TW202116567A - 附易接著層之相位差薄膜、附相位差層之偏光板、及附易接著層之相位差薄膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供製造時之斷裂經抑制且相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜。本發明附易接著層之相位差薄膜包含具有面內相位差之基材薄膜與設於基材薄膜之至少一面的易接著層。易接著層的平均厚度T1 與基材薄膜之平均厚度T2 的比T1 /T2 為0.11以下；且相對於易接著層之平均厚度T1 ，易接著層之最大厚度為1.20以下，最小厚度為0.80以上。

Description

附易接著層之相位差薄膜、附相位差層之偏光板、及附易接著層之相位差薄膜之製造方法
本發明涉及附易接著層之相位差薄膜、附相位差層之偏光板、及附易接著層之相位差薄膜之製造方法。
近年，隨著薄型顯示器的普及，提出了搭載有機EL面板之影像顯示裝置(有機EL顯示裝置)。有機EL面板具有反射性高的金屬層，故而容易產生外光反射或倒映出背景等問題。而已知藉由將附相位差層之偏光板(圓偏光板)設於視辨側，可防止該等問題。且，已知藉由於液晶顯示面板之視辨側設置附相位差層之偏光板會改善視角。作為一般的附相位差層之偏光板已知有一種將相位差薄膜與偏光件(實質上為偏光板)以使其慢軸與吸收軸形成成因應用途之預定角度(例如45°)之方式積層而成者。又，作為代表性之相位差薄膜已知有一種藉由將樹脂薄膜延伸而於延伸方向上展現慢軸者(專利文獻1)。在製作附相位差層之偏光板時，為了確保偏光板與相位差薄膜充分的接著性，有時使用於相位差薄膜上設有易接著層的附易接著層之相位差薄膜。但，附易接著層之相位差薄膜大多會發生相位差不均。並且，製造附易接著層之相位差薄膜時，延伸時之斷裂會造成問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第3325560號公報
發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述以往之課題而成者，其目的在於提供製造時之斷裂經抑制且相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜、具備所述附易接著層之相位差薄膜的附相位差層之偏光板、及所述附易接著層之相位差薄膜之製造方法。
用以解決課題之手段 本發明實施形態之附易接著層之相位差薄膜膜包含具有面內相位差之基材薄膜與設於該基材薄膜之至少一面的易接著層。該易接著層的平均厚度T1 與該基材薄膜之平均厚度T2 的比T1 /T2 為0.11以下；且相對於該易接著層之平均厚度T1 ，該易接著層之最大厚度為1.20以下，最小厚度為0.80以上。 在一實施形態中，上述基材薄膜為經延伸處理之聚碳酸酯系樹脂薄膜。 在一實施形態中，上述附易接著層之相位差薄膜係長條狀，且上述基材薄膜係經斜向延伸處理之聚碳酸酯系樹脂薄膜。在一實施形態中，上述基材薄膜於相對於長條方向為30°~60°之方向上具有慢軸。 在一實施形態中，上述基材薄膜之面內相位差Re(550)為100nm~190nm。 在一實施形態中，上述易接著層為水系樹脂之塗佈膜的固化層。在一實施形態中，上述水系樹脂為胺甲酸酯系樹脂。 根據本發明之另一面向提供一種附相位差層之偏光板。該附相位差層之偏光板具有偏光板與上述附易接著層之相位差薄膜，該附易接著層之相位差薄膜係透過接著劑層及上述易接著層貼合於該偏光板上。上述基材薄膜係作為相位差層發揮功能。 在一實施形態中，上述接著劑層係以活性能量線硬化型接著劑構成。 根據本發明之又另一面向提供一種上述附易接著層之相位差薄膜之製造方法。該製造方法包含：於樹脂薄膜塗佈易接著層形成用塗佈液來形成塗佈膜；使該塗佈膜乾燥；及，將樹脂薄膜與乾燥塗佈膜之積層體延伸；且該易接著層形成用塗佈液之固體成分濃度為0.5重量%~3.0重量%。
發明效果 根據本發明實施形態，針對附易接著層之相位差薄膜，將易接著層之平均厚度相對於基材薄膜之平均厚度的比設為預定值以下，且將易接著層之厚度的參差設定在預定範圍內，藉此可實現製造時之斷裂經抑制、且相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態限定。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率，而「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求得。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向的相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩者。因此，例如「45°」係指±45°。
A.附易接著層之相位差薄膜 A-1.附易接著層之相位差薄膜的整體構成 圖1係用以說明本發明一實施形態之附易接著層之相位差薄膜的概略截面圖。圖式例之附易接著層之相位差薄膜10包含基材薄膜11與設置在基材薄膜11之一面的易接著層12。易接著層亦可因應目的設於基材薄膜之兩面。基材薄膜11具有面內相位差。
本發明實施形態中，易接著層之平均厚度T1 與該基材薄膜之平均厚度T2 之比T1 /T2 為0.11以下，宜為0.09以下，較宜為0.08以下，更宜為0.06以下。比T1 /T2 之下限例如可為0.03。比T1 /T2 只要在所述範圍內，便可抑制製造附易接著層之相位差薄膜時之斷裂。
又，本發明實施形態中，相對於易接著層之平均厚度T1 ，易接著層之最大厚度為1.20以下，宜為1.15以下，較宜為1.10以下，更宜為1.05以下。易接著層的最小厚度為0.80以上，宜為0.85以上，較宜為0.90以上，更宜為0.95以上。只要相對於易接著層之平均厚度的最大厚度及最小厚度的比率(即易接著層之厚度參差)在所述範圍內，便可實現相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜。此外，本說明書中，「平均厚度」意指分別沿著1m×1m尺寸之薄膜或膜之相對向之一對邊方向及與該方向正交之方向以50mm間隔測得之值的平均。
A-2.基材薄膜 基材薄膜如上述具有面內相位差。即，基材薄膜為相位差薄膜。在一實施形態中，基材薄膜(相位差薄膜)可作為λ/4板發揮功能。此時，基材薄膜(相位差薄膜)之面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，較宜為110nm~180nm，更宜為130nm~160nm。
基材薄膜代表上具有nx＞ny≧nz之折射率特性。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下有成為ny＜nz之情形。基材薄膜之Nz係數宜為0.9~3.0，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。只要基材薄膜之Nz係數在所述範圍內，在將附易接著層之相位差薄膜(實質上為包含該附易接著層之相位差薄膜的附相位差層之偏光板)用於影像顯示裝置時，便可達成非常優異之反射色相。
基材薄膜可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆分散波長特性，可展現相位差值隨測定光之波長變小的正常波長分散特性，亦可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長分散特性。在一實施形態中，基材薄膜展現逆分散波長特性。此時，基材薄膜之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，較宜為0.8以上且0.95以下。只要為所述構成，在將附易接著層之相位差薄膜(實質上為包含該附易接著層之相位差薄膜的附相位差層之偏光板)用於影像顯示裝置時，便可實現非常優異的抗反射特性。
基材薄膜的厚度(平均厚度)可因應用途及目的適當設定。平均厚度宜為15µm~60µm，較宜為25µm~45µm。只要基材薄膜的平均厚度在所述範圍內，便可將基材薄膜及易接著層之平均厚度設定在實用上可容許之範圍，同時可輕易地使上述比T1 /T2 在所期望之範圍內。又，根據本發明實施形態，例如於大型畫面用途上可以較一般更小之厚度構成λ/4板。根據本發明實施形態，於這種薄型相位差薄膜中效果很顯著。
基材薄膜代表上係由經延伸處理之樹脂薄膜構成。在一實施形態中，延伸處理為單軸延伸。此時，基材薄膜於延伸方向上具有慢軸，且基材薄膜(以結果而言為附易接著層之相位差薄膜)可為薄片狀亦可為長條狀。在另一實施形態中，延伸處理為斜向延伸。此時，基材薄膜於相對於長條方向為斜向上具有慢軸。斜向宜為相對於基材薄膜之長條方向為30°~60°、較宜為40°~50°、更宜為42°~48°、尤宜為約45°之方向。此時，基材薄膜(以結果而言為附易接著層之相位差薄膜)代表上為長條狀。偏光件一般係於長條方向上具有吸收軸，因此只要為所述構成，便可藉由捲對捲來製作附相位差層之偏光板，從而可特別提升附相位差層之偏光板的製造效率。
構成基材薄膜之樹脂只要所得基材薄膜滿足上述特性，便可使用任意適當之樹脂，可舉例如聚碳酸酯樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯碳酸酯樹脂。該等中，又適合使用聚碳酸酯樹脂及聚酯碳酸酯樹脂。根據本發明實施形態，藉由於聚碳酸酯系樹脂薄膜設置易接著層，可顯著提升該薄膜與偏光件或偏光板之密著性。此外，本說明書中，有時將聚碳酸酯樹脂及聚酯碳酸酯樹脂統稱為聚碳酸酯樹脂。
上述聚碳酸酯樹脂只要可獲得本發明之效果，便可使用任意適當之聚碳酸酯樹脂。聚碳酸酯系樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種的二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或是源自二、三或聚乙二醇之結構單元；並且，較宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元與源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂亦可因應需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，聚碳酸酯樹脂的詳細內容例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報中，而本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
在一實施形態中，可使用包含源自下述通式(1)所示二羥基化合物之單元結構的聚碳酸酯系樹脂。 [化學式1]
Figure 02_image001
(上述通式(1)中，R1 ~R4 分別獨立表示氫原子、取代或無取代之碳數1~碳數20烷基、取代或無取代之碳數6~碳數20環烷基、或是取代或無取代之碳數6~碳數20芳基，X表示取代或無取代之碳數2~碳數10伸烷基、取代或無取代之碳數6~碳數20環伸烷基、或是取代或無取代之碳數6~碳數20伸芳基，m及n分別獨立表示0~5之整數)。
通式(1)所示二羥基化合物之具體例可舉9,9-雙(4-羥苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-乙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-正丙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-異丙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-正丁基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-二級丁基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-三級丁基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-環己基苯基)茀、9,9-雙(4-羥-3-苯基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丙基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-三級丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-環己基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3,5-二甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-三級丁基-6-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(3-羥基-2,2-二甲基丙氧基)苯基)茀等。
上述聚碳酸酯系樹脂除了源自上述二羥基化合物之結構單元外，亦可包含有源自異山梨醇、去水甘露糖醇、艾杜糖醇、螺甘油、二㗁烷二醇、二乙二醇(DEG)、三乙二醇(TEG)、聚乙二醇(PEG)、雙酚類等二羥基化合物之結構單元。
源自二羥基化合物之結構單元的聚碳酸酯系樹脂的詳細內容例如記載於日本專利5204200號、日本專利特開2012-67300號公報、日本專利第3325560號、WO2014/061677號等。本說明書中係援用該專利文獻之記載作為參考。
在一實施形態中，可使用包含寡聚物芴結構單元之聚碳酸酯系樹脂。包含寡聚物芴結構單元之聚碳酸酯系樹脂可舉例如包含下述通式(2)所示結構單元及/或下述通式(3)所示結構單元之樹脂。 [化學式2]
Figure 02_image003
(上述通式(2)及上述通式(3)中，R5 及R6 分別獨立為直接鍵結、取代或無取代之碳數1~4伸烷基(較佳為主鏈上之碳數2~3伸烷基)；R7 為直接鍵結、取代或無取代之碳數1~4伸烷基(較佳為主鏈上之碳數1~2伸烷基)；R8 ~R13 分別獨立為氫原子、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4，較宜為1~2)烷基、取代或無取代之碳數4~10(宜為4~8，較宜為4~7)芳基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4，較宜為1~2)醯基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4，較宜為1~2)烷氧基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4，較宜為1~2)芳氧基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4，較宜為1~2)醯氧基、取代或無取代之胺基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4)乙烯基、取代或無取代之碳數1~10(宜為1~4)乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基；R8 ~R13 中鄰接之至少2個基可彼此鍵結形成環)。
在一實施形態中，寡聚物芴結構單元中所含茀環具有R8 ~R13 全部為氫原子的構成，或者具有R8 及/或R13 為鹵素原子、醯基、硝基、氰基及磺酸基所構成群組中之任一者且R9 ~R12 為氫原子之構成。
包含寡聚物芴結構單元之聚碳酸酯系樹脂的詳細內容例如記載於日本專利特開2015-212816號公報中。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
A-3.易接著層 易接著層代表上為水系樹脂之塗佈膜的固化層。水系樹脂之較佳具體例可舉胺甲酸酯系樹脂。因此，易接著層宜可為含胺甲酸酯系樹脂之水系分散體(易接著劑層形成用塗佈液)之塗佈膜的固化層。相較於溶劑系，水系在環境方面上佳，作業性亦佳。
胺甲酸酯系樹脂代表上可使多元醇與聚異氰酸酯反應而得。作為多元醇只要是分子中具有2個以上羥基者即無特別限定，可採用任意適當之多元醇。具體例可舉聚丙烯醯基多元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇。該等可單獨或可組合2種以上來使用。
聚異氰酸酯可舉例如四亞甲基二異氰酸酯、十二亞甲基二異氰酸酯、1,4-丁烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、2-甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、3-甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯；異佛酮二異氰酸酯、加氫伸茬基二異氰酸酯、4,4'-環己基甲烷異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、甲基環伸己基二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷等脂環族二異氰酸酯；二異氰酸甲苯酯、2,2'-二苯甲烷二異氰酸酯、2,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4'-二苯基二甲基甲烷二異氰酸酯、4,4'-二苯甲基二異氰酸酯、1,5-伸萘基二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、1,3-伸苯基二異氰酸酯、1,4-伸苯基二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯；二烷基二苯基甲烷二異氰酸酯、四烷基二苯基甲烷二異氰酸酯、α,α,α-四甲基伸茬基二異氰酸酯等芳香脂肪族二異氰酸酯等。該等可單獨或可組合2種以上來使用。
胺甲酸酯系樹脂宜具有羧基。藉由具有羧基，可獲得與偏光件之密著性(尤其是在高溫及高濕下)優異的附易接著層之相位差薄膜。具羧基之胺甲酸酯系樹脂例如除了上述多元醇與上述聚異氰酸酯外，還可使具有游離羧基之鏈增長劑反應而得。具有游離羧基之鏈增長劑可舉二羥基羧酸、二羥基琥珀酸。二羥基羧酸可舉例如二羥甲基烷酸(例如二羥甲基乙酸、二羥甲基丁酸、二羥甲基丙酸、二羥甲基酪酸、二羥甲基戊酸)等二烷醇基烷酸(dialkylol alkanoic acid)。該等可單獨或可組合2種以上來使用。
胺甲酸酯系樹脂之數量平均分子量宜為5000~600000，較宜為10000~400000。胺甲酸酯系樹脂之酸價宜為10以上，較宜為10~50，尤宜為20~45。只要酸價在所述範圍內，與偏光件之密著性便更佳。
易接著劑層形成用塗佈液宜包含交聯劑。交聯劑可採用任意適當之交聯劑。具體上，當胺甲酸酯系樹脂具有羧基時，交聯劑較佳可舉具有可與羧基反應之基的聚合物。可與羧基反應之基可舉例如有機胺基、㗁唑啉基、環氧基、碳二亞胺基。交聯劑宜具有㗁唑啉基。具㗁唑啉基之交聯劑在與胺甲酸酯系樹脂混合後於室溫下的使用期限長且藉由加熱便能進行交聯反應，故作業性良好。
易接著劑層形成用塗佈液宜不含微粒子。只要為所述構成，便可形成具有上述所期望之厚度參差的易接著層，以結果而言可實現相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜。易接著劑層形成用塗佈液可因應需要包含調平劑。藉由包含調平劑，可更提高塗佈膜之平滑性，以結果而言可形成厚度參差小之(代表上為具有上述所期望之厚度參差的)易接著層。作為調平劑可舉例如異丙醇(IPA)、乙二醇、丙二醇。易接著劑層形成用塗佈液中之調平劑的含量例如可為1.0重量%~3.5重量%。
易接著劑層形成用塗佈液可更包含任意適當之添加劑。添加劑可舉例如抗黏結劑、分散穩定劑、搖變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、滑劑、抗靜電劑。添加劑之種類、數量、組合、摻合量等可按目的適當設定。
關於胺甲酸酯系樹脂及易接著劑層形成用塗佈液的詳細內容記載於例如日本專利特開2010-055062號公報中。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
易接著層之平均厚度可因應基材薄膜之平均厚度設定成可獲得上述所期望之比T1 /T2 。易接著層之平均厚度宜為150nm~600nm，200nm~500nm較佳，250nm~400nm更佳。只要為所述構成，便可抑制製造附易接著層之相位差薄膜時之斷裂。
B.附易接著層之相位差薄膜之製造方法 上述A項中記載之附易接著層之相位差薄膜之製造方法包含：於樹脂薄膜塗佈易接著層形成用塗佈液來形成塗佈膜；使該塗佈膜乾燥；及，將樹脂薄膜與乾燥塗佈膜之積層體延伸。
關於樹脂薄膜之構成材料，如關於基材薄膜在上述A-2項中所說明。延伸前之樹脂薄膜的厚度可因應所得相位差薄膜(基材薄膜)之厚度、面內相位差等適當設定。延伸前之樹脂薄膜的厚度例如可為40µm~150µm。
易接著層形成用塗佈液之塗佈方法可採用任意適當之方法。具體例可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)。
易接著層形成用塗佈液之固體成分濃度代表上為0.5重量%~3.0重量%，宜為0.5重量%~1.5重量%，較宜為0.7重量%~1.2重量%，更宜為0.8重量%~1.1重量%。只要固體成分濃度在所述範圍內，便可形成具有上述所期望之厚度參差的易接著層，以結果而言可實現相位差不均小的附易接著層之相位差薄膜。固體成分濃度若太小，有無法形成易接著層之情形。固體成分濃度若太大，有厚度參差變得太大之情形。
塗佈膜之厚度可調整成使所得易接著層可成為上述所期望之平均厚度(以結果而言為比T1 /T2 )。
接著，將塗佈膜乾燥。乾燥溫度例如可為80℃~95℃。乾燥時間例如可為1分鐘~3分鐘。經由以上程序而於樹脂薄膜上形成乾燥塗佈膜。
然後，將上述所得樹脂薄膜與乾燥塗佈膜的積層體延伸。將塗佈膜乾燥後進行延伸，可獲得易接著層與基材薄膜之密著性優異的附易接著層之相位差薄膜。
在一實施形態中，延伸處理為單軸延伸(例如固定端單軸延伸、自由端單軸延伸)。固定端單軸延伸之具體例可舉使積層體一邊沿長條方向行進，一邊往寬度方向(橫向)延伸之方法。此時，所得基材薄膜之慢軸會在寬度方向上展現。自由端單軸延伸可舉將積層體在周速相異之輥間輸送並往長條方向延伸之方法。此時，所得基材薄膜之慢軸會在長條方向上展現。延伸倍率可因應基材薄膜所期望之面內相位差適當設定。延伸倍率宜為1.1倍~3.5倍。
在另一實施形態中，延伸處理為斜向延伸。具體而言係將長條狀積層體沿相對於長條方向為角度θ之方向連續進行斜向延伸。藉由採用斜向延伸，可獲得具有相對於薄膜之長條方向為角度θ之定向角(於角度θ之方向上具有慢軸)的長條狀基材薄膜，例如在與偏光件積層時，可進行捲料對捲料，從而可簡化製造步驟。斜向延伸所用延伸機可舉拉幅式延伸機，其係例如對橫向及/或縱向附加左右相異之速度的輸送力或是拉伸力或拉抽力者。拉幅式延伸機有橫向單軸延伸機、同步雙軸延伸機等，只要可將長條狀積層體連續進行斜向延伸，便可使用任意適當的延伸機。
延伸溫度代表上為樹脂薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)以上之溫度。延伸溫度宜為(Tg+1)℃~(Tg+10)℃，較宜為(Tg+1)℃~(Tg+5)℃。
依上述方式可製作附易接著層之相位差薄膜。
C.附相位差層之偏光板 上述A項及B項記載之附易接著層之相位差薄膜可應用於附相位差層之偏光板等光學構件。因此，本發明實施形態包含具有上述附易接著層之相位差薄膜的附相位差層之偏光板。本發明實施形態之附相位差層之偏光板具有偏光板與附易接著層之相位差薄膜，該附易接著層之相位差薄膜係透過接著劑層及易接著層貼合於偏光板上。附易接著層之相位差薄膜的基材薄膜係作為相位差層發揮功能。偏光板在代表上具有偏光件與配置於偏光件之至少單側的保護層。偏光件代表上為吸收型偏光件。基材薄膜之慢軸與偏光件之吸收軸形成之角度可因應用途及目的適當設定。該角度宜為30°~60°，較宜為40°~50°，更宜為42°~48°，尤宜為約45°。
接著劑層代表上係以活性能量線硬化型接著劑構成。接著劑層為活性能量線硬化型接著劑時，易接著層之效果顯著。作為活性能量線硬化型接著劑只要是可藉由照射活性能量線而硬化之接著劑，便可使用任意適當之接著劑。活性能量線硬化型接著劑可舉例如紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。活性能量線硬化型接著劑之硬化型的具體例可舉自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型、該等之組合(例如自由基硬化型與陽離子硬化型之混合)。作為活性能量線硬化型接著劑可舉例如含有具有(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯醯胺基等自由基聚合性基之化合物(例如單體及/或寡聚物)作為硬化成分之接著劑。活性能量線硬化型接著劑及其硬化方法之具體例例如記載於日本專利特開2012-144690號公報中。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
偏光件可採用任意適當的偏光件。例如，形成偏光件之樹脂薄膜可為單層樹脂薄膜亦可為二層以上之積層體。
由單層樹脂薄膜構成之偏光件的具體例，可舉利用碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜施予染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。從光學特性佳來看，宜使用以碘將PVA系薄膜染色並進行單軸延伸所得的偏光件。
上述利用碘進行之染色例如可將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可延伸後再染色。可因應需求對PVA系薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，在染色前將PVA系薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系薄膜表面的污垢或抗黏結劑，還可使PVA系薄膜膨潤，從而防止染色不均等。
使用積層體而獲得之偏光件的具體例，可舉出使用樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體、或是使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。所述偏光件之製造方法的詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。本說明書中係援用該等公報整體之記載作為參考。
偏光件之厚度例如為1μm~80μm。在一實施形態中，偏光件之厚度宜為1μm~25μm，3μm~10μm較佳，3μm~8μm尤佳。只要偏光件之厚度在所述範圍內，便可良好地抑制加熱時之捲曲，及可獲得良好的加熱時之外觀耐久性。
保護層係由可作為保護偏光件之薄膜來使用的任意適當之保護薄膜形成。作為該保護薄膜主成分之材料的具體例，可舉三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，還可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂之樹脂組成物，例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
保護層之厚度宜為10µm~100µm。保護層可透過接著層(具體而言為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光件，亦可與偏光件密著(不透過接著層)而積層。可視需求在配置於附相位差層之偏光板的最表面之保護層形成硬塗層、防眩層及抗反射層等表面處理層。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。另，各特性之測定方法及評估方法如以下所述。 (1)平均厚度及厚度參差 使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。平均厚度及厚度參差係如以下方式求得：將實施例、比較例及參考例中所得附易接著層之相位差薄膜裁切成1m×1m尺寸，作為測定試樣。分別沿著該測定試樣相對向之一對方向及與該方向正交之方向以50mm間隔測定厚度，並將該平均作為平均厚度。並求出該測定中最大厚度及最小厚度相對於平均厚度之比，將從最小厚度至最大厚度為止的範圍作為厚度參差。 (2)面內相位差 使用Axometrics公司製「Axoscan」進行測定。測定波長為550nm，測定溫度為23℃。 (3)斷裂 在實施例、比較例及參考例的附易接著層之相位差薄膜的製造中，確認從拉幅延伸機送出薄膜的狀態，並按以下基準進行評估。 ○：薄膜被順利送出，且未於薄膜產生裂痕等 △：薄膜雖被送出，但於薄膜產生裂痕 ×：薄膜斷裂而未被送出 (4)相位差不均 將實施例、比較例及參考例中所得附易接著層之相位差薄膜透過UV硬化型接著劑及易接著層貼合於市售的偏光板上，而製出附相位差層之偏光板。將該附相位差層之偏光板透過黏著劑貼合於反射板，製成試驗試樣。確認視辨試驗試樣時的狀態，並按以下基準進行評估。 ○：均勻而無觀察到濃淡 △：雖可確認有些許濃淡，但為實用上無問題的程度 ×：濃淡很明顯
[實施例1] 1.製作聚碳酸酯系樹脂薄膜 使用具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器之由2台直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷(化合物3)29.60質量份(0.046mol)、ISB 29.21質量份(0.200mol)、SPG 42.28質量份(0.139mol)、DPC 63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒之乙酸鈣1水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，使在達到220℃後起90分鐘成13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含之些許量單體成分返回反應器，並將未凝結之苯酚蒸氣導入45℃的凝結器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點時將氮導入反應器使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。 將所得聚碳酸酯樹脂在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬300mm，設定溫度：250℃)、冷卻滾筒(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度100µm之聚碳酸酯系樹脂薄膜。
2.形成塗佈膜 混合聚酯胺甲酸酯(第一工業製藥製，商品名：SUPERFLEX 210，固體成分：33%)16.8g、交聯劑(含㗁唑啉之聚合物，日本觸媒製，商品名：Epocros WS-700，固體成分：25%)4.2g及1重量%之氨水2.0g，並加入純水及異丙醇(IPA，調平劑)而將固體成分濃度調整成1重量%且將IPA濃度調整成2.5重量%，而調製出易接著層形成用塗佈液。
3.製作附易接著層之相位差薄膜 將上述2.所得易接著層形成用塗佈液以棒塗機(#6)塗佈於上述1.所得聚碳酸酯系樹脂薄膜。之後，在140℃下使其乾燥約5分鐘，而獲得聚碳酸酯系樹脂薄膜與乾燥塗佈膜之積層體。將該積層體利用拉幅延伸機進行固定端單軸延伸，而獲得附易接著層之相位差薄膜。延伸之預熱溫度設為145℃，延伸溫度設為143℃(Tg+3℃)。延伸倍率係設為2.8倍。所得附易接著層之相位差薄膜的基材薄膜之厚度為40µm，基材薄膜之Re(550)為140nm，易接著層之厚度為348nm，比T1 /T2 為0.087，且厚度參差為0.89~1.10。將所得附易接著層之相位差薄膜供於上述(3)及(4)之評估。將結果列於表1。
[實施例2] 除了變更塗佈膜之厚度而形成厚度297nm的易接著層外，以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.074，厚度參差為0.81~1.20。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例3] 除了變更塗佈膜之厚度而形成厚度281nm的易接著層外，以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.070，厚度參差為0.93~1.10。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例4] 除了變更塗佈膜之厚度而形成厚度175nm的易接著層外，以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.044，厚度參差為0.86~1.08。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例5] 變更樹脂薄膜之厚度及延伸倍率而將基材薄膜之厚度設為30µm(面內相位差Re(550)=130nm)、以及變更塗佈膜之厚度而形成厚度306nm之易接著層，除此之外以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.102，厚度參差為0.85~1.14。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例6] 變更樹脂薄膜之厚度及延伸倍率而將基材薄膜之厚度設為25µm(面內相位差Re(550)=120nm)、將延伸溫度設為Tg+1℃、以及變更塗佈膜之厚度而形成厚度251nm之易接著層，除此之外以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.100，厚度參差為0.80~1.03。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例1] 除了變更塗佈膜之厚度而形成厚度608nm的易接著層外，以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.152，厚度參差為0.91~1.10。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例2] 將易接著層形成用塗佈液之固體成分濃度變更成8重量%、及變更塗佈膜之厚度而形成厚度357nm的易接著層，除此之外以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.089，厚度參差為0.80~1.24。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例3] 於實施例1中使用之易接著層形成用塗佈液中加入膠質氧化矽(扶桑化學工業製，Quartron PL-3，固體成分：20重量%)，而調製出二氧化矽粒子濃度0.6重量%之易接著層形成用塗佈液。使用該易接著層形成用塗佈液、及變更塗佈膜之厚度而形成厚度387nm的易接著層，除此之外以與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.097，厚度參差為0.76~1.28。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[參考例1] 使用市售環烯烴系樹脂薄膜取代聚碳酸酯系樹脂薄膜、將易接著層形成用塗佈液之固體成分濃度變更成10重量%、將延伸溫度設為Tg+5℃、及變更塗佈膜之厚度而形成厚度332nm的易接著層，除此之外依與實施例1相同方式製作出附易接著層之相位差薄膜。比T1 /T2 為0.083，厚度參差為0.90~1.43。將所得附易接著層之相位差薄膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image005
由表1明顯可知，本發明實施例之附易接著層之相位差薄膜在製造時之斷裂經抑制，且相位差不均小。
產業上之可利用性 本發明實施形態之附易接著層之相位差薄膜可適宜用於附相位差層之偏光板等光學構件，且所述光學構件適宜用於影像顯示裝置。
10:附易接著層之相位差薄膜 11:基材薄膜 12:易接著層
圖1係用以說明本發明一實施形態之附易接著層之相位差薄膜的概略截面圖。
10:附易接著層之相位差薄膜
11:基材薄膜
12:易接著層

Claims (10)

  1. 一種附易接著層之相位差薄膜，包含具有面內相位差之基材薄膜與設於該基材薄膜之至少一面的易接著層； 該易接著層的平均厚度T1 與該基材薄膜之平均厚度T2 的比T1 /T2 為0.11以下；且 相對於該易接著層之平均厚度T1 ，該易接著層之最大厚度為1.20以下，最小厚度為0.80以上。
  2. 如請求項1之附易接著層之相位差薄膜，其中前述基材薄膜係經延伸處理之聚碳酸酯系樹脂薄膜。
  3. 如請求項2之附易接著層之相位差薄膜，其係長條狀，且前述基材薄膜係經斜向延伸處理之聚碳酸酯系樹脂薄膜。
  4. 如請求項3之附易接著層之相位差薄膜，其中前述基材薄膜於相對於長條方向為30°~60°之方向上具有慢軸。
  5. 如請求項1至4中任一項之附易接著層之相位差薄膜，其中前述基材薄膜之面內相位差Re(550)為100nm~190nm。
  6. 如請求項1至5中任一項之附易接著層之相位差薄膜，其中前述易接著層係水系樹脂之塗佈膜的固化層。
  7. 如請求項6之附易接著層之相位差薄膜，其中前述水系樹脂為胺甲酸酯系樹脂。
  8. 一種附相位差層之偏光板，具有偏光板與如請求項1至7中任一項之附易接著層之相位差薄膜，該附易接著層之相位差薄膜係透過接著層及前述易接著層貼合於該偏光板上，且 前述基材薄膜係作為相位差層發揮功能。
  9. 如請求項8之附相位差層之偏光板，其中前述接著劑層係以活性能量線硬化型接著劑構成。
  10. 一種附易接著層之相位差薄膜之製造方法，係製造如請求項1至7中任一項之附易接著層之相位差薄膜的方法； 該製造方法包含：於樹脂薄膜塗佈易接著層形成用塗佈液來形成塗佈膜；使該塗佈膜乾燥；及，將樹脂薄膜與乾燥塗佈膜之積層體延伸；且 該易接著層形成用塗佈液之固體成分濃度為0.5重量%~3.0重量%。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW424154B (en) 1998-10-30 2001-03-01 Teijin Ltd Phase film and optical device using same
CN101283298A (zh) * 2005-10-12 2008-10-08 柯尼卡美能达精密光学株式会社 相位差膜，偏振片及垂直取向型液晶显示装置
JP2009139744A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Nitto Denko Corp 偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2012073552A (ja) * 2010-09-30 2012-04-12 Nippon Zeon Co Ltd 位相差板および液晶表示装置
JP5771418B2 (ja) * 2010-09-30 2015-08-26 株式会社日本触媒 易接着層を有する位相差フィルムの製造方法
JP5573708B2 (ja) * 2011-01-31 2014-08-20 日本ゼオン株式会社 光学フィルムの製造方法
JP2012203108A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP5707365B2 (ja) * 2012-06-08 2015-04-30 日東電工株式会社 粘着剤層付光学フィルムの製造方法
JP2014174232A (ja) * 2013-03-06 2014-09-22 Nippon Shokubai Co Ltd 位相差フィルム
JP6825819B2 (ja) * 2016-03-30 2021-02-03 株式会社カネカ 偏光子保護フィルム
JP6794181B2 (ja) * 2016-08-30 2020-12-02 日東電工株式会社 偏光板
JP6642553B2 (ja) * 2017-11-10 2020-02-05 東洋紡株式会社 偏光板及びこれを用いた液晶表示装置

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