TW202314352A - 照明裝置用導光構件及照明裝置 - Google Patents

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百足山真平
吉川貴博
中村恒三
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之具有出射面之照明裝置用導光構件100A具有:導光層10,其具有接收自光源LS出射之光之受光部、上述出射面側之第1主面、與第1主面相反側之第2主面;配光控制構造,其係具有複數個內部空間64者,且複數個內部空間64各者具有藉由內部全反射使於導光層10內傳播之光之一部分朝向出射面側之第1傾斜面ISa、及與第1傾斜面ISa相反側之第2傾斜面ISb,自相對於導光層10之第1主面之法線方向觀察時,第1傾斜面ISa形成朝向光源LS側凸出之曲面;以及抗反射層40A及/或防眩層,其配置於導光層10之第1主面側。

Description

照明裝置用導光構件及照明裝置
本發明係關於一種照明裝置用導光構件及照明裝置,尤其是關於一種具備光源及導光層之片狀之照明裝置用導光構件及照明裝置。此處,「片狀」用於包括板狀或膜狀之意,而不論片材之剛性(柔軟性)及厚度。再者,片狀之照明裝置可以卷狀等各種形態使用。
具備光源及導光層之片狀之照明裝置例如被用於液晶顯示裝置之背光源或前光源。又,近年來,一直在推進以LED(light-emitting diode,發光二極體)照明為代表之下一代半導體照明(固態照明(Solid State Lighting:SSL))之利用。例如,藉由將建築構件與照明裝置相組合,提出了一種富有設計性或娛樂性之照明,例如被稱為建築照明(Architainment Lighting)。
例如,專利文獻1中揭示有一種單面照明兩用窗,該單面照明兩用窗於板狀之透明基材之端部具有光源,於諸如夜間的照明時,作為將自光源出射且於透明基材內進行導光後之光自透明基材之單面出射之照明裝置而發揮功能,於諸如白天的非照明時,作為透明窗發揮功能。又,專利文獻2至5中揭示有一種片狀之照明裝置,該片狀之照明裝置具有利用由空氣腔(內部空間)之界面所產生之全反射之配光構造。專利文獻2至5之全部揭示內容藉由參照而援用於本說明書中。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:國際公開第2019/102959號 專利文獻2:國際公開第2019/182091號 專利文獻3:國際公開第2019/146628號 專利文獻4:國際公開第2011/124765號 專利文獻5:國際公開第2019/087118號
[發明所欲解決之問題]
本發明之目的在於,從實用性及設計性之觀點出發,提供一種自彼此朝向相反方向之2個主面中之一主面出射光,並且自另一主面側觀察時透明可見之照明裝置用導光構件及照明裝置。 [解決問題之技術手段]
根據本發明之實施方式,提供以下項目中記載之解決手段。
[項目1] 一種照明裝置用導光構件,其係具有出射面者,且具有: 導光層,其具有接收自光源出射之光之受光部、上述出射面側之第1主面、及與上述第1主面相反側之第2主面; 配光控制構造,其係具有複數個內部空間者,且上述複數個內部空間各者具有藉由內部全反射使於上述導光層內傳播之光之一部分朝向上述出射面側之第1傾斜面、及與上述第1傾斜面相反側之第2傾斜面,自相對於上述導光層之上述第1主面之法線方向觀察時,上述第1傾斜面形成朝向上述光源側凸出之曲面;以及 抗反射層及/或防眩層,其配置於上述導光層之上述第1主面側。
[項目2] 如項目1所記載之照明裝置用導光構件,其中上述複數個內部空間於上述導光層之導光方向及與上述導光方向交叉之方向上離散配置。
[項目3] 如項目1或2所記載之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述抗反射層, 上述抗反射層具有:具有較上述導光層之折射率低之折射率之單一介電層、或包含折射率互不相同之複數個介電層之多層積層體。
[項目4] 如項目1或2所記載之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述抗反射層, 上述抗反射層由具有蛾眼構造或具有空隙之材料形成。
[項目5] 如項目1至4中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述防眩層, 上述防眩層中與上述導光層相反側之表面之算術平均粗糙度Ra為0.8 μm以上1000 μm以下,且最大高度Rz為5.0 μm以上1000 μm以下。
[項目6] 如項目1至5中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其中上述第1傾斜面之傾斜角度θa為10°以上70°以下, 上述第2傾斜面之傾斜角度θb為50°以上100°以下。
[項目7] 如項目1至6中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其中上述配光控制構造形成於設置於上述導光層之上述第1主面側或上述第2主面側之方向轉換層。
[項目8] 如項目1至7中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其中自相對於上述導光層之上述第1主面之上述法線方向觀察時,上述複數個內部空間之面積於上述導光層之面積中所占之比率為80%以下。
[項目9] 如項目1至8中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其於上述導光層之上述第2主面側具有低折射率層,該低折射率層具有較上述導光層之折射率低之折射率。
[項目10] 如項目1至9中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其中上述照明裝置用導光構件之自位於上述第2主面側之背面漏光之區域中之任意部位處的一邊為17.3 mm之正方形區域中之亮度之最大對比率為1.1以下。
[項目11] 如項目1至10中任一項所記載之照明裝置用導光構件,其可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%。
[項目12] 一種照明裝置,其具備: 如項目1至11中任一項所記載之照明裝置用導光構件;及 光源,其朝向上述受光部出射光。
[項目13] 如項目12所記載之照明裝置,其中上述光源包含沿上述導光層之上述受光部排列之複數個LED裝置。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式,提供一種自彼此朝向相反方向之2個主面中之一主面出射光,並且自另一主面側觀察時透明可見之照明裝置用導光構件及照明裝置。於某一實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置中,可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%。
以下,參照圖式,對本發明之實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置進行說明。本發明之實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置並不限定於以下例示者。
圖1中示出本發明之實施方式之照明裝置100A_L之模式性剖視圖。照明裝置100A_L係具有使光LR出射之出射面(圖1中下方)、及與出射面相反側之背面(圖1中上方)之片狀照明裝置。光LR被出射至圖1中-Z方向側。
照明裝置100A_L具有光源LS及導光構件100A,該導光構件100A接收自光源LS出射之光,使該光於Y方向上傳播,並且朝向-Z方向出射。導光構件100A具有:導光層10,其具有接收自光源LS出射之光之受光部(例如,導光層10之光源LS側之受光側面)、出射面側之第1主面、及與第1主面相反側之第2主面;配光控制構造,其具有複數個內部空間64;以及抗反射層40A,其介隔接著劑層52及基材層32配置於導光層10之第1主面側。於導光構件100A之製造中,形成有抗反射層40之基材層32介隔接著劑層52配置於導光層10之第1主面側。照明裝置100A_L之出射面係抗反射層40A之與導光層10相反側之表面。
複數個內部空間64各者具有藉由內部全反射(TIR)使於導光層10內傳播之光之一部分朝向出射面側之第1傾斜面ISa、及與第1傾斜面ISa相反側之第2傾斜面ISb。抗反射層40A具有:具有較導光層10之折射率低之折射率之單一介電層、或者包含折射率互不相同之複數個介電層之多層積層體。抗反射層40A抑制朝向出射面側之光於基材層32與抗反射層40A之界面處被菲涅耳反射而朝向背面側。藉由抗反射層40A,菲涅耳反射率被抑制為3%以下。自出射面出射之光LR係自光源LS出射,於導光層10內傳播,並被內部空間64之第1傾斜面ISa內部全反射,從而通過導光層10、基材層32及抗反射層40A之光。當然,光LR在通過界面時,可根據構成界面之物質之折射率進行折射。
於導光構件100A中,具有複數個內部空間64之配光控制構造形成於介隔接著劑層54配置於導光層10之第2主面側之方向轉換層60。具有複數個內部空間64之方向轉換層60包含表面具有凹部64(用與內部空間64相同之參照符號表示)之賦形膜62及接著劑層56。複數個內部空間64亦可形成於導光層10內。亦可於導光層10之第1主面側形成方向轉換層。
配光控制構造以於導光層10內傳播之光之80%以上朝向出射面側之方式構成。於導光層10內傳播之光中朝向出射面側之光之比率例如可藉由調整內部空間64之截面形狀、平面形狀、大小、配置密度、分佈來進行控制。如本文所例示,內部空間64之截面形狀為三角形,但並不限於此,亦可為梯形等。
作為配光控制構造之複數個內部空間64於自主面之法線方向觀察導光層10時,複數個內部空間64之面積於導光層10之面積中所占之比率(佔有面積率)較佳為1%以上80%以下,上限值更佳為50%以下,進而較佳為45%以下,為了獲得較高之透過率及/或較低之霧度值,較佳為30%以下,進而較佳為10%以下,進而較佳為5%以下。例如,於內部空間之佔有面積率為50%時,可獲得霧度值30%。再者,內部空間64之佔有面積率可均勻,亦可使佔有面積率隨著距離增大而增大,使得即便離光源LS之距離增大亦不會降低亮度。為了利用卷對卷法或卷對片法進行量產,較佳為內部空間64之佔有面積率均勻。
於導光構件100A中,藉由接著劑層52於導光層10之第1主面接著有基材層32,藉由接著劑層54於導光層10之第2主面接著有賦形膜62。進而,於導光構件100A中,藉由與賦形膜62一起構成方向轉換層60之接著劑層56,使基材層34與賦形膜62接著。導光層10及基材層32、34可為透明之基板或膜。於導光構件100A中,基材層32、接著劑層52、導光層10、接著劑層54及賦形膜62之折射率設計成彼此大致相等,結果能夠抑制朝向出射面側之光於該等構成要素之界面處發生菲涅耳反射。關於導光層10、基材層32、34、抗反射層40A、賦形膜62、接著劑層52、54、56之較佳之構成,於下文進行敍述。
照明裝置100A_L例如可具有可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%這一特徵。可見光透過率較佳為70%以上,進而較佳為80%以上。霧度值較佳為未達10%,進而較佳為5%以下。本發明之實施方式之導光構件100A具有較高之可見光透過率及較低之霧度值,因此能夠經由導光構件100A看到物體(顯示)。此處,將波長為380 nm以上780 nm以下之光作為可見光。可見光透過率及霧度值例如可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造,商品名HM-150)來進行測定。
繼而,參照圖2,對內部空間64之平面形狀及配置之例進行說明。圖2中示出照明裝置100A_L之模式性俯視圖。
如圖2所示,複數個內部空間64例如於導光層10之導光方向(Y方向)及與導光方向正交之方向(X方向)上離散配置。關於內部空間64之大小(長度L、寬度W:參照圖3A、圖3B),例如,長度L較佳為10 μm以上500 μm以下,寬度W較佳為1 μm以上100 μm以下。又,就光提取效率之觀點而言,高度H(參照圖3A)較佳為1 μm以上100 μm以下。
此處示出了複數個內部空間64於導光層10之導光方向(Y方向)及與導光方向正交之方向(X方向)上離散配置之例,但並不限於此,複數個內部空間64亦可於導光層10之導光方向(Y方向)及與導光方向交叉之方向上離散配置。內部空間64之離散配置可根據導光層10之形狀或所需求之配光分佈等進行適當設定。再者,於導光層10內,光係於各種方向上傳播,將Y方向稱為導光方向時,具有Y方向之分量(非零)之光係指於Y方向上傳播。又,關於其他方向亦同樣如此。即,於-Y方向上傳播之光包括所有具有-Y方向之分量(非零)之光。
複數個內部空間64例如係於導光方向及與導光方向交叉之方向上離散配置。離散配置可於至少1個方向上具有週期性(規則性),亦可不具有規則性。然而,就量產性之觀點而言,較佳為複數個內部空間64均勻配置。例如,於圖2所示之例中,具有以實質上相同之形狀朝同一方向凸出之曲面之複數個內部空間64於導光層10之導光方向(Y方向)及與導光方向正交之方向(X方向)上離散且週期性地配置於整個區域。此時,間距Px例如較佳為10 μm以上500 μm以下,間距Py例如較佳為10 μm以上500 μm以下。於圖2所示之例中,複數個內部空間64係於Y方向及X方向各方向上錯開二分之一間距配置。於後述之實施例1~4中,Px為200 μm,Py為100 μm。
如圖2所示,自相對於導光層10之第1主面之法線方向觀察時,第1傾斜面ISa形成朝向光源LS側凸出之曲面。光源LS例如係LED裝置,複數個LED裝置沿導光層10之受光部於X方向上排列。自複數個LED裝置各者出射之光相對於Y方向具有擴散,因此,第1傾斜面ISa具有朝向光源LS側凸出之曲面者使第1傾斜面ISa對光進行均勻的作用。
再者,根據用途,導光層10可具有彼此位於相反側之2個受光部,且於一受光部配置有光源LS,於另一受光部配置有其他光源。配光控制構造可具有包含朝向光源LS側凸出之曲面之內部空間64,但不具有包含朝向其他光源側凸出之曲面之內部空間。或者,配光控制構造亦可具有包含朝向光源LS側凸出之曲面之內部空間64,並且具有包含朝向其他光源側凸出之曲面之其他內部空間。包含彼此朝向相反側凸出之曲面之2種內部空間可於配光控制構造內混合存在配置,亦可分離配置。
繼而,參照圖3A、圖3B及圖3C,對內部空間64之形狀進行說明。圖3A中示出內部空間64之模式性剖視圖,圖3B中示出內部空間64之模式性俯視圖,圖3C中示出表示內部空間64之變化之模式性俯視圖。
如圖3A所示,內部空間64之截面形狀例如為三角形。若第1傾斜面ISa之傾斜角度θa及第2傾斜面ISb之傾斜角度θb處於以下範圍內,則能夠使於導光層10內傳播之光之80%以上朝向出射面側。光源LS側之第1傾斜面ISa之傾斜角度θa例如為10°以上70°以下。若傾斜角度θa小於10°,則有可能使光提取效率下降,若超過70°,則有可能難以加工。又,第2傾斜面ISb之傾斜角度θb例如為50°以上100°以下。若傾斜角度θb小於50°,則有可能於不期望之方向上產生雜散光,於超過100°之情形時,亦同樣有可能使朝向不期望之方向之光之量增加。進而,為了增加自出射面出射之光LR之量,減少出射至觀察者側之光之量,第1傾斜面ISa之傾斜角度θa例如較佳為20°以上50°以下,第2傾斜面ISb之傾斜角度θb例如較佳為70°以上90°以下。於後述之實施例1~4中,第1傾斜面ISa之傾斜角度θa為30°,第2傾斜面ISb之傾斜角度θb為70°。
如圖3B及圖3C所示,內部空間64之長度L較佳為10 μm以上500 μm以下,寬度W較佳為1 μm以上100 μm以下。長度L例如為寬度W之2倍以上。高度H(參照圖3A)較佳為1 μm以上100 μm以下。再者,於形成具備具有圖3B所示之俯視形狀之凹部的賦形膜時,根據模具加工精度,有可能形成具有圖3C所示之俯視形狀之凹部。即便於此種情形時,亦可由長度L及寬度W來對內部空間之俯視形狀進行表徵。於後述之實施例1~4中,內部空間64之長度L為80 μm,寬度W為20 μm,高度H為10 μm。
繼而,對照明裝置100A_L中之抗反射層40A之功能進行說明。抗反射層40A不只是使光LR自出射面有效率地出射。對抗反射層40A之功能進行說明前,參照圖8,對導光構件100A不具有抗反射層40A時所產生之問題進行說明。
圖8中示出用於參考例之照明裝置900_L之模式性剖視圖。圖8中所示之照明裝置900_L與圖1中所示之照明裝置100A_L的不同之處在於,導光構件900不具有接著劑層52、基材層32及抗反射層40A。如圖8所示,自光源LS出射,於導光層10內傳播,並藉由配光控制構造而朝向出射面側之光中的大部分光LR1通過第1主面。另一方面,朝向出射面側之光中的3%~5%之光LR2於第1主面處發生菲涅耳反射。發生了菲涅耳反射之光LR2自第1傾斜面ISa穿透至內部空間64內,通過內部空間64,自照明裝置900_L之背面朝Z方向出射。具有凸出之曲面之第1傾斜面ISa作為透鏡而發揮功能,使通過第1傾斜面ISa之光LR2成像。其結果為,自背面側觀察照明裝置900_L時,產生因複數個內部空間64所致之圖案、即重影。重影之產生會降低自背面側觀察時之照明裝置900_L之設計性。
相對於此,於本發明之實施方式之照明裝置100A_L中,藉由抗反射層40A,能夠抑制朝向出射面側之光之菲涅耳反射。其結果為,自背面側觀察照明裝置100A_L時重影之產生得到抑制,使照明裝置100A_L透明可見。抗反射層40A具有如下功能,即,不僅使光LR自出射面有效率地出射而提高光提取效率,而且抑制自背面側觀察照明裝置100A_L時產生重影,從而提高照明裝置100A_L之設計性。
即便並非抗反射層40A亦能夠抑制重影之產生。繼而,參照圖4,對本發明之另一實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置進行說明。圖4中示出本發明之另一實施方式之照明裝置100B_L之模式性剖視圖。如圖4所示,照明裝置100B_L與圖1中所示之照明裝置100A_L的不同之處在於,導光構件100B具有防眩層40B來代替抗反射層40A。此處,以與圖1中所示之照明裝置100A_L的不同之處為中心進行說明。
防眩層40B配置於導光層10之第1主面側,於與導光層10相反側之表面40BS具有不規則之凹凸。照明裝置100B_L之出射面係防眩層40B之表面40BS。防眩層40B及基材層32之折射率係設計成彼此大致相等,結果能夠抑制朝向出射面側之光於防眩層40B與基材層32之界面處發生菲涅耳反射。
防眩層40B藉由使朝向出射面側之光中的於表面40BS處發生反射之光於各種方向上擴散,而抑制自背面側觀察照明裝置100B_L時產生重影。然而,若使於表面40BS處發生反射之光過度擴散,則自背面側觀察照明裝置100B_L時照明裝置100B_L發生白濁,降低了照明裝置100B_L之設計性。於防眩層40B之表面40BS之算術平均粗糙度Ra為0.8 μm以上1000 μm以下,且最大高度Rz為5.0 μm以上1000 μm以下之情形時,能夠抑制自背面側觀察照明裝置100B_L時產生重影,並且能夠抑制照明裝置100B_L之白濁。算術平均粗糙度Ra及最大高度Rz例如可使用KEYENCE製造之雷射顯微鏡VK-X1000,於倍率5倍及雷射共焦模式下進行測定。
圖4中所示之照明裝置100B_L與圖1中所示之照明裝置100A_L同樣地,例如可具有可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%這一特徵。
亦可藉由抗反射層40A及防眩層40B兩者抑制重影之產生。繼而,參照圖5,對本發明之又一實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置進行說明。圖5中示出本發明之又一實施方式之照明裝置100C_L之模式性剖視圖。如圖5所示,照明裝置100C_L與圖4中所示之照明裝置100B_L的不同之處在於,導光構件100C進而具有抗反射層40A。照明裝置100C_L之出射面係抗反射層40A之與導光層10相反側之表面。此處,以與圖4中所示之照明裝置100B_L的不同之處為中心進行說明。
藉由於防眩層40B之上配置抗反射層40A,能夠抑制朝向出射面側之光於防眩層40B與抗反射層40A之界面處發生菲涅耳反射。儘管如此,所產生之反射光亦能夠於表面40BS朝各種方向擴散。相較於圖4中所示之照明裝置100B_L,圖5中所示之照明裝置100C_L不僅使光LR自出射面更有效率地出射而提高光提取效率,而且能夠進一步抑制自背面側觀察照明裝置100C_L時產生重影,從而進一步提昇照明裝置100C_L之設計性。
圖5中所示之照明裝置100C_L與圖1中所示之照明裝置100A_L及圖4中所示之照明裝置100B_L同樣地,例如可具有可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%這一特徵。
以下,藉由實施例對本發明具體地進行說明,但本發明並不受該等實施例限定。再者,關於以下所示之構成要素之折射率,除非有特別說明,否則係指波長550 nm下利用橢圓偏光計所測得之折射率。
<實施例1> 實施例1之照明裝置具有與圖1中所示之照明裝置100A_L實質上相同之構造。實施例1之光源包含沿受光部以6 mm間隔(鄰接之LED之中心間距離)排列之18個LED裝置(日亞化學,型號NS2W266G-HG)。自每1個LED出射之光之光通量為16.3 lm(20 mA),配光角為120°(明度之強度變為1/2之角度)。
實施例1之導光構件具有包含抗反射層/基材層/丙烯酸系接著劑層/丙烯酸系樹脂板/丙烯酸系接著劑層/凹凸賦形膜/聚酯系接著劑層/PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜之積層構造。凹凸賦形膜由PBT(Polybutylene terephthalate,聚對苯二甲酸丁二酯)形成。導光構件之寬度為120 mm,長度為170 mm。將實施例1之導光構件中所包含之基材層及抗反射層以外之各構成要素之折射率及厚度示於表1中。
[表1]
   丙烯酸系接著劑層 丙烯酸系樹脂板 丙烯酸系接著劑層 凹凸賦形膜 聚酯系接著劑層 PET膜
折射率 1.49 1.49 1.47 1.49 1.51 1.65
厚度(μm) 50 2000 50 130 7 38
實施例1之包含基材層及抗反射層之積層體中,基材層係TAC(三乙醯纖維素)膜,抗反射層具有自靠近TAC膜者起依序包含硬塗層/高折射率層/低折射率層之積層構造。硬塗層由丙烯酸系樹脂形成,高折射率層由ZrO形成,低折射率層由中空氧化矽形成。將實施例1之包含基材層及抗反射層之積層體中所包含之各構成要素之折射率及厚度示於表2中。
[表2]
   TAC膜 硬塗層 高折射率層 低折射率層
折射率 1.48 1.5 1.63 1.38
厚度(μm) 60 6.7 0.10 0.084
實施例1之導光構件可藉由公知之技術製作。
<實施例2> 實施例2之照明裝置具有與圖1中所示之照明裝置100A_L實質上相同之構造。實施例2之照明裝置除了包含基材層及抗反射層之積層體以外,具有與實施例1之照明裝置相同之構成。實施例2之包含基材層及抗反射層之積層體中的基材層係TAC膜,抗反射層具有自靠近TAC膜者起依序包含硬塗層/低折射層之積層構造。硬塗層由丙烯酸系樹脂形成,低折射率層由中空氧化矽形成。將實施例2之包含基材層及抗反射層之積層體中所包含之各構成要素之折射率及厚度示於表3中。
[表3]
   TAC膜 硬塗層 低折射率層
折射率 1.48 1.5 1.38
厚度(μm) 60 10 0.084
實施例2之導光構件可藉由公知之方法製作。
<實施例3> 實施例3之照明裝置具有與圖4中所示之照明裝置100B_L實質上相同之構造。實施例3之照明裝置除了包含基材層及防眩層之積層體以外,具有與實施例1之照明裝置相同之構成。實施例3之包含基材層及防眩層之積層體中的基材層係TAC膜,防眩層係由PMMA粒子形成之凹凸層。凹凸層之表面之算術平均粗糙度Ra為1.2 μm,且最大高度Rz為6.0 μm以下。將實施例3之包含基材層及防眩層之積層體中所包含之各構成要素之折射率及厚度示於表4中。
[表4]
   TAC膜 凹凸層
折射率 1.48 1.5
厚度(μm) 65 3.3~3.4(平均值)
實施例3之導光構件可藉由公知之方法製作。
<實施例4> 實施例4之照明裝置具有與圖5中所示之照明裝置100C_L實質上相同之構造。實施例4之照明裝置除了包含基材層、防眩層及抗反射層之積層體以外,具有與實施例1之照明裝置相同之構成。實施例4之包含基材層、防眩層及抗反射層之積層體中的基材層係丙烯酸系樹脂膜,防眩層係凹凸層,抗反射層係低折射率層。凹凸層由PMMA粒子形成,低折射率層由中空氧化矽形成。凹凸層之表面之算術平均粗糙度Ra為0.1 μm,且最大高度Rz為0.6 μm以下。將實施例4之包含基材層、防眩層及抗反射層之積層體中所包含之各構成要素之折射率及厚度示於表5中。
[表5]
   丙烯酸系樹脂膜 凹凸層 低折射率層
折射率 1.49 1.5 1.38
厚度(μm) 40 5~6(平均值) 0.2
實施例4之導光構件可藉由公知之方法製作。
<比較例1> 比較例1之照明裝置與實施例1之照明裝置的不同之處在於,具有PET膜作為基材層,不具有抗反射層。PET膜之折射率為1.65,厚度為75 μm。於不具有抗反射層之比較例1之照明裝置中,朝向出射面側之光之菲涅耳反射未得到抑制。
<參考例> 參考例之照明裝置具有與圖8所示之照明裝置900_L實質上相同之構造。參考例之照明裝置具有自實施例1之照明裝置卸除配置於丙烯酸系樹脂板之第1主面側之抗反射層、基材層及丙烯酸系接著劑層而成之構成。
繼而,參照圖6A至圖6F,對實施例1~4、比較例及參考例之照明裝置之背面處之亮度分佈之測定結果及重影產生之有無進行說明。圖6A至圖6F中分別示出實施例1至4、比較例及參考例之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域(寬度方向上為120 mm、長度方向上為48.5 mm)中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線(與寬度方向平行)上之位置與亮度之關係之曲線圖。
如圖6A至圖6D之(a)所示,即便自背面觀察實施例1至4之照明裝置,亦未產生重影。如圖6A至圖6D之(b)所示,亮度隨位置緩慢變化。但是,忽略了細小振動。
與此相對,如圖6E及圖6F之(a)所示,當自背面觀察比較例1及參考例之照明裝置時,會產生重影。如圖6A至圖6D之(b)所示,亮度隨位置大幅振動。
將實施例1至4、比較例1及參考例之照明裝置之背面之特定部分中之亮度之最大對比率及重影產生之有無示於表6中。背面之特定部分中之亮度係上述通過矩形區域之中心之水平線中相對於中心對稱之長度17.3 mm之部分中之亮度(參照圖6A至圖6F之(b)由粗實線包圍之區域)。
[表6]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1 參考例
亮度之最大對比率 1.06 1.07 1.07 1.09 1.11 1.45
重影產生
於未產生重影之實施例1~4之照明裝置中,背面之特定部分中之亮度之最大對比率為1.1以下。
進而,本發明人對照明裝置之自背面漏光之區域中之任意部位處的正方形區域(17.3 mm)中之亮度之最大對比率進行了研究。「漏光區域」意指背面中亮度為最高亮度之70%以上之區域。於未產生重影之實施例1至4之照明裝置之自背面漏光之區域中之任意部位處的上述正方形區域中之亮度之最大對比率為1.1以下。
由上文可知藉由在導光層之第1主面側配置抗反射層及/或防眩層,能夠抑制自背面觀察照明裝置時產生重影。
繼而,將實施例1至4及比較例1之照明裝置中之出射面之算術平均粗糙度Ra及最大高度Rz、霧度值、視感反射率Y(波長550 nm)以及重影產生之有無示於表7中。即便是不具有防眩層之實施例1及2之照明裝置以及比較例1之照明裝置,亦會於製造過程中在出射面形成一定程度之凹凸。
[表7]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1
Ra (μm) 0.1 0.1 1.2 0.8 0.8
Rz (μm) 0.6 0.8 6.0 4.2 4.4
霧度值 (%) 0.3 0.2 3.2 2.8 4.9
視感反射率Y (%) <0.1 <1.0 - 1.5 -
重影產生
於實施例1至4之照明裝置中,霧度值為4.0%以下,照明裝置幾乎未發生白濁。進而,於實施例1至4之照明裝置中,視感反射率Y為2.0%以下,照明裝置具有較高之透明性。
本發明之實施方式之照明裝置不限於上述例,可以各種方式進行修改。圖7A、圖7B及圖7C中示出具有與圖1中所示之照明裝置100A_L相同之配光控制構造之照明裝置之例。
圖7A中所示之照明裝置100A1_L與圖1中所示之照明裝置100A_L的不同之處在於,在基材層34之上介隔接著劑層58配置有硬塗層70。硬塗層70之鉛筆硬度例如可為H以上。硬塗層70能夠提昇照明裝置100A1_L之表面之耐擦傷性。
圖7B中所示之照明裝置100A2_L與圖1中所示之照明裝置100A_L的不同之處在於,配置有低折射率層20來代替基材層34。於圖1中所示之照明裝置100A_L中,自光源LS出射,不經由內部空間64而通過賦形膜62,並朝向基材層34之光於基材層34與空氣之界面處發生內部全反射而朝向出射面側。若基材層34之上表面受到污染,則有可能不會於附著有污垢之部分發生內部全反射。如此,會產生自附著有污垢之部分漏光、及/或於導光構件內傳播之光之分佈發生變化等異常。相對於此,於圖7B中所示之照明裝置100A2_L中,賦形膜62與低折射率層20之界面成為能夠使在賦形膜62內傳播之光發生內部全反射之界面。「賦形膜62與低折射率層20之界面」意指賦形膜62與接著劑層56之界面、低折射率層20與接著劑層56之界面及/或兩界面之間之區域。於賦形膜62內傳播之光不會受到低折射率層20與空氣之界面之狀態影響。因此,低折射率層20能夠提昇照明裝置100A2_L之表面之防污性。
圖7C中所示之照明裝置100A3_L與圖7B所示之照明裝置100A2_L的不同之處在於,在低折射率層20之上介隔接著劑層58配置有硬塗層70。硬塗層70及低折射率層20能夠分別提昇照明裝置100A2_L之表面之耐擦傷性及防污性。
上述硬塗層70及低折射率層20能夠使用公知之材料以公知之方法形成。其等亦可應用於本發明之另一實施方式之照明裝置100B_L及本發明之又一實施方式之照明裝置100C_L。
對本發明之實施方式之照明裝置之各構成要素之較佳之例進行說明。
用於形成內部空間之賦形膜例如可以如下方式製造。按照日本專利特表2013-524288號公報中記載之方法製造凹凸賦形膜。具體而言,用快乾漆(三洋化成工業公司製造之Finecure RM-64)對聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜之表面進行塗佈,將光學圖案壓紋加工至含有該快乾漆之膜表面上,其後使快乾漆硬化,藉此製造目標凹凸賦形膜。凹凸賦形膜之總厚度為130 μm,霧度為0.8%。
導光層10係由對可見光之透過率較高之公知之材料形成。導光層10例如由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯(PC)系樹脂、環烯烴系樹脂、玻璃(例如,石英玻璃、無鹼玻璃、硼矽酸玻璃)形成。導光層10之折射率n GP例如為1.40以上1.80以下。導光層10之厚度可根據用途進行適當設定。導光層10之厚度例如為0.05 mm以上50 mm以下。
基材層32、34之厚度例如為1 μm以上1000 μm以下,較佳為10 μm以上100 μm以下,進而較佳為20 μm以上80 μm。基材層32、34之折射率分別獨立地較佳為1.40以上1.70以下,進而較佳為1.43以上1.65以下。
接著劑層52、54、56、58之厚度分別獨立地例如為0.1 μm以上100 μm以下,較佳為0.3 μm以上100 μm以下,進而較佳為0.5 μm以上50 μm以下。接著劑層52、54、56、58之折射率分別獨立地較佳為1.42以上1.60以下,更佳為1.47以上1.58以下。又,接著劑層52、54、56、58之折射率較佳為與其所相接之導光層10或賦形膜62之折射率相近,較佳為折射率之差之絕對值為0.2以下。
接著劑層56較佳為能夠在不掩埋賦形膜62之表面之凹部64的情況下接著。作為適合形成接著劑層56之接著劑,可適當地使用本案申請人之國際公開第2021/167090號、國際公開第2021/167091號或國際申請案PCT/JP2022/004554中記載之接著劑。將該等申請案之全部揭示內容援用於本說明書中。尤佳為國際申請案PCT/JP2022/004554中記載之聚酯系接著劑。
抗反射層40A可為單一之低折射率層,較佳為高折射率層與低折射率層之交替積層體。關於高折射率層,例如折射率為1.9以上,較佳為2.0以上。作為高折射率材料,可例舉:氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化銦錫(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)等。其中,較佳為氧化鈦或氧化鈮。關於低折射率層,例如折射率為1.6以下,較佳為1.5以下。作為低折射率材料,可例舉:氧化矽、氮化鈦、氟化鎂、氟化鋇、氟化鈣、氟化鉿、氟化鑭等。其中,較佳為氧化矽。尤佳為將作為高折射率層之氧化鈮(Nb 2O 5)薄膜與作為低折射率層之氧化矽(SiO 2)薄膜交替積層。除了低折射率層及高折射率層以外,亦可設置折射率為1.6~1.9左右之中折射率層。
高折射率層及低折射率層之膜厚分別為5 nm以上200 nm以下左右,較佳為15 nm以上150 nm以下左右。只需根據折射率或積層構造等設計各層之膜厚,以使可見光之反射率減小即可。
抗反射層40A較佳為介隔底塗層積層於硬塗層。作為構成底塗層之材料,例如可例舉:矽、鎳、鉻、錫、金、銀、鉑、鋅、鈦、鎢、鋁、鋯、鈀等金屬;該等金屬之合金;該等金屬之氧化物、氟化物、硫化物或氮化物等。其中,底塗層之材料較佳為氧化物,尤佳為氧化矽。底塗層較佳為含氧量低於化學計量組成之無機氧化物層。於非化學計量組成之無機氧化物之中,較佳為由組成式SiO x(0.5≦x<2)所表示之氧化矽。底塗層之厚度例如為1 nm以上20 nm以下左右,較佳為3 nm以上15 nm以下。
構成抗反射層40A之薄膜之成膜方法並不特別限定,可為濕式塗佈法、乾式塗佈法中之任一種。就能夠形成膜厚均勻之薄膜之方面而言,較佳為真空蒸鍍、CVD(chemical vapor deposition,化學氣相沈積)、濺鍍、電子束蒸鍍等乾式塗佈法。其中,就容易形成膜厚之均勻性優異且緻密之膜之方面而言,較佳為濺鍍法。例如可適當地使用日本專利特開2020-52221號公報中記載之抗反射層。將日本專利特開2020-52221號公報之所有揭示內容藉由參照援用於本說明書中。
再者,抗反射層40A亦可不具有上述單一之低折射率層或高折射率層與低折射率層之交替積層體。抗反射層40A亦可具有所謂蛾眼構造。或者,抗反射層40A亦可由與以下說明之低折射率層20同樣地具有空隙之材料形成。
低折射率層20之折射率n L1分別獨立地例如較佳為1.30以下,更佳為1.20以下,進而較佳為1.15以下。低折射率層20較佳為固體,折射率例如較佳為1.05以上。導光層10之折射率與低折射率層20之折射率層之差較佳為0.20以上,更佳為0.23以上,進而較佳為0.25以上。折射率為1.30以下之低折射率層20例如可使用多孔質材料形成。低折射率層20之厚度分別獨立地例如為0.3 μm以上5 μm以下。
於低折射率層為內部具有空隙之多孔質材料之情形時,其空隙率較佳為35體積%以上,更佳為38體積%以上,尤佳為40體積%以上。若處於此種範圍內,則能夠形成折射率尤其低之低折射率層。低折射率層之空隙率之上限例如為90體積%以下,較佳為75體積%以下。若處於此種範圍內,則能夠形成強度優異之低折射率層。空隙率係根據由橢圓偏光計所測得之折射率之值,藉由Lorentz-Lorenz's formula(勞洛公式)而算出之值。
關於低折射率層,例如可使用專利文獻3中所揭示之具有空隙之低折射率層。將專利文獻3之所有揭示內容藉由參照援用於本案說明書中。具體而言,具有空隙之低折射率層含有:氧化矽粒子、具有微細孔之氧化矽粒子、氧化矽中空奈米粒子等大致球狀粒子;纖維素奈米纖維、氧化鋁奈米纖維、氧化矽奈米纖維等纖維狀粒子;含有膨潤土之奈米黏土等平板狀粒子等。於一實施方式中,具有空隙之低折射率層係粒子(例如微細孔粒子)彼此直接化學鍵結而構成之多孔體。又,關於構成具有空隙之低折射率層之粒子彼此,其至少一部分可經由少量(例如,粒子之質量以下)之黏合劑成分而結合。低折射率層之空隙率及折射率可根據構成該低折射率層之粒子之粒徑、粒徑分佈等來進行調整。
作為獲得具有空隙之低折射率層之方法,例如可例舉:日本專利特開2010-189212號公報、日本專利特開2008-040171號公報、日本專利特開2006-011175號公報、國際公開第2004/113966號、及其等之參考文獻中所記載之方法。將日本專利特開2010-189212號公報、日本專利特開2008-040171號公報、日本專利特開2006-011175號公報、國際公開第2004/113966號之所有揭示內容藉由參照援用於本說明書中。
作為具有空隙之低折射率層,可適當地使用氧化矽多孔體。氧化矽多孔體例如可利用以下方法進行製造。可例舉如下方法等:使矽化合物與水解性矽烷類及/或倍半矽氧烷、以及其部分水解物及脫水縮合物中之至少任一者發生水解及縮聚之方法;使用多孔質粒子及/或中空微粒子之方法;以及利用彈回現象生成氣凝膠層之方法;對藉由溶膠凝膠法而獲得之凝膠狀矽化合物進行粉碎,用觸媒等使所獲得之粉碎體即微細孔粒子彼此化學鍵結,使用由此獲得之粉碎凝膠。然而,低折射率層並不限定於氧化矽多孔體,製造方法亦不限定於所例示之製造方法,可藉由任意製造方法來進行製造。然而,多孔質層並不限定於氧化矽多孔體,製造方法亦不限定於所例示之製造方法,可藉由任意製造方法來進行製造。再者,倍半矽氧烷係以(RSiO 1.5,R為烴基)為基本結構單元之矽化合物,嚴格來講,與以SiO 2為基本結構單元之氧化矽不同,但於具有藉由矽氧烷鍵結交聯而成之網狀結構之方面與氧化矽共通,因此,此處,包含倍半矽氧烷作為基本結構單元之多孔體亦稱為氧化矽多孔體或氧化矽系多孔體。
氧化矽多孔體可含有彼此鍵結而成之凝膠狀矽化合物之微細孔粒子。作為凝膠狀矽化合物之微細孔粒子,可例舉凝膠狀矽化合物之粉碎體。氧化矽多孔體例如可將含有凝膠狀矽化合物之粉碎體之塗佈液塗佈於基材而形成。凝膠狀矽化合物之粉碎體例如可藉由觸媒之作用、光照射、加熱等而化學鍵結(例如,矽氧烷鍵結)。
關於硬塗層70之硬度H H1,例如以鉛筆硬度計較佳為H以上,進而較佳為2H以上,更佳為4H以上。另一方面,硬塗層70之硬度H H1之上限並無特別限定,較佳為以鉛筆硬度計為6H以下,更佳為5H以下。鉛筆硬度係利用依據JIS K 5400之「鉛筆硬度試驗」之方法來進行測定。硬塗層70之厚度分別獨立地較佳為1 μm以上30 μm以下,更佳為2 μm以上20 μm以下,進而較佳為3 μm以上15 μm以下。若硬塗層70之厚度處於此種範圍內,則具有良好之耐擦傷性。
硬塗層70可包含任意適宜之材料,只要滿足如上所述之特性即可。硬塗層70例如係熱固性樹脂或游離輻射(例如,可見光、紫外線)硬化性樹脂之硬化層。作為此種硬化性樹脂,例如可例舉:胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯、聚矽氧烷等矽樹脂、不飽和聚酯、環氧樹脂。硬塗層70例如可藉由將含有溶劑及硬化型化合物之材料塗佈於目標基材表面,且進行硬化而形成。適合用作硬塗層70之硬塗層之詳情例如記載於日本專利特開2011-237789號公報中。將日本專利特開2011-237789號公報之所有揭示內容藉由參照援用於本說明書中。 [產業上之可利用性]
本發明之實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置能夠自彼此朝向相反方向之2個主面中之一主面出射光,並且自另一主面側觀察時透明可見。本發明之實施方式之照明裝置用導光構件及照明裝置能夠提供一種兼具實用性及設計性之新用途。
10:導光層 20:低折射率層 32:基材層 34:基材層 40A:抗反射層 40B:防眩層 52:接著劑層 54:接著劑層 56:接著劑層 58:接著劑層 60:方向轉換層 62:賦形膜 64:內部空間、凹部 70:硬塗層 100A:照明裝置用導光構件 100B:照明裝置用導光構件 100C:照明裝置用導光構件 100A_L:照明裝置 100A1_L:照明裝置 100A2_L:照明裝置 100A3_L:照明裝置 100B_L:照明裝置 100C_L:照明裝置 900:照明裝置用導光構件 900_L:照明裝置 ISa:第1傾斜面 ISb:第2傾斜面 LR:光 LR1:光 LR2:光 LS:光源 Py:間距 Px:間距 L:長度 H:高度 W:寬度 θa:傾斜角度 θb:傾斜角度
圖1係本發明之實施方式之照明裝置100A_L之模式性剖視圖。 圖2係照明裝置100A_L之模式性俯視圖。 圖3A係照明裝置100A_L可具有之內部空間64之模式性剖視圖。 圖3B係內部空間64之模式性俯視圖。 圖3C係表示內部空間64之變化之模式性俯視圖。 圖4係本發明之另一實施方式之照明裝置100B_L之模式性剖視圖。 圖5係本發明之又一實施方式之照明裝置100C_L之模式性剖視圖。 圖6A係實施例1之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖6B係實施例2之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖6C係實施例3之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖6D係實施例4之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖6E係比較例1之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖6F係參考例之照明裝置之(a)位於背面中央之矩形區域中之亮度分佈及(b)通過矩形區域之中心之水平線上之位置與亮度之關係之曲線圖。 圖7A係本發明之實施方式之另一照明裝置100A1_L之模式性剖視圖。 圖7B係本發明之實施方式之又一照明裝置100A2_L之模式性剖視圖。 圖7C係本發明之實施方式之進而又一照明裝置100A3_L之模式性剖視圖。 圖8係用於參考例之照明裝置900_L之模式性剖視圖。
10:導光層
32:基材層
34:基材層
40A:抗反射層
52:接著劑層
54:接著劑層
56:接著劑層
60:方向轉換層
62:賦形膜
64:內部空間、凹部
100A:照明裝置用導光構件
100A_L:照明裝置
ISa:第1傾斜面
ISb:第2傾斜面
LR:光
LS:光源

Claims (13)

  1. 一種照明裝置用導光構件,其係具有出射面者,且具有: 導光層,其具有接收自光源出射之光之受光部、上述出射面側之第1主面、及與上述第1主面相反側之第2主面; 配光控制構造,其係具有複數個內部空間者,且上述複數個內部空間各者具有藉由內部全反射使於上述導光層內傳播之光之一部分朝向上述出射面側之第1傾斜面、及與上述第1傾斜面相反側之第2傾斜面,自相對於上述導光層之上述第1主面之法線方向觀察時,上述第1傾斜面形成朝向上述光源側凸出之曲面;以及 抗反射層及/或防眩層,其配置於上述導光層之上述第1主面側。
  2. 如請求項1之照明裝置用導光構件,其中上述複數個內部空間於上述導光層之導光方向及與上述導光方向交叉之方向上離散配置。
  3. 如請求項1或2之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述抗反射層, 上述抗反射層具有:具有較上述導光層之折射率低之折射率之單一介電層、或包含折射率互不相同之複數個介電層之多層積層體。
  4. 如請求項1或2之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述抗反射層, 上述抗反射層由具有蛾眼構造或具有空隙之材料形成。
  5. 如請求項1至4中任一項之照明裝置用導光構件,其具有配置於上述導光層之上述第1主面側之上述防眩層, 上述防眩層中與上述導光層相反側之表面之算術平均粗糙度Ra為0.8 μm以上1000 μm以下,且最大高度Rz為5.0 μm以上1000 μm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之照明裝置用導光構件,其中上述第1傾斜面之傾斜角度θa為10°以上70°以下, 上述第2傾斜面之傾斜角度θb為50°以上100°以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之照明裝置用導光構件,其中上述配光控制構造形成於設置於上述導光層之上述第1主面側或上述第2主面側之方向轉換層。
  8. 如請求項1至7中任一項之照明裝置用導光構件,其中自相對於上述導光層之上述第1主面之上述法線方向觀察時,上述複數個內部空間之面積於上述導光層之面積中所占之比率為80%以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之照明裝置用導光構件,其於上述導光層之上述第2主面側具有低折射率層,該低折射率層具有較上述導光層之折射率低之折射率。
  10. 如請求項1至9中任一項之照明裝置用導光構件,其中上述照明裝置用導光構件之自位於上述第2主面側之背面漏光之區域中之任意部位處的一邊為17.3 mm之正方形區域中之亮度之最大對比率為1.1以下。
  11. 如請求項1至10中任一項之照明裝置用導光構件,其可見光透過率為60%以上,霧度值未達30%。
  12. 一種照明裝置,其具備: 如請求項1至11中任一項之照明裝置用導光構件;及 光源,其朝向上述受光部出射光。
  13. 如請求項12之照明裝置,其中上述光源包含沿上述導光層之上述受光部排列之複數個LED裝置。
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