JPH0629276A - 乾燥装置および洗浄装置 - Google Patents
乾燥装置および洗浄装置Info
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- JPH0629276A JPH0629276A JP18122892A JP18122892A JPH0629276A JP H0629276 A JPH0629276 A JP H0629276A JP 18122892 A JP18122892 A JP 18122892A JP 18122892 A JP18122892 A JP 18122892A JP H0629276 A JPH0629276 A JP H0629276A
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- dried
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Abstract
(57)【要約】
【構成】半導体装置等の製造に用いるフォトマスクの洗
浄に用いる、乾燥装置および洗浄装置において、被乾燥
物の表面に付着した水分を、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）に超音波振動を与え発生させた蒸気により置
換し、前記被乾燥物表面の乾燥処理を行なう乾燥装置お
よび乾燥装置を備えた洗浄装置。また。蒸気発生槽と処
理槽とを分離した乾燥装置。 【効果】凝集されたＩＰＡが加熱部に戻らないため、フ
ォトマスク等の被乾燥物や槽壁面のパーティクルによる
ＩＰＡの汚染を防止し、被乾燥物の再汚染が防止でき
る。
浄に用いる、乾燥装置および洗浄装置において、被乾燥
物の表面に付着した水分を、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）に超音波振動を与え発生させた蒸気により置
換し、前記被乾燥物表面の乾燥処理を行なう乾燥装置お
よび乾燥装置を備えた洗浄装置。また。蒸気発生槽と処
理槽とを分離した乾燥装置。 【効果】凝集されたＩＰＡが加熱部に戻らないため、フ
ォトマスク等の被乾燥物や槽壁面のパーティクルによる
ＩＰＡの汚染を防止し、被乾燥物の再汚染が防止でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の製造工
程中のウェット処理、及び半導体装置等の製造に用いる
フォトマスクの洗浄に用いる、乾燥装置および乾燥装置
を備えた洗浄装置に関する。
程中のウェット処理、及び半導体装置等の製造に用いる
フォトマスクの洗浄に用いる、乾燥装置および乾燥装置
を備えた洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術の乾燥装置の例を図に従って説
明する。
明する。
【０００３】図５は、従来技術の乾燥装置の概略図であ
り、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡと呼ぶ）蒸気
によりフォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を
例にしたものである。
り、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡと呼ぶ）蒸気
によりフォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を
例にしたものである。
【０００４】乾燥槽１０の底部にＩＰＡ１３を溜め、ヒ
ーター８で加熱することによりＩＰＡ蒸気３を発生させ
る。凝集液受け１１より上に上がったＩＰＡ蒸気３は、
冷却水が流れる冷却コイル９で凝集され、凝集液受け１
１を経由して乾燥槽１０の底部に戻る。
ーター８で加熱することによりＩＰＡ蒸気３を発生させ
る。凝集液受け１１より上に上がったＩＰＡ蒸気３は、
冷却水が流れる冷却コイル９で凝集され、凝集液受け１
１を経由して乾燥槽１０の底部に戻る。
【０００５】フォトマスク１はアーム２によりＩＰＡ蒸
気３の中に一定時間保持されることにより、温度の低い
フォトマスク１の表面にＩＰＡ蒸気３が凝集されフォト
マスク１の表面に付着した水分とともに凝集液受け皿１
７に落ちドレイン１２より廃液される。
気３の中に一定時間保持されることにより、温度の低い
フォトマスク１の表面にＩＰＡ蒸気３が凝集されフォト
マスク１の表面に付着した水分とともに凝集液受け皿１
７に落ちドレイン１２より廃液される。
【０００６】フォトマスク１の表面の水分がＩＰＡに充
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥させることができる。
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥させることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術の乾燥装置は、凝集されたＩＰＡは一部を除いてほと
んどが加熱部に戻るためフォトマスク等の被乾燥物や槽
壁面のパーティクルによりＩＰＡを汚染する。また、Ｉ
ＰＡ液中のパーティクルがＩＰＡ蒸気に含まれＩＰＡ蒸
気とともにフォトマスク表面に付着し、フォトマスクを
汚染するという課題を有していた。
術の乾燥装置は、凝集されたＩＰＡは一部を除いてほと
んどが加熱部に戻るためフォトマスク等の被乾燥物や槽
壁面のパーティクルによりＩＰＡを汚染する。また、Ｉ
ＰＡ液中のパーティクルがＩＰＡ蒸気に含まれＩＰＡ蒸
気とともにフォトマスク表面に付着し、フォトマスクを
汚染するという課題を有していた。
【０００８】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところは、凝集した液をもとの
液体に戻さない乾燥装置、および蒸気に含まれるパーテ
ィクルを取り除く乾燥装置を提供することである。
もので、その目的とするところは、凝集した液をもとの
液体に戻さない乾燥装置、および蒸気に含まれるパーテ
ィクルを取り除く乾燥装置を提供することである。
【０００９】また、従来の蒸気を用いた乾燥装置は上記
のように被乾燥物を再汚染するという問題があるため、
特に高い清浄度が要求される洗浄における乾燥には、自
動搬送機構が複雑なため一体化に不向きなスピン乾燥方
式が用いられることが多かった。本発明の他の目的は乾
燥装置と洗浄槽とを一体化してもそのような問題点が生
ぜず、高い清浄度を達成できる洗浄装置を提供するとこ
ろにある。
のように被乾燥物を再汚染するという問題があるため、
特に高い清浄度が要求される洗浄における乾燥には、自
動搬送機構が複雑なため一体化に不向きなスピン乾燥方
式が用いられることが多かった。本発明の他の目的は乾
燥装置と洗浄槽とを一体化してもそのような問題点が生
ぜず、高い清浄度を達成できる洗浄装置を提供するとこ
ろにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに、 （１）本発明の乾燥装置は、被乾燥物の表面に付着した
水分を、液体を加熱し発生する蒸気に置換し、前記被乾
燥物の表面の乾燥処理を行なう装置において、前記液体
に超音波振動を与えることにより、前記液体を蒸気化さ
せることを特徴とする。
めに、 （１）本発明の乾燥装置は、被乾燥物の表面に付着した
水分を、液体を加熱し発生する蒸気に置換し、前記被乾
燥物の表面の乾燥処理を行なう装置において、前記液体
に超音波振動を与えることにより、前記液体を蒸気化さ
せることを特徴とする。
【００１１】（２）本発明の乾燥装置は、液体を加熱し
発生する蒸気中に一定時間被乾燥物を保持した後、前記
蒸気中より前記被乾燥物をゆっくり取り出すことにより
前記被乾燥物表面の乾燥処理を行う装置において、前記
液体を加熱する槽と前記被乾燥物を一定時間保持する蒸
気槽とを分離したことを特徴とする。
発生する蒸気中に一定時間被乾燥物を保持した後、前記
蒸気中より前記被乾燥物をゆっくり取り出すことにより
前記被乾燥物表面の乾燥処理を行う装置において、前記
液体を加熱する槽と前記被乾燥物を一定時間保持する蒸
気槽とを分離したことを特徴とする。
【００１２】（３）本発明の乾燥装置は、液体を加熱し
発生する蒸気中に一定時間被乾燥物を保持した後、前記
蒸気中より前記被乾燥物をゆっくり取り出すことにより
前記被乾燥物表面の乾燥処理を行う装置において、前記
液体の上部にフィルターを配置したことを特徴とする。
発生する蒸気中に一定時間被乾燥物を保持した後、前記
蒸気中より前記被乾燥物をゆっくり取り出すことにより
前記被乾燥物表面の乾燥処理を行う装置において、前記
液体の上部にフィルターを配置したことを特徴とする。
【００１３】また、かかる乾燥装置を洗浄槽と自動搬送
機構により連結すると両者を一体化した洗浄装置が構成
される。
機構により連結すると両者を一体化した洗浄装置が構成
される。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例の乾燥装置を図に従って説明
する。
する。
【００１５】図１は、前記手段（１）に関わる本発明の
実施例における乾燥装置の概要図である。
実施例における乾燥装置の概要図である。
【００１６】従来例と同様にＩＰＡ蒸気によりフォトマ
スク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にしており、
図１の実施例の特徴は、従来技術においてはＩＰＡを蒸
気化する手段としてヒーター加熱を用いていたのに対
し、ＩＰＡに超音波振動を与えているところにある。
スク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にしており、
図１の実施例の特徴は、従来技術においてはＩＰＡを蒸
気化する手段としてヒーター加熱を用いていたのに対
し、ＩＰＡに超音波振動を与えているところにある。
【００１７】ＩＰＡ供給管６はその一部に超音波振動板
５が設けてあり、窒素ガス供給管７に接続されている。
この構成によると、ＩＰＡ供給管６内を送られてきたＩ
ＰＡは、超音波振動板５により超音波振動のエネルギー
を与えられることにより蒸気化し、窒素ガス供給管７内
を送られてきた窒素ガスによりノズル４から霧状のＩＰ
Ａ蒸気３となって乾燥槽１０の中に吹き出される。ここ
で、乾燥槽１０にはその側壁の下部から中央部にかけて
ヒーター８を設けてあり、乾燥槽１０の中央部の温度を
７０℃〜９０℃に保つことにより、乾燥槽１０の中はＩ
ＰＡ蒸気が凝集することなくＩＰＡ蒸気の雰囲気で満た
される。
５が設けてあり、窒素ガス供給管７に接続されている。
この構成によると、ＩＰＡ供給管６内を送られてきたＩ
ＰＡは、超音波振動板５により超音波振動のエネルギー
を与えられることにより蒸気化し、窒素ガス供給管７内
を送られてきた窒素ガスによりノズル４から霧状のＩＰ
Ａ蒸気３となって乾燥槽１０の中に吹き出される。ここ
で、乾燥槽１０にはその側壁の下部から中央部にかけて
ヒーター８を設けてあり、乾燥槽１０の中央部の温度を
７０℃〜９０℃に保つことにより、乾燥槽１０の中はＩ
ＰＡ蒸気が凝集することなくＩＰＡ蒸気の雰囲気で満た
される。
【００１８】また、乾燥槽１０の上部の内側には冷却コ
イル９を設け、乾燥槽１０の上部の冷却コイル９と乾燥
槽１０の中央部との間に凝集液受け１１を設けてある。
これにより、乾燥槽１０の上部に上がってきたＩＰＡ蒸
気３を冷却コイル９にて凝集し、ＩＰＡ蒸気３が乾燥槽
１０の外部に漏れることを防止している。さらに、凝集
液は凝集液受け１１で集められドレイン１２より廃液さ
れる。
イル９を設け、乾燥槽１０の上部の冷却コイル９と乾燥
槽１０の中央部との間に凝集液受け１１を設けてある。
これにより、乾燥槽１０の上部に上がってきたＩＰＡ蒸
気３を冷却コイル９にて凝集し、ＩＰＡ蒸気３が乾燥槽
１０の外部に漏れることを防止している。さらに、凝集
液は凝集液受け１１で集められドレイン１２より廃液さ
れる。
【００１９】前述のように構成された乾燥槽１０の中央
部に、フォトマスク１はアーム２により一定時間保持さ
れ、温度の低いフォトマスク１の表面にノズル４より吹
き出されたＩＰＡ蒸気３が凝集されフォトマスク１の表
面に付着した水分とともに乾燥槽１０の底部に落ちる。
ここで、乾燥槽１０の底部には冷却コイル９及びドレイ
ン１２を設けており、フォトマスク１で凝集された凝集
液が再び気化することを防ぐとともに、凝集液はドレイ
ン１２より廃液される。
部に、フォトマスク１はアーム２により一定時間保持さ
れ、温度の低いフォトマスク１の表面にノズル４より吹
き出されたＩＰＡ蒸気３が凝集されフォトマスク１の表
面に付着した水分とともに乾燥槽１０の底部に落ちる。
ここで、乾燥槽１０の底部には冷却コイル９及びドレイ
ン１２を設けており、フォトマスク１で凝集された凝集
液が再び気化することを防ぐとともに、凝集液はドレイ
ン１２より廃液される。
【００２０】フォトマスク１の表面の水分がＩＰＡに充
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥させることができる。
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥させることができる。
【００２１】前記のような構造をとることにより、乾燥
槽１０内には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供給され、
かつ、フォトマスク１や乾燥槽１０の内壁等で凝集され
た凝集液はすべて完全に廃液されるため、乾燥槽１０内
のＩＰＡ蒸気３が汚染される不安は全くなくなる。従っ
て、乾燥工程におけるフォトマスク１の表面へのパーテ
ィクルの付着も防ぐことができる。
槽１０内には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供給され、
かつ、フォトマスク１や乾燥槽１０の内壁等で凝集され
た凝集液はすべて完全に廃液されるため、乾燥槽１０内
のＩＰＡ蒸気３が汚染される不安は全くなくなる。従っ
て、乾燥工程におけるフォトマスク１の表面へのパーテ
ィクルの付着も防ぐことができる。
【００２２】図２は、前記手段（２）に関わる本発明の
実施例における乾燥装置の概要図である。
実施例における乾燥装置の概要図である。
【００２３】前述の実施例と同様にＩＰＡ蒸気によりフ
ォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にして
おり、図２の実施例の特徴は、従来技術においては一体
型であったフォトマスクの乾燥部とＩＰＡの加熱部を分
離したところにある。
ォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にして
おり、図２の実施例の特徴は、従来技術においては一体
型であったフォトマスクの乾燥部とＩＰＡの加熱部を分
離したところにある。
【００２４】乾燥槽１０とは別に設けたＩＰＡ加熱槽１
４の上部と、乾燥槽１０の中央部の側面とは、蒸気供給
管１５で接続されており、前記ＩＰＡ加熱槽１４にはＩ
ＰＡ１３が溜められ、ＩＰＡ１３はヒーター８により７
０℃〜９０℃に加熱されてる。ＩＰＡ１３は加熱される
ことによりＩＰＡ蒸気３となって蒸気供給管１５を通っ
て乾燥槽１０内に送り込まれる。ここで、乾燥槽１０に
はその側壁の下部から中央部にかけてヒーター８を設け
てあり、乾燥槽１０の中央部の温度を７０℃〜９０℃に
保つことにより、乾燥槽１０の中はＩＰＡ蒸気が凝集す
ることなくＩＰＡ蒸気の雰囲気で満たされる。
４の上部と、乾燥槽１０の中央部の側面とは、蒸気供給
管１５で接続されており、前記ＩＰＡ加熱槽１４にはＩ
ＰＡ１３が溜められ、ＩＰＡ１３はヒーター８により７
０℃〜９０℃に加熱されてる。ＩＰＡ１３は加熱される
ことによりＩＰＡ蒸気３となって蒸気供給管１５を通っ
て乾燥槽１０内に送り込まれる。ここで、乾燥槽１０に
はその側壁の下部から中央部にかけてヒーター８を設け
てあり、乾燥槽１０の中央部の温度を７０℃〜９０℃に
保つことにより、乾燥槽１０の中はＩＰＡ蒸気が凝集す
ることなくＩＰＡ蒸気の雰囲気で満たされる。
【００２５】また、乾燥槽１０の上部の内側には冷却コ
イル９を設け、乾燥槽１０の上部の冷却コイル９と乾燥
槽１０の中央部との間に凝集液受け１１を設けてある。
これにより、乾燥槽１０の上部に上がってきたＩＰＡ蒸
気３を冷却コイル９にて凝集し、ＩＰＡ蒸気３が乾燥槽
１０の外部に漏れることを防止している。さらに、凝集
液は凝集液受け１１で集められドレイン１２より廃液さ
れる。
イル９を設け、乾燥槽１０の上部の冷却コイル９と乾燥
槽１０の中央部との間に凝集液受け１１を設けてある。
これにより、乾燥槽１０の上部に上がってきたＩＰＡ蒸
気３を冷却コイル９にて凝集し、ＩＰＡ蒸気３が乾燥槽
１０の外部に漏れることを防止している。さらに、凝集
液は凝集液受け１１で集められドレイン１２より廃液さ
れる。
【００２６】前述のように構成された乾燥槽１０の中央
部に、フォトマスク１はアーム２により一定時間保持さ
れ、温度の低いフォトマスク１の表面にＩＰＡ加熱槽か
らＩＰＡ供給管を通って供給されたＩＰＡ蒸気３が凝集
され、フォトマスク１の表面に付着した水分とともに乾
燥槽１０の底部に落ちる。ここで、乾燥槽１０の底部に
は冷却コイル９及びドレイン１２を設けており、フォト
マスク１で凝集された凝集液が再び気化することを防ぐ
とともに、凝集液はドレイン１２より廃液される。
部に、フォトマスク１はアーム２により一定時間保持さ
れ、温度の低いフォトマスク１の表面にＩＰＡ加熱槽か
らＩＰＡ供給管を通って供給されたＩＰＡ蒸気３が凝集
され、フォトマスク１の表面に付着した水分とともに乾
燥槽１０の底部に落ちる。ここで、乾燥槽１０の底部に
は冷却コイル９及びドレイン１２を設けており、フォト
マスク１で凝集された凝集液が再び気化することを防ぐ
とともに、凝集液はドレイン１２より廃液される。
【００２７】フォトマスク１の表面の水分がＩＰＡに充
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥できる。
分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩＰ
Ａ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フォ
トマスク１の表面を乾燥できる。
【００２８】前記のような構造をとることにより、乾燥
槽１０内には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供給され、
かつ、フォトマスク１や乾燥槽１０の内壁等で凝集され
た凝集液はすべて完全に廃液されるため、乾燥槽１０内
のＩＰＡ蒸気３が汚染される不安は全くなくなる。従っ
て、乾燥工程におけるフォトマスク１の表面へのパーテ
ィクルの付着も防ぐことができる。
槽１０内には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供給され、
かつ、フォトマスク１や乾燥槽１０の内壁等で凝集され
た凝集液はすべて完全に廃液されるため、乾燥槽１０内
のＩＰＡ蒸気３が汚染される不安は全くなくなる。従っ
て、乾燥工程におけるフォトマスク１の表面へのパーテ
ィクルの付着も防ぐことができる。
【００２９】図３は、前記手段（３）に関わる本発明の
実施例における乾燥装置の概要図である。
実施例における乾燥装置の概要図である。
【００３０】前述の実施例と同様にＩＰＡ蒸気によりフ
ォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にして
おり、図３の実施例の特徴は、加熱する液体の上部にフ
ィルターを設けたところにある。
ォトマスク表面の乾燥処理を行なう乾燥装置を例にして
おり、図３の実施例の特徴は、加熱する液体の上部にフ
ィルターを設けたところにある。
【００３１】乾燥槽１０の底部にＩＰＡ１３を溜め、ヒ
ーター８で加熱することによりＩＰＡ蒸気３を発生させ
る。ここで、ＩＰＡ１３の上部に設けたフィルター１６
によりＩＰＡ蒸気中のパーティクルは取り除かれ、クリ
ーンなＩＰＡ蒸気が乾燥槽の中央部から上部に上がって
いく。凝集液受け１１より上に上がったＩＰＡ蒸気３
は、冷却水が流れる冷却コイル９で凝集され、凝集液受
け１１を経由して乾燥槽１０の底部に戻る。フォトマス
ク１はアーム２によりＩＰＡ蒸気３の中に一定時間保持
されることにより、温度の低いフォトマスク１の表面に
ＩＰＡ蒸気３が凝集されフォトマスク１の表面に付着し
た水分とともに凝集液受け皿１７に落ちドレイン１２よ
り廃液される。フォトマスク１の表面の水分がＩＰＡに
充分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩ
ＰＡ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フ
ォトマスク１の表面を乾燥できる。
ーター８で加熱することによりＩＰＡ蒸気３を発生させ
る。ここで、ＩＰＡ１３の上部に設けたフィルター１６
によりＩＰＡ蒸気中のパーティクルは取り除かれ、クリ
ーンなＩＰＡ蒸気が乾燥槽の中央部から上部に上がって
いく。凝集液受け１１より上に上がったＩＰＡ蒸気３
は、冷却水が流れる冷却コイル９で凝集され、凝集液受
け１１を経由して乾燥槽１０の底部に戻る。フォトマス
ク１はアーム２によりＩＰＡ蒸気３の中に一定時間保持
されることにより、温度の低いフォトマスク１の表面に
ＩＰＡ蒸気３が凝集されフォトマスク１の表面に付着し
た水分とともに凝集液受け皿１７に落ちドレイン１２よ
り廃液される。フォトマスク１の表面の水分がＩＰＡに
充分置換された後、アーム２によりフォトマスク１をＩ
ＰＡ蒸気３の中からゆっくり引き上げることにより、フ
ォトマスク１の表面を乾燥できる。
【００３２】前記のような構造をとることにより、乾燥
槽１０内の中央部には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供
給されるため、乾燥槽１０内のＩＰＡ蒸気３が汚染され
ることがなくなる。従って、乾燥工程におけるフォトマ
スク１の表面へのパーティクルの付着も防ぐことができ
る。
槽１０内の中央部には常にクリーンなＩＰＡ蒸気３が供
給されるため、乾燥槽１０内のＩＰＡ蒸気３が汚染され
ることがなくなる。従って、乾燥工程におけるフォトマ
スク１の表面へのパーティクルの付着も防ぐことができ
る。
【００３３】なお、図４に示すように、前述した本発明
による乾燥装置１８と、この乾燥装置で処理するフォト
マスクを洗浄する洗浄槽１９を一体化された洗浄装置を
構成してもよい。洗浄装置本体２１は洗浄槽１９、本発
明による乾燥装置１８、搬送機構２０で構成され、フォ
トマスク１等の被洗浄物は、搬送機構により洗浄から乾
燥まで自動的に処理される。このように本発明による乾
燥装置を用いると簡単な搬送機構で洗浄槽と乾燥装置を
一体化させることができ、かつ高い清浄度を確保するこ
とができる。
による乾燥装置１８と、この乾燥装置で処理するフォト
マスクを洗浄する洗浄槽１９を一体化された洗浄装置を
構成してもよい。洗浄装置本体２１は洗浄槽１９、本発
明による乾燥装置１８、搬送機構２０で構成され、フォ
トマスク１等の被洗浄物は、搬送機構により洗浄から乾
燥まで自動的に処理される。このように本発明による乾
燥装置を用いると簡単な搬送機構で洗浄槽と乾燥装置を
一体化させることができ、かつ高い清浄度を確保するこ
とができる。
【００３４】尚、本実施例に使用する超音波の周波数は
２５ｋＨｚから２ＭＨｚまで使用することが可能であ
り、特に高周波領域の超音波を使用するのが良い。
２５ｋＨｚから２ＭＨｚまで使用することが可能であ
り、特に高周波領域の超音波を使用するのが良い。
【００３５】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、被乾
燥物の表面に付着した水分を、液体を加熱し発生する蒸
気に置換し、前記被乾燥物の表面の乾燥処理を行なう装
置において、前記液体に超音波振動を与えることによ
り、または、液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間被
乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物をゆ
っくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処理
を行う装置において、前記液体を加熱する槽と前記被乾
燥物を一定時間保持する蒸気槽とを分離することによ
り、または、液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間被
乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物をゆ
っくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処理
を行う装置において、前記液体の上部にフィルターを配
置することにより、蒸気の汚れによる被乾燥物の再汚染
を防止することができるという効果がある。それにとも
ない再洗浄の必要がなくなるため効率のよい流動が行え
るようになった。
燥物の表面に付着した水分を、液体を加熱し発生する蒸
気に置換し、前記被乾燥物の表面の乾燥処理を行なう装
置において、前記液体に超音波振動を与えることによ
り、または、液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間被
乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物をゆ
っくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処理
を行う装置において、前記液体を加熱する槽と前記被乾
燥物を一定時間保持する蒸気槽とを分離することによ
り、または、液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間被
乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物をゆ
っくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処理
を行う装置において、前記液体の上部にフィルターを配
置することにより、蒸気の汚れによる被乾燥物の再汚染
を防止することができるという効果がある。それにとも
ない再洗浄の必要がなくなるため効率のよい流動が行え
るようになった。
【００３６】また、かかる乾燥装置を洗浄槽と一体化さ
せた洗浄装置は簡単な搬送機構で洗浄槽と乾燥装置を一
体化させることができるため装置コストを低くでき、か
つ高い清浄度を確保することができるという効果があ
る。
せた洗浄装置は簡単な搬送機構で洗浄槽と乾燥装置を一
体化させることができるため装置コストを低くでき、か
つ高い清浄度を確保することができるという効果があ
る。
【図１】本発明の実施例における乾燥装置の概要図。
【図２】本発明の他の実施例における乾燥装置の概要
図。
図。
【図３】本発明の他の実施例における乾燥装置の概要
図。
図。
【図４】本発明の実施例における洗浄装置の概要図。
【図５】従来技術の乾燥装置の概要図。
１ ・・・ フォトマスク ２ ・・・ アーム ３ ・・・ ＩＰＡ蒸気 ４ ・・・ スプレーノズル ５ ・・・ 超音波振動版 ６ ・・・ ＩＰＡ供給管 ７ ・・・ 窒素ガス供給管 ８ ・・・ ヒーター ９ ・・・ 冷却コイル １０・・・ 乾燥槽 １１・・・ 凝集液受け １２・・・ ドレイン １３・・・ ＩＰＡ １４・・・ ＩＰＡ加熱槽 １５・・・ 蒸気供給管 １６・・・ フィルター １７・・・ 凝集液受け皿 １８・・・ 本発明による乾燥装置 １９・・・ 洗浄槽 ２０・・・ 搬送機構 ２１・・・ 洗浄装置
Claims (6)
- 【請求項１】 被乾燥物の表面に付着した水分を、液体
を加熱し発生する蒸気に置換し、前記被乾燥物の表面の
乾燥処理を行なう装置において、前記液体に超音波振動
を与えることにより、前記液体を蒸気化させることを特
徴とする乾燥装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の乾燥装置と洗浄槽とを一
体化し、被洗浄物を前記洗浄槽から前記乾燥槽へ自動搬
送することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間
被乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物を
ゆっくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処
理を行う装置において、前記液体を加熱する槽と前記被
乾燥物を一定時間保持する蒸気槽とを分離したことを特
徴とする乾燥装置。 - 【請求項４】 請求項３記載の乾燥装置と洗浄槽とを一
体化し、被洗浄物を前記洗浄槽から前記乾燥槽へ自動搬
送することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項５】 液体を加熱し発生する蒸気中に一定時間
被乾燥物を保持した後、前記蒸気中より前記被乾燥物を
ゆっくり取り出すことにより前記被乾燥物表面の乾燥処
理を行う装置において、前記液体の上部にフィルターを
配置したことを特徴とする乾燥装置。 - 【請求項６】 請求項５記載の乾燥装置と洗浄槽とを一
体化し、被洗浄物を前記洗浄槽から前記乾燥槽へ自動搬
送することを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18122892A JPH0629276A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 乾燥装置および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18122892A JPH0629276A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 乾燥装置および洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629276A true JPH0629276A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16097053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18122892A Pending JPH0629276A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 乾燥装置および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629276A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100349948B1 (ko) * | 1999-11-17 | 2002-08-22 | 주식회사 다산 씨.앤드.아이 | 클러스터를 이용한 건식 세정 장치 및 방법 |
| US6497240B1 (en) | 1999-04-21 | 2002-12-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasound cleaning device and resist-stripping device |
| US7715702B2 (en) | 2007-02-26 | 2010-05-11 | Sony Corporation | Lens adapter and imaging apparatus |
| KR101989248B1 (ko) * | 2017-12-13 | 2019-06-13 | (주) 예스티 | 마스크 세정장치, 마스크를 세정하기 위한 방법 및 마스크 세정 시스템 |
-
1992
- 1992-07-08 JP JP18122892A patent/JPH0629276A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6497240B1 (en) | 1999-04-21 | 2002-12-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasound cleaning device and resist-stripping device |
| KR100483975B1 (ko) * | 1999-04-21 | 2005-04-19 | 샤프 가부시키가이샤 | 초음파 세정장치 및 레지스트 박리장치 |
| KR100349948B1 (ko) * | 1999-11-17 | 2002-08-22 | 주식회사 다산 씨.앤드.아이 | 클러스터를 이용한 건식 세정 장치 및 방법 |
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| KR101989248B1 (ko) * | 2017-12-13 | 2019-06-13 | (주) 예스티 | 마스크 세정장치, 마스크를 세정하기 위한 방법 및 마스크 세정 시스템 |
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