落下しにくいという不具合があった。さ
らに従来の装置において被洗浄物３０の収納部は、被洗
浄物３０の周囲を包囲した部分と非包囲部とがあり乾燥
の際、乾燥が均一に行われず被洗浄物３０表面にシミが
残る不具合があった。その対策として、洗浄、乾燥効果
の高い引火性洗浄液を使用することも、図３および図４
に示すように、電気式ヒ−タ−４または熱媒体油５の使
用により放電、ショートによる火災の危険性があるため
使用することは不可能であった。
は、蒸気化した洗浄液２０が被洗浄物３０に対して蒸気
流２４のように上下左右バラバラに還流し付着するため
表面の異物等は落下しにくいという不具合があった。さ
らに従来の装置において被洗浄物３０の収納部は、被洗
浄物３０の周囲を包囲した部分と非包囲部とがあり乾燥
の際、乾燥が均一に行われず被洗浄物３０表面にシミが
残る不具合があった。その対策として、洗浄、乾燥効果
の高い引火性洗浄液を使用することも、図３および図４
に示すように、電気式ヒ−タ−４または熱媒体油５の使
用により放電、ショートによる火災の危険性があるため
使用することは不可能であった。
【０００９】このように電気式ヒ−タ４および熱媒体油
５の加熱源では、一定な熱量を洗浄槽１内に加え、維持
することが困難であった。本発明はこのように従来技術
の問題を解決し、常に一定な熱量を蒸気槽１内に加えら
れるようにするとともに、その温度と圧力を一定に維持
できるよう改善することで、被洗浄物３０の表面の洗浄
及び乾燥を効率よく行われるようにした蒸気洗浄乾燥装
置を提供することを目的とする。
５の加熱源では、一定な熱量を洗浄槽１内に加え、維持
することが困難であった。本発明はこのように従来技術
の問題を解決し、常に一定な熱量を蒸気槽１内に加えら
れるようにするとともに、その温度と圧力を一定に維持
できるよう改善することで、被洗浄物３０の表面の洗浄
及び乾燥を効率よく行われるようにした蒸気洗浄乾燥装
置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前述の目的を達成するた
めに本発明は、中空管状体の加熱源に加熱した水蒸気を
導入し、この加熱源を洗浄槽内に貯留した洗浄液内に挿
入し、洗浄液を加熱し蒸気化させ、被洗浄物の洗浄およ
び乾燥を行うよう配設する。また洗浄槽内中央に受け皿
を配設し、この受け皿外周上部に周壁を設け、被洗浄物
を周壁内に収容するとともに、この周壁は被洗浄物の周
囲全体を包囲する高さに設け、受け皿底面には被洗浄物
から滴下する洗浄液を蒸気槽外に排水する配管を配設
し、この配管の排水口から外気が逆流しないよう逆止弁
を設ける。また中空管状体の加熱源は材質を石英かステ
ンレス鋼（ＳＵＳ）のいずれかにより形成し、この加熱
源に導入する加熱された水蒸気は、水に所定の圧力を加
え沸騰点以上の温度に加熱したものであり、この水蒸気
を加熱源に導入する。
めに本発明は、中空管状体の加熱源に加熱した水蒸気を
導入し、この加熱源を洗浄槽内に貯留した洗浄液内に挿
入し、洗浄液を加熱し蒸気化させ、被洗浄物の洗浄およ
び乾燥を行うよう配設する。また洗浄槽内中央に受け皿
を配設し、この受け皿外周上部に周壁を設け、被洗浄物
を周壁内に収容するとともに、この周壁は被洗浄物の周
囲全体を包囲する高さに設け、受け皿底面には被洗浄物
から滴下する洗浄液を蒸気槽外に排水する配管を配設
し、この配管の排水口から外気が逆流しないよう逆止弁
を設ける。また中空管状体の加熱源は材質を石英かステ
ンレス鋼（ＳＵＳ）のいずれかにより形成し、この加熱
源に導入する加熱された水蒸気は、水に所定の圧力を加
え沸騰点以上の温度に加熱したものであり、この水蒸気
を加熱源に導入する。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照して本発明に
よる蒸気洗浄乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。
図１は本発明による加熱源を水蒸気にした蒸気洗浄乾燥
装置の実施の形態を示す構成図である。図１において、
図３の従来技術と同じ構成要素には同一番号を記してい
る。図１に示すように、蒸気槽１内の底面には、有機溶
媒の洗浄液２０（例えば、イソプロピルアルコ−ルな
ど）が貯留されている。この洗浄液２０の中には、加熱
源である熱交換器３が洗浄液２０内に挿入されるように
設けてある。熱交換器３は石英かステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ）いずれかの材質により形成されている。この熱交換
器３により直接洗浄液２０が加熱され蒸気化するように
構成されている。熱交換器３の形状は図１に示すよう
に、熱伝達の効率を良くするため、波状に交互に折り畳
み熱伝達を行う面積を多くとっている。この熱交換器３
は、中空の管状体であり、水蒸気を送り込む蒸気入口７
及び水蒸気を排出するための蒸気出口９を備えている。
熱交換器３に送り込まれる水蒸気は約１〜３Ｋｇｆ／ｃ
ｍ2の圧力を加えた温度約１００〜１３０℃の水であ
り、この水蒸気により効率のよい加熱を実行することが
できる。
よる蒸気洗浄乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。
図１は本発明による加熱源を水蒸気にした蒸気洗浄乾燥
装置の実施の形態を示す構成図である。図１において、
図３の従来技術と同じ構成要素には同一番号を記してい
る。図１に示すように、蒸気槽１内の底面には、有機溶
媒の洗浄液２０（例えば、イソプロピルアルコ−ルな
ど）が貯留されている。この洗浄液２０の中には、加熱
源である熱交換器３が洗浄液２０内に挿入されるように
設けてある。熱交換器３は石英かステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ）いずれかの材質により形成されている。この熱交換
器３により直接洗浄液２０が加熱され蒸気化するように
構成されている。熱交換器３の形状は図１に示すよう
に、熱伝達の効率を良くするため、波状に交互に折り畳
み熱伝達を行う面積を多くとっている。この熱交換器３
は、中空の管状体であり、水蒸気を送り込む蒸気入口７
及び水蒸気を排出するための蒸気出口９を備えている。
熱交換器３に送り込まれる水蒸気は約１〜３Ｋｇｆ／ｃ
ｍ2の圧力を加えた温度約１００〜１３０℃の水であ
り、この水蒸気により効率のよい加熱を実行することが
できる。
【００１２】また、蒸気槽１内の上部に冷却管１１と受
け樋１３が設けてあり、さらに蒸気槽１内の洗浄液２０
の液面上方には、受け皿１５を設け、この受け皿１５の
底面に受け皿配管１７が設置してある。受け皿配管１７
には逆止弁（図示せず）が取付けられている。また、受
け皿１５の上部には周壁を有する整流板１９が設けてあ
る。整流板１９は蒸気槽１内中央に設けた受け皿１５の
外周から上部方向に周壁を設けるように配設されてい
る。この整流板１９の高さは被洗浄物３０の周囲全体を
包囲し、整流板１９に被洗浄物３０が隠れる高さ（約１
００ｍｍ以内）に設けてある。
け樋１３が設けてあり、さらに蒸気槽１内の洗浄液２０
の液面上方には、受け皿１５を設け、この受け皿１５の
底面に受け皿配管１７が設置してある。受け皿配管１７
には逆止弁（図示せず）が取付けられている。また、受
け皿１５の上部には周壁を有する整流板１９が設けてあ
る。整流板１９は蒸気槽１内中央に設けた受け皿１５の
外周から上部方向に周壁を設けるように配設されてい
る。この整流板１９の高さは被洗浄物３０の周囲全体を
包囲し、整流板１９に被洗浄物３０が隠れる高さ（約１
００ｍｍ以内）に設けてある。
【００１３】このように本発明の実施の形態による蒸気
洗浄乾燥装置を使用する場合は、熱交換器３の蒸気入口
７から水蒸気を導入させ、洗浄液２０を加熱し蒸気化さ
せる。この蒸気化した洗浄液２０は、蒸気ライン２２の
位置まで充満する。このとき蒸気槽１内の整流板１９内
には、ウエット洗浄を終えた被洗浄物３０が収容されて
いる。蒸気槽１内の蒸気化した洗浄液２０は、冷却管１
１の位置で冷却され蒸気流２４のように上部から低部へ
と還流する。この還流する洗浄液２０は、整流板１９の
上部より整流板１９内に導入され被洗浄物３０の表面に
付着し凝縮する。整流板１９は被洗浄物の周囲全体を包
囲する高さを有しているため、周囲から蒸気化した洗浄
液２０が入り込まず常に上面から一方向に還流する。
洗浄乾燥装置を使用する場合は、熱交換器３の蒸気入口
７から水蒸気を導入させ、洗浄液２０を加熱し蒸気化さ
せる。この蒸気化した洗浄液２０は、蒸気ライン２２の
位置まで充満する。このとき蒸気槽１内の整流板１９内
には、ウエット洗浄を終えた被洗浄物３０が収容されて
いる。蒸気槽１内の蒸気化した洗浄液２０は、冷却管１
１の位置で冷却され蒸気流２４のように上部から低部へ
と還流する。この還流する洗浄液２０は、整流板１９の
上部より整流板１９内に導入され被洗浄物３０の表面に
付着し凝縮する。整流板１９は被洗浄物の周囲全体を包
囲する高さを有しているため、周囲から蒸気化した洗浄
液２０が入り込まず常に上面から一方向に還流する。
【００１４】従って、被洗浄物３０に凝縮した洗浄液２
０は上部から下部へと順に流れ、被洗浄物３０の表面に
残留した異物および水分を取り込んで凝縮洗浄液２６と
して滴下する。このように常に上部から下部へと順に流
れ、被洗浄物３０の表面を洗浄し受け皿１５へと洗浄液
２０が滴下するため洗浄、乾燥が効率良くでき被洗浄物
３０の表面にシミが残ることがなくなる。凝縮洗浄液２
６は、底面にある受け皿１５に滴下し、受け皿配管１７
へ流入され蒸気槽１の外へと排出される。この受け皿配
管１７には逆止弁（図示せず）が配設されており、凝縮
洗浄液２６は蒸気槽内部から外部へと常に一方向のみ流
出されるため、逆に圧力低下により蒸気槽１外から外気
を蒸気槽１内部に吸込むことがなく、蒸気槽１内の温度
を低下させることがなくなる。
０は上部から下部へと順に流れ、被洗浄物３０の表面に
残留した異物および水分を取り込んで凝縮洗浄液２６と
して滴下する。このように常に上部から下部へと順に流
れ、被洗浄物３０の表面を洗浄し受け皿１５へと洗浄液
２０が滴下するため洗浄、乾燥が効率良くでき被洗浄物
３０の表面にシミが残ることがなくなる。凝縮洗浄液２
６は、底面にある受け皿１５に滴下し、受け皿配管１７
へ流入され蒸気槽１の外へと排出される。この受け皿配
管１７には逆止弁（図示せず）が配設されており、凝縮
洗浄液２６は蒸気槽内部から外部へと常に一方向のみ流
出されるため、逆に圧力低下により蒸気槽１外から外気
を蒸気槽１内部に吸込むことがなく、蒸気槽１内の温度
を低下させることがなくなる。
【００１５】図２は本発明の蒸気洗浄乾燥装置内の被洗
浄物投入前後の温度変化および圧力変化を示すグラフで
ある。温度Ｔａと圧力Ｐａは蒸気槽内で洗浄および乾燥
を効率よく行うために設定された温度（洗浄液の沸点）
と圧力であり、温度Ｔｂ、圧力Ｐｂはそれぞれ被洗浄物
を投入した後の蒸気槽内の温度および圧力である。また
時間Ｔｃは被洗浄物が蒸気槽内に投入された時の時間で
あり、時間Ｔｄは蒸気槽内の温度ＴｂからＴａに戻った
時の時間である。また時間Ｔｅは投入された被洗浄物の
温度が蒸気槽内の温度Ｔａと等しくなった時の時間であ
り、時間Ｔｐは蒸気槽内の圧力ＰｂからＰａに戻った時
間である。
浄物投入前後の温度変化および圧力変化を示すグラフで
ある。温度Ｔａと圧力Ｐａは蒸気槽内で洗浄および乾燥
を効率よく行うために設定された温度（洗浄液の沸点）
と圧力であり、温度Ｔｂ、圧力Ｐｂはそれぞれ被洗浄物
を投入した後の蒸気槽内の温度および圧力である。また
時間Ｔｃは被洗浄物が蒸気槽内に投入された時の時間で
あり、時間Ｔｄは蒸気槽内の温度ＴｂからＴａに戻った
時の時間である。また時間Ｔｅは投入された被洗浄物の
温度が蒸気槽内の温度Ｔａと等しくなった時の時間であ
り、時間Ｔｐは蒸気槽内の圧力ＰｂからＰａに戻った時
間である。
【００１６】図２に示すように、被洗浄物３０が蒸気槽
１内に投入されると、初期設定温度Ｔａと投入された後
の温度Ｔｂとの温度変化は少なく、投入された後の圧力
ＰｂからＰａに戻る時間も短い。従って、投入した後の
温度Ｔｂから初期設定温度Ｔａに温度が戻る時間は短時
間で済むので、洗浄槽１内の温度は常に一定に維持され
乾燥ジミ不良の問題がない。また被洗浄物の温度がＴａ
に等しくなるまでの時間Ｔｅも短くなり、処理時間の短
縮につながる。このように、本実施の形態によれば、加
熱源を水蒸気としているので常に一定な熱量を洗浄液２
０に加えることができ熱量不足による乾燥ジミの問題は
ない。また加熱源を水蒸気にしたことにより、引火性の
洗浄液を使用することが出来るので被洗浄物３０の洗浄
及び乾燥が効率よく行うことができる。
１内に投入されると、初期設定温度Ｔａと投入された後
の温度Ｔｂとの温度変化は少なく、投入された後の圧力
ＰｂからＰａに戻る時間も短い。従って、投入した後の
温度Ｔｂから初期設定温度Ｔａに温度が戻る時間は短時
間で済むので、洗浄槽１内の温度は常に一定に維持され
乾燥ジミ不良の問題がない。また被洗浄物の温度がＴａ
に等しくなるまでの時間Ｔｅも短くなり、処理時間の短
縮につながる。このように、本実施の形態によれば、加
熱源を水蒸気としているので常に一定な熱量を洗浄液２
０に加えることができ熱量不足による乾燥ジミの問題は
ない。また加熱源を水蒸気にしたことにより、引火性の
洗浄液を使用することが出来るので被洗浄物３０の洗浄
及び乾燥が効率よく行うことができる。
【００１７】以上、本発明によってなされた発明の実施
の形態を説明したが、本発明は前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可
能である。例えば、被洗浄物に使用する有機溶媒の洗浄
液はイソプロピルアルコ−ルに限定されるものではな
い。引火性の洗浄液である、２−ブタノ−ル、エタノ−
ル、なども適用することもできる。また、熱交換器３の
形状は図１に示す、波状に相互に折り畳んだ形状に限定
されるものではない。また、被洗浄物が半導体基板に限
定されるものではなく、液晶基板などにも適用すること
ができる。
の形態を説明したが、本発明は前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可
能である。例えば、被洗浄物に使用する有機溶媒の洗浄
液はイソプロピルアルコ−ルに限定されるものではな
い。引火性の洗浄液である、２−ブタノ−ル、エタノ−
ル、なども適用することもできる。また、熱交換器３の
形状は図１に示す、波状に相互に折り畳んだ形状に限定
されるものではない。また、被洗浄物が半導体基板に限
定されるものではなく、液晶基板などにも適用すること
ができる。
【００１８】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明によ
る蒸気洗浄乾燥装置によれば、加熱源を水蒸気にするこ
とにより常に一定な熱量を被洗浄物に加えられ洗浄槽内
の温度と圧力とを一定に維持できるとともに、加熱源を
水蒸気にしたことにより洗浄液に引火性洗浄液を使用で
き、従って被洗浄物の洗浄及び乾燥がより効率よく行う
ことが可能となる。また、受け皿上部に設けた整流板に
より被洗浄物の周囲全体を包囲し、常に上部から下部へ
効率よく洗浄、乾燥するため、被洗浄物表面に乾燥シミ
が残ることがなくなる。また受け皿下部に設けた受け皿
配管に、逆止弁を設けることにより被洗浄物表面から滴
下する洗浄液を常に蒸気槽１内部から外部への一方向の
みだけで排出されるため、圧力変化により蒸気槽１外の
外気を内部に吸込み蒸気槽１内の温度を低下させること
がなくなる。
る蒸気洗浄乾燥装置によれば、加熱源を水蒸気にするこ
とにより常に一定な熱量を被洗浄物に加えられ洗浄槽内
の温度と圧力とを一定に維持できるとともに、加熱源を
水蒸気にしたことにより洗浄液に引火性洗浄液を使用で
き、従って被洗浄物の洗浄及び乾燥がより効率よく行う
ことが可能となる。また、受け皿上部に設けた整流板に
より被洗浄物の周囲全体を包囲し、常に上部から下部へ
効率よく洗浄、乾燥するため、被洗浄物表面に乾燥シミ
が残ることがなくなる。また受け皿下部に設けた受け皿
配管に、逆止弁を設けることにより被洗浄物表面から滴
下する洗浄液を常に蒸気槽１内部から外部への一方向の
みだけで排出されるため、圧力変化により蒸気槽１外の
外気を内部に吸込み蒸気槽１内の温度を低下させること
がなくなる。
【図１】本発明による加熱源を水蒸気にした蒸気洗浄乾
燥装置の実施の形態を示す構成図。
燥装置の実施の形態を示す構成図。
【図２】本発明の蒸気洗浄乾燥装置内の被洗浄物投入前
後の温度変化および圧力変化を示すグラフ。
後の温度変化および圧力変化を示すグラフ。
【図３】電気式ヒ−タ−を加熱源に利用した従来の蒸気
洗浄乾燥装置を示す構成図。
洗浄乾燥装置を示す構成図。
【図４】熱媒体油を加熱源に利用した従来の蒸気洗浄乾
燥装置を示す構成図。
燥装置を示す構成図。
【図５】従来の蒸気洗浄乾燥装置内の被洗浄物投入前後
の温度変化を示すグラフ。
の温度変化を示すグラフ。
１ 蒸気槽 ３ 熱交換器 ４ 電気式ヒータ ５ 熱媒体油 ７ 蒸気入口 ９ 蒸気出口 １１ 冷却管 １３ 受け樋 １５ 受け皿 １７ 受け皿配管 １９ 整流板 ２０ 洗浄液 ２２ 蒸気ライン ２４ 蒸気流 ２６ 凝縮洗浄液 ３０ 被洗浄物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−283495（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−159714（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−42832（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−28431（ＪＰ，Ｕ) 実開 平１−114090（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304
Claims (3)
- 【請求項１】 被洗浄物を収容する蒸気槽と、前記蒸気
槽の底面に貯留した洗浄液を蒸気化させる加熱源とを備
え、蒸気化した前記洗浄液により前記被洗浄物を洗浄及
び乾燥させる蒸気洗浄乾燥装置に於いて、 前記蒸気槽内のおおむね中央に前記被洗浄物から滴下す
る洗浄液を受ける受け皿を配設し、この受け皿外周上部
に周壁を設けて前記被洗浄物を前記周壁内に収容して前
記周壁を前記周壁内に収容した被洗浄物より高く設ける
とともに、 前記加熱源として前記洗浄液内に配置されて加熱した水
蒸気の導入を可能とする中空管状体を用い、この中空管
状体に導入する加熱された水蒸気には所定の圧力を加え
沸騰点以上の温度を有し、約１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ 2 の圧
力を加えた温度約１００〜１３０℃の水蒸気により効率
のよい加熱を実行することを特徴とする蒸気洗浄乾燥装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の蒸気洗浄乾燥装置おい
て、 前記受け皿底面には前記被洗浄物から滴下する洗浄液を
前記蒸気槽外に排水する配管が接続され、この配管には
排水口から外気が逆流するのを防止する逆止弁が設けら
れていることを特徴とする蒸気洗浄乾燥装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載の蒸気洗浄乾燥装置おい
て、 前記中空管状体は材質が石英かステンレス鋼（ＳＵＳ）
のいずれかにより形成されていることを特徴とする蒸気
洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19808196A JP3301585B2 (ja) | 1996-04-16 | 1996-07-26 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9447896 | 1996-04-16 | ||
| JP8-94478 | 1996-04-16 | ||
| JP19808196A JP3301585B2 (ja) | 1996-04-16 | 1996-07-26 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH104080A JPH104080A (ja) | 1998-01-06 |
| JP3301585B2 true JP3301585B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=26435756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19808196A Expired - Fee Related JP3301585B2 (ja) | 1996-04-16 | 1996-07-26 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3301585B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007115756A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
| KR101846509B1 (ko) | 2017-03-29 | 2018-04-09 | (주)앤피에스 | 열원 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
-
1996
- 1996-07-26 JP JP19808196A patent/JP3301585B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH104080A (ja) | 1998-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003297795A (ja) | 半導体ウェーハの洗浄・乾燥装置、及び洗浄・乾燥方法 | |
| TW503458B (en) | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate | |
| US4841645A (en) | Vapor dryer | |
| JP3448613B2 (ja) | 乾燥装置 | |
| US8603260B2 (en) | Dishwasher comprising a heat tube | |
| JPH06283496A (ja) | 洗浄処理後の基板の乾燥処理装置 | |
| JP3301585B2 (ja) | 蒸気洗浄乾燥装置 | |
| US4008729A (en) | Solvent article cleaner | |
| US8732978B2 (en) | Drying silicon particles and recovering solvent | |
| KR20080056856A (ko) | 배기부재 및 상기 배기부재의 약액 배기 방법, 그리고 상기배기부재를 구비하는 기판 처리 장치 | |
| JP2511873B2 (ja) | ベ−パ乾燥装置 | |
| JP2913564B2 (ja) | 蒸気洗浄乾燥装置 | |
| JP3298037B2 (ja) | 乾燥処理装置 | |
| KR0180344B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 건조장치 | |
| JPH10125649A (ja) | 蒸気発生装置および該装置の処理液排出方法 | |
| JP3285683B2 (ja) | ディスク基板の洗浄装置 | |
| JP3506851B2 (ja) | 蒸気乾燥装置及び半導体ウエハの乾燥方法 | |
| JP3273282B2 (ja) | 処理装置 | |
| JPH07308644A (ja) | 蒸気リンス−蒸気乾燥処理装置 | |
| JPH0629276A (ja) | 乾燥装置および洗浄装置 | |
| JPH06196471A (ja) | 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置 | |
| JPH11351747A (ja) | イソプロピルアルコール蒸気洗浄乾燥装置 | |
| JPH10284460A (ja) | 蒸気浴槽装置 | |
| JPS6335343Y2 (ja) | ||
| JPH0653203A (ja) | 乾燥装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080426 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |