TW202249039A - 晶片電阻器及晶片電阻器之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種製造步驟單純且適合小型化之晶片電阻器。 本發明之晶片電阻器之製造方法中，係由在大尺寸基板10A上所設定之二次分割預想線L2所包夾且與一次分割預想線L1正交方向延伸之區域內帶狀地形成電阻體2，並於該電阻體2上保持既定間隔以跨過一次分割預想線L1之方式形成對向之複數個表電極3後，形成覆蓋各電阻體2並與二次分割預想線L2交叉之方向延伸之玻璃塗層7，且形成從玻璃塗層7之上覆蓋大尺寸基板10A之表面全體之樹脂塗層8，之後，將大尺寸基板10A沿著一次分割預想線L1及二次分割預想線L2切割而得到各個晶片坯體10B。

Description

晶片電阻器及晶片電阻器之製造方法

本發明係關於在電路基板上藉由焊接而表面黏著之晶片電阻器、及此種晶片電阻器之製造方法。

此種晶片電阻器，係具備長方體形狀的絕緣基板、於絕緣基板之表面保持既定間隔而對向配置之一對的表電極、將成對表電極彼此橋接之電阻體、覆蓋電阻體之絕緣性的保護膜、於絕緣基板之背面保持既定間隔而對向配置之一對的背電極、及將表電極與背電極橋接而於絕緣基板之兩端部所形成之一對的端面電極而構成，端面電極之外表面係覆蓋藉由鍍覆處理所形成之外部電極。

一般，製造此種晶片電阻器之情形，對大尺寸基板一併形成多數個電極、電阻、保護層等後，將該大尺寸基板分割成格子狀而得到各個晶片坯體。作為該分割方法，廣泛習知的方法係事先於大尺寸基板上將斷面V字狀的分割槽設置成格子狀並沿著此等分割槽分斷大尺寸基板，但伴隨近年之晶片電阻器之小型化，取代設置分割槽而採用藉由切割來切斷大尺寸基板之方法（例如，參照專利文獻1）。

上述專利文獻1所揭示之晶片電阻器之製造方法中，首先，於設定有格子狀延伸之一次分割預想線及二次分割預想線之大尺寸基板之表面，跨過二次分割預想線並與一次分割預想線重疊而形成帶狀延伸之複數個表電極後，使此等表電極間橋接而在由二次分割預想線所包夾之區域內形成複數個電阻體。接著，藉由沿著二次分割預想線對大尺寸基板之表面雷射劃線而形成寬廣的劃線痕，從而在二次分割預想線上分斷帶狀延伸之表電極。接著，形成覆蓋電阻體之玻璃塗層（底塗層）後，藉由使探針接觸連接於電阻體之兩端部之一對的表電極來測量電阻體之電阻值的同時，從玻璃塗層之上照射雷射光並於電阻體形成修整槽，從而調整電阻體之電阻值至目標電阻值範圍。接著，在由一次分割預想線所包夾之區域內形成帶狀的樹脂塗層（外塗層），以覆蓋玻璃塗層及電阻體，之後藉由將大尺寸基板沿著一次分割預想線及二次分割預想線以切割刀片切斷，從而形成與晶片電阻器外形相同之各個晶片坯體。

具備如此步驟之晶片電阻器之製造方法中，於調整電阻體之電阻值之前，在與一次分割預想線重疊之位置上帶狀形成之表電極會在二次分割預想線上分斷，因此可藉由使探針接觸連接於電阻體之兩端部之一對的表電極來測量電阻體之電阻值的同時，於電阻體形成修整槽。 ［先前技術文獻］ ［專利文獻］

［專利文獻1］日本特開2017-76722號公報

［發明所欲解決之技術問題］

專利文獻1所記載之晶片電阻器之製造方法中，係沿著一次分割預想線上使設定於大尺寸基板之二次分割預想線縱向切斷而形成複數個表電極後，使此等表電極間橋接而在由二次分割預想線所包夾之區域內形成複數個電阻體，因此於調整電阻體之電阻值之步驟之前，需要藉由雷射劃線沿著二次分割預想線分斷連接於電阻體之兩端部之表電極。然而，該雷射劃線，係朝向大尺寸基板之表面沿著二次分割預想線掃描所照射之雷射光並形成V字狀槽，將此往與二次分割預想線正交之方向挪動並重複複數次，因此導致包含雷射劃線之電阻體之修整（trimming）步驟變得煩雜，並且要促進晶片電阻器之小型化之情形時，正確地對二次分割預想線之位置進行雷射劃線變得困難。

本發明係有鑑於此種先前技術之實際情形所成之發明，其目的在於提供一種製造步驟單純且適合小型化之晶片電阻器。 ［技術手段］

為了達成上述目的，本發明之晶片電阻器之製造方法，其特徵係包含：電阻體形成步驟，係於由設定有格子狀延伸之一次分割預想線及二次分割預想線之大尺寸基板之主面的前述二次分割預想線所包夾之區域內，跨過前述一次分割預想線形成帶狀延伸之複數個電阻體；電極形成步驟，係在前述電阻體上保持既定間隔以跨過前述一次分割預想線之方式形成對向之複數個電極；玻璃塗層形成步驟，係與從前述電極露出之前述電阻體交叉而跨過前述二次分割預想線形成帶狀延伸之玻璃塗層；電阻值調整步驟，係從前述玻璃塗層之上照射雷射光並調整前述電阻體之電阻值；樹脂塗層形成步驟，係於前述電阻值調整步驟後，從前述玻璃塗層之上形成樹脂塗層，以覆蓋大尺寸基板之主面全體；切割步驟，係於前述樹脂塗層形成步驟後，沿著前述一次分割預想線及前述二次分割預想線以切割刀片切斷前述大尺寸基板而形成各個晶片坯體；及端面電極形成步驟，係從沿著前述晶片坯體之前述一次分割預想線之切斷面至沿著前述二次分割預想線之切斷面之一部分塗佈導電膏而形成帽狀的端面電極。

包含如此步驟之晶片電阻器之製造方法中，係在由大尺寸基板上之二次分割預想線所包夾且與一次分割預想線正交方向延伸之區域內帶狀地形成電阻體，並於該電阻體上保持既定間隔以跨過一次分割預想線之方式形成對向之複數個電極後，形成覆蓋各電阻體並與二次分割預想線交叉之方向延伸之玻璃塗層，因此於修整電阻體之電阻值之電阻值調整步驟中，即使不刻意進行用以分斷電極之煩雜的雷射劃線，只要使探針接觸從玻璃塗層露出之一對的電極，仍可一邊測量電阻體之電阻值一邊形成修整槽。此外，藉由在與大尺寸基板上之一次分割預想線正交方向延伸之區域內帶狀地形成電阻體，所擷取多數個各晶片電阻器之電阻體難以發生膜厚之不均，因此可形成略均一之膜厚之電阻體。

上述之製造方法中，電極，係形成為以沿著晶片坯體之一次分割預想線之切斷面作為最大的膜厚，並隨著從該切斷面往內側遠離而膜厚逐漸變薄；即使晶片電阻器之外形尺寸為小型化之情形，亦可將帽狀的端面電極確實地連接於電阻體及電極之端面。

此外，上述之製造方法中，若樹脂塗層係由透明或半透明的樹脂材料所構成，則於切割大尺寸基板形成各個晶片坯體時，可透過樹脂塗層確認電極與電阻體之位置，因此可防止失誤而切斷電阻體之切割不良。

此外，為了達成上述目的，本發明之晶片電阻器，其特徵係具備：長方體形狀的絕緣基板、於前述絕緣基板之主面上沿著長邊方向所形成之帶狀的電阻體、於前述電阻體之表面之長邊方向兩端部所形成之一對的電極、覆蓋包含前述電阻體及前述兩電極之前述絕緣基板之主面全體之絕緣性的保護層、及設置於前述絕緣基板之長邊方向兩端部並連接於前述電阻體及前述電極以及前述保護層之各端面之一對的帽狀的端面電極；前述保護層，係由覆蓋前述電阻體之玻璃塗層、及覆蓋前述玻璃塗層之樹脂塗層所構成；前述玻璃塗層係從前述絕緣基板之短邊方向兩端面露出至外部。 ［發明之效果］

根據本發明，可提供一種製造步驟單純且適合小型化之晶片電阻器。

以下，對於本發明之實施型態，參照圖式進行說明。

圖1係實施型態之晶片電阻器之斜視圖，圖2係從上方觀察圖1之晶片電阻器之平面圖，圖3係沿著圖2之III-III線之斷面圖，圖4係圖3之A部詳細圖，圖5係沿著圖2之V-V線之斷面圖。

如圖1～圖5所示，本實施型態之晶片電阻器，主要係由以下所構成：長方體形狀的絕緣基板1、於絕緣基板1之表面上沿著長邊方向形成為帶狀的電阻體2、於電阻體2之表面之長邊方向兩端部所形成之一對的表電極3、覆蓋包含電阻體2及表電極3之絕緣基板1之表面全體之絕緣性的保護層4、以連接於電阻體2及表電極3以及保護層4之各端面之方式而於絕緣基板1之長邊方向兩端部所形成之一對的端面電極5、及附著於此等端面電極5之表面之一對的外部電極6。又，以下之說明中，絕緣基板1之長邊方向為X方向，與該X方向正交之絕緣基板1之短邊方向為Y方向。

絕緣基板1係以氧化鋁為主成分之陶瓷基板，該絕緣基板1係將後述之大尺寸基板沿著格子狀延伸之一次分割預想線及二次分割預想線切割而擷取多數個。

電阻體2，係於絕緣基板1之表面網版印刷氧化釕等之電阻膏並乾燥、燒成，該電阻體2之長邊方向之兩端部係從絕緣基板1之X方向兩端面露出。又，雖然圖式省略，但於電阻體2形成有用於調整電阻值之修整槽。

一對的表電極3，係從電阻體2之上網版印刷Ag系膏並乾燥、燒成，此等表電極3係形成於與電阻體2之長邊方向兩端部重疊之位置。從圖3及圖4明顯可見，表電極3之斷面形狀係呈以絕緣基板1之X方向之端面側作為最大高度之略三角形。又，表電極3，不僅係從絕緣基板1之X方向之端面露出，亦從絕緣基板1之Y方向之兩端面露出。

保護層4，係由覆蓋電阻體2之玻璃塗層7、及覆蓋玻璃塗層7之樹脂塗層8之兩層構造所構成。玻璃塗層7，係從電阻體2之上網版印刷玻璃膏並乾燥、燒成，該玻璃塗層7係覆蓋電阻體2並從絕緣基板1之Y方向之兩端面露出。又，玻璃塗層7之膜厚係設定為較表電極3之最大高度尺寸薄，且玻璃塗層7不從絕緣基板1之X方向兩端部露出，而是表電極3之傾斜面從該玻璃塗層7之X方向兩端部露出。

樹脂塗層8，係從玻璃塗層7之上網版印刷環氧系樹脂膏並加熱硬化，該樹脂塗層8係藉由透明或半透明的樹脂材料等所形成。樹脂塗層8，係形成為覆蓋包含表電極3及玻璃塗層7之絕緣基板1之表面全體，因此如圖1所示，樹脂塗層8之Y方向兩端部，係與玻璃塗層7一同從絕緣基板1之兩側面露出。

一對的端面電極5，係浸漬塗佈Ag膏或Cu膏並加熱硬化。此等端面電極5，係從絕緣基板1之X方向兩端面覆蓋樹脂塗層8之上面及絕緣基板1之下面以及兩側面而形成為帽狀。藉此，端面電極5，係與電阻體2之X方向之端面連接的同時，與從絕緣基板1之三端面露出之表電極3連接。又，形成端面電極5前之晶片坯體之外觀形狀係呈略正四角柱狀，且於如此形狀的晶片坯體之長邊方向兩端部形成有帽狀的端面電極5。亦即，絕緣基板1係厚度尺寸（圖1之高度方向之長度）比寬度尺寸（Y方向之長度）更短的長方體形狀，為了覆蓋該絕緣基板1之表面全體而積層既定厚度之保護層4（玻璃塗層7及樹脂塗層8），藉此構成寬度尺寸與厚度尺寸相等之正四角柱狀的晶片坯體。

雖然圖式省略，但一對的端面電極5係由外部電極覆蓋，此等外部電極係於端面電極5之表面電鍍Ni、Sn等而形成。

接著，關於如上述所構成之晶片電阻器之製造方法，參照圖6及圖7進行說明。又，圖6係表示該晶片電阻器之製造步驟之平面圖，圖7係表示該晶片電阻器之製造步驟之斷面圖。

首先，製備由可擷取多數個絕緣基板1之陶瓷所構成之大尺寸基板10A。該大尺寸基板10A上雖未形成一次分割槽及二次分割槽，但將大尺寸基板10A作為在後續步驟中單片化成多數個晶片坯體時之切割位置，而於大尺寸基板10A設定一次分割預想線L1及二次分割預想線L2。亦即，圖6中，若將大尺寸基板10A之左右方向作為X方向、上下方向作為Y方向，則大尺寸基板10A於Y方向延伸之一次分割預想線L1及於X方向延伸之二次分割預想線L2被設定成格子狀，藉由此等兩分割預想線L1、L2所區隔之每個方格成為一個晶片形成區域。

接著，藉由於此種大尺寸基板10A之表面網版印刷氧化釕等之電阻體膏並乾燥、燒成，如圖6(a)及圖7(a)所示，可在由二次分割預想線L2所包夾之區域內形成跨過一次分割預想線L1並往X方向帶狀延伸之複數條電阻體2（電阻體形成步驟）。又，圖6係表示平面地觀察大尺寸基板10A之狀態，圖7係表示圖6中沿著電阻體2之長邊方向將一個晶片形成區域斷面之狀態。

接著，藉由於大尺寸基板10A之表面印刷Ag系膏並乾燥、燒成，如圖6(b)及圖7(b)所示，於與各電阻體2上之一次分割預想線L1重疊之位置，於X方向上保持既定間隔而形成對向之複數個表電極3（表電極形成步驟）。此等表電極3，係印刷成相對厚膜（4μm以上）之矩形狀，並藉由膏之黏性形成從中央部朝向X方向之兩端部膜厚逐漸變薄之形狀。

接著，藉由網版印刷玻璃膏並乾燥、燒成，如圖6(c)及圖7(c)所示，形成覆蓋於一對的表電極3間露出之電阻體2之透明的玻璃塗層7（玻璃塗層形成步驟）。該玻璃塗層7，係形成為跨過二次分割預想線L2，朝向與電阻體2之長邊方向交叉之Y方向帶狀延伸。

接著，藉由使測量用之探針（未圖示）接觸從玻璃塗層7之兩端部露出之一對的表電極3，在此狀態下測量兩表電極3間之電阻體2之電阻值的同時，從玻璃塗層7之上照射雷射光，從而於電阻體2形成未圖示之修整槽並調整電阻值（電阻值調整步驟）。

接著，藉由從表電極3及玻璃塗層7之上網版印刷添加白色顏料之環氧系樹脂膏並加熱硬化，如圖6(d)及圖7(d)所示，形成覆蓋包含表電極3及玻璃塗層7之大尺寸基板10A之晶片形成區域全體之半透明的樹脂塗層8（樹脂塗層形成步驟）。藉由此等玻璃塗層7及樹脂塗層8而形成兩層構造之保護層4，且該保護層4係透明的玻璃塗層7及半透明的樹脂塗層8之積層體，因此可透過保護層4肉眼觀察內部之表電極3及電阻體2之位置。

接著，將大尺寸基板10A透過接著劑12固定於由陶瓷等之硬質材料所構成之固定基材11後，藉由將大尺寸基板10A沿著一次分割預想線L1及二次分割預想線L2以切割刀片13切斷，如圖6(e)及圖7(e)所示，形成貫通大尺寸基板10A抵達至固定基材11之途中之平面視格子狀的貫通狹縫14（切割步驟）。此時，形成為跨過一次分割預想線L1之表電極3，係藉由沿著一次分割預想線L1之切割而被分斷，因此以短尺寸印刷形成之表電極3之斷面形狀，係呈以沿著一次分割預想線L1之切斷面作為最大高度之略三角形。此外，從電阻體2於Y方向延伸出去之表電極3之兩端部，係藉由沿著二次分割預想線L2之切割而被切斷，因此表電極3之切斷面會從貫通狹縫14之三面露出。

接著，該切割步驟中，可透過覆蓋大尺寸基板10A之表面全體之保護層4肉眼觀察內部之表電極3及電阻體2之位置，因此可正確地決定切割之位置（一次分割預想線L1及二次分割預想線L2）。又，一次分割預想線L1及二次分割預想線L2係對大尺寸基板10A設定之假想線，如前所述並未於大尺寸基板10A形成對應於分割預想線之一次分割槽及二次分割槽。

接著，藉由洗淨接著劑12並將固定基材11從大尺寸基板10A剝離，如圖6(f)及圖7(f)所示，得到與晶片電阻器外形幾乎相同的多數個晶片坯體10B。

後續的步驟雖圖式省略，但接著，藉由於晶片坯體10B之端面浸漬塗佈Ag膏或Cu膏等之導電膏並加熱硬化，從而形成從晶片坯體10B之長邊方向兩端面環繞至短邊方向兩端面之既定位置之帽狀的端面電極（端面電極形成步驟）。此時，晶片坯體10B之外觀形狀係呈略正四角柱狀，因此環繞於晶片坯體10B之四面之端面電極，係在保護層4之表面及其餘三個陶瓷面全部形成為相同大小的矩形狀。

最後，藉由對各個晶片坯體10B施予Ni、Sn等之電鍍，從而形成覆蓋端面電極之外部電極（外部電極形成步驟），完成如圖1～圖5所示之晶片電阻器。

如以上所說明，本實施型態之晶片電阻器之製造方法中，由於在由大尺寸基板10A上所設定之二次分割預想線L2所包夾且與一次分割預想線L1正交方向延伸之區域內帶狀地形成電阻體2，並於該電阻體2上保持既定間隔以跨過一次分割預想線L1之方式形成對向之複數個表電極3後，形成覆蓋各電阻體2並與二次分割預想線L2交叉之方向延伸之玻璃塗層7，因此於修整電阻體2之電阻值之電阻值調整步驟中，即使不刻意進行用以分斷表電極3之煩雜的雷射劃線，仍可使探針接觸從玻璃塗層7露出之一對的表電極3來測量電阻體2之電阻值的同時形成修整槽，可防止製造步驟之煩雜化。此外，藉由在與大尺寸基板10A上之一次分割預想線L1正交方向延伸之區域內帶狀地形成電阻體2，從而所擷取多數個各晶片電阻器之電阻體2難以發生膜厚之不均，因此可形成略均一之膜厚之電阻體2。

此外，本實施型態之晶片電阻器之製造方法中，形成為跨過大尺寸基板10A之一次分割預想線L1之表電極3，係藉由沿著一次分割預想線L1之切割而被分斷，從而呈現以切斷面作為最大高度之略三角形之斷面形狀，因此即使在晶片電阻器之外形尺寸為小型化之情形下，亦可將帽狀的端面電極5確實地連接於電阻體2及表電極3之端面。

此外，本實施型態之晶片電阻器之製造方法中，保護層4係由透明的玻璃塗層7及半透明的樹脂塗層8之兩層構造所構成，且於切割大尺寸基板10A形成各個晶片坯體10B時，可透過保護層4確認內部之表電極3與電阻體2之位置，因此可防止失誤而切斷電阻體2之切割不良。

1:絕緣基板 2:電阻體 3:表電極 4:保護層 5:端面電極 6:外部電極 7:玻璃塗層 8:樹脂塗層 10A:大尺寸基板 10B:晶片坯體 11:固定基材 12:接著劑 13:切割刀片 14:貫通狹縫 L1:一次分割預想線 L2:二次分割預想線

〔圖1〕本發明之實施型態之晶片電阻器之斜視圖。 〔圖2〕從上方觀察圖1之晶片電阻器之平面圖。 〔圖3〕沿著圖2之III-III線之斷面圖。 〔圖4〕圖3之A部詳細圖。 〔圖5〕沿著圖2之V-V線之斷面圖。 〔圖6〕表示該晶片電阻器之製造步驟之平面圖。 〔圖7〕表示該晶片電阻器之製造步驟之斷面圖。

2:電阻體

3:表電極

4:保護層

7:玻璃塗層

8:樹脂塗層

10A:大尺寸基板

10B:晶片坯體

14:貫通狹縫

L1:一次分割預想線

L2:二次分割預想線

Claims (4)

1. 一種晶片電阻器之製造方法，其特徵係包含： 電阻體形成步驟，係於由設定有格子狀延伸之一次分割預想線及二次分割預想線之大尺寸基板之主面的該二次分割預想線所包夾之區域內，跨過該一次分割預想線形成帶狀延伸之複數個電阻體； 電極形成步驟，係在該電阻體上保持既定間隔以跨過該一次分割預想線之方式形成對向之複數個電極； 玻璃塗層形成步驟，係與從該電極露出之該電阻體交叉而跨過該二次分割預想線形成帶狀延伸之玻璃塗層； 電阻值調整步驟，係從該玻璃塗層之上照射雷射光並調整該電阻體之電阻值； 樹脂塗層形成步驟，係於該電阻值調整步驟後，從該玻璃塗層之上形成樹脂塗層，以覆蓋該大尺寸基板之主面全體； 切割步驟，係於該樹脂塗層形成步驟後，沿著該一次分割預想線及該二次分割預想線以切割刀片切斷該大尺寸基板而形成各個晶片坯體；及 端面電極形成步驟，係從沿著該晶片坯體之該一次分割預想線之切斷面至沿著該二次分割預想線之切斷面之一部分塗佈導電膏而形成帽狀的端面電極。
2. 如請求項1所述之晶片電阻器之製造方法，其中，該電極，係形成為以沿著該晶片坯體之該一次分割預想線之切斷面作為最大的膜厚，並隨著從該切斷面往內側遠離而膜厚逐漸變薄。
3. 如請求項1或2所述之晶片電阻器之製造方法，其中，該樹脂塗層係由透明或半透明的樹脂材料所構成。
4. 一種晶片電阻器，其特徵係具備： 長方體形狀的絕緣基板、 於該絕緣基板之主面上沿著長邊方向所形成之帶狀的電阻體、 於該電阻體之表面之長邊方向兩端部所形成之一對的電極、 覆蓋包含該電阻體及該兩電極之該絕緣基板之主面全體之絕緣性的保護層、及 設置於該絕緣基板之長邊方向兩端部並連接於該電阻體及該電極以及該保護層之各端面之一對的帽狀的端面電極； 該保護層，係由覆蓋該電阻體之玻璃塗層、及覆蓋該玻璃塗層之樹脂塗層所構成； 該玻璃塗層係從該絕緣基板之短邊方向兩端面露出至外部。

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