TW202208493A - 附相位差層及黏著劑層之偏光板、以及使用該附相位差層及黏著劑層之偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種附相位差層及黏著劑層之偏光板，其已抑制在高溫環境下相位差不均，而可實現已抑制在高溫環境下顏色不均及漏光之影像顯示裝置。本發明實施形態之附相位差層及黏著劑層之偏光板具有：包含偏光件之偏光板；相位差層，其透過第1黏著劑層貼合於偏光板；及第2黏著劑層，其設於相位差層之與偏光板相反之側作為最外層。相位差層係以樹脂薄膜之延伸薄膜構成，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係。第1黏著劑層在85℃及500小時之加熱試驗後的膠偏移量為900µm以下，且第2黏著劑層在85℃下之潛變值為40µm以下。

Description

附相位差層及黏著劑層之偏光板、以及使用該附相位差層及黏著劑層之偏光板之影像顯示裝置
本發明涉及附相位差層及黏著劑層之偏光板、以及使用該附相位差層及黏著劑層之偏光板之影像顯示裝置。
近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置代表上係使用偏光板及相位差板。在實際應用上，廣泛使用偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。但，附相位差層之偏光板在高溫環境下會發生相位差不均，結果有影像顯示裝置在高溫環境下發生顏色不均及漏光之情形。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第3325560號
發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種附相位差層及黏著劑層之偏光板，已抑制在高溫環境下相位差不均，而可實現一種影像顯示裝置，已抑制在高溫環境下顏色不均及漏光。
用以解決課題之手段 本發明實施形態之附相位差層及黏著劑層之偏光板具有：包含偏光件之偏光板；相位差層，其透過第1黏著劑層貼合於該偏光板；及第2黏著劑層，其設於該相位差層之與該偏光板相反之側作為最外層。該相位差層係以樹脂薄膜之延伸薄膜構成，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係。該第1黏著劑層在85℃及500小時之加熱試驗後的膠偏移量為900µm以下，且該第2黏著劑層在85℃下之潛變值為40µm以下。在此，Re(450)及Re(550)分別係於23℃下以波長450nm及550nm之光測定之面內相位差。 在一實施形態中，上述相位差層之Re(550)為100nm~200nm，該相位差層的慢軸與上述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°或130°~140°。 在一實施形態中，上述相位差層之厚度為15µm~60µm。 在一實施形態中，上述第1黏著劑層在85℃及500小時之加熱試驗後之膠偏移量為250µm以下。 在一實施形態中，構成上述第2黏著劑層之黏著劑組成物中，相對於基底聚合物100重量份包含1.5重量份以上之交聯劑。 在一實施形態中，構成上述第2黏著劑層之黏著劑組成物中，相對於基底聚合物100重量份包含5重量份以上之交聯劑。 在一實施形態中，上述附相位差層及黏著劑層之偏光板於上述相位差層與上述第2黏著劑層之間更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。 在一實施形態中，上述相位差層含有具有正折射率各向異性之樹脂與丙烯酸系樹脂，該具有正折射率各向異性之樹脂包含：選自於由碳酸酯鍵及酯鍵所構成群組中之至少1個鍵結基；以及選自於由下述通式(1)所示結構單元及下述通式(2)所示結構單元所構成群組中之至少1個結構單元；該丙烯酸系樹脂之含量為0.5質量%~2.0質量%，該丙烯酸系樹脂含有70質量%以上之源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元，且其重量平均分子量Mw為10,000~200,000； [化學式1]
Figure 02_image001
[化學式2]
Figure 02_image003
通式(1)及(2)中，R1 ~R3 分別獨立為直接鍵結、取代或非取代之碳數1~4之伸烷基；R4 ~R9 分別獨立為氫原子、取代或非取代之碳數1~10之烷基、取代或非取代之碳數4~10之芳基、取代或非取代之碳數1~10之醯基、取代或非取代之碳數1~10之烷氧基、取代或非取代之碳數1~10之芳氧基、取代或非取代之胺基、取代或非取代之碳數1~10之乙烯基、取代或非取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基；惟，R4 ~R9 可彼此相同亦可互異，且R4 ~R9 中鄰接之至少2個基可彼此鍵結形成環。 在一實施形態中，上述相位差層在加濕TMA試驗中，慢軸方向之尺寸變化率為0.28%以下，該加濕TMA試驗係使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH者。 在一實施形態中，上述相位差層在貼合有上述另一相位差層之狀態下在加濕TMA試驗中，慢軸方向之尺寸變化率為0.28%以下，該加濕TMA試驗係使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH者。 根據本發明之另一面向提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述附相位差層及黏著劑層之偏光板。
發明效果 根據本發明實施形態，針對附相位差層及黏著劑層之偏光板，將偏光件與相位差層之間的黏著劑層之膠偏移量，以及用以將附相位差層及黏著劑層之偏光板貼合至影像顯示單元的黏著劑層之潛變值加以組合並進行最佳化，藉此可實現一種已抑制在高溫環境下相位差不均之附相位差層及黏著劑層之偏光板。結果，可實現已抑制在高溫環境下顏色不均及漏光之影像顯示裝置。
以下說明本發明之代表性實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之薄膜的面內相位差。例如，「Re(450)」係於23℃下以波長450nm之光測定之薄膜的面內相位差。Re(λ)係令薄膜厚度為d(nm)時，利用式：Re=(nx-ny)×d求算。 (3)厚度方向之相位差(Rth) Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之薄膜厚度方向的相位差。例如，「Rth(450)」係於23℃下以波長450nm之光測定之薄膜之厚度方向的相位差。Rth(λ)係令薄膜厚度為d(nm)時，利用式：Rth=(nx-nz)×d求算。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求算。 (5)角度 本說明書中提及角度時，在未特別明記之前提下，該角度包含順時針及逆時針兩方向的角度。
A.附相位差層及黏著劑層之偏光板之整體構成 圖1係本發明一實施形態之附相位差層及黏著劑層之偏光板的概略截面圖。圖式例之附相位差層及黏著劑層之偏光板100具有：偏光板10；相位差層30，其透過第1黏著劑層20貼合於偏光板10；及第2黏著劑層40，其設於相位差層30之與偏光板10相反之側作為最外層。藉由第2黏著劑層40，附相位差層及黏著劑層之偏光板可貼附於影像顯示單元。偏光板10包含：偏光件11、配置於偏光件11之一側的第1保護層12、及配置於偏光件11之另一側的第2保護層13。亦可因應目的省略第1保護層12及第2保護層13之其中一者。例如，因相位差層30可作為偏光件11之保護層發揮功能，故亦可省略第2保護層13。相位差層30的慢軸與偏光件11的吸收軸形成之角度宜為40°~50°，較宜為42°~48°，更宜為44°~46°，尤宜為約45°；或者，宜為130°~140°，較宜為132°~138°，更宜為134°~136°，尤宜為約135°。
相位差層30係以樹脂薄膜之延伸薄膜構成，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係。相位差層30之Re(550)代表上為100nm~200nm。第1黏著劑層20在85℃及500小時之加熱試驗後的膠偏移量為900µm以下，且第2黏著劑層40在85℃下之潛變值為40µm以下。關於構成附相位差層及黏著劑層之偏光板的各層之詳細內容容於後說明。
在一實施形態中，附相位差層及黏著劑層之偏光板亦可於相位差層30與第2黏著劑層40之間更具有另一相位差層(未圖示)。另一相位差層代表上折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。藉由設置這種另一相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。
在一實施形態中，附相位差層及黏著劑層之偏光板亦可更具有導電層或附導電層之各向同性基材(未圖示)。在可設置導電層或附導電層之各向同性基材時，附相位差層及黏著劑層之偏光板可應用於在影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板間組入有觸控感測器的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。導電層或附導電層之各向同性基材代表上可設於相位差層30與第2黏著劑層40之間。可設置另一相位差層時，另一相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材代表上可從相位差層30側起依序設置。
附相位差層及黏著劑層之偏光板亦可具有又另一相位差層(未圖示)。又另一相位差層可與另一相位差層合併設置，亦可單獨(亦即不設置另一相位差層)設置。又另一相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目的適當設定。
附相位差層及黏著劑層之偏光板可為單片狀亦可為長條狀。本說明書中所謂「長條狀」意指相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀，例如包含相對於寬度而言長度為10倍以上、且宜為20倍以上之細長形狀。長條狀附相位差層及黏著劑層之偏光板可捲繞成捲狀。
在實際應用上，第2黏著劑層40之表面上宜在附相位差層及黏著劑層之偏光板供於使用之前暫時黏附有剝離薄膜。藉由暫時黏附剝離薄膜，可在保護第2黏著劑層的同時形成附相位差層及黏著劑層之偏光板的捲料。
以下針對附相位差層及黏著劑層之偏光板的構成要素進行說明。
B.偏光件 偏光件11可採用任意適當之偏光件。例如，形成偏光件之樹脂薄膜可為單層樹脂薄膜亦可為二層以上之積層體。
由單層樹脂薄膜構成之偏光件的具體例，可舉利用碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜進行染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。宜使用以碘將PVA系薄膜染色並進行單軸延伸所得偏光件，因其光學特性優異。
上述藉由碘進行之染色，例如可藉由將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可延伸後再染色。可視需要，對PVA系薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色前將PVA系薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系薄膜表面之污垢或抗黏結劑，還可使PVA系薄膜膨潤，從而防止染色不均等情況。
作為使用積層體而得之偏光件的具體例可舉使用樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)之積層體、或者是使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得之偏光件，例如可藉由以下步驟來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及，將該積層體延伸及染色，以將PVA系樹脂層製成偏光件。在本實施形態中，延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且視需要，延伸更可包含在硼酸水溶液中進行延伸前將積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所得樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材作為偏光件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面積層因應目的之任意適當的保護層後來使用。所述偏光件之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利特許第6470455號中。本說明書即援用該等專利文獻之記載作為參考。
偏光件宜可由單層樹脂薄膜構成。若為所述構成，便可藉由與第1黏著劑層及第2黏著劑層之最佳化的加乘效果，獲得已抑制在高溫環境下之相位差不均的附相位差層及黏著劑層之偏光板。
偏光件之厚度宜為15µm以下，較宜為1µm~12µm，更宜為3µm~12µm。偏光件之厚度若在所述範圍內，便可良好地抑制加熱時之捲曲，及可獲得良好的加熱時之外觀耐久性。 又，偏光件之厚度尤宜為8µm以下。偏光件之厚度若在所述上限以下，便可抑制附相位差層及黏著劑層之偏光板在高濕環境下從被黏著體剝離、及於黏著劑層發生氣泡。
偏光件宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率例如為41.5%~46.0%，宜為43.0%~46.0%，較宜為44.5%~46.0%。偏光件之偏光度以97.0%以上為佳，99.0%以上較佳，99.9%以上更佳。
C.保護層 第1保護層12及第2保護層13各自係以可作為偏光件之保護層使用之任意適當的薄膜形成。作為成為該薄膜主成分的材料之具體例，可舉三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可舉(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系及聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物，可舉例如具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物與丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
附相位差層及黏著劑層之偏光板如後述代表上係配置於影像顯示裝置的視辨側，而第1保護層12代表上係配置於其視辨側。因此，第1保護層12亦可視需求施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。並且/或者，第1保護層12亦可視需求施行有用以改善透過偏光太陽眼鏡視辨時之視辨性的處理(代表上為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由施行所述處理，即使透過偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時，仍可實現優異的視辨性。因此，附相位差層及黏著劑層之偏光板亦可適宜用於可用於戶外之影像顯示裝置。
第1保護層之厚度代表上為300µm以下，宜為100µm以下，較宜為5µm~80µm，更宜為10µm~60µm。此外，施行有表面處理時，外側保護層之厚度係包含表面處理層之厚度的厚度。
在一實施形態中，第2保護層13於光學上宜為各向同性。本說明書中，「光學各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。
D.相位差層 D-1.相位差層之特性 相位差層之面內相位差Re(550)如上述為100nm~200nm，宜為110nm~180nm，較宜為120nm~160nm，更宜為130nm~150nm。即，相位差層可作為所謂的λ/4板發揮功能。
相位差層如上述滿足Re(450)＜Re(550)之關係，宜更滿足Re(550)＜Re(650)之關係。即，相位差層展現相位差值會因應測定光的波長而變大之逆色散波長依存性。相位差薄膜之Re(450)/Re(550)例如大於0.5且小於1.0，宜為0.7~0.95，較宜為0.75~0.92，更宜為0.8~0.9。Re(650)/Re(550)宜為1.0以上且小於1.15，較宜為1.03~1.1。
相位差層如上述具有面內相位差，故具有nx＞ny之關係。相位差層只要具有nx＞ny之關係，便可展示任意適當的折射率特性。相位差層之折射率特性代表上係展現nx＞ny≧nz之關係。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。相位差層之Nz係數宜為0.9~2.0，較宜為0.9~1.5，更宜為0.9~1.2。藉由滿足所述關係，在將附相位差層及黏著劑層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
相位差層之厚度可設定成可作為λ/4板發揮最適當之功能。換言之，厚度可設定成可獲得所期望之面內相位差。具體而言，厚度宜為15µm~60µm，更宜為20µm~55µm，最宜為20µm~50µm。
相位差層其光彈性係數的絕對值宜為20×10-12 (m2 /N)以下，較宜為1.0×10-12 (m2 /N)~15×10-12 (m2 /N)，更宜為2.0×10-12 (m2 /N)~12×10-12 (m2 /N)。光彈性係數之絕對值若在所述範圍內，便可在將附相位差層及黏著劑層之偏光板應用於影像顯示裝置時抑制顯示不均。
在使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH之加濕TMA試驗中，相位差層之慢軸方向之尺寸變化率宜為0.45%以下，較宜為0.35%以下，更宜為0.28%以下，尤宜為0.22%以下。相位差層在加濕TMA試驗中之尺寸變化率若在所述上限以下，便可抑制附相位差層及黏著劑層之偏光板在高濕環境下從被黏著體剝離，而可謀求提升附相位差層及黏著劑層之偏光板的高濕耐久性。在使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH之加濕TMA試驗中，相位差層之慢軸方向之尺寸變化率例如為0%以上。又，當附相位差層及黏著劑層之偏光板更具有另一相位差層(未圖示)時，相位差層在上述加濕TMA試驗中之慢軸方向之尺寸變化率係在相位差層上貼合有另一相位差層之狀態下進行測定，其尺寸變化率之範圍係與上述相同之範圍。
D-2.相位差層之構成材料 相位差層代表上含有下述樹脂，該樹脂包含選自於由碳酸酯鍵及酯鍵所構成群組中之至少1種鍵結基。換言之，相位差層含有聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時將該等統稱為聚碳酸酯系樹脂等)。聚碳酸酯系樹脂等包含選自於由上述通式(1)所示結構單元及/或上述通式(2)所示結構單元所構成群組中之至少1種結構單元。該等結構單元係源自2價寡聚芴之結構單元，以下有時稱為寡聚芴結構單元。所述聚碳酸酯系樹脂等具有正折射率各向異性。
相位差層在一實施形態中，可更含有丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂之含量為0.5質量%~1.5質量%。此外，在本說明書中，「質量」單位的百分比或份與「重量」單位之百分比或份同義。
D-2-1.聚碳酸酯系樹脂等 ＜寡聚芴結構單元＞ 寡聚芴結構單元係以上述通式(1)或(2)表示。通式(1)及(2)中，R1 ~R3 分別獨立為直接鍵結、取代或非取代之碳數1~4之伸烷基；R4 ~R9 分別獨立為氫原子、取代或非取代之碳數1~10之烷基、取代或非取代之碳數4~10之芳基、取代或非取代之碳數1~10之醯基、取代或非取代之碳數1~10之烷氧基、取代或非取代之碳數1~10之芳氧基、取代或非取代之胺基、取代或非取代之碳數1~10之乙烯基、取代或非取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基。惟，R4 ~R9 可彼此相同亦可互異，且R4 ~R9 中鄰接之至少2個基可彼此鍵結形成環。
相對於樹脂整體，聚碳酸酯系樹脂等中之寡聚芴結構單元之含量宜為1質量%~40質量%，較宜為10質量%~35質量%，更宜為15質量%~30質量%更佳，尤宜為18質量%~25質量%。寡聚芴結構單元之含量若太多時，會有發生光彈性係數變得太大、可靠性不足、相位差展現性不足等問題之虞。並且，因樹脂中寡聚芴結構單元所佔比率變高，故分子設計的幅度會變窄，而有在尋求樹脂改質時難以改良之情況。另一方面，即便可藉由非常少量之寡聚芴結構單元獲得所期望之逆分散波長依存性，但此時光學特性會因寡聚芴結構單元之含量的些微參差而敏感地變化，故有難以進行製造以使各特性落在一定範圍內之情形。
寡聚芴結構單元之詳細內容例如記載於國際公開第2015/159928號公報手冊中。本說明書中係援用該公報作為參考。
＜其他結構單元＞ 聚碳酸酯系樹脂等代表上除寡聚芴結構單元外還可包含其他結構單元。在一實施形態中，其他結構單元宜源自二羥基化合物或二酯化合物。為了展現目標逆分散性波長性，必須將具有負固有雙折射之寡聚芴結構單元連同具有正固有雙折射之結構單元組入聚合物結構，因此進行共聚之其他單體更宜為能成為具有正雙折射之結構單元的原料之二羥基化合物或二酯化合物。
共聚單體可舉可導入含芳香族環之結構單元的化合物、與不導入含芳香族環之結構單元的化合物，該不導入含芳香族環之結構單元的化合物即為以脂肪族結構構成之化合物。 前述以脂肪族結構構成之化合物的具體例可列舉如下。乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、1,4-丁二醇、1,3-丁二醇、1,2-丁二醇、1,5-庚二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、1,12-十二烷二醇等直鏈脂肪族烴之二羥基化合物；新戊二醇、伸己二醇等分枝脂肪族烴之二羥基化合物；例示為1,2-環己二醇、1,4-環己二醇、1,3-金剛烷二醇、加氫雙酚A、2,2,4,4-四甲基-1,3-環丁二醇等之脂環式烴的二元醇及三元醇之二羥基化合物；例示為1,2-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、五環十五烷二甲醇、2,6-十氫萘二甲醇、1,5-十氫萘二甲醇、2,3-十氫萘二甲醇、2,3-降莰烷二甲醇、2,5-降莰烷二甲醇、1,3-金剛烷二甲醇、薴等由萜化合物衍生之二羥基化合物等之脂環式烴的一元醇之二羥基化合物；二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇等氧伸烷基二醇類；具有異山梨醇等環狀醚結構之二羥基化合物；螺甘油、二㗁烷二醇等具有環狀縮醛結構之二羥基化合物；1,2-環己烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸等脂環式二羧酸；丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸等脂肪族二羧酸。 以下列舉可導入前述含芳香族環之結構單元的化合物之具體例。2,2-雙(4-羥苯基)丙烷、2,2-雙(3-甲-4-羥苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二乙基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3-苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3,5-二苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)丙烷、雙(4-羥苯基)甲烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥苯基)戊烷、1,1-雙(4-羥苯基)-1-苯乙烷、雙(4-羥苯基)二苯甲烷、1,1-雙(4-羥苯基)-2-乙基己烷、1,1-雙(4-羥苯基)癸烷、雙(4-羥基-3-硝基苯基)甲烷、3,3-雙(4-羥苯基)戊烷、1,3-雙(2-(4-羥苯基)-2-丙基)苯、1,3-雙(2-(4-羥苯基)-2-丙基)苯、2,2-雙(4-羥苯基)六氟丙烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、雙(4-羥苯基)碸、2,4’-二羥基二苯基碸、雙(4-羥苯基)硫化物、雙(4-羥基-3-甲基苯基)硫化物、雙(4-羥苯基)二硫化物、4,4’-二羥基二苯基醚、4,4’-二羥基-3,3’-二氯二苯基醚等芳香族雙酚化合物；2,2-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-(2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,3-雙(2-羥基乙氧基)苯、4,4’-雙(2-羥基乙氧基)聯苯、雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)碸等具有鍵結於芳香族基上之醚基的二羥基化合物；對苯二甲酸、苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4’-二苯基二甲酸、4,4’-二苯基醚二甲酸、4,4’-二苯基酮二甲酸、4,4’-二苯氧基乙烷二甲酸、4,4’-二苯基碸二甲酸、2,6-萘二甲酸等芳香族二甲酸。 此外，上述所舉之脂肪族二羧酸及芳香族二甲酸成分可以二羧酸其本身之形式作為前述聚酯碳酸酯之原料，但亦可因應製造法將甲基酯物、苯基酯物等二羧酸酯、或二羧酸鹵化物等二羧酸衍生物作為原料。
共聚單體可將自以往作為具有負雙折射之結構單元的化合物已知之：9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-羥苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀等具有茀環之二羥基化合物、或者具有茀環之二羧酸化合物亦可與寡聚芴化合物組合來使用。
本發明所用之樹脂在可藉由前述具有脂環式結構之化合物導入之結構單元中，宜含有下述式(3)所示結構單元作為共聚成分。 [化學式3]
Figure 02_image005
可導入前述式(3)之結構單元的二羥基化合物可使用螺甘油。
本發明所用之樹脂中，前述式(3)所示結構單元宜含有5質量%以上且90質量%以下。上限更宜為70質量%以下，且50質量%以下尤佳。下限更宜為10質量%以上，且20質量%以上較佳，25質量%以上尤佳。前述式(3)所示結構單元之含量若在前述下限以上，便可獲得充分之機械物性或耐熱性、低光彈性係數。並且，與丙烯酸系樹脂之相溶性會提升，可更提升所得樹脂組成物之透明性。又，螺甘油之聚合反應速度較慢，故藉由將含量抑制在前述上限以下，容易控制聚合反應。
本發明所用之樹脂宜更含有下述式(4)所示結構單元作為共聚成分。 [化學式4]
Figure 02_image007
可導入前述式(4)所示結構單元的二羥基化合物可舉例如處於立體異構物關係的異山梨醇(ISB)、去水甘露糖醇、異艾杜糖醇。該等可單獨使用1種，亦可組合2種以上來使用。
本發明所用之樹脂中，前述式(4)所示結構單元宜含有5質量%以上且90質量%以下。上限更宜為70質量%以下，且50質量%以下尤佳。下限更宜為10質量%以上，且15質量%以上尤佳。前述式(4)所示結構單元之含量若在前述下限以上，便可獲得充分之機械物性或耐熱性、低光彈性係數。又，前述式(4)所示結構單元具有吸水性高之特性，因此前述式(4)所示結構單元之含量若在前述上限以下，便可將成形體因吸水所致之尺寸變化抑制在容許範圍內。
本發明所用之樹脂亦可更包含有其他結構單元。此外，有時將該結構單元稱作「其他結構單元」。具有其他結構單元之單體較宜採用1,4-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、1,4-環己烷二羧酸(及其衍生物)，尤宜為1,4-環己烷二甲醇與三環癸烷二甲醇。包含源自該等單體之結構單元的樹脂之光學特性或耐熱性、機械特性等之平衡優異。又，因二酯化合物之聚合反應性較低，故由提高反應效率之觀點來看，宜不使用含有寡聚芴結構單元之二酯化合物以外的二酯化合物。
本發明所用之樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)宜為110℃以上且160℃以下。上限更宜為155℃以下，且150℃以下較佳，145℃以下尤佳。下限更宜為120℃以上，且130℃以上尤佳。玻璃轉移溫度若在上述範圍外，便有耐熱性變差之傾向，而可能在薄膜成形後引發尺寸變化、或相位差薄膜在使用條件下之品質的可靠性變差。另一方面，玻璃轉移溫度若過高，則有在薄膜成形時發生薄膜厚度之不均、或薄膜變脆而延伸性變差之情形，且有損及薄膜之透明性之情形。
聚碳酸酯系樹脂等之構成及製造方法等之詳細內容例如記載於國際公開第2015/159928號公報手冊(上述)中。本說明書中係援用該記載作為參考。
D-2-2.丙烯酸系樹脂 丙烯酸系樹脂係使用作為熱塑性樹脂之丙烯酸系樹脂。作為成為丙烯酸系樹脂之結構單元的單體可列舉例如以下化合物：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸降莰烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、馬來酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、酞酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫酞酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、五甲基哌啶(甲基)丙烯酸酯、四甲基哌啶(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯、甲基丙烯酸環戊酯、丙烯酸環戊酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環庚酯、丙烯酸環庚酯、甲基丙烯酸環辛酯、丙烯酸環辛酯、甲基丙烯酸環十二酯、丙烯酸環十二酯。該等可單獨使用，亦可組合2種以上來使用。將2種以上單體組合來使用之形態可舉2種以上單體之共聚、2個以上1種單體之均聚物的摻合物及該等之組合。並且，亦可併用可與該等丙烯酸系單體共聚之其他單體(例如烯烴系單體、乙烯基系單體)。
丙烯酸系樹脂包含源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元。丙烯酸系樹脂中源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元的含量宜為70質量%以上且100質量%以下。下限較宜為80質量%以上，更宜為90質量%以上，尤宜為95質量%以上。若在該範圍內，便可獲得與本發明之聚碳酸酯系樹脂優異之相溶性。甲基丙烯酸甲酯以外之結構單元宜使用丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯。藉由將丙烯酸甲酯共聚，可提升熱穩定性。藉由使用(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯，可調整丙烯酸系樹脂之折射率，故藉由符合所組合之樹脂之折射率，可提升所得樹脂組成物之透明性。藉由使用所述丙烯酸系樹脂，可獲得具有優異拉伸性及相位差展現性且霧度小之逆分散相位差薄膜。
丙烯酸系樹脂之重量平均分子量Mw為10,000以上且200,000以下。下限宜為30,000以上，尤宜為50,000以上。上限宜為180,000以下，尤宜為150,000以下。分子量若在所述範圍內，便可獲得與聚碳酸酯系樹脂之相溶性，故可提升最終之相位差薄膜(相位差層)之透明性，且可獲得充分提升延伸時之拉伸性的效果。此外，上述重量平均分子量係藉由GPC測定之以聚苯乙烯換算之分子量。又，由相溶性之觀點來看，丙烯酸系樹脂宜實質上不含分枝結構。不含分枝結構一事可利用丙烯酸系樹脂之GPC曲線為單峰性等來確認。
D-2-3.聚碳酸酯系樹脂等與丙烯酸系樹脂之摻合物 聚碳酸酯系樹脂等與丙烯酸系樹脂係摻合後以樹脂組成物之形式供於相位差薄膜(相位差層)之製造方法(製造方法容後於C-3項敘述)。聚碳酸酯系樹脂等與丙烯酸系樹脂宜可在熔融狀態下摻合。在熔融狀態下混合之方法代表上可舉使用擠製機之熔融捏合。捏合溫度(熔融樹脂溫度)宜為200℃~280℃，較宜為220℃~270℃，更宜為230℃~260℃。捏合溫度若在所述範圍內，便可抑制熱分解，同時可獲得兩樹脂均勻摻合而成之樹脂組成物的丸粒。擠製機中之熔融樹脂溫度若高於280℃，有發生樹脂之著色及/或熱分解之情形。另一方面，擠製機中之熔融樹脂溫度若低於200℃，則有樹脂黏度變得過高而對擠製機施加過大之負荷、或樹脂之熔融變得不充分之情形。此外，擠製機之構成、螺桿之構成等可採用任意適當之構成。為了獲得可承受光學薄膜用途之樹脂的透明性，宜使用雙軸擠製機。並且，樹脂中之殘留低分子成分或擠製捏合中之低分子量的熱分解成分有在製膜步驟或延伸步驟中污染冷卻輥或輸送輥之疑慮，因此為了去除其，宜使用具備真空排氣孔之擠製機。
樹脂組成物(以結果而言為相位差層)中之丙烯酸系樹脂之含量例如為0.5質量%以上且2.0質量%以下。下限較宜為0.6質量%以上。上限宜為1.5質量%以下，較宜為1.0重量%以下，更宜為0.9重量%以下，尤宜為0.8質量%以下。如此一來，藉由將丙烯酸系樹脂以極限定之比率摻混至聚碳酸酯系樹脂中，可顯著增大拉伸性及相位差展現性。並可抑制霧度。所述效果在理論上尚不明瞭，乃藉由無數次試錯而得之不可預期之優異效果。此外，丙烯酸系樹脂之含量若過少，便有無法獲得上述效果之情形。另一方面，丙烯酸系樹脂之含量若過多，便有霧度變高之情形。又，拉伸性及相位差展現性亦多有較在上述範圍內之情形更不足、或反而降低之情形。
樹脂組成物亦可為了改質機械特性及/或耐溶劑性等之特性，進一步摻合芳香族聚碳酸酯、脂肪族聚碳酸酯、芳香族聚酯、脂肪族聚酯、聚醯胺、聚苯乙烯、聚烯烴、丙烯酸、非晶聚烯烴、ABS、AS、聚乳酸、聚琥珀酸丁酯等合成樹脂、橡膠及該等之組合。
樹脂組成物亦可更包含有添加劑。添加劑之具體例可列舉：熱穩定劑、抗氧化劑、觸媒去活化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、脫模劑、染顏料、衝擊改良劑、抗靜電劑、滑劑、潤滑劑、塑化劑、增容劑、成核劑、阻燃劑、無機充填劑、發泡劑。樹脂組成物所含添加劑之種類、數量、組合、含量等，可按目的適當設定。
D-3.相位差層之形成方法 相位差層可由上述D-2項記載之樹脂組成物形成薄膜，並進一步延伸該薄膜而得。由樹脂組成物形成薄膜之方法可採用任意適當之成形加工法。具體例可舉：壓縮成形法、轉注成形法、射出成形法、擠製成形法、吹氣成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗敷法(例如流延法)、砑光成形法、熱壓法等。其中又以擠製成形法或澆鑄塗佈法為宜，因可提高所得薄膜之平滑性，獲得良好之光學均一性。澆鑄塗敷法有殘存溶劑引發問題發生之疑慮，因此尤宜為擠製成形法，而由薄膜之生產性或後續延伸處理之容易度之觀點來看，其中又宜為使用T型模之熔融擠製成形法。成形條件可因應使用樹脂之組成或種類、對相位差層所期望之特性等適當設定。如此一來，便可獲得包含聚碳酸酯系樹脂等與丙烯酸系樹脂之樹脂薄膜。
樹脂薄膜(未延伸薄膜)的厚度可因應所得相位差層所期望的厚度、所期望的光學特性、後述延伸條件等設定成任意適當之值。宜為50µm~300µm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法，亦可同時或逐次使用。關於延伸方向，亦可沿長度方向、寬度方向、厚度方向、斜向等各種方向或維度進行。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，可獲得具有上述所期望之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)的相位差層。
在一實施形態中，上述薄膜之延伸溫度為聚碳酸酯系樹脂等之玻璃轉移溫度(Tg)以下之溫度。通常，在延伸聚碳酸酯系樹脂等之薄膜時，薄膜在Tg以下之溫度下為玻璃狀態，因此實際上無法延伸。根據本發明實施形態所用之樹脂薄膜，藉由摻混少量丙烯酸系樹脂(代表上為聚甲基丙烯酸甲酯)，可在Tg以下進行延伸而不使聚碳酸酯系樹脂等之Tg實質上產生變化。並且，雖理論上尚不明瞭，但藉由在Tg以下進行延伸，可實現拉伸性及相位差展現性優異且霧度小之逆分散相位差薄膜(相位差層)。具體而言，延伸溫度宜為Tg~Tg-10℃，較宜為Tg~Tg-8℃，更宜為Tg~Tg-5℃。此外，上述薄膜例如若為至Tg+5℃左右、又例如為至Tg+2℃左右，則即便為高於Tg之溫度仍可適當延伸。
依上述方式，可獲得構成相位差層之相位差薄膜。
又，相位差薄膜亦可使用市售之延伸薄膜。市售之延伸薄膜可直接使用，亦可因應目的進行2次加工(例如延伸處理、表面處理)後使用。市售薄膜之具體例可舉帝人公司製之商品名「PURE-ACE RM」。
E.第1黏著劑層及第2黏著劑層 E-1.第1黏著劑層及/或第2黏著劑層之特性 第1黏著劑層20如上述，85℃及500小時之加熱試驗後之膠偏移量為900µm以下，宜為600µm以下，較宜為500µm以下，更宜為400µm以下，尤宜為300µm以下，特別宜為250µm以下，最宜為180µm以下。膠偏移量的下限例如可為20µm。藉由將具有所述範圍之膠偏移量的(宜為膠偏移量小)之黏著劑用於貼合偏光件與相位差層，可藉由與後述控制第2黏著劑層之潛變值所帶來之效果的加乘效果，實現一種已抑制在高溫環境下之相位差不均之附相位差層及黏著劑層之偏光板。此外，本說明書中所謂「膠偏移量」係指附相位差層及黏著劑層之偏光板在加熱試驗後，黏著劑層從偏光件及相位差層之端面溢出之最大部分的長度。
第2黏著劑層40如上述，在85℃下之潛變值為40µm以下，宜為30µm以下，較宜為25µm以下，更宜為20µm以下，尤宜為15µm以下。潛變值之下限例如可為5µm。藉由如所述將潛變值小之黏著劑用於貼合至附相位差層及黏著劑層之偏光板的影像顯示單元，可藉由與上述控制第1黏著劑層之膠偏移量所帶來之效果的加乘效果，實現一種已抑制在高溫環境下之顏色不均之影像顯示裝置。潛變值例如可依以下程序測定：將從黏著劑片裁切出之試驗試樣以10mm×10mm之接合面貼附於支持板。於85℃之環境下，固定貼附有試驗試樣之支持板並在該狀態下於鉛直下方加上500gf之荷重。測定加上荷重1秒後及3600秒後從支持板偏移之偏移量，分別設為Cr1 及Cr3600 。由Cr1 及Cr3600 藉由下述式求算ΔCr並將其作為潛變值。此外，本說明書中之潛變值係將黏著劑層之厚度換算成20µm時之值。 ΔCr=Cr3600 -Cr1
第1黏著劑層及/或第2黏著劑層在85℃下之儲存彈性模數宜為1.0×104 Pa以上，較宜為2.0×104 Pa以上，更宜為5.0×104 Pa以上，又更宜為1.0×105 Pa以上。儲存彈性模數若在所述範圍內，便可容易實現上述所期望之膠偏移量及/或潛變值。另一方面，儲存彈性模數例如為3.0×106 Pa以下。
第1黏著劑層之厚度宜為2µm~50µm，較宜為3µm~40µm。第2黏著劑層之厚度宜為4µm~30µm，較宜為5µm~20µm。第1黏著劑層及第2黏著劑層之厚度若在所述範圍內，便可藉由與上述控制膠偏移量及潛變值之效果的加乘效果，實現一種已抑制在高溫環境下之相位差不均的附相位差層及黏著劑層之偏光板，且可實現一種已抑制在高溫環境下之顏色不均的影像顯示裝置。
E-2.第1黏著劑層及第2黏著劑層之構成材料 第1黏著劑層及第2黏著劑層中，只要第1黏著劑層具有上述所期望之膠偏移量，且第2黏著劑層具有上述所期望之潛變值，便可採用任意適當之構成。第1黏著劑層及第2黏著劑層可以相同之黏著劑構成，亦可各自以不同黏著劑構成。以下，將第1黏著劑層及第2黏著劑層整合以黏著劑層來說明構成材料。藉由調整構成黏著劑層之黏著劑的組成(例如基底聚合物之種類(極性、Tg、柔軟度)、分子量)、交聯結構(例如交聯劑的種類、交聯點間距離(交聯點間分子量)、交聯密度)等，可控制膠偏移量及/或潛變值。
E-2-1.基底聚合物 黏著劑層代表上係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物或橡膠系聚合物作為基底聚合物之黏著劑組成物形成。使用(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物時，黏著劑層係由例如含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之黏著劑組成物形成。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(A)＞ (甲基)丙烯酸系聚合物(A)如上述，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。(甲基)丙烯酸烷基酯在形成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的總單體成分中，由提升黏著劑層的接著性之觀點，宜為50重量%以上，而該(甲基)丙烯酸烷基酯以外之單體的剩餘部分可任意設定。此外，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可舉直鏈狀或支鏈狀烷基的碳數1~18者。烷基可列舉例如：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨或可組合來使用。烷基的平均碳數宜為3~10。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，除了(甲基)丙烯酸烷基酯之外還可含有含羧基單體(a1)、含羥基單體(a2)等共聚單體作為單體成分。共聚單體可單獨或組合來使用。
含羧基單體(a1)係一於其結構中包含羧基且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。含羧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等。該等中由改善共聚性、價格及黏著劑層之黏著特性之觀點來看，宜為丙烯酸。構成第1黏著劑層之黏著劑組成物及/或構成第2黏著劑層之黏著劑組成物宜可包含含羧基單體、較宜可包含丙烯酸作為(甲基)丙烯酸系聚合物(A)(基底聚合物)之單體成分。
使用含羧基單體(a1)作為單體成分時，含羧基單體(a1)的含量於形成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總單體成分中通常為0.01重量%以上且10重量%以下。
含羥基單體(a2)係一於其結構中包含羥基且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。含羥基單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等。該等中由使黏著劑層之耐久性提升之觀點來看，宜為(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯，以(甲基)丙烯酸4-羥丁酯較佳。
使用含羥基單體(a2)作為單體成分時，含羥基單體(a2)的含量於形成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總單體成分中通常為0.01重量%以上且10重量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)宜含有均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之具不飽和碳雙鍵的單體作為單體成分。均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之具不飽和碳雙鍵的單體(a3)，可舉(甲基)丙烯酸烷基酯單體、(甲基)丙烯酸。單體(a3)宜為均聚物之玻璃轉移溫度為20℃以上之具有不飽和碳雙鍵的單體，且均聚物之玻璃轉移溫度為40℃以上之具不飽和碳雙鍵的單體較佳。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，含有單體(a3)之比率無特別限定。含量通常為0.1重量%~40重量%，較佳為1重量%~30重量%。此外，併用2種以上單體(a3)時，含量為合計之含量。
單體(a3)可列舉例如：丙烯酸甲酯(Tg：8℃)、甲基丙烯酸甲酯(Tg：105℃)、甲基丙烯酸乙酯(Tg：65℃)、丙烯酸正丙酯(Tg：3℃)、甲基丙烯酸正丙酯(Tg：35℃)、丙烯酸正戊酯(Tg：22℃)、丙烯酸正十四酯(Tg：24℃)、丙烯酸正十六酯(Tg：35℃)、甲基丙烯酸正十六酯(Tg：15℃)、丙烯酸正十八酯(Tg：30℃)及甲基丙烯酸正十八酯(Tg：38℃)等(甲基)丙烯酸直鏈烷基酯；丙烯酸三級丁酯(Tg：43℃)、甲基丙烯酸三級丁酯(Tg：48℃)、甲基丙烯酸異丙酯(Tg：81℃)及甲基丙烯酸異丁酯(Tg：48℃)等(甲基)丙烯酸支鏈烷基酯；丙烯酸環己酯(Tg：19℃)、甲基丙烯酸環己酯(Tg：65℃)、丙烯酸異莰酯(Tg：94℃)及甲基丙烯酸異莰酯(Tg：180℃)等(甲基)丙烯酸環狀烷基酯；丙烯酸(Tg：106℃)等。該等可單獨或組合來使用。
共聚單體在黏著劑組成物含有後述交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。含羧基單體及含羥基單體與分子間交聯劑之反應性佳，故適宜用於提升所得黏著劑層之凝集性或耐熱性。就兼顧耐久性與重工性之觀點而言，宜為含羧基單體，而就使重工性提升之觀點而言，宜為含羥基單體。
單體成分亦可進一步使用其他共聚單體(a4)。其他共聚單體(a4)例如具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基。藉由使用其他共聚單體(a4)，可改善黏著劑層之接著性及耐熱性。其他共聚單體(a4)可單獨或組合來使用。
其他共聚單體(a4)可藉由使用含胺基單體、含醯胺基單體來提升黏著劑層之密著性。含胺基單體例如為N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯酸酯等。含醯胺基單體例如為：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基內醯胺系單體等。
其他共聚單體(a4)亦可為多官能性單體。藉由使用多官能性單體，可實施黏著劑層之凝膠分率之調整或凝集力之控制。多官能性單體例如為：己二醇二(甲基)丙烯酸酯(1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯)、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸酯丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯；及二乙烯苯。多官能丙烯酸酯宜為1,6-己二醇二丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
其他共聚單體(a4)除上述外，可使用例如：(甲基)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧丁酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；2-(烯丙基氧基甲基)丙烯酸甲酯等環化聚合性單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯等含環氧基單體；乙烯基磺酸鈉等含磺酸基單體；含磷酸基單體；(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯等具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等烯烴類或二烯類；乙烯基烷基醚等乙烯基醚類；氯乙烯。構成第1黏著劑層之黏著劑組成物及/或構成第2黏著劑層之黏著劑組成物宜可包含具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯、較宜可包含(甲基)丙烯酸苄酯作為(甲基)丙烯酸系聚合物(A)(基底聚合物)之單體成分。
(甲基)丙烯酸系聚合物中之其他共聚單體(a4)的含量宜為20質量%以下，10質量%以下較佳，8質量%以下更佳，5質量%以下尤佳。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量Mw例如為20萬~300萬，宜為100萬~250萬，120萬~250萬較佳。重量平均分子量Mw若在所述範圍內，便可獲得耐久性(尤其是耐熱性)優異之黏著劑層。重量平均分子量Mw若大於300萬，有發生黏度上升及/或在聚合物聚合中膠化之情形。
E-2-2.含反應性官能基之矽烷耦合劑 黏著劑組成物可含有含反應性官能基之矽烷耦合劑。含反應性官能基之矽烷耦合劑之反應性官能基代表上為酸酐基以外之官能基。酸酐基以外之官能基可列舉例如：環氧基、巰基、胺基、異氰酸酯基、三聚異氰酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、乙醯乙醯基、脲基、硫脲基、(甲基)丙烯醯基、雜環基及該等之組合。含反應性官能基之矽烷耦合劑可單獨或組合來使用。
於黏著劑組成物中摻混含反應性官能基之矽烷耦合劑時，含反應性官能基之矽烷耦合劑的摻混量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份通常為0.001重量份以上且5重量份以下。
E-2-3.交聯劑 黏著劑組成物可含有交聯劑。交聯劑可使用有機系交聯劑、多官能性金屬螯合物等。有機系交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。當黏著劑組成物為放射線硬化型時，可使用多官能性單體作為交聯劑。交聯劑可單獨或組合來使用。
於黏著劑組成物中摻混交聯劑時，交聯劑的摻混量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)(基底聚合物)100重量份通常為0.01重量份以上且15重量份以下。構成第2黏著劑層之黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份宜包含1.5重量份以上、較宜包含2.0重量份以上、更宜包含2.2重量份以上、尤宜包含5重量份以上之交聯劑。構成第2黏著劑層之黏著劑組成物中之交聯劑的摻混量若為所述下限以上，便可藉由與上述控制膠偏移量及潛變值之效果的加乘效果穩定抑制附相位差層及黏著劑層之偏光板在高溫環境下之相位差不均，且可穩定抑制影像顯示裝置在高溫環境下之顏色不均。
於黏著劑組成物中摻混異氰酸酯系交聯劑時，異氰酸酯系交聯劑的摻混量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份通常為0.01重量份以上且15重量份以下。
於黏著劑組成物中摻混過氧化物時，過氧化物的摻混量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份通常為0.01重量份以上且2重量份以下。若在所述範圍內，便可容易調整加工性及交聯穩定性等。
E-2-4.添加劑 黏著劑組成物亦可含有(甲基)丙烯酸系寡聚物及/或離子性化合物。又，黏著劑組成物亦可含有添加劑。添加劑的具體例可列舉：著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。又，亦可在可控制的範圍內採用添加還原劑的氧化還原系。在一實施形態中，構成第1黏著劑層之黏著劑組成物亦可包含有具有反應性基(例如反應性矽基)之聚醚化合物。添加劑之種類、數量、組合、含量等可視目的適當設定。添加劑的含量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份宜為5重量份以下，較宜為3重量份以下，更宜為1重量份以下。
F.影像顯示裝置 上述A項~E項記載之附相位差層及黏著劑層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明實施形態亦包含使用所述附相位差層及黏著劑層之偏光板之影像顯示裝置。影像顯示裝置之代表例可舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。本發明實施形態之影像顯示裝置代表上係於其視辨側具備上述A項~E項記載之附相位差層及黏著劑層之偏光板。影像顯示裝置包含影像顯示面板。影像顯示面板包含影像顯示單元。此外，有時會將影像顯示裝置稱為光學顯示裝置，有時會將影像顯示面板稱為光學顯示面板，且有時會將影像顯示單元稱為光學顯示單元。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。又，各特性之測定方法如以下所述。
(1)膠偏移量 將實施例及比較例所得附相位差層及黏著劑層之偏光板裁切成13吋尺寸，作為試驗試樣。將該試驗試樣供於85℃及500小時之加熱試驗，並於該加熱試驗後以物鏡(20倍)觀察及測定第1黏著劑層從偏光件及相位差層之端面溢出之溢出量。將第1黏著劑層溢出之最大部分的長度作為膠偏移量。觀察時，令透射光為0(零)且以反射光觀察來調整。 (2)潛變值 將實施例及比較例所得附相位差層及黏著劑層之偏光板裁切成10mm×30mm尺寸作為試驗試樣。將該試驗試樣之上端部10mm×10mm透過第2黏著劑層貼附至SUS板，並於試驗試樣之下端部於鉛直下方負荷500gf之荷重。於85℃之環境下，測定在加上荷重1秒後及3600秒後試驗試樣與SUS板之偏移量，分別設為Cr1 及Cr3600 。由Cr1 及Cr3600 藉由下述式求算ΔCr並將其作為潛變值。 ΔCr=Cr3600 -Cr1 (3)顏色不均 將實施例及比較例所得附相位差層及黏著劑層之偏光板裁切成13吋尺寸，並透過第2黏著劑層貼合至玻璃板，作為試驗試樣。將該試驗試樣供於85℃及500小時之加熱試驗，並於該加熱試驗後將其載置於反射片(TORAY ADVANCED FILM Co., Ltd.製，DMS蒸鍍薄膜)上，使用分光測色計(Konica Minolta公司製，製品名「CM-2600d」)測定試樣中央部之反射色相a* C 及b* C 、以及試樣端部之反射色相a* E 及b* E 。將以下述式求算之Δab作為顏色不均之指標。Δab愈小表示顏色不均愈佳。 Δab={(a* E -a* C )2 +(b* E -b* C )2 }1 /2 (4)漏光 將實施例及比較例所得附相位差層及黏著劑層之偏光板裁切成長300mm×寬185mm之尺寸，並準備2片此尺寸的偏光板。使用貼合機將該等以使成正交偏光之方式貼合至厚度0.07mm之無鹼玻璃板之兩面，作為一次試樣。然後，對一次試樣在50℃、5atm下進行15分鐘高壓釜處理(將高壓釜處理後之試樣稱為「初始之二次試樣」)。接著，將初始之二次試樣在85℃之條件下供於500小時之處理(將加熱後之試樣稱為「加熱後之二次試樣」)。將初始之二次試樣及加熱後之二次試樣置於1萬燭光之背光件上，以肉眼觀察漏光並按下述基準進行評估。 A：無發生漏光。 B：有發生些微漏光，但未於顯示區域發生，而實用上無問題。 C：於顯示區域有發生些微漏光，但實用上無問題。 D：於顯示區域有發生顯著漏光，實用上有問題。 (5)耐久性 將實施例及比較例所得附相位差層及黏著劑層之偏光板裁切成長300mm×寬220mm之尺寸，並透過第2黏著劑層貼合至無鹼玻璃板，作為試驗試樣。將該試驗試樣供於在60℃、相對濕度95%之條件下240小時之耐久性試驗。以肉眼觀察耐久性試驗後之試驗試並按以下基準進行評估。 A：黏著劑層無發泡、剝落等之外觀上的變化。 B：黏著劑層之端部有發生些微發泡，但實用上無問題。 C：黏著劑層之端部有發生顯著的剝落，實用上有問題。 (6)加濕所致之尺寸變化率(加濕TMA試驗) 以成為表1所示第1相位差層及第2相位差層之組合之方式，將第2相位差薄膜貼合至製造例所得第1相位差薄膜，而獲得相位差薄膜之積層體。將所得積層體裁切成20mm(第1相位差薄膜之慢軸方向)×5mm(第1相位差薄膜之快軸方向)作為測定試樣。此外，實施例9中，未於第1相位差薄膜貼合第2相位差薄膜，便裁切第1相位差薄膜，作為測定試樣。使用熱機械分析裝置，使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH後，在60℃/85%RH下測定測定試樣在長度方向(第1相位差薄膜之慢軸方向)上之尺寸變化率。此外，在25℃/50%RH下之保持時間係設為30分鐘，在50℃/60%RH下之保持時間係設為60分鐘，且在60℃/85%RH下之保持時間係設為240分鐘。在25℃/50%RH、60℃/50%RH間之升溫速度係設成0.4℃/分鐘。茲將結果列於表1。
[化合物之簡稱] 以下製造例中所用化合物之簡稱如下。 ・BPFM：雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷 以日本專利特開2015-25111號公報所記載之方法合成。 [化學式5]
Figure 02_image009
・ISB：異山梨醇[Roquette Frères公司製] ・SPG：螺甘油[MITSUBISHI GAS CHEMICAL(股)製] ・DPC：碳酸二苯酯[Mitsubishi Chemical(股)製]
[製造例1：構成第1相位差層之第1相位差薄膜之製作] 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入BPFM 29.60質量份(0.046mol)、ISB 29.21質量份(0.200mol)、SPG 42.28質量份(0.139mol)、DPC 63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒之乙酸鈣1水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。
將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度135µm之長條狀樹脂薄膜。將所得長條狀樹脂薄膜以延伸溫度133℃、延伸倍率2.8倍沿寬度方向延伸，而獲得厚度48µm之相位差薄膜R1。相位差薄膜R1之Re(550)為141nm，Re(450)/Re(550)為0.82，且Nz係數為1.12。
[製造例2：構成第1相位差層之第1相位差薄膜之製作] 使用由2台具備有攪拌葉片及回流冷卻器的直立式攪拌反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入BPFM 30.31質量份(0.047mol)、ISB 39.94質量份(0.273mol)、SPG 30.20質量份(0.099mol)、DPC 69.67質量份(0.325mol)及作為觸媒之乙酸鈣1水合物7.88×10-4 質量份(4.47×10-6 mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入110℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以40分鐘使內溫成為240℃、壓力成為20kPa。其後，進一步降低壓力，同時進行聚合至達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點時將氮導入反應器使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。將該樹脂稱為「PC1」。源自各單體之結構單元的比率為BPFM/ISB/SPG/DPC=21.5/39.4/30.0/9.1質量%。PC1之比濃黏度為0.46dL/g，Mw為48,000，折射率nD 為1.526，熔融黏度為2480Pa・s，玻璃轉移溫度為139℃，光彈性係數為9×10-12 [m2 /N]，波長分散Re(450)/Re(550)為0.85。
使用Dianal BR80(Mitsubishi Chemical(股)製)作為丙烯酸系樹脂，進行與所得聚酯碳酸酯之擠製捏合。將聚碳酸酯之丸粒(99.5質量份)與BR80之粉(0.5質量份)混合而成者用定量進料器投入(股)日本製鋼所製之雙軸擠製機TEX30HSS中。擠製機缸筒設定溫度設定成250℃，以處理量12kg/hr、螺桿旋轉數120rpm進行擠製。又，擠製機具備有真空排氣孔，從而一邊將熔融樹脂減壓去揮發一邊進行擠製。將依上述方式所得樹脂組成物之丸粒在100℃下真空乾燥6小時以上後，使用具備單軸擠製機(Isuzu Chemical Industries Co., Ltd.，螺桿徑25mm，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬300mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出長3m、寬200mm、厚100µm之長條未延伸薄膜。將該長條未延伸薄膜以延伸溫度為Tg、延伸倍率2.4倍進行延伸。
依上述方式而獲得構成相位差層之相位差薄膜R2。相位差薄膜R2展現nx＞ny＞nz之折射率特性，Re(550)為145nm，Re(450)/Re(550)為0.85。
[製造例3：構成第1相位差層之第1相位差薄膜之製作] 將市售之聚碳酸酯樹脂薄膜(樹脂薄膜之延伸薄膜，TEIJIN LIMITED.製，製品名「PURE-ACE RM」，厚度50µm)作為相位差薄膜R3。相位差薄膜R3之Re(550)為147nm，Re(450)/Re(550)為0.90。
[製造例4：構成第2相位差層之第2相位差薄膜之製作] 將下述化學式(I)(式中，65及35係各構成單元之莫耳%)所示側鏈型液晶聚合物(重量平均分子量5000)20重量份、顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製，商品名「PaliocolorLC242」)80重量份及光聚合引發劑(Ciba Specialty Chemicals公司製，商品名「IRGACURE 907」)5重量份溶解於環戊酮200重量份中，而調製出液晶塗敷液。接著，將調製出之液晶塗敷液以棒塗機塗敷至基材薄膜之降莰烯系樹脂薄膜(日本ZEON公司製，商品名「ZEONEX」)表面後，以80℃加熱及乾燥4分鐘，使塗佈膜所含液晶定向。接著，利用紫外線照射使塗佈膜硬化，而於基材薄膜上形成屬第2相位差薄膜之液晶固化層R4(厚度0.58µm)。液晶固化層R4對波長550nm之光的面內相位差Re為0nm，厚度方向之相位差Rth為-71nm(nx=1.5326、ny=1.5326、nz=1.6550)，且液晶固化層R4展現nz＞nx=ny之折射率特性。 [化學式6]
Figure 02_image011
[製造例5：黏著劑之調製] (丙烯酸系聚合物A1之調製) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中饋入含有丙烯酸丁酯82.1份、丙烯酸苄酯13份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份及丙烯酸4.8份的單體混合物。並相對於該單體混合物100份，將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一起饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)220萬、Mw/Mn=3.0之丙烯酸系聚合物A1之溶液。
(黏著劑之調製) 相對於丙烯酸系聚合物A1溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(Tosoh公司製，商品名「Coronate L」)0.45份、過氧化物交聯劑(苯甲醯基過氧化物)0.1份、含環氧基之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「KBM-403」)0.2份及具有反應性矽基之聚醚化合物(Kaneka公司製，商品名「Silyl SAT10」)0.5份，而獲得黏著劑PSA1。
[製造例6：黏著劑之調製] (丙烯酸系聚合物A2之調製) 除了使用含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物外，依與製造例5相同方式，而調製出Mw180萬、Mw/Mn=4.8之丙烯酸系聚合物A2之溶液。
(黏著劑之調製) 相對於丙烯酸系聚合物A2溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸伸茬酯加成物(Tosoh公司製，商品名「TAKENATE D110N」)0.1份、過氧化物交聯劑(苯甲醯基過氧化物)0.3份及含環氧基之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「KBM-403」)0.2份，而獲得黏著劑PSA2。
[製造例7：黏著劑之調製] 除了將D110N之摻混量變更成0.02份外，依與製造例6相同方式而獲得黏著劑PSA3。
[製造例8：黏著劑之調製] (丙烯酸系聚合物A3之調製) 除了使用含有丙烯酸丁酯76.1份、丙烯酸苄酯19份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份及丙烯酸4.8份之單體混合物外，依與製造例5相同方式，而調製出Mw220萬、Mw/Mn=3.0之丙烯酸系聚合物A3的溶液。
(黏著劑之調製) 相對於丙烯酸系聚合物A3溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(Tosoh公司製，商品名「Coronate L」)2.5份、過氧化物交聯劑(苯甲醯基過氧化物)0.1份及含環氧基之寡聚物型矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「X-41-1056」)0.2份，而獲得黏著劑PSA4。
[製造例9：黏著劑之調製] (丙烯酸系聚合物A4之調製) 除了使用含有丙烯酸丁酯63.1份、丙烯酸苄酯32份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份及丙烯酸4.8份之單體混合物外，依與製造例5相同方式，而調製出Mw220萬、Mw/Mn=3.2之丙烯酸系聚合物A4的溶液。
(黏著劑之調製) 相對於丙烯酸系聚合物A4溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(Tosoh公司製，商品名「Coronate L」)2.5份、過氧化物交聯劑(苯甲醯基過氧化物)0.1份及含環氧基之寡聚物型矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「X-41-1056」)0.2份，而獲得黏著劑PSA5。
[製造例10：黏著劑之調製] (丙烯酸系聚合物A5之調製) 除了使用含有丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份及丙烯酸5份之單體混合物外，依與製造例5相同方式，而調製出Mw220萬、Mw/Mn=3.9之丙烯酸系聚合物A5的溶液。
(黏著劑之調製) 相對於丙烯酸系聚合物A5溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(Tosoh公司製，商品名「Coronate L」)3.0份、過氧化物交聯劑(苯甲醯基過氧化物)0.2份及含環氧基之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「KBM-403」)0.075份，而獲得黏著劑PSA6。
[製造例11：黏著劑之調製] 相對於丙烯酸系聚合物A2溶液之固體成分100份，加入丙烯酸丁酯94份、丙烯酸甲酯4份及丙烯酸2份之共聚寡聚物(Mw=4700)30份，將D110N之摻混量變更成0.02份，及將矽烷耦合劑之摻混量變更成0.1份，除此之外依與製造例6相同方式而獲得黏著劑PSA7。
[製造例12：黏著劑之調製] 相對於丙烯酸系聚合物A1溶液之固體成分100份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(Tosoh公司製，商品名「Coronate L」)12.0份及含環氧基之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「KBM-403」)0.1份，而獲得黏著劑PSA8。
[製造例13：黏著劑之調製] 除了將Coronate L之摻混量變更成2.5份外，依與製造例12相同方式而獲得了黏著劑PSA9。
[製造例14：偏光板之製作] (偏光件之製作) 將厚度30µm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜(Kuraray製，製品名「PE3000」)的長條捲料，利用輥延伸機以使其沿長邊方向成為5.9倍之方式沿長邊方向進行單軸延伸並同時施以膨潤、染色、交聯、洗淨處理，最後施以乾燥處理而製得厚度12µm之偏光件。 具體而言，膨潤處理係於20℃之純水中一邊進行處理一邊延伸成2.2倍。接著，染色處理係一邊於碘濃度經調整成可使所得偏光件的單體透射率成為45.0%之碘與碘化鉀之重量比為1：7的30℃的水溶液中進行處理一邊延伸成1.4倍。再來，交聯處理係採用二階段交聯處理，第一階段交聯處理係一邊於40℃的硼酸與碘化鉀溶解而成的水溶液中進行處理一邊延伸成1.2倍。第一階段交聯處理的水溶液之硼酸含量係設為5.0重量%，而碘化鉀含量係設為3.0重量%。第二階段之交聯處理係一邊於65℃的硼酸與碘化鉀溶解而成的水溶液中進行處理一邊延伸成1.6倍。第二階段交聯處理的水溶液之硼酸含量係設為4.3重量%，而碘化鉀含量係設為5.0重量%。又，洗淨處理係以20℃之碘化鉀水溶液進行處理。洗淨處理之水溶液的碘化鉀含量係設為2.6重量%。最後，乾燥處理係於70℃下使其乾燥5分鐘而獲得偏光件。
(偏光板之製作) 於上述偏光件之單側，透過聚乙烯醇系接著劑貼合三醋酸纖維素薄膜(厚度40µm，Konica Minolta公司製，商品名「KC4UYW」)，而獲得具有保護層/偏光件之構成的偏光板P1。
[製造例15：偏光板之製作] (偏光件之製作) 作為熱塑性樹脂基材係使用長條狀且Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)，並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，並將所得者溶於水中而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13µm之PVA系樹脂層而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃之不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光件之單體透射率(Ts)成為所期望之值(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份，摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%)中，一邊在周速相異之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 然後，一邊在經保持在約90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度經保持在約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。 依上述方式，於樹脂基材上形成厚度約5µm之偏光件，而獲得具有樹脂基材/偏光件之構成的偏光板。
(偏光板之製作) 透過紫外線硬化型接著劑於所得偏光件表面(與樹脂基材相反之側的面)貼合作為保護層之環烯烴系薄膜(日本ZEON公司製，ZF-12，23µm)。具體而言，係塗敷成硬化型接著劑之總厚度成為約1.0µm，並使用輥軋機進行貼合。然後，從環烯烴系薄膜側照射UV光線使接著劑硬化。接著，剝離樹脂基材，而獲得具有環烯烴系薄膜(保護層)/偏光件之構成的偏光板P2。
(黏著劑層之製作) 以使乾燥後之黏著劑層之厚度成為12µm之方式，將調製出之黏著劑塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜，三菱化學Polyester Film公司製，MRF38)之單面後，使黏著劑之塗膜乾燥，而形成第1黏著劑層。 又，除了以使乾燥後之黏著劑層的厚度成為15µm之方式進行塗佈外，依與第1黏著劑層之形成相同方式而形成了第2黏著劑層。
[實施例1~9及比較例1~2] 將形成於分離薄膜表面之第1黏著劑層轉印至偏光板，而製作出附黏著劑層之偏光板。又，將形成於分離薄膜表面之第2黏著劑層轉印至相位差薄膜，而製作出附黏著劑層之相位差薄膜。 然後，以使偏光板、第1相位差薄膜(相位差層)、第2相位差薄膜(液晶固化層)以及黏著劑(第1黏著劑層及第2黏著劑層)成為表1所示之順序之方式組合附黏著劑層之偏光板與附黏著劑層之相位差薄膜，而製作出附相位差層及黏著劑層之偏光板。於此，偏光板與第1相位差層(相位差薄膜)係以使偏光件的吸收軸與相位差薄膜的慢軸形成45°之角度之方式來貼合。將所得附相位差層及黏著劑層之偏光板供於上述顏色不均、漏光及耐久性之評估。將結果與第1黏著劑層之膠偏移量及第2黏著劑層之潛變值一同示於表1。
[表1]
Figure 02_image013
[評估] 由表1明顯可知，藉由組合第1黏著劑層之膠偏移量及第2黏著劑層之潛變值並控制，可獲得一種附相位差層及黏著劑層之偏光板，其可實現已抑制在高溫環境下之顏色不均及漏光之影像顯示裝置。
產業上之可利用性 本發明附相位差層及黏著劑層之偏光板可適宜用於影像顯示裝置(代表上為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置)。
10:偏光板 11:偏光件 12:第1保護層 13:第2保護層 20:第1黏著劑層 30:相位差層 40:第2黏著劑層 100:附相位差層及黏著劑層之偏光板
圖1係本發明一實施形態之附相位差層及黏著劑層之偏光板的概略截面圖。
10:偏光板
11:偏光件
12:第1保護層
13:第2保護層
20:第1黏著劑層
30:相位差層
40:第2黏著劑層
100:附相位差層及黏著劑層之偏光板

Claims (11)

  1. 一種附相位差層及黏著劑層之偏光板，具有：包含偏光件之偏光板；相位差層，其透過第1黏著劑層貼合於該偏光板；及第2黏著劑層，其設於該相位差層之與該偏光板相反之側作為最外層； 該相位差層係以樹脂薄膜之延伸薄膜構成，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係； 該第1黏著劑層在85℃及500小時之加熱試驗後之膠偏移量為900µm以下； 該第2黏著劑層在85℃下之潛變值為40µm以下； 在此，Re(450)及Re(550)分別係於23℃下以波長450nm及550nm之光測定之面內相位差。
  2. 如請求項1之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述相位差層之Re(550)為100nm~200nm，且該相位差層的慢軸與前述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°或130°~140°。
  3. 如請求項1或2之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述相位差層之厚度為15µm~60µm。
  4. 如請求項1至3中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述第1黏著劑層在85℃及500小時之加熱試驗後之膠偏移量為250µm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中構成前述第2黏著劑層之黏著劑組成物中，相對於基底聚合物100重量份包含1.5重量份以上之交聯劑。
  6. 如請求項5之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中構成前述第2黏著劑層之黏著劑組成物中，相對於基底聚合物100重量份包含5重量份以上之交聯劑。
  7. 如請求項1至6中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述相位差層含有具有正折射率各向異性之樹脂與丙烯酸系樹脂，該具有正折射率各向異性之樹脂包含：選自於由碳酸酯鍵及酯鍵所構成群組中之至少1個鍵結基；以及選自於由下述通式(1)所示結構單元及下述通式(2)所示結構單元所構成群組中之至少1個結構單元；該丙烯酸系樹脂之含量為0.5質量%~2.0質量%，該丙烯酸系樹脂含有70質量%以上之源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元，且其重量平均分子量Mw為10,000~200,000； [化學式1]
    Figure 03_image001
    [化學式2]
    Figure 03_image003
    通式(1)及(2)中，R1 ~R3 分別獨立為直接鍵結、取代或非取代之碳數1~4之伸烷基；R4 ~R9 分別獨立為氫原子、取代或非取代之碳數1~10之烷基、取代或非取代之碳數4~10之芳基、取代或非取代之碳數1~10之醯基、取代或非取代之碳數1~10之烷氧基、取代或非取代之碳數1~10之芳氧基、取代或非取代之胺基、取代或非取代之碳數1~10之乙烯基、取代或非取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基；惟，R4 ~R9 可彼此相同亦可互異，且R4 ~R9 中鄰接之至少2個基可彼此鍵結形成環。
  8. 如請求項1至7中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述相位差層在加濕TMA試驗中，慢軸方向之尺寸變化率為0.28%以下，該加濕TMA試驗係使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH者。
  9. 如請求項1至8中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中於前述相位差層與前述第2黏著劑層之間更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。
  10. 如請求項9之附相位差層及黏著劑層之偏光板，其中前述相位差層在貼合有前述另一相位差層之狀態下在加濕TMA試驗中，慢軸方向之尺寸變化率為0.28%以下，該加濕TMA試驗係使環境依序改變成25℃/50%RH、60℃/50%RH、60℃/85%RH者。
  11. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至10中任一項之附相位差層及黏著劑層之偏光板。
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