JP2007115756A - スピン処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カップ体1内に配設され基板を保持して回転駆動される回転体12と、回転体に保持される基板の下面に対向する位置に設けられているとともに上面に開放した凹部51が形成されたノズルヘッド46と、回転体に保持される基板の下面に処理液を噴射する下部処理液用ノズル55と、回転体の上面を覆うとともに基板の下面から滴下する処理液を凹部内に導入する開口部68が形成され、回転する回転体の上面に乱流が生じるのを阻止する乱流防止カバー66と、凹部に一端が接続されて設けられ凹部内に流入した処理液を排出する排液管54と、基板を処理液によって処理してから乾燥処理するために高速回転させて基板の下面側が負圧になったときに排液管内に上昇気流が生じるのを阻止する気液分離槽を具備する。
【選択図】 図1
Description
カップ体と、
このカップ体内に配設され上記基板を保持して回転駆動される回転体と、
この回転体に保持される上記基板の下面に対向する位置に設けられているとともに上面に開放した凹部が形成されたノズルヘッドと、
このノズルヘッドに設けられ上記回転体に保持される基板の下面に処理液を噴射する下部処理液用ノズルと、
上記回転体の上面を覆うとともに上記ノズルヘッドの上記凹部に対向する部分に上記基板の下面から滴下する処理液を上記凹部内に導入する開口部が形成されていて、上記回転体と一体に回転してこの回転体の上面に乱流が生じるのを阻止する乱流防止カバーと、
上記凹部に一端が接続されて設けられこの凹部内に流入した処理液を排出する排液管と、
上記基板を処理液によって処理してから乾燥処理するために高速回転させて上記基板の下面側が負圧になったときに上記排液管内に上昇気流が生じるのを阻止する気流発生阻止手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。
これに対して、この発明のスピン処理装置では、1000回転、1500回転及び1700回転のいずれでも、基板Wの下面に汚染が発生することがなかった。
Claims (4)
- 基板を回転させてこの基板の下面を処理液で処理した後、基板を処理液による処理時よりも高速回転させて乾燥処理するスピン処理装置であって、
カップ体と、
このカップ体内に配設され上記基板を保持して回転駆動される回転体と、
この回転体に保持される上記基板の下面に対向する位置に設けられているとともに上面に開放した凹部が形成されたノズルヘッドと、
このノズルヘッドに設けられ上記回転体に保持される基板の下面に処理液を噴射する下部処理液用ノズルと、
上記回転体の上面を覆うとともに上記ノズルヘッドの上記凹部に対向する部分に上記基板の下面から滴下する処理液を上記凹部内に導入する開口部が形成されていて、上記回転体と一体に回転してこの回転体の上面に乱流が生じるのを阻止する乱流防止カバーと、
上記凹部に一端が接続されて設けられこの凹部内に流入した処理液を排出する排液管と、
上記基板を処理液によって処理してから乾燥処理するために高速回転させて上記基板の下面側が負圧になったときに上記排液管内に上昇気流が生じるのを阻止する気流発生阻止手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。 - 上記気流発生阻止手段は、上記排液管の他端を液封する液体が貯えられた気液分離槽であることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記気流発生阻止手段は、上記排液管に設けられこの排液管の上記凹部に接続された一端から他端への流体の流れを許容し上記他端から上記一端への流体の流れを阻止する逆止弁であることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記気流発生阻止手段は、上記排液管に設けられ上記下部処理液用ノズルから上記基板の下面に処理液を噴射しているときには開放され上記基板を高速回転させて乾燥処理するときには閉じられる開閉制御弁であることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005303080A JP2007115756A (ja) | 2005-10-18 | 2005-10-18 | スピン処理装置 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007115756A true JP2007115756A (ja) | 2007-05-10 |
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ID=38097699
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Country | Link |
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JP (1) | JP2007115756A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991007239A1 (fr) * | 1989-11-21 | 1991-05-30 | Interface Technical Laboratories Co., Ltd. | Methode et appareil de sechage |
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-
2005
- 2005-10-18 JP JP2005303080A patent/JP2007115756A/ja active Pending
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