TW202306706A - 饋送器總成 - Google Patents

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Abstract

一種粒子噴射裝置包含一計量部分、一粉碎機及一饋送部分。該計量部分及該粉碎機可各自經組態以提供粒子排放之均勻性。該計量部分控制粒子饋送速率，且可包含一轉子，該轉子可具有V形或人字形凹區。該粉碎機包含至少一個滾子，可使該至少一個滾子在該粉碎機之間隙處於最大值之一位置與該間隙處於最小值之一位置之間且包含在該兩個位置處移動。該計量部分可在不存在一粉碎機之情況下將粒子排放至該饋送部分中。該粉碎機可在不存在一計量部分之情況下直接自一噴射介質源接納粒子。

Description

饋送器總成
本發明係關於將噴射介質粒子挾帶於一流中之方法及裝置，且尤其針對於用於控制噴射介質之饋送速率而且用於控制低溫噴射介質之大小之方法及裝置。
在美國專利4,744,181、4,843,770、5,018,667、5,050,805、5,071,289、5,188,151、5,249,426、5,288,028、5,301,509、5,473,903、5,520,572、6,024,304、6,042,458、6,346,035、6,524,172、6,695,679、6,695,685、6,726,549、6,739,529、6,824,450、7,112,120、7,950,984、8,187,057、8,277,288、8,869,551、9,095,956、9,592,586及9,931,639中展示包含用於進行以下操作之裝置之二氧化碳系統：形成固態二氧化碳粒子；將粒子挾帶於一輸送氣體中；及將所挾帶粒子朝向係眾所周知之物件(如與其相關聯之各種組件部分，諸如噴嘴)引導，所有該等美國專利皆以全文引用方式併入本文中。
另外，以下各項全部以全文引用方式併入本文中：2007年9月11日針對Particle Blast System With Synchronized Feeder and Particle Generator提出申請之第11/853,194號美國專利申請案；2012年1月23日針對Method And Apparatus For Sizing Carbon Dioxide Particles提出申請之第61/589,551號美國專利臨時申請案；2012年1月30日針對Method And Apparatus For Dispensing Carbon Dioxide Particles提出申請之第61/592,313號美國專利臨時申請案；2012年5月18日針對Method And Apparatus For Forming Carbon Dioxide Pellets提出申請之第13/475,454號美國專利申請案；2013年10月24日針對Apparatus Including At Least An Impeller Or Diverter And For Dispensing Carbon Dioxide Particles And Method Of Use提出申請之第14/062,118號美國專利申請案；2014年10月16日針對Method And Apparatus For Forming Solid Carbon Dioxide提出申請之第14/516,125號美國專利申請案；2015年3月7日針對Particle Feeder提出申請之第15/062,842號美國專利申請案；2015年9月10日針對Apparatus And Method For High Flow Particle Blasting Without Particle Storage提出申請之第14/849,819號美國專利申請案；及2016年10月19日針對Blast Media Comminutor提出申請之第15/297,967號美國專利申請案。
美國專利5,520,572圖解說明一種包含一粒子產生器之粒子噴射裝置，該粒子產生器藉由自一個二氧化碳塊削掉小粒子而產生小粒子且將二氧化碳微粒挾帶於一輸送氣體流中而不儲存該等微粒。美國專利5,520,572、6,824,450及第2009-0093196號美國專利公開案揭示粒子噴射裝置，該等粒子噴射裝置包含：一粒子產生器，其藉由自一個二氧化碳塊削掉小粒子而產生小粒子；一粒子饋送器，其自該粒子產生器接納該等粒子且挾帶然後經遞送至一粒子饋送器之該等粒子，此致使該等粒子挾帶於一移動輸送氣體流中。所挾帶粒子流流動穿過一遞送軟管到達一噴射噴嘴以供一最終用途，諸如經引導針對一工件或其他目標。
對於某些噴射應用，可期望具有諸如在3 mm直徑至.3 mm直徑之大小範圍中之一系列小粒子。美國專利公開案2017-0106500 (與第15/297,967號美國專利申請案對應)揭示一種將脆性噴射介質之粒子之大小自每一粒子之各別初始大小減小至比一所要最大大小小之一第二大小的粉碎機。
在以下說明中，相似元件符號貫穿數個視圖指定相似或對應零件。而且，在以下說明中，應理解，諸如前、後、內側、外側及諸如此類等術語係便利措辭且不應被理解為限制性術語。本專利中所使用之術語並不意味著係限制性的，只要可以其他定向附接或利用本文中所闡述之器件或其部分即可。更詳細地參考圖式，闡述根據本創新之教示構造之一或多項實施例。
應瞭解，據稱以引用方式併入本文中之任何專利、公開案或其他揭示材料全部或部分地僅在所併入材料不與本發明中所陳述之現有定義、陳述或其他揭示材料衝突的程度上併入本文中。如此且在某種必要程度上，如本文中明確地陳述之揭示內容替代以引用方式併入本文中之任何衝突材料。
儘管本專利具體係指二氧化碳，但本發明不限於二氧化碳，而是可與任何適合脆性材料以及任何適合低溫材料或其他類型之粒子(諸如水冰丸粒或研磨介質)一起利用。本文中所提及之二氧化碳至少在闡述用於闡釋本創新之原理之實施例時必要地限於二氧化碳，但應解讀為包含任何適合脆性或低溫材料。
參考圖1，展示一般以2指示之一粒子噴射裝置之一表示，該粒子噴射裝置包含手推車4、遞送軟管6、手控件8及排放噴嘴10。一噴射介質遞送總成(圖1中未展示)在手推車4內部，該噴射介質遞送總成包含一漏斗及經安置以自該漏斗接納粒子且將粒子挾帶至一輸送氣體流中之一饋送器總成。粒子噴射裝置2可連接至在所繪示之實施例中可由軟管12遞送之輸送氣體之一源，軟管12在一適合壓力(諸如但不限於80 PSIG)下遞送一氣體流。可透過漏斗之頂部16將以14指示之噴射介質(諸如但不限於二氧化碳粒子)放置至漏斗中。該等二氧化碳粒子可係為任何適合大小，諸如但不限於3 mm之一直徑及大約3 mm之一長度。該饋送器總成將該等粒子挾帶至該輸送氣體中，該輸送氣體此後以一次音速速度流動穿過由遞送軟管6界定之內部流通路。遞送軟管6繪示為一撓性軟管，但可使用任何適合結構來運送挾帶於該輸送氣體中之該等粒子。手控件8允許操作者控制粒子噴射裝置2之操作及所挾帶粒子之流量。在控件8下游，所挾帶粒子流動至排放噴嘴10之進口10a中。該等粒子自排放噴嘴10之出口10b流出且可在所要方向上經引導及/或經引導至諸如一工件(未展示)之一所要目標處。
排放噴嘴10可係為任何適合組態，舉例而言，排放噴嘴10可係一超音速噴嘴、一次音速噴嘴或經組態以將噴射介質推進或遞送至所要使用點之任何其他適合結構。
可省略控件8且透過手推車4或其他適合位置上之控件控制系統之操作。舉例而言，排放噴嘴10可安裝至一機器人臂且透過位於手推車4遠端之控件來完成對噴嘴定向及流量之控制。
參考圖2及圖3，展示粒子噴射裝置2之漏斗18及饋送器總成20。漏斗18可包含用於賦予漏斗18能量以輔助粒子流動穿過其之一器件(未展示)。漏斗18係一噴射介質(諸如低溫粒子，舉例而言但不限於二氧化碳粒子)源。漏斗出口18a在漏斗密封件24處與導引件22 (參見圖4)對準。可使用任何適合噴射介質源，諸如(不具限制地)一造粒機。
饋送器總成20經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，其中當流離開饋送器總成20且進入遞送軟管6時將噴射介質粒子挾帶於輸送氣體中。在所繪示之實施例中，饋送器總成20包含計量部分26、粉碎機28及饋送部分30。如下文所論述，可自饋送器總成20省略粉碎機28 (其中計量部分26直接向饋送部分30進行排放)，可自饋送器總成20省略計量部分28 (其中粉碎機直接自諸如漏斗18之一噴射介質源接納粒子)，且饋送部分30可係為將粒子挾帶至輸送氣體中之任何構造，無論是一單個軟管、多個軟管及/或文氏管類型系統。遞送至饋送部分30之輸送氣體之壓力及流量受壓力調節器總成32控制。
饋送器總成20包含複數個馬達以驅動其不同部分。此等馬達可係為任何適合組態，諸如氣動馬達及電動馬達，包含而不限於DC馬達及VFD。計量部分26包含驅動件26a，驅動件26a在所繪示之實施例中提供旋轉功率。在所繪示之實施例中，粉碎機28包含三個驅動件28a及28b (其提供旋轉功率)及28c (其透過直角驅動件28d提供旋轉功率)。在所繪示之實施例中，饋送部分30包含驅動件30a，驅動件30a透過直角驅動件30b提供旋轉功率。可在存在或不存在直角驅動件之情況下使用任何適合數量、組態及定向之驅動件。舉例而言，較少馬達可與適當機構一起使用以依適當速度將功率傳輸至組件(諸如鏈條、皮帶、齒輪等)。如圖3中可見，在移除驅動件及直角驅動件之情況下，定位銷可用於定位驅動件。
饋送器總成20可包含各自具有至少一個可延伸構件(未圖解說明)之一或多個致動器34，該至少一個可延伸構件經安置以在導引件22處選擇性地延伸至自漏斗18至饋送器總成20之粒子流中，能夠機械地打碎粒子團，如美國專利6,524,172中所闡述。
亦參考圖4及圖5A，計量部分26包含導引件22及計量元件36。計量元件36經組態以自漏斗18 (一噴射介質(在所繪示之實施例中，低溫粒子))源、自第一區域38接納噴射介質且在第二區域40處排放噴射介質。導引件22可由任何適合材料(諸如鋁、不銹鋼或塑膠)製成。導引件22經組態以將噴射介質自漏斗18導引至第一區域38。導引件22可具有適合於將噴射介質自漏斗18導引至諸如(不具限制地)會聚壁之第一區域38之任何組態。計量元件36經組態以控制用於粒子噴射裝置2之噴射介質之流率。該流率可使用任何命名法來表達，諸如質量(或重量)或體積/單位時間，諸如磅/分鐘。計量元件36可以適合於控制噴射介質流率之任何方式來組態。在所繪示之實施例中，計量元件36組態為一轉子–可圍繞一軸線(諸如軸線36a)旋轉之一結構。在所繪示之實施例中，計量元件36由軸件36b支撐，其中一鍵/鍵槽配置阻止計量元件36與軸件36b之間的旋轉。驅動件26a耦合至軸件36b且可經控制以使軸件36b圍繞軸線36a旋轉，藉此使計量元件36圍繞軸線36a旋轉。計量元件36亦將在本文中稱為轉子36、計量轉子36或甚至劑量器36，應理解，將計量元件36稱為一轉子或一劑量器不應以將計量元件限制於所圖解說明之轉子結構之一方式來解釋。作為一非限制性實例，計量元件36可係一往復運動結構。如所繪示，計量轉子36包含複數個空腔42，空腔42亦在本文中稱為凹區42。凹區42可係為任何大小、形狀、數目或組態。在所繪示之實施例中，凹區42徑向向外敞開且在計量轉子36之端之間延伸，如下文所闡述。計量轉子36之旋轉將每一凹區42循環地安置於毗鄰第一區域38以接納粒子之一第一位置處及毗鄰第二區域40以排放粒子之一第二位置處。
粉碎機28包含可圍繞一軸線(諸如軸線44a)旋轉之滾子44及可圍繞一軸線(諸如軸線46a)旋轉之滾子46。在所繪示之實施例中，滾子44由軸件44b支撐，其中一鍵/鍵槽配置阻止滾子44與軸件44b之間的旋轉。驅動件28a耦合至軸件44b且可經控制以使軸件44b圍繞軸線44a旋轉，藉此使滾子44圍繞軸線44a旋轉。在所繪示之實施例中，滾子46由軸件46b支撐，其中一鍵/鍵槽配置阻止滾子46與軸件46b之間的旋轉。驅動件28b耦合至軸件46b且可經控制以使軸件46b圍繞軸線46a旋轉，藉此使滾子46圍繞軸線46a旋轉。滾子44、46可由任何適合材料(諸如鋁)製成。
滾子44及46具有各別周邊表面44c、46c。間隙48界定於每一各別周邊表面44c、46c之間。會聚區域50藉由間隙48及滾子44、46界定於間隙48上游。(下游係噴射介質流動穿過饋送器總成20之方向，且上游係相反方向。)會聚區域50經安置以自第二區域40接納已藉由轉子26排放之噴射介質。岔開區域52藉由間隙48及滾子44、46界定於間隙48下游。
粉碎機28經組態以自計量元件26接納包括複數個粒子(在所繪示之實施例中為二氧化碳粒子)之噴射介質，且將該等粒子之大小自該等粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小。在所繪示之實施例中，粉碎機28自計量部分26/計量元件36接納噴射介質。在一替代實施例中，可省略計量部分26/計量元件36且粉碎機28可自任何結構(包含直接自一噴射介質源)接納噴射介質。如已知，使滾子44、46旋轉以使周邊表面44c、46c在間隙48、會聚區域50之末端處在下游方向上移動。當噴射介質粒子在下游方向上行進穿過間隙48時，最初比周邊表面44c、46c之間的間隙48之寬度大的粒子之大小將減小至基於間隙大小之一大小。
間隙48之大小可在一最小間隙與一最大間隙之間變化。該最大間隙及該最小間隙可係任何適合大小。該最大間隙可足夠大，使得行進穿過間隙48之粒子無一者經歷一大小改變。該最小間隙可足夠小，使得行進穿過間隙48之所有粒子經歷一大小改變。取決於最大間隙大小，可存在比最大間隙大小小之一間隙大小，首先在該最大間隙大小處開始粒子之粉碎。在粉碎行進穿過間隙48之少於所有粒子之間隙大小下，粉碎機28減小該複數個粒子中的複數個粒子之大小。在所繪示之實施例中，最小間隙經組態以將粒子粉碎至一非常精細大小，諸如0.012英吋，其可在標準工業中稱為微型粒子，其中最小間隙係0.006英吋。在所繪示之實施例中，最大間隙經組態以不粉碎任何粒子，其中最大間隙係0.7英吋。可使用任何適合最小及最大間隙。
饋送部分30可係為經組態以接納噴射介質粒子且將該等粒子引入至輸送氣體流中從而將該等粒子挾帶於流中之任何設計。在所繪示之實施例中，饋送部分30包含饋送轉子54、安置於間隙48與饋送轉子54之間的導引件56及下部密封件58。饋送轉子54可圍繞一軸線(諸如軸線54a)旋轉。在所繪示之實施例中，軸件54b (參見圖6)與饋送轉子54成一整體，且可係為整體構造。替代地，軸件54b可係承載饋送轉子54使得饋送轉子54不相對於軸件54b旋轉之一單獨軸件。饋送轉子54可由任何適合材料(諸如不銹鋼)製成。
如所圖解說明，驅動件30a透過直角驅動件30b耦合至軸件54b，且可經控制以使軸件54b且伴隨地使饋送轉子54圍繞軸線54a旋轉。
饋送轉子54包括周邊表面54c (參見圖6)，亦在本文中稱為圓周表面54c，其具有安置於其中之複數個凹區60。每一凹區60具有一各別圓周寬度。導引件56經組態以自粉碎機28接納粒子且在使饋送轉子54圍繞軸線54a旋轉時將該等粒子導引至凹區60中。如上文所提及，在一項實施例中，可自饋送器總成20省略粉碎機28，其中導引件56直接自計量元件36接納粒子。導引件56包含毗鄰周邊表面54c且大體平行於軸線54a縱向延伸之擦拭邊緣56a。饋送轉子54在由箭頭指示之方向上旋轉，使得擦拭邊緣56a界定饋送轉子54之一夾捏線路且在饋送轉子54之旋轉之情況下用於將粒子驅迫至凹區60中。
下部密封件58抵靠周邊表面54c而密封。下部密封件58 可係為任何適合組態。
饋送部分30界定由流線路62a及62b指示之輸送氣體流路徑62，輸送氣體在粒子噴射裝置2之操作期間流動穿過流線路62a及62b。輸送氣體流路徑62可直接或透過壓力調節器總成32 (下文所闡述)連接至一輸送氣體源，其中適當配件在饋送部分30外部。輸送氣體流路徑62可由任何適合結構界定且以允許將自凹區60排放之粒子挾帶至輸送氣體中之任何適合方式來組態。在所繪示之實施例中，下部密封件58及活塞64界定輸送氣體流路徑62之至少一部分，其中流路徑62之一部分穿過凹區60，如第15/297,967號美國專利申請案中所闡述。
饋送轉子54之旋轉將粒子引入至輸送氣體流中，從而將該等粒子挾帶於流中。該所挾帶流(粒子及輸送氣體)流動穿過遞送軟管6且離開排放噴嘴10。因此，存在於噴射介質源與排放噴嘴之間延伸之一粒子流路徑，在所繪示之實施例中，該粒子流路徑延伸穿過計量部分26、粉碎機28及饋送部分30。
參考圖5B，展示計量轉子36及導引件22之一經放大碎片剖面圖。導引件22包含毗鄰計量轉子36之外周邊表面36c安置之擦拭邊緣22a。在使計量轉子36旋轉時外周邊表面36c行進越過擦拭邊緣22a。擦拭邊緣22a經組態以在使計量轉子36旋轉時擦拭跨越每一凹區42之開口42a。擦拭邊緣22a相對於計量轉子36之一切線以擦拭角度α安置，其中一弧形區段自導引件22之傾斜側過渡至擦拭邊緣22a。在所繪示之實施例中，此弧形過渡區段具有.29英吋之一半徑，儘管可使用任何適合半徑或過渡形狀。如本文中所使用，擦拭角度係形成於擦拭邊緣與計量轉子之一切線之間的角度，如圖5B中所圖解說明而量測。擦拭角度α經組態以在使計量轉子36在所指示方向上旋轉時不產生擦拭邊緣22a與外周邊表面36c之間的一夾捏線路。若一夾捏線路存在於此位置處，則可將粒子驅迫及/或擠壓至凹區42中，對於二氧化碳粒子，此致使粒子趨向於在排放時不自凹區掉出來。在所繪示之實施例中，擦拭角度α大於90 o。
圖5C圖解說明進口22相對於計量轉子36之懸垂、殼體94相對於滾子44之懸垂及滾子44 (及對應地滾子46)比計量轉子36寬。如所展示，進口22之表面22c使計量轉子36之第一端36d軸向懸垂且進口22之表面22d使第二端36e軸向懸垂。兩個端36d、36e之上部部分安置於分別由殼體94f、94e中之表面22c、22d界定之凹部中。在此構造之情況下，阻止行進穿過導引件22之粒子到達端36d、36e。類似地，表面94a’及94b’使滾子44之端(及伴隨地滾子46之端，圖5C中未看到)懸垂。滾子44、46之兩個端之上部部分安置於凹部中。如圖5C中可見，滾子44 (及伴隨地滾子46)比計量轉子36寬。此構造避免可累積冰之架狀突出物。
參考圖6，繪示饋送部分30之一分解透視圖。除以上說明之外，在所繪示之實施例中，饋送部分30包含殼體66及基底68。基底包含居中安置之凸起部分70。類似於如第15/062,842號美國專利申請案中所闡述，活塞64之一內部空腔密封地嚙合凸起部分70，從而形成與輸送氣體流體連通之一腔室。彈簧72經安置以向上推動活塞，其中導銷74嚙合活塞64，如圖5A中所見。在所繪示之實施例中，下部密封件58藉由具有適當密封件之緊固件76固定至活塞64。
殼體66包含接納軸承78a、78b之膛孔66a、66b。軸承78a、78b以旋轉方式支撐饋送轉子54。軸承78a藉由固定至殼體66之保持器80保持於膛孔66a中。軸承78b藉由保持器/支撐件82保持於膛孔66b中，保持器/支撐件82藉由緊固件84固定至殼體。直角驅動件30b可附接至保持器/支撐件82。殼體66可由任何適合材料(諸如鋁)製成。
輸送氣體流路徑62之入孔86及出孔88 (參見圖5A)形成於殼體66中，如所展示。配件90、92分別在入孔86及出孔88處密封嚙合殼體66，其中保持器90a、92a將配件90、92固定至殼體66。
參考圖7及圖8，圖解說明計量部分26及粉碎機28之分解透視圖。在所繪示實施例中，殼體94裝納計量轉子36及滾子44、46。軸件36b可由軸承36f以旋轉方式支撐。殼體94可由任何適合材料(諸如鋁)製成，且係為任何適合組態。在所繪示之實施例中，殼體94包括六個零件。如所圖解說明，殼體94a及94b承載滾子44，而殼體94c及94d承載滾子46。殼體94e及94f承載計量轉子36。
殼體94c及94d可相對於殼體94a及94b移動以便使間隙48之寬度變化。殼體94a、94b、94c及94d具有對應支撐件96a、96b、96c及96d。支撐件96a、96b以旋轉方式支撐軸件36b及44b，且支撐件96c、96d以旋轉方式支撐軸件46b。支撐件96a、96b、96c及96d 可由任何適合材料(諸如鋁)製成。殼體94a、94b及支撐件96a、96b經繪示為不可相對於饋送部分30及漏斗18移動。
亦參考圖4及圖5A，饋送器總成20包含間隙調整機構98，間隙調整機構98連接至支撐件96c、96d以使支撐件96c、96d移動且將支撐件96c、96d安置於複數個位置(包含間隙48處於其最小值之一第一位置及間隙48處於其最大值之一第二位置)處。間隙調整機構98包括可圍繞一軸線(諸如軸線100a)旋轉之軸件100及安置為縱向延伸之外部齒形件或螺紋100b，如所圖解說明。驅動件28c透過直角驅動件28d耦合至軸件100且可經控制以使軸件100旋轉。間隙調整機構98包括具有圍繞軸線100a安置之內部齒形件或螺紋102a之構件102齒輪，內部齒形件或螺紋102a與外部齒形件或螺紋100b互補地經塑形，從而與外部齒形件或螺紋100b嚙合。軸件100之旋轉引起軸件100與構件102之間的相對縱向運動。
構件102藉由複數個緊固件106固定至板104。板104藉由緊固件108a固定至支撐件96c且藉由緊固件108b固定至支撐件96d。
軸件100包含凸緣110，凸緣110捕獲於支撐件112與保持器114之間從而允許在具有小量軸向運動或不具有軸向運動之情況下圍繞軸線100a之旋轉運動。複數個棒116將支撐件112固定至支撐件96a、96b，其之間不具有任何移動。棒116支撐板104使得板104可沿著棒116軸向移動。板104包含安置於互補地經塑形膛孔118c、118d中之複數個導引件104a。由於板104藉由緊固件108a、108b固定至支撐件96c、96d，因此不存在導引件104a與支撐件96c、96d之間的相對移動。導引件104a經定大小以允許棒116在其中軸向滑動。
支撐件96a、96b分別包含安置於支撐件96c、96d中之互補地經塑形膛孔(未看到)中之導引件120a、120b。此等膛孔經定大小以允許導引件120a、120b在其中軸向滑動。導引件120a、120b支撐支撐件96c、96d且在其行進之第一位置及第二位置處及該第一位置與該第二位置之間導引支撐件96c、96d。棒116延伸穿過導引件104a、膛孔118c、118d及導引件120a、120b，扣接至支撐件96a、96b使得支撐件112經支撐且不相對於支撐件96a、96b移動。
軸件100之旋轉使板104沿著軸線100a移動且伴隨地使支撐件96c、96d及滾子46相對於支撐件96a、96b及滾子44移動，藉此使間隙48之寬度變化。
滾子44及46可包括複數個滾子。如圖8中所見，滾子44可包括由軸件44b以非旋轉方式承載之滾子A及B且滾子46可包括由軸件46b以非旋轉方式承載之滾子C及D。每一個別滾子A、B、C、D具有一各別周邊表面A’、B’、C’及D’。
滾子44、46 (不管是由單個滾子還是複數個滾子組成)可包含穿過其之複數個膛孔122。若滾子44、46包括複數個滾子，則每一滾子內之膛孔122可軸向對準。膛孔122減少滾子44、46之總體質量。此經減少質量減少滾子44、46之一溫度改變所需要之時間，諸如減少在操作期間累積於滾子44、46上之任何冰在不操作粒子噴射裝置2之週期期間融化所需要之時間。在另一實施例中，空氣或其他氣體可經引導以流動穿過膛孔122以促成一較快溫度改變。
為了額外清晰，圖9提供饋送器總成20之一剖面透視圖。
參考圖10及圖11，支撐件96c、96d (圖10及圖11中不可見)安置於間隙48處於其最大值之第二位置處。滾子46以一最大距離與滾子44間隔開。不管滾子46之位置及間隙48之伴隨大小如何，滾子44保持在相同位置中。滾子44界定間隙48之第一邊緣48a，第一邊緣48a亦保持在相同位置中而不管滾子46之位置如何。
第一邊緣48a始終安置於在軸線54a與擦拭邊緣56a中間安置之一位置處。擦拭邊緣56a界定擦拭區域56b之一邊界。一般而言，當一個凹區60之前緣安置於擦拭邊緣56a處時擦拭區域56b延伸大約此凹區60之寬度。擦拭區域56b與第一邊緣48a對準。當支撐件96c、96d安置於間隙48之大小處於一最小值之第一位置處時，整個間隙與擦拭區域56b對準，使得經粉碎粒子可掉落或經引導至在擦拭邊緣56a近端之凹區60中。
圖12類似於圖11，其繪示為介於最大間隙與最小間隙之間的一大小之間隙48。饋送器總成20經組態使得間隙調整機構98可在第一位置與第二位置之間的複數個位置處安置支撐件96c、96d，使得間隙48可以最大間隙與最小間隙之間的複數個大小來設定。在所繪示實施例中，間隙調整機構98之組態基本上允許以最大值、最小值及其之間的任何大小來設定大小。
周邊表面44c、46c可係為任何適合組態。在所繪示之實施例中，周邊表面44c、46c具有可係為任何組態之一表面紋理。應注意，為了清晰，已自各圖省略表面紋理(惟圖13及圖14中除外)。圖13及圖14圖解說明具有包括複數個凸起脊狀件124之一表面紋理之滾子44、46。圖13圖解說明由滾子A、B、C及D組成之滾子44、46 (自頂部向會聚區域50中觀看)。每一周邊表面A’、B’、C’、D’包括以相對於任一邊緣之一角度安置之複數個凸起脊狀件124。該角度可係任何適合角度，諸如相對於軸向方向之30 o。在所繪示之實施例中，每一周邊表面A’、B’、C’、D’脊狀件之角度係相同的，儘管可使用任何適合角度組合。
在所繪示實施例中，表面紋理經組態以提供由粉碎機28排放至饋送部分30之經粉碎粒子跨越滾子44、46之軸向寬度之均勻性。在所繪示實施例中，藉由表面紋理經組態以使在會聚區域50處進入粉碎機28之粒子朝向滾子44、46之中軸移動而達成此均勻性。如圖13中所見，滾子44 (滾子A、B)之該複數個脊狀件124及滾子46 (滾子C、D)之該複數個脊狀件124在會聚區域50中形成一菱形圖案。在滾子A及B與滾子C及D之間的介面處，個別凸起脊狀件124可精確地對準或不精確地對準。
當自底部觀看時，滾子44 (滾子A、B)之該複數個脊狀件124及滾子46 (滾子C、D)之該複數個脊狀件124在岔開區域中形成一X圖案。
圖15展示穿過導引件22之計量轉子36之一俯視圖。箭頭126指示計量轉子36之旋轉方向。亦參考圖16、圖17、圖18及圖19，在所繪示實施例中，計量轉子36經組態以提供由計量轉子36在第二區域40處排放至粉碎機28之噴射介質粒子跨越計量轉子36之軸向寬度之均勻性及第二區域40處之排放速率之均勻性。在所繪示實施例中，可藉由凹區42之組態達成此均勻性。計量轉子36可由任何適合材料(諸如UHMW或其他聚合物)製成。
如圖16中所見，計量轉子36包括沿著軸線36a彼此間隔開之第一端36d及第二端36e。凹區42自第一端36d延伸至第二端36e。凹區42在徑向朝向軸線36a觀看時具有一大體V形狀，亦在本文中稱為一人字形形狀，其中頂點42b指向相反旋轉方向。凹區42在軸向觀看時具有一大體U形狀。可使用任何適合軸向形狀。可使用任何適合徑向形狀，包含自第一端36d筆直延伸至第二端36e之凹區。
在所繪示實施例中，凹區42經組態以促進粒子朝向凹區42之軸向中心之移動。當計量轉子36在箭頭126之方向上旋轉時，人字形形狀之軸向傾斜可致使粒子朝向軸向中心移動，從而跨越計量轉子36之軸向寬度產生更均勻分佈。
圖17、圖18及圖19圖解說明凹區42在圖16中所指示之對應位置處之軸向輪廓。圖18圖解說明凹區42在頂點42b (中點)處之輪廓。在頂點42b處，凹區42之角度過渡至相反鏡像角度，而不具有一尖銳交叉點。可在此交叉點處形成一半徑以形成一非尖銳過渡區42c。
圖20係穿過第二區域40自底部向上游看去之計量轉子36之一視圖。排放邊緣22b圖解說明為相對於軸線36a大體軸向延伸。如可見，凹區42之V或人字形形狀致使凹區42之最外部分42d在頂點42b之前首先經過排放邊緣22b。在此組態之情況下，周邊表面36c之檯面中之一者之僅一小區段到達排放邊緣22b，從而提供比形成周邊表面36c之每一檯面軸向筆直之情況少之脈動。
如上文所提及，計量元件36經組態以控制用於粒子噴射裝置2之噴射介質之流率。藉由將流率控制與饋送轉子、遞送速度分開，可避免在較低流率下之脈動。當饋送轉子亦控制粒子流率時，為遞送較低流率，必須降低饋送轉子之旋轉速度。在較低速度下，由於饋送轉子之凹區之相對對準，因此發生脈動。甚至在饋送轉子之凹區係滿的之情況下，在饋送轉子之較低旋轉速度下，用於排放之每一開口之呈現之間的時間增加，從而引起脈衝。
在其中存在計量元件36之實施例中，可使饋送轉子54獨立於饋送速率而以一恆定(通常高)速度旋轉。在一恆定高速度下，用於排放之每一開口之呈現之間的時間對於所有饋送速率係恆定的。在其中饋送轉子54以一恆定高速度旋轉之低饋送速率下，每一凹區之百分比填充將比在高饋送速率下小，但脈動將減少。
藉由將流率控件與饋送轉子分開，饋送轉子可更靠近於其最佳速度而經操作(舉例而言，基於組件設計及特性，諸如馬達輪廓、磨耗率等)。
在所繪示之實施例中，饋送轉子54可針對所有饋送速率以一恆定旋轉速度來操作，諸如75 RPM至80 RPM。在所繪示之實施例中，粉碎機28可針對所有速率以一恆定旋轉速度來操作，諸如針對每一滾子44、46之1500 RPM。在所繪示之實施例中，計量轉子36可以變化之一旋轉速度來操作以便控制粒子流率。
對於最佳操作，輸送氣體流需要係充足的且一致的，從而提供所要可控制流量及壓力。儘管一外部氣體(諸如空氣)源可能夠以一可控制方式提供所要流量及壓力，但外部源在此方面一般係不可靠的。因此，為達成此一致性及控制，已關於板壓力調節而包含連接至一外部氣體(諸如空氣)源之先前技術粒子噴射系統。先前技術粒子噴射系統已使用一閥(諸如一球閥)作為傳入氣體之一開關控件且調節其下游之壓力。先前技術壓力調節已藉由使用安置於流線路中之一線路內壓力調節器來完成，其中所要壓力受一流體控制信號(諸如來自一導頻控制壓力調節器之一空氣壓力信號)控制。在較高輸送氣體流率下，線路內壓力調節器產生高壓力損失。在先前技術中，為彌補在較高流量下之此壓力損失，可利用過大線路內壓力調節器或替代未調節輸送氣體流路徑，因而增加成本、複雜度且不合意地增加設計之總體重量及大小。
參考圖21，展示所繪示實施例之壓力調節器總成32。壓力調節器32包含一般以202指示之流量控制閥。流量控制閥202包括致動器204及球閥206。球閥206包含連接至一輸送氣體源之入孔208及透過適當配件90連接至入孔86且其本身可被視為一輸送氣體源之出孔210。在所繪示之實施例中，T配件212連接至入孔208。T配件212包含連接至一輸送氣體源(未展示) (在所繪示之實施例中，其未經壓力調節)之入孔212a。T配件包含連接至另一T配件214之出孔212b，壓力感測器216連接至另一T配件214且感測T配件214內之壓力。出孔214a經組態以將壓力及流量提供至粒子噴射系統2之其他組件。
參考圖22，圖解說明致動器204之一剖面俯視圖，其中以圖解方式圖解說明球閥206。致動器204經組態以與一受控構件(在所繪示之實施例中，球218 (參見圖25))耦合以使該受控構件在一第一受控位置與一第二受控位置之間且包含在該第一受控位置及該第二受控位置處移動。在所繪示之實施例中，當球218處於第二受控位置時，關閉球閥206。致動器204包括界定第一內部腔室222之主體220，第一內部腔室222係大體圓柱形，但可係任何適合形狀。在一個端處，端帽224連接至主體220，從而密封第一內部腔室222。在另一端處，主體226連接至主體220，從而密封內部腔室222。主體220可係為整體構造或經組裝件。主體220及主體226可係為整體構造。主體226界定第二內部腔室228。
活塞230安置於第一內部腔室222中，從而密封地嚙合側壁222a。在第一內部腔室222內，活塞230形成在第一側230a上之腔室232及在第二側230b上之腔室234。活塞236安置於第一內部腔室222中，從而密封地嚙合側壁222a。在第一內部腔室222內，活塞236形成在第一側236a上之腔室238，其中第二腔室234安置於第二側236b上。
活塞230與側壁222a互補地經塑形且包含具有齒形件230d之延伸部230c。活塞236與側壁222a互補地經塑形且包含具有齒形件236d之延伸部236c。齒形件230d及齒形件236d嚙合可圍繞軸線240a旋轉之小齒輪240，在所繪示之實施例中，軸線240a與桿218a之軸線218b對準。小齒輪240直接或間接耦合至桿218a，桿218a又連接至球218。小齒輪240之旋轉引起桿281a及球218之伴隨旋轉。可使小齒輪240在一第一位置與一第二位置(其對應於球218之第一位置及第二位置)之間且包含在該第一位置及該第二位置處旋轉–當小齒輪240處於其第一位置時，球218處於其第一位置；當小齒輪240處於其第二位置時，球218處於其第二位置。
活塞230及236亦由於其與小齒輪240嚙合而伴隨地在第一位置與第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動。當活塞230及236移動時，其致使小齒輪240對應地旋轉。在其各別第二位置處，活塞230及236相對於彼此間隔開最小距離，從而致使小齒輪240及球218處於其各別第二位置，從而使球閥206關閉。在其各別第一位置處，活塞230及236相對於彼此間隔開最大距離，從而致使小齒輪240及球218處於其各別第一位置。在所繪示之實施例中，球閥206係一四分之一轉閥且當球218處於其第一位置時，球閥206完全打開。儘管圖解說明兩個活塞230、236，但可在活塞230適當地經定大小之情況下省略活塞236。
球閥206調節進入入孔90之輸送氣體流之壓力。參考圖23之氣動電路示意圖，腔室232及238與球218下游之流通路流體連通，使得腔室232及238內之壓力與下游通路242中之實際靜態壓力相同。在圖22中，此係由線路244、旁通閥246及線路248以圖解方式來圖解說明。旁通閥246之啟動允許使用者將球閥206設定為完全打開，從而繞過/停用球閥206之調節功能。線路244、248可係為任何適合組態。
腔室234放置為與一壓力控制信號流體連通，該壓力控制信號係所要下游壓力或與所要下游壓力成比例。如圖22中以圖解方式所展示，致動器204包含埠250，埠250與經組態以藉由線路252連接至一壓力控制信號之腔室234流體連通。如所圖解說明，快排閥254可插置在埠250與線路252之間，此可在期望時(諸如在球閥206係關閉的時)允許腔室234內之壓力之快排。壓力控制信號之壓力可由操作者設定。如圖23中所見，當控制閥258處於適當位置中時，壓力調節器256控制遞送至線路252之壓力。控制閥258之位置受噴射閥260控制，噴射閥260可安置於手控件8中。噴射閥260之致動將經調節壓力流自調節器262遞送至控制閥258，從而致使經調節壓力流移動至適當位置以使來自壓力調節器256之受控壓力流流動至線路252。至壓力調節器256之輸入之壓力可係未調節的，如圖23中所指示，應注意，彼輸入由調節器264在其上游經調節。
在操作期間，受透過線路252遞送之壓力控制信號控制的腔室234內之壓力將使活塞230及236向外移動，從而致使球閥206打開，從而增加下游流通路242中之壓力。當此壓力增加時，腔室232及238內之壓力將增加且對抗腔室234中之壓力而作用於活塞230及236，從而使活塞230及236向內移動因而致使球閥206關閉，因而減少下游流通路242中之流量及壓力，下游流通路242係球218下游之流通路之部分，包含在球閥206內之其部分。球閥206將移動至一平衡位置，在該平衡位置處，來自腔室232及238之對活塞230及236之力等於來自腔室234之對活塞230及236之力。腔室232及238中之壓力改變(諸如由於上游源壓力之改變)或腔室234中之壓力改變(諸如由於操作者做出之一改變)將致使球閥206移動至一新平衡位置。
如圖22中所見，活塞266安置於第二內部腔室228中，從而密封地嚙合側壁228a。在第二內部腔室228內，活塞266形成在第一側266a上之腔室268及在第二側266b上之腔室290 (參見圖24)。活塞266與側壁228a互補地經塑形且包含延伸穿過端壁226b之膛孔226a至腔室232中之延伸部266c。安置於膛孔226a中之環狀凹槽中之一對間隔開之密封件270抵靠延伸部266c密封在腔室232與228之間。通氣孔272使密封件270之間的區通氣，使得跨越該等密封件將存在一壓力差以使所有密封件有效地壓縮裝載於密封件凹槽中且阻止洩漏。
端帽274連接至主體226，且包含環狀凹槽276，環狀凹槽276與環狀凹槽278互補地經塑形且與環狀凹槽278對準。活塞266可在腔室228之內部體積處於其最大值之一第一位置與腔室228之內部體積處於最小值之一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，此時延伸部266c以其最大距離延伸至腔室232中。
彈簧280及282之端安置於環狀凹槽276及278中且經組態以將活塞266朝向第二位置彈性地加偏壓。在圖22中，在活塞266處於其第一位置中之情況下，彈簧280及282在其最壓縮狀態中，從而向右推動活塞以移動至其第二位置。儘管展示兩個彈簧，但僅需要至少一個彈性構件來彈性地推動活塞266朝向其第二位置。
為將活塞266固持於其第一位置中，可以充分壓力對腔室268選擇性地加壓以克服由彈簧280及282施加之力。主體226包含與腔室268流體連通之埠284。配件286經圖解說明為安置於埠284中，其中線路288透過配件286與腔室228流體連通。線路288連接至一經加壓流體(諸如空氣)源，使得可對腔室268加壓。如圖23中所見，線路288中之壓力受噴射閥260控制。噴射閥260之致動將壓力遞送至線路288且最終遞送至腔室268，使得活塞266固持於其第一位置中，從而克服由彈簧280及282施加之力。在此位置處，活塞230具有自其第一位置至其第二位置之其全範圍之運動。
參考圖22、圖23及圖24，當釋放噴射閥260時，經由線路288透過噴射閥260排出腔室268內之壓力，從而允許彈簧280及282立即使活塞266自其第一位置(圖22)移動至其第二位置(圖24)。在活塞266自其第一位置移動至其第二位置時，活塞266之一部分(延伸部266c)嚙合活塞230且使活塞230移動至其第二位置，在該第二位置處，球閥206係關閉的。伴隨著噴射閥260之釋放，中斷至線路252之壓力從而致使控制閥258中斷腔室234之加壓。在腔室234之壓力下降之情況下，快排閥254在藉由延伸部266c使活塞230移動時允許腔室234之通氣。
圖25圖解說明用於闡釋球閥206之一構造之一例示性球閥，因此圖25對應地經如此編號。球閥206包括球218，球218具有可圍繞軸線218b旋轉之桿218a。輸送氣體在由箭頭294指示之方向上流動穿過球閥206。流通路296包括位於球218上游之上游流通路298及位於球218下游之下游流通路242。球218經控制以在一第一位置(在該第一位置處，球閥206係完全打開的，其中球通路218c與流通路296對準)與一第二位置(在該第二位置處，球閥206係關閉的，其中球218完全阻擋流通路296)之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，如圖25中所圖解說明。
實例1
一種饋送器總成，其經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，該噴射介質包括複數個粒子，該饋送器總成包括：一計量元件，其經組態以自一第一區域接納來自該噴射介質源之該噴射介質且將該噴射介質排放至一第二區域；及一饋送轉子，其經組態以在一第三區域處接納由該計量轉子排放之噴射介質且將該噴射介質排放至該輸送氣體流中。
實例2
如實例1之饋送器總成，其包括安置於該計量元件與該饋送轉子之間的一粉碎機，該粉碎機經組態以自該計量元件接納噴射介質且將該複數個粒子中的複數個粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小。
實例3
如實例1之饋送器總成，其中該計量元件包括可圍繞一軸線旋轉之一轉子，該轉子包括徑向向外敞開之複數個凹區。
實例4
如實例3之饋送器總成，其中該複數個凹區在該軸線之方向上縱向延伸。
實例5
如實例3之饋送器總成，其中該轉子包括沿著該軸線彼此間隔開之一第一端及一第二端，且其中該複數個凹區中的複數個凹區自該第一端延伸至該第二端。
實例6
如實例3之饋送器總成，其中該轉子可圍繞該軸線在一旋轉方向上旋轉，其中該複數個凹區中的複數個凹區具有一人字形形狀。
實例7
如實例6之饋送器總成，其中該人字形形狀指向與該旋轉方向相反。
實例8
一種經組態以將低溫粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小之粉碎機，該粉碎機經調適以安置於一饋送器總成之一計量部分與一饋送部分之間，該饋送器總成經組態以將該等低溫粒子自一低溫粒子源輸送至一輸送氣體流中，該計量部分經組態以自一低溫粒子源接納低溫粒子且將低溫粒子排放至該粉碎機中，該饋送部分經組態以自該粉碎機接納低溫粒子且將該等低溫粒子排放至該輸送氣體流中。
實例9
如實例8之粉碎機，其包括：一入孔，其經調適以安置為自該計量部分接納低溫粒子；及一出孔，其經調適以安置為將低溫粒子排放至該饋送部分。
實例10
如實例9之粉碎機，其包括安置於該入孔與該出孔之間的一間隙，該間隙可在一最小間隙與一最大間隙之間變化。
實例11
如實例10之粉碎機，其包括：至少一個第一滾子，其可圍繞一第一軸線旋轉； 至少一個第二滾子，其可圍繞一第二軸線旋轉，該間隙由該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定；一支撐件，其承載該至少一個第二滾子，該支撐件經組態以安置於在該間隙係最小間隙之一第一位置與該間隙係最大間隙之一第二位置之間的且包含該第一位置及該第二位置之複數個位置處。
實例12
一種經組態以將低溫粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小之粉碎機，該粉碎機包括：至少一個第一滾子，其可圍繞一第一軸線旋轉，每一該至少一個第一滾子包括一各別第一周邊表面，每一各別第一周邊表面共同包括複數個第一凸起脊狀件；至少一個第二滾子，其可圍繞一第二軸線旋轉，每一該至少一個第二滾子包括一各別第二周邊表面，每一各別第二周邊表面共同包括複數個第二凸起脊狀件；一間隙，其界定於每一各別第一周邊表面與每一各別第二周邊表面之間；及一會聚區域，其在該間隙上游，由該間隙、該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定，其中該複數個第一凸起脊狀件及該複數個第二凸起脊狀件在該會聚區域中形成一菱形圖案。
實例13
如實例12之粉碎機，其中該至少一個第一滾子包括一A滾子及一B滾子，該A滾子包括一A周邊表面，該B滾子包括一B周邊表面，該第一周邊表面包括該A周邊表面及該B周邊表面。
實例14
如實例13之粉碎機，其中該至少一個第二滾子包括一C滾子及一D滾子，該C滾子包括一C周邊表面，該D滾子包括一D周邊表面，該第二周邊表面包括該C周邊表面及該D周邊表面。
實例15
如實例13之粉碎機，其中該A周邊表面係該B周邊表面之一鏡像。
實例16
如實例12之粉碎機，其包括承載該至少一個第二滾子之一支撐件，該支撐件經組態以安置於在該間隙處於其最小值之一第一位置與該間隙處於其最大值之一第二位置之間的且包含該第一位置及該第二位置之複數個位置處。
實例17
如實例12之粉碎機，其中該菱形圖案係一雙重菱形圖案。
實例18
一種粒子噴射系統，其包括：一噴射介質源，該噴射介質包括複數個低溫粒子；一排放噴嘴，其用於將該等低溫粒子自該粒子噴射系統排出；一粒子流路徑，其在該噴射介質源與該排放噴嘴之間延伸，該粒子流路徑包括經組態以將粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小之一粉碎機，該粉碎機包括：至少一個第一滾子，每一該至少一個第一滾子包括一各別第一周邊表面，每一各別第一周邊表面共同包括複數個第一凸起脊狀件；至少一個第二滾子，每一該至少一個第二滾子包括一各別第二周邊表面，每一各別第二周邊表面共同包括複數個第二凸起脊狀件；一間隙，其界定於每一各別第一周邊表面與每一各別第二周邊表面之間；及一會聚區域，其在該間隙上游，由該間隙、該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定，其中該複數個第一凸起脊狀件及該複數個第二凸起脊狀件在該會聚區域中形成一菱形圖案。
實例19
如實例18之粒子噴射系統，其中該粒子流路徑包括一低壓力部分及安置於該低壓力部分下游之一高壓力部分，且該低壓力部分包括該粉碎機。
實例20
如實例18之粒子噴射系統，其中該至少一個第一滾子包括一A滾子及一B滾子，該A滾子包括一A周邊表面，該B滾子包括一B周邊表面，該第一周邊表面包括該A周邊表面及該B周邊表面。
實例21
如實例18之粒子噴射系統，其包括承載該至少一個第二滾子之一支撐件，該支撐件經組態以安置於在該間隙處於其最小值之一第一位置與該間隙處於其最大值之一第二位置之間的且包含該第一位置及該第二位置之複數個位置處。
實例22
如實例18之粒子噴射系統，其中該菱形圖案係一雙重菱形圖案。
實例23
一種饋送器總成，其經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，該噴射介質包括複數個低溫粒子，該饋送器總成包括：粒子流路徑，其包括一低壓力部分及安置於該低壓力部分下游之一高壓力部分；且該低壓力部分包括經組態以將低溫粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小之一粉碎機，該粉碎機包括：至少一個第一滾子，每一該至少一個第一滾子包括一各別第一周邊表面，每一各別第一周邊表面共同包括複數個第一凸起脊狀件；至少一個第二滾子，每一該至少一個第二滾子包括一各別第二周邊表面，每一各別第二周邊表面共同包括複數個第二凸起脊狀件；一間隙，其界定於每一各別第一周邊表面與每一各別第二周邊表面之間；及一會聚區域，其在該間隙上游，由該間隙、該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定，其中該複數個第一凸起脊狀件及該複數個第二凸起脊狀件在該會聚區域中形成一菱形圖案。
實例24
如實例23之饋送器總成，其中該至少一個第一滾子包括一A滾子及一B滾子，該A滾子包括一A周邊表面，該B滾子包括一B周邊表面，該第一周邊表面包括該A周邊表面及該B周邊表面。
實例25
如實例23之饋送器總成，其中該菱形圖案係一雙重菱形圖案。
實例26
一種饋送器總成，其經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，該噴射介質包括複數個粒子，該饋送器總成包括：一粉碎機，其經組態以將低溫粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小，該粉碎機包括：至少一個第一滾子，其可圍繞一第一軸線旋轉，每一該至少一個第一滾子包括一各別第一周邊表面；至少一個第二滾子，其可圍繞一第二軸線旋轉，每一該至少一個第二滾子包括一各別第二周邊表面；及一間隙，其界定於每一各別第一周邊表面與每一各別第二周邊表面之間，該間隙包括沿著且毗鄰於每一各別第一至少一個第一滾子延伸之一第一邊緣；一饋送轉子，其可圍繞一第三軸線旋轉，該饋送轉子包括：一圓周表面；複數個凹區，其安置於該圓周表面中，該複數個凹區中之每一者具有一各別圓周凹區寬度；一導引件，其安置於該間隙與該饋送轉子之間、經組態以自該間隙接納粒子且在該饋送轉子旋轉時將該等粒子導引至該複數個凹區中，該導引件包括：一擦拭邊緣，其毗鄰該圓周表面而安置，該擦拭邊緣大體平行於於該第三軸線而定向；一擦拭區域，其沿圓周延伸遠離該擦拭邊緣，該擦拭區域安置為與該第一邊緣對準。
實例27
如實例26之饋送器總成，其中該擦拭區域沿圓周延伸遠離該等擦拭邊緣大致等於該等各別圓周凹區寬度中之一者之一距離。
實例28
一種饋送器總成，其經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，該噴射介質包括複數個粒子，該饋送器總成包括：一計量元件，其包括：一第一表面；及至少一個空腔，其包括在該第一表面中之一各別開口，該計量元件經組態以將該至少一個空腔中之每一者循環地安置於用以將粒子接納至該至少一個空腔中之一第一位置處及用以排放該等粒子之一第二位置處，當在該第一位置與該第二位置之間移動時該各別開口在一行進方向上移動；及一導引件，其毗鄰該計量元件而安置，該導引件經組態以在該第一位置處將該等粒子導引至每一各別開口中，該導引件包括：一擦拭邊緣，其毗鄰該第一表面而安置，該擦拭邊緣經組態以在該至少一個空腔中之每一者自該第一位置移動至該第二位置時擦拭跨越每一各別開口，該擦拭邊緣以經組態以不產生該擦拭邊緣與該計量元件之間的一夾捏線路之一擦拭角度來安置。
實例29
如實例28之饋送器總成，其中該擦拭角度係至少大約90 o。
實例30
一種經調適以供與一饋送器總成一起使用之計量轉子，該饋送器總成經組態以將噴射介質自一噴射介質源輸送至一輸送氣體流中，該計量轉子包括：一第一端；一第二端，其沿著一軸線與該第一端間隔開；複數個凹區，其自該第一端延伸至該第二端且徑向向外敞開。
實例31
如實例30之計量轉子，其中該複數個凹區中的複數個凹區具有一人字形形狀。
實例32
一種經調適以用作一粉碎機之至少一個第一滾子中之一者之滾子，該粉碎機經組態以將低溫粒子之大小自每一粒子之各別初始大小選擇性地減小至比一預定大小小之一第二大小，該粉碎機包括：該至少一個第一滾子；至少一個第二滾子，每一該至少一個第二滾子包括一各別第二周邊表面，每一各別第二周邊表面共同包括複數個第二凸起脊狀件；一間隙，其界定於該至少一個第一滾子與該至少一個第二滾子之間；一會聚區域，其在該間隙上游，由該間隙、該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定；及一出孔側，其在該間隙下游，由該間隙、該至少一個第一滾子及該至少一個第二滾子界定，該滾子包括一周邊表面，該周邊表面包括在該滾子用作該至少一個第一滾子中之至少一者時在該會聚區域中與該複數個第二凸起脊狀件協作而形成一菱形圖案之一部分之複數個第一凸起脊狀件，該菱形圖案自該間隙延伸。
實例33
一種致動器，其經組態以與一受控構件耦合以使該受控構件在一第一受控位置與一第二受控位置之間且包含在該第一受控位置及該第二受控位置處移動，該致動器包括：一主體，其界定一第一內部腔室，該第一內部腔室包括一第一側壁；一第一活塞，其包括一第一側及一第二側，該第一活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該第一活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第一活塞之該第一側上之一第一腔室及在該第一活塞之該第二側上之一第二腔室；一第二內部腔室，該第二內部腔室包括一第二側壁；一第二活塞，其包括一第一側及一第二側，該第二活塞安置於該第二內部腔室中且可在一第三位置與一第四位置之間且包含在該第三位置及該第四位置處移動，該第二活塞密封地嚙合該第二側壁藉此形成在該第二活塞之該第一側上之一第三腔室及在該第二活塞之該第二側上之一第四腔室，該第二活塞經組態以在該第二活塞安置於該第三位置處時不嚙合該第一活塞，該第二活塞經組態以：使該第一活塞與該第二活塞之一部分嚙合；且在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時使該第一活塞移動至該第二位置；及至少一個彈性構件，其安置於該第四腔室中且彈性地推動該第二活塞朝向該第四位置。
實例34
如實例33之致動器，其包括一閥，該閥包括該受控構件，其中該第一活塞連接至該閥。
實例35
如實例34之致動器，其中該閥包括一旋轉構件及連接至該旋轉構件之一桿，其中該第一活塞連接至該桿。
實例36
如實例34之致動器，其包括一第三活塞，該第三活塞包括一第一側及一第二側，該第三活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第五位置與一第六位置之間且包含在該第五位置及該第六位置處移動，該第三活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第三活塞之該第一側上之一第五腔室，該第二腔室安置於該第三活塞之該第二側上，其中該第三活塞連接至該閥。
實例37
如實例33之致動器，其包括一第三活塞，該第三活塞包括一第一側及一第二側，該第三活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第五位置與一第六位置之間且包含在該第五位置及該第六位置處移動，該第三活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第三活塞之該第一側上之一第五腔室，該第二腔室安置於該第三活塞之該第二側上。
實例38
如實例33之致動器，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠，該第一埠經組態以連接至一流體控制信號。
實例39
如實例33之致動器，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠及與該第一埠流體連通之一快排閥，該快排閥經組態以連接至一流體控制信號。
實例40
一種流體控制閥，其包括：一流通路；一旋轉構件，其安置於該流通路中從而將該流通路劃分成一上游流通路及一下游流通路，該旋轉構件可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該流通路在該旋轉構件安置於該第一位置處時係關閉的；一桿，其連接至該旋轉構件；一致動器，其包括：一主體，其界定一第一內部腔室，該第一內部腔室包括一第一側壁；一第一活塞，其包括一第一側及一第二側，該第一活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該第一活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第一活塞之該第一側上之一第一腔室及在該第一活塞之該第二側上之一第二腔室，該第一活塞可操作地連接至該桿且經組態以使該桿旋轉使得當該第一活塞安置於其第一位置處時該旋轉構件安置於其第一位置處且當該第一活塞安置於其第二位置處時該旋轉構件安置於其第二位置處；一第二內部腔室，該第二內部腔室包括一第二側壁；一第二活塞，其包括一第一側及一第二側，該第二活塞安置於該第二內部腔室中且可在一第三位置與一第四位置之間且包含在該第三位置及該第四位置處移動，該第二活塞密封地嚙合該第二側壁藉此形成在該第二活塞之該第一側上之一第三腔室及在該第二活塞之該第二側上之一第四腔室，該第二活塞經組態以在該第二活塞安置於該第三位置處時不嚙合該第一活塞，該第二活塞經組態以使該第一活塞與該第二活塞之一部分嚙合；且在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時使該第一活塞移動至該第二位置；及一個彈性構件，其安置於該第四腔室中且彈性地推動該第二活塞朝向該第四位置。
實例41
如實例40之流體控制閥，其中該第一腔室與該下游流通路流體連通。
實例42
一種將噴射介質之複數個粒子挾帶於一輸送氣體流中之方法，其包括如下步驟：視情況使用一計量元件在一第一位置處控制來自一粒子源之該等粒子之流率；及使用一饋送轉子在一第二位置處將該等粒子挾帶至該輸送氣體流中。
實例43
一種將噴射介質之複數個粒子挾帶於一輸送氣體流中之方法，其包括如下步驟：視情況使用一計量元件在一第一位置處控制來自一粒子源之該等粒子之流率；在該第一位置下游之一第二位置處將該複數個粒子中的複數個粒子自每一粒子之各別初始大小粉碎至比一預定大小小之一第二大小；及使用一饋送轉子在一第三位置處在該第二位置下游之一第三位置處將該等粒子挾帶至該輸送氣體流中。
已出於圖解說明及說明之目的呈現了本創新之一或多項實施例之前述說明。其並非意欲係詳盡性的或將本發明限於所揭示之精確形式。可依據以上教示做出明顯修改或變化。選擇並闡述實施例以便最佳地圖解說明本創新之原理及其實際應用，以藉此使得熟習此項技術者能夠在各種實施例中且以適合於所預計之特定用途之各種修改來最佳地利用本創新。雖然僅詳細地闡釋本創新之有限數目個實施例，但應理解，本創新之範疇並不限於在前述說明中所陳述或在圖式中所圖解說明之組件構造及配置之細節。本創新能夠具有其他實施例且能夠以各種方式來實踐或實施。為清楚起見，亦使用特定術語。應理解，每一特定術語包含以一類似方式操作以完成一類似目的之所有技術等效內容。本發明之範疇意欲由隨本文提交之申請專利範圍來界定。
2:粒子噴射裝置 4:手推車 6:遞送軟管 8:手控件/控件 10:排放噴嘴 10b:出口 12:軟管 14:噴射介質 16:頂部 18:漏斗 18a:漏斗出口 20:饋送器總成 22:導引件/進口 22a:擦拭邊緣 22b:排放邊緣 22c:表面 22d:表面 24:漏斗密封件 26:計量部分/計量元件/轉子 26a:驅動件 28:粉碎機 28a:驅動件 28b:驅動件 28c:驅動件 28d:直角驅動件 30:饋送部分 30a:驅動件 30b:直角驅動件 32:壓力調節器總成/壓力調節器 34:致動器 36:計量元件/轉子/計量轉子/劑量器 36a:軸線 36b:軸件 36c:外周邊表面/周邊表面 36d:第一端/端 36e:第二端/端 36f:軸承 38:第一區域 40:第二區域 42:空腔/凹區 42b:頂點 42c:非尖銳過渡區 42d:最外部分 44:滾子 44a:軸線 44b:軸件 44c:周邊表面 46:滾子 46a:軸線 46b:軸件 46c:周邊表面 48:間隙 48a:第一邊緣 50:會聚區域 52:岔開區域 54:饋送轉子 54a:軸線 54b:軸件 56:導引件 56a:擦拭邊緣 56b:擦拭區域 58:下部密封件 60:凹區 62a:流線路 62b:流線路 64:活塞 66:殼體 66a:膛孔 66b:膛孔 68:基底 70:居中安置之凸起部分/凸起部分 72:彈簧 74:導銷 76:緊固件 78a:軸承 78b:軸承 80:保持器 82:保持器/支撐件 84:緊固件 86:入孔 88:出孔 90:配件 90a:保持器 92:配件 92a:保持器 94:殼體 94a:殼體 94a’:表面 94b:殼體 94b’:表面 94c:殼體 94d:殼體 94e:殼體 94f:殼體 96a:支撐件 96b:支撐件 96c:支撐件 96d:支撐件 98:間隙調整機構 100:軸件 100a:軸線 100b:外部齒形件/螺紋 102:構件 102a:內部齒形件/螺紋 104:板 104a:導引件 106:緊固件 108a:緊固件 108b:緊固件 110:凸緣 112:支撐件 114:保持器 116:棒 118c:膛孔 118d:膛孔 120b:導引件 122:膛孔 124:凸起脊狀件/脊狀件 126:箭頭 202:流量控制閥 204:致動器 206:球閥 208:入孔 210:出孔 212:T配件 212a:入孔 212b:出孔 214:T配件 214a:出孔 216:壓力感測器 218:球 218a:桿 218b:軸線 218c:球通路 220:主體 222:第一內部腔室/內部腔室 222a:側壁 224:端帽 226:主體 226a:膛孔 228:第二內部腔室/腔室 228a:側壁 230:活塞 230a:第一側 230b:第二側 230c:延伸部 230d:齒形件 232:腔室 234:腔室/第二腔室 236:活塞 236a:第一側 236b:第二側 236c:延伸部 236d:齒形件 238:腔室 240:小齒輪 240a:軸線 242:下游通路/下游流通路 244:線路 246:旁通閥 248:線路 250:埠 252:線路 254:快排閥 256:壓力調節器 258:控制閥 260:噴射閥 262:調節器 264:調節器 266:活塞 266b:第二側 266c:延伸部 68:腔室 270:密封件 272:通氣孔 274:端帽 276:環狀凹槽 278:環狀凹槽 280:彈簧 282:彈簧 284:埠 286:配件 288:線路 290:腔室 294:箭頭 296:流通路 298:上游流通路 5C-5C:線 17-17:線 18-18:線 19-19:線 α:擦拭角度 A:滾子 A’:周邊表面 B:滾子 B’:周邊表面 C:滾子 C’:周邊表面 D:滾子 D’:周邊表面
附圖圖解說明用於闡釋本創新之原理之實施例。
圖1以圖解方式圖解說明一粒子噴射裝置。
圖2係圖1之粒子噴射裝置可帶有之一漏斗、饋送器總成及壓力調節器之一透視圖。
圖3係圖2之漏斗及饋送器總成之透視圖，其中為了清晰而省略驅動件及壓力調節器。
圖4係穿過一垂直平面(其穿過饋送器總成之中線)所截取之圖3之饋送器總成之一剖面透視圖。
圖5A係在與圖4中相同之垂直平面處所截取之圖4之饋送器總成之一剖面側視圖。
圖5B係計量元件及導引件之一經放大碎片剖面側視圖。
圖5C係沿著圖5A之線5C-5C所截取之一剖面視圖。
圖6係饋送器總成之饋送部分之一分解透視圖。
圖7係饋送器總成之計量部分及粉碎機之一分解透視圖。
圖8係計量部分及粉碎機之一分解透視圖。
圖9係在一不同角度處且穿過一不同垂直平面(其不穿過饋送器總成之中線)所截取之類似於圖4之饋送器總成之一剖面透視圖。
圖10係穿過一垂直平面(其穿過饋送器總成之中線)所截取之類似於圖9之饋送器總成之一剖面透視圖，其圖解說明粉碎機之滾子之間的一較大間隙。
圖11係在與圖10中相同之垂直平面處所截取之饋送器總成之一剖面側視圖，其圖解說明粉碎機之滾子之間的相同大小間隙。
圖12係類似於圖11之饋送器總成之一剖面側視圖，其圖解說明比最大間隙大小小且比最小間隙大小大之一間隙大小。
圖13係粉碎機之滾子之一俯視圖，其圖解說明由會聚區域中之凸起脊狀件形成之菱形圖案。
圖14係粉碎機之滾子之一仰視圖，其圖解說明由岔開區域中之凸起脊狀件形成之X圖案。
圖15係穿過導引件之計量元件之一俯視圖。
圖16係計量元件之一透視圖。
圖17係在圖16之線17-17處所截取之圖16之計量元件之端輪廓之一平面圖。
圖18係在圖16之線18-18處所截取之圖16之計量元件之一輪廓之一平面圖。
圖19係在圖16之線19-19處所截取之圖16之計量元件之一輪廓之一平面圖。
圖20係穿過導引件之計量元件之一仰視圖。
圖21係一壓力調節器總成之一透視圖。
圖22係圖21之壓力調節器總成之致動器之一剖面俯視圖。
圖23係一氣動電路之一示意圖。
圖24係類似於圖21之致動器之一剖面俯視圖。
圖25係一球閥之一剖面側視圖。
2:粒子噴射裝置
4:手推車
6:遞送軟管
8:手控件/控件
10:排放噴嘴
10b:出口
12:軟管
14:噴射介質
16:頂部

Claims (14)

  1. 一種致動器，其經組態以與一受控構件耦合以使該受控構件在一第一受控位置與一第二受控位置之間且包含在該第一受控位置及該第二受控位置處移動，該致動器包括： a.   一主體，其界定一第一內部腔室，該第一內部腔室包括一第一側壁； b.  一第一活塞，其包括一第一側及一第二側，該第一活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該第一活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第一活塞之該第一側上之一第一腔室及在該第一活塞之該第二側上之一第二腔室； c.   一第二內部腔室，該第二內部腔室包括一第二側壁； d.  一第二活塞，其包括一第一側及一第二側，該第二活塞安置於該第二內部腔室中且可在一第三位置與一第四位置之間且包含在該第三位置及該第四位置處移動，該第二活塞密封地嚙合該第二側壁藉此形成在該第二活塞之該第一側上之一第三腔室及在該第二活塞之該第二側上之一第四腔室，該第二活塞經組態以在該第二活塞安置於該第三位置處時不嚙合該第一活塞，該第二活塞經組態以使在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時將該第一活塞移動至該第二位置；及 e.   至少一個彈性構件，其安置於該第四腔室中且彈性地推動該第二活塞朝向該第四位置。
  2. 如請求項1之致動器，其包括該第二活塞其係經組態以在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時嚙合於該第一活塞。
  3. 如請求項1之致動器，其包括一閥，該閥包括該受控構件，其中該第一活塞連接至該閥。
  4. 如請求項3之致動器，其中該閥包括一旋轉構件及連接至該旋轉構件之一桿，其中該第一活塞連接至該桿。
  5. 如請求項3之致動器，其包括一第三活塞，該第三活塞包括一第一側及一第二側，該第三活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第五位置與一第六位置之間且包含在該第五位置及該第六位置處移動，該第三活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第三活塞之該第一側上之一第五腔室，該第二腔室安置於該第三活塞之該第二側上，其中該第三活塞連接至該閥。
  6. 如請求項1之致動器，其包括一第三活塞，該第三活塞包括一第一側及一第二側，該第三活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第五位置與一第六位置之間且包含在該第五位置及該第六位置處移動，該第三活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第三活塞之該第一側上之一第五腔室，該第二腔室安置於該第三活塞之該第二側上。
  7. 如請求項1之致動器，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠，該第一埠經組態以連接至一流體控制信號。
  8. 如請求項1之致動器，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠及與該第一埠流體連通之一快排閥，該快排閥經組態以連接至一流體控制信號。
  9. 一種流體控制閥，其包括： a.  一流通路； b.  一旋轉構件，其安置於該流通路中從而將該流通路劃分成一上游流通路及一下游流通路，該旋轉構件可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該流通路在該旋轉構件安置於該第一位置處時係關閉的； c.  一桿，其連接至該旋轉構件； d.  一致動器，其包括： i.         一主體，其界定一第一內部腔室，該第一內部腔室包括一第一側壁； ii.        一第一活塞，其包括一第一側及一第二側，該第一活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第一位置與一第二位置之間且包含在該第一位置及該第二位置處移動，該第一活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第一活塞之該第一側上之一第一腔室及在該第一活塞之該第二側上之一第二腔室，該第一活塞可操作地連接至該桿且經組態以使該桿旋轉使得當該第一活塞安置於其第一位置處時該旋轉構件安置於其第一位置處且當該第一活塞安置於其第二位置處時該旋轉構件安置於其第二位置處； iii.      一第二內部腔室，該第二內部腔室包括一第二側壁； iv.       一第二活塞，其包括一第一側及一第二側，該第二活塞安置於該第二內部腔室中且可在一第三位置與一第四位置之間且包含在該第三位置及該第四位置處移動，該第二活塞密封地嚙合該第二側壁藉此形成在該第二活塞之該第一側上之一第三腔室及在該第二活塞之該第二側上之一第四腔室，該第二活塞經組態以使在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時將該第一活塞移動至該第二位置；及 v.        至少一個彈性構件，其安置於該第四腔室中且彈性地推動該第二活塞朝向該第四位置。
  10. 如請求項9之流體控制閥，其包括該第二活塞其係經組態以在該第二活塞自該第三位置移動至該第四位置時嚙合於該第一活塞。
  11. 如請求項9之流體控制閥，其包括一第三活塞，該第三活塞包括一第一側及一第二側，該第三活塞安置於該第一內部腔室中且可在一第五位置與一第六位置之間且包含在該第五位置及該第六位置處移動，該第三活塞密封地嚙合該第一側壁藉此形成在該第三活塞之該第一側上之一第五腔室，該第二腔室安置於該第三活塞之該第二側上，其中該第三活塞係可操作地連接至該桿。
  12. 如請求項9之流體控制閥，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠，該第一埠經組態以連接至一流體控制信號。
  13. 如請求項9之流體控制閥，其包括與該第二腔室流體連通之一第一埠及與該第一埠流體連通之一快排閥，該快排閥經組態以連接至一流體控制信號。
  14. 如請求項9之流體控制閥，其中該第一腔室係與該下游流通路流體連通。
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