TW202411695A - 附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents
附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202411695A TW202411695A TW112119709A TW112119709A TW202411695A TW 202411695 A TW202411695 A TW 202411695A TW 112119709 A TW112119709 A TW 112119709A TW 112119709 A TW112119709 A TW 112119709A TW 202411695 A TW202411695 A TW 202411695A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- phase difference
- polarizing plate
- difference layer
- meth
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 311
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 130
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 109
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 91
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 90
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 14
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 7
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 8
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 abstract description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 106
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 63
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 48
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 41
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 41
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 39
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 28
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 24
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 20
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 14
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 10
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 9
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 8
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 8
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N Isosorbide Chemical compound O[C@@H]1CO[C@@H]2[C@@H](O)CO[C@@H]21 KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 5
- 229960002479 isosorbide Drugs 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 5
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- XALVHDZWUBSWES-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;tributyl(methyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F XALVHDZWUBSWES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 229910003473 lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide Inorganic materials 0.000 description 4
- QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N lithium;bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide Chemical compound [Li+].FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F QSZMZKBZAYQGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 3
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 101000720524 Gordonia sp. (strain TY-5) Acetone monooxygenase (methyl acetate-forming) Proteins 0.000 description 2
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N Trihydroxybutane Chemical compound CCCC(O)(O)O GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- BRVHCCPVIILNPA-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-ethyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCCC1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F BRVHCCPVIILNPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical compound FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOOHRIRWWIYFRH-UHFFFAOYSA-N oxolan-2-one;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.O=C1CCCO1 KOOHRIRWWIYFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- LMODBTYAMBSWQE-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)methanetriol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(O)(O)O LMODBTYAMBSWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYSIZKQWJYULQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoro-n-(1,1,2,2,2-pentafluoroethylsulfonyl)ethanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F DOYSIZKQWJYULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-n-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]butyliminomethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=NCCCCN=CC1=CC=CC=C1O CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDFCBRMXZKAKKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzaldehyde;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1C=O CDFCBRMXZKAKKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004786 2-naphthols Chemical class 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CCO SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001121408 Homo sapiens L-amino-acid oxidase Proteins 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N Isoborneol Natural products C1C[C@@]2(C)[C@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026388 L-amino-acid oxidase Human genes 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100012902 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) FIG2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100233916 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) KAR5 gene Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate Chemical compound BrCC(Br)COP(=O)(OCC(Br)CBr)OCC(Br)CBr PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIDZKLBCABAXMS-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCC(CO)CC1 UIDZKLBCABAXMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 125000002339 acetoacetyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C(=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000278 alkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N borneol Natural products C1CC2(C)C(C)CC1C2(C)C CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- XQKKWWCELHKGKB-UHFFFAOYSA-L calcium acetate monohydrate Chemical compound O.[Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O XQKKWWCELHKGKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940067460 calcium acetate monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BXHHZLMBMOBPEH-UHFFFAOYSA-N diethyl-(2-methoxyethyl)-methylazanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CCOC BXHHZLMBMOBPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical class OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 208000035475 disorder Diseases 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N dl-isoborneol Natural products C1CC2(C)C(O)CC1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JZMPIUODFXBXSC-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCOC(N)=O JZMPIUODFXBXSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJWMNYEVKNAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl-(2-methoxyethyl)-dimethylazanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CCOC KIJWMNYEVKNAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000879 imine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- LSWADWIFYOAQRZ-UHFFFAOYSA-N n-(ethoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCOCNC(=O)C=C LSWADWIFYOAQRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N pentaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCO JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N perisophthalic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- GROIHDHFSBIQKH-UHFFFAOYSA-N phenyl 3-[9-[[9-(3-oxo-3-phenoxypropyl)fluoren-9-yl]methyl]fluoren-9-yl]propanoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)CCC1(C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21)CC1(C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21)CCC(=O)OC1=CC=CC=C1 GROIHDHFSBIQKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920001444 polymaleic acid Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000417 polynaphthalene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C63/00—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
- B29C63/02—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor using sheet or web-like material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
本發明提供一種附相位差層之偏光板，其可有助於提升影像顯示裝置在高溫高濕下之耐久性。本發明附相位差層之偏光板，具有相互對向之第1主面及第2主面；且，從該第1主面起朝該第2主面依序包含：含偏光件之偏光板、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層及第2黏著劑層；並且，該附相位差層之偏光板包含含抗靜電劑之黏著劑層；該附相位差層之偏光板中，該第1相位差層之在該第2主面側鄰接之鄰接層在110℃下之拉伸彈性模數為1MPa以上；該含抗靜電劑之黏著劑層中之該抗靜電劑的添加量為5phr以下；將該附相位差層之偏光板貼合於積層體，該積層體包含厚度50µm之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜與設置於其一面且厚度0.05µm之鋁層，以該附相位差層之偏光板透過該第2黏著劑層貼合於該積層體之該鋁層表面之狀態在110℃85%RH條件下保持36小時後，該鋁層之電阻率變化為2以下。
Description
本發明涉及附相位差層之偏光板及影像顯示裝置。
近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。一般而言，為了光學補償、防止外光反射等，係於該等影像顯示裝置廣泛使用偏光板與相位差層一體化而成的附相位差層之偏光板(專利文獻1等)。例如，在有機EL顯示裝置中，係藉由於有機EL面板之視辨側配置附相位差層之偏光板(圓偏光板)，而防止因設於面板的電極造成外光反射。
又，關於配置於有機EL面板、液晶面板等影像顯示面板之視辨側的附相位差層之偏光板，係藉由於構成構件之至少1者中摻混抗靜電劑，來防止影像顯示裝置因靜電造成之不良情況。
另一方面，隨著使用環境之多樣化，而對影像顯示裝置要求提升在高溫高濕環境下之耐久性。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2022-013705號公報
發明欲解決之課題
關於影像顯示裝置在高溫高濕環境下之耐久性，本發明人等研討後得知，在高溫高濕下，相位差層會產生裂痕而有偏光件所含之碘流出至影像顯示面板之情形、或抗靜電劑流出至影像顯示面板之情形，且可能因為該等情形而使設於影像顯示面板之電極產生腐蝕。又，相位差層主要係使用以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之相位差薄膜或以液晶化合物之定向固化層構成之相位差薄膜，但已知所述問題傾向於容易發生在使用以反射特性更優異之樹脂薄膜之延伸薄膜構成之相位差薄膜時，而在使用以液晶化合物之定向固化層構成之相位差薄膜時則不易發生。
本發明是根據上述見解而成者，其主要目的在於提供一種附相位差層之偏光板，其可有助於提升影像顯示裝置在高溫高濕下之耐久性。
用以解決課題之手段
根據本發明實施形態，提供下述[1]至[10]之附相位差層之偏光板或影像顯示裝置。
[1]一種附相位差層之偏光板，具有相互對向之第1主面及第2主面；且，從該第1主面起朝該第2主面依序包含：含偏光件之偏光板、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層及第2黏著劑層；並且，該附相位差層之偏光板包含含抗靜電劑之黏著劑層；該附相位差層之偏光板中，該第1相位差層之在該第2主面側鄰接之鄰接層在110℃下之拉伸彈性模數為1MPa以上；該含抗靜電劑之黏著劑層中之該抗靜電劑的添加量為5phr以下；將該附相位差層之偏光板貼合於積層體，該積層體包含厚度50µm之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜與設置於其一面且厚度0.05µm之鋁層，以該附相位差層之偏光板透過該第2黏著劑層貼合於該積層體之該鋁層表面之狀態在110℃85%RH之條件下保持36小時後，該鋁層之電阻率變化為2以下。
[2]如[1]之附相位差層之偏光板，其中上述第1相位差層為樹脂薄膜之延伸薄膜；上述第1相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1；上述第1相位差層的慢軸與上述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°。
[3]如[1]或[2]之附相位差層之偏光板，其中上述第1相位差層之厚度為10µm以上。
[4]如[2]之附相位差層之偏光板，其中上述第2相位差層展現nz＞nx=ny之折射率特性。
[5]如[1]至[4]中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述第1黏著劑層及/或上述第2黏著劑層之表面電阻率為9×10
11Ω/□以下。
[6]如[1]至[5]中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述抗靜電劑包含離子性化合物，該離子性化合物含雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(N(SO
2CF
3)
2 -)作為陰離子。
[7]如[1]至[6]中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述鄰接層係上述接著劑層。
[8]如[1]至[6]中任一項之附相位差層之偏光板，其中上述鄰接層係直接形成於上述第1相位差層之上述第2主面側表面的硬塗層。
[9]一種影像顯示裝置，具有影像顯示面板與配置於該影像顯示面板之視辨側的如[1]至[8]中任一項之附相位差層之偏光板。
[10]如[9]之影像顯示裝置，其中上述影像顯示面板包含電極；且，該影像顯示裝置在110℃85%RH條件下保持36小時後，該電極之電阻率變化為2以下。
發明效果
根據本發明實施形態，藉由以鄰接第1相位差層之方式設置高彈性層，可抑制第1相位差層之熱收縮及因該熱收縮所致之裂痕產生，並且可將抗靜電劑之添加量設在可獲得實用上足夠之抗靜電功能又不使黏著劑層大幅塑化的範圍內。藉此，抑制碘或抗靜電劑流出至影像顯示面板，而可防止因該等造成之不良情況，結果可提升影像顯示裝置在高溫高濕下之耐久性。
以下邊參照圖式邊說明本發明實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。為了更明確說明圖式，相較於實施形態，有將各部分之寬度、厚度、形狀等示意顯示之情形，但僅為一例，非用以限定解釋本發明。又，本說明書中，(甲基)丙烯酸意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係在23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係在23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求得。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係在23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係在23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。
(4)Nz係數
Nz係數可藉由Nz=Rth/Re求得。
(5)角度
本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩方向。因此，例如「45°」係指往順時針方向45°及往逆時針方向45°。
A.附相位差層之偏光板
本發明實施形態之附相位差層之偏光板具有相互對向之第1主面及第2主面；且，從該第1主面起朝該第2主面依序包含：含偏光件之偏光板、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層及第2黏著劑層；並且，該第1相位差層之在該第2主面側鄰接之鄰接層在110℃下之拉伸彈性模數為1MPa以上；該附相位差層之偏光板包含含抗靜電劑之黏著劑層，且該含抗靜電劑之黏著劑層中之該抗靜電劑的添加量為5phr以下。此外，本發明中，第1相位差層之在第2主面側鄰接之鄰接層係以直接接觸第1相位差層之方式鄰接之層。
本發明實施形態之附相位差層之偏光板貼合於積層體，該積層體包含厚度50µm之PET樹脂薄膜與設於其一面且厚度0.05µm之鋁層，以該附相位差層之偏光板透過第2黏著劑層貼合於該積層體之該鋁層表面之狀態在110℃85%RH條件下保持36小時後，該鋁層之電阻率變化(保持後之電阻率/保持前之電阻率)代表上為2以下，宜為1.8以下，較宜為1.5以下，更宜為1.2以下。鋁層之電阻率變化可以實施例中記載之方法求得。
A-1.附相位差層之偏光板之整體構成
圖1係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。附相位差層之偏光板100A具有第1主面100a與第2主面100b；且，從第1主面100a起朝第2主面100b依序包含：偏光板10、第1黏著劑層20、第1相位差層30、接著劑層40、第2相位差層50及第2黏著劑層60。偏光板10具有：偏光件12；第1保護層14a，其配置於偏光件12之與配置有第1相位差層30之側相反之側；及，第2保護層14b，其配置於配置有第1相位差層30之側。偏光板10與第1相位差層30係透過第1黏著劑層20貼合。又，第1相位差層30與第2相位差層50係透過接著劑層40貼合。本實施形態中，第1相位差層30之在第2主面100b側鄰接之鄰接層為接著劑層40。
圖2係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。附相位差層之偏光板100B具有第1主面100a與第2主面100b；且，從第1主面100a起朝第2主面100b依序包含：偏光板10、第1黏著劑層20、第1相位差層30、硬塗層70、接著劑層40、第2相位差層50及第2黏著劑層60。偏光板10具有：偏光件12；第1保護層14a，其配置於偏光件12之與配置有第1相位差層30之側相反之側；及，第2保護層14b，其配置於配置有第1相位差層30之側。偏光板10與第1相位差層30係透過第1黏著劑層20貼合。又，硬塗層70係直接形成於第1相位差層30之第2主面100b側表面，且於該第2主面側透過接著劑層40貼合有第2相位差層50。本實施形態中，第1相位差層30之在第2主面100b側鄰接之鄰接層為硬塗層70。
本發明實施形態之附相位差層之偏光板包含含抗靜電劑之黏著劑層。代表上，選自第1黏著劑層及第2黏著劑層中之至少一者包含抗靜電劑。例如，在組入有觸控面板之有機EL顯示裝置中，在手指觸碰顯示部時，有時會發生非刻意之發光。該發光主要起因於接觸而產生之靜電帶電。並且，在液晶顯示裝置中有時會因靜電而誘發液晶化合物之定向不良。對此，藉由使用含抗靜電劑之黏著劑層，可防止所述靜電對影像顯示裝置造成不良影響。存在於影像顯示面板附近之第2黏著劑層包含抗靜電劑時，可適宜防止所述靜電對影像顯示裝置造成不良影響。另一方面，存在於影像顯示面板遠方之第1黏著劑層包含抗靜電劑時，除了可防止所述不良影響，還可抑制因抗靜電劑造成鋁層等之觸控感測器電極腐蝕，以這點來看相當有利。
本發明實施形態之附相位差層之偏光板中，第2黏著劑層側表面之表面電阻率宜為9.0×10
11Ω/□以下，較宜為1.0×10
8Ω/□~8.0×10
11Ω/□，更宜為5.0×10
8Ω/□~6.0×10
11Ω/□。
本發明實施形態之附相位差層之偏光板之構成不受圖式例限定。具體上，第1保護層14a及第2保護層14b中之任一者、例如第2保護層14b亦可視目的省略。又，附相位差層之偏光板100A、100B之第2黏著劑層60側表面亦可暫時黏附有剝離襯材(未圖示)。剝離襯材可保護第2黏著劑層60直至附相位差層之偏光板100A、100B供於使用之前。在實際應用上，如圖3所示，附相位差層之偏光板100中第2主面100b側係透過第2黏著劑層貼附於有機EL面板、液晶面板等影像顯示面板200之視辨側，而構成影像顯示裝置300。影像顯示面板200代表上於其表面及/或內部包含顯示元件之驅動用或觸控感測器用等之電極(包含Al層與Ti層之積層結構的導電層等)。
附相位差層之偏光板可為長條狀，亦可為單片狀。此處，所謂「長條狀」係指相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀，例如係指相對於寬度而言長度為10倍以上、宜為20倍以上之細長形狀。長條狀附相位差層之偏光板可捲繞成捲狀。
附相位差層之偏光板之排除第2黏著劑層後之厚度(從偏光板至第2相位差層為止之厚度)例如為50µm~120µm，宜為70µm~100µm，較宜為80µm~90µm。
A-2.偏光板
偏光板10代表上包含偏光件與配置於其單側或兩側的保護層。宜為偏光板10包含偏光件12與第1保護層14a，且該第1保護層14a係配置於偏光件12之與配置有第1相位差層30之側相反之側。偏光件12之配置於第1相位差層30側的第2保護層14b可視目的省略。在一實施形態中，偏光件與保護層係透過接著層(代表上為接著劑層)貼合。例如，偏光件與保護層係使用活性能量線硬化型接著劑貼合。在另一實施形態中，偏光件與保護層係不透過接著層而密著積層。
A-2-1.偏光件
偏光件代表上係含二色性物質(例如碘)之樹脂薄膜。樹脂薄膜可舉例如聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯・乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜。
偏光件之厚度宜為18µm以下，較宜為15µm以下，更宜為12µm以下。另一方面，偏光件之厚度宜為1µm以上。
偏光件宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率例如為41.5%~46.0%，宜為42.0%~46.0%，較宜為44.5%~46.0%。偏光件之偏光度宜為97.0%以上，較宜為99.0%以上，更宜為99.9%以上。
偏光件可以任意適當之方法製作。具體而言，偏光件可由單層樹脂薄膜製作，亦可使用二層以上之積層體來製作。
上述從單層樹脂薄膜製作偏光件之方法，代表上包含對樹脂薄膜施行利用碘或二色性染料等二色性物質進行之染色處理與延伸處理。樹脂薄膜可使用例如聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯・乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜。該方法亦可進一步包含有不溶解處理、膨潤處理、交聯處理等。所述製造方法為本業界眾所皆知且慣用，故省略詳細說明。
使用上述積層體所得之偏光件，例如可使用樹脂基材與樹脂薄膜或樹脂層(代表上為PVA系樹脂層)之積層體來製作。具體上可藉由下述方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；及，將該積層體延伸及染色，以將PVA系樹脂層製成偏光件。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且視需求，延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前將積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。並且，在本實施形態中，宜將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體一邊往長邊方向輸送一邊加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上。代表上，本實施形態之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，以將PVA系樹脂層浸漬於液體之情況來說，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更可抑制PVA分子之定向紊亂及定向性之降低，而可達成高光學特性。並且，藉由乾燥收縮處理使積層體於寬度方向上收縮，可達成高光學特性。於從所得樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材後的剝離面、或者於與剝離面相反側的面積層保護層，可獲得偏光板。所述偏光件之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。本說明書中係引用該等公報整體之記載作為參考。
A-2-2.第1保護層
第1保護層例如可以可作為偏光件之保護層使用之任意適當之樹脂薄膜形成。作為成為該樹脂薄膜之主成分的樹脂之具體例，可列舉：三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚降𦯉烯系等之環烯烴系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸酯系樹脂等。
附相位差層之偏光板代表上係配置於影像顯示裝置(例如有機EL顯示裝置)之視辨側，而第1保護層配置於視辨側。因此，第1保護層亦可視需求施行有硬塗(HC)處理、抗反射處理、抗黏處理、防眩處理等表面處理。
第1保護層之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~40µm，更宜為15µm~35µm。此外，在施有上述表面處理時，第1保護層之厚度係包含表面處理層之厚度在內的厚度。
A-2-3.第2保護層
第2保護層例如可以可作為偏光件之保護層使用之任意適當之樹脂薄膜形成。關於以樹脂薄膜形成時的第2保護層，可應用與第1保護層相同之說明。又，例如第2保護層可為含樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化層或硬化層。藉由第2保護層為含樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化層或硬化層，可提升與偏光件之密著性。
在一實施形態中，形成固化層或硬化層之樹脂(基底聚合物)的玻璃轉移溫度(Tg)為85℃以上，且重量平均分子量Mw可為25000以上。藉由樹脂之Tg及Mw在所述範圍內，即便厚度非常薄，仍可實現在高溫高濕環境下優異之耐久性。樹脂之Tg宜為90℃以上，較宜為100℃以上，更宜為110℃以上，尤宜為120℃以上。Tg例如可為200℃以下。又，樹脂之Mw宜為30000以上，較宜為35000以上，更宜為40000以上。Mw例如可為150000以下。
樹脂只要可形成有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物或硬化物(例如熱硬化物)，便可使用任意適當之樹脂。宜為具有如上述之Tg及Mw的熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，較宜為熱塑性樹脂。樹脂可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。
熱塑性樹脂可舉例如丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂。亦可組合丙烯酸系樹脂與環氧系樹脂來使用。
丙烯酸系樹脂代表上含有源自直鏈或具有支鏈結構之(甲基)丙烯酸酯系單體之重複單元作為主成分。丙烯酸系樹脂可含有源自符合目的之任意適當之共聚單體的重複單元。共聚單體(copolymer)可舉例如含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體、含芳香環(甲基)丙烯酸酯、含雜環乙烯基系單體。藉由適當設定單體單元之種類、數量、組合及共聚比等，可獲得具有上述預定之Tg及Mw之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂之具體例可舉日本專利特開2021-117484號公報之段落[0034]~[0056]中記載之含硼丙烯酸系樹脂、含內酯環等之丙烯酸系樹脂。
環氧樹脂宜使用具有芳香族環之環氧樹脂。藉由使用具有芳香族環之環氧樹脂作為環氧樹脂，可提升保護層與偏光件之密著性。並且，以鄰接保護層之方式配置黏著劑層後，可提升黏著劑層之投錨力。具有芳香族環之環氧樹脂可舉例如：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂；苯酚酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、羥苯甲醛苯酚酚醛清漆環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂；四羥甲苯之環氧丙基醚、四羥基二苯基酮之環氧丙基醚、環氧化聚乙烯苯酚等多官能型環氧樹脂、萘酚型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂等。宜使用雙酚A型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂。環氧樹脂可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。
第2保護層可藉由塗佈上述樹脂之有機溶劑溶液來形成塗佈膜並使該塗佈膜固化或熱硬化來形成。有機溶劑可使用可將丙烯酸系樹脂或環氧樹脂溶解或均勻分散之任意適當之有機溶劑。有機溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。溶液之樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成均勻的塗佈膜。
溶液可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當將溶液塗佈於基材時，形成於基材上之塗佈膜的固化或硬化物(樹脂層)會轉印至偏光件上。當將溶液塗佈於偏光件時，藉由使塗佈膜乾燥(固化)或硬化，而於偏光件上直接形成保護層。宜為溶液塗佈於偏光件上而於偏光件上直接形成保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。溶液之塗佈方法可採用任意適當之方法。具體例可列舉輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)。
藉由使溶液之塗佈膜固化或熱硬化，可形成保護層。固化或熱硬化之加熱溫度宜為100℃以下，較宜為50℃~70℃。加熱溫度若在所述範圍內，便可防止對偏光件造成不良影響。加熱時間可按加熱溫度變化。加熱時間例如可為1分鐘~10分鐘。
第2保護層(實質上為上述樹脂之有機溶劑溶液)亦可視目的包含有任意適當之添加劑。添加劑之具體例可列舉：紫外線吸收劑；調平劑；受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材；近紅外線吸收劑；參(二溴化丙基)磷酸酯、三烯丙基磷酸酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等抗靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；塑化劑；滑劑；阻燃劑等。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可按目的適當設定。
在為含樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化層或硬化層時，第2保護層之厚度宜為0.05µm~10µm，較宜為0.08µm~5µm，更宜為0.1µm~1µm，尤宜為0.2µm~0.7µm。
A-3.第1相位差層
第1相位差層30可視目的具有任意適當之光學特性及/或機械特性。第1相位差層代表上具有慢軸。在一實施形態中，第1相位差層30的慢軸與偏光件12的吸收軸形成之角度θ例如為40°~50°，宜為42°~48°，較宜為約45°。角度θ若在所述範圍內，藉由將第1相位差層製成λ/4板，可獲得具有非常優異圓偏光特性(以結果而言為非常優異抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
第1相位差層宜折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。在一實施形態中，第1相位差層可作為λ/4板發揮功能。此時，第1相位差層之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，宜為110nm~170nm，較宜為130nm~160nm。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。
第1相位差層之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
第1相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆色散波長特性，亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正波長色散特性，又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長色散特性。在一實施形態中，第1相位差層展現逆分散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)例如為0.8以上且小於1，宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成，便可實現非常優異之抗反射特性。
第1相位差層包含光彈性係數的絕對值宜為2×10
-11m
2/N以下、較宜為2.0×10
-13m
2/N~1.5×10
-11m
2/N、更宜為1.0×10
-12m
2/N~1.2×10
-11m
2/N之樹脂。光彈性係數的絕對值若在所述範圍內，加熱時產生收縮應力時便不易發生相位差變化。結果，可良好地防止所得影像顯示裝置的熱不均。
第1相位差層代表上係以樹脂薄膜的延伸薄膜構成。第1相位差層之厚度例如為10µm以上，宜為10µm~70µm，較宜為10µm~50µm，更宜為20µm~40µm。第1相位差層之厚度若在所述範圍內，便可良好地抑制加熱時之捲曲，且可良好地調整貼合時的捲曲。
第1相位差層可以可滿足上述特性之任意適當之樹脂薄膜構成。所述樹脂之代表例可列舉：聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。第1相位差層以顯示逆分散波長特性之樹脂薄膜構成時，可適宜使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱作聚碳酸酯系樹脂)。
只要可獲得本發明之效果，上述聚碳酸酯系樹脂便可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；及，源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；源自脂環式二甲醇之結構單元；以及/或是，源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；及，源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，可適宜用於第1相位差層之聚碳酸酯系樹脂及第1相位差層之形成方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特表2015-212817號公報、日本專利特表2015-212818號公報中，本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
第1相位差層亦可視目的包含有任意適當之添加劑。添加劑之具體例可舉紫外線吸收劑；調平劑；抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑等。在一實施形態中，第1相位差層包含紫外線吸收劑。紫外線吸收能力通常係與材料之厚度成比例變大。因此，藉由以樹脂薄膜構成且於具有預定厚度之第1相位差層添加紫外線吸收劑，可縮小添加濃度，結果可避免過度添加，從而可確保相溶性，而可防止析出之問題。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可按目的適當設定。
在一實施形態中，係使有機溶劑接觸第1相位差層之第2主面側表面，接著於該接觸面設置接著劑層，藉此可於第1相位差層之第2主面側形成相溶區域，該相溶區域係組成從第1相位差層側起往接著劑層側連續性變化之區域。藉由形成第1相位差層之構成成分與接著劑層之構成成分相溶的相溶區域，可提升第1相位差層與第2相位差層之接著性。另一方面，由嚴格抑制水分滲入第1相位差層(以結果而言為第1相位差層之膨潤)的觀點來看，宜不設置相溶區域。因此，相溶區域宜考慮到第1相位差層與第2相位差層之密著力、附相位差層之偏光板之用途或使用環境等，視需要來形成。關於相溶區域之形成方法的詳細內容係記載於日本專利特開2019-56820號公報中，本說明書即援用其記載作為參考。
A-4.第2相位差層
第2相位差層50代表上可為折射率特性展現nz＞nx=ny之關係的所謂正C板。藉由使用正C板作為第2相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。
第2相位差層之厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。即，第2相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。
具有nz＞nx=ny之折射率特性的第2相位差層可以任意適當之材料形成。第2相位差層宜由包含固定成垂面排列定向之液晶材料的薄膜構成。可進行垂面排列定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報之段落[0020]~[0028]中記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，第2相位差層之厚度宜為0.5μm~10µm，較宜為0.5μm~8µm，更宜為0.5μm~5µm。
A-5.黏著劑層
第1黏著劑層20及第2黏著劑層60(以下，有時將第1黏著劑層及第2黏著劑層統稱為黏著劑層)各自在110℃下之儲存彈性模數宜為0.01MPa以上，較宜為0.01MPa~1MPa，更宜為0.02MPa~0.5MPa。又，第1黏著劑層20及第2黏著劑層60各自在23℃下之儲存彈性模數宜為0.05MPa以上，較宜為0.05MPa~1MPa，更宜為0.07MPa~0.5MPa。藉由使用具有所述儲存彈性模數之黏著劑層，可抑制第1相位差層在高溫高濕下之熱收縮等，結果可更適宜獲得本發明效果。
構成黏著劑層之黏著劑代表上作為基底聚合物係含有(甲基)丙烯酸系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物或橡膠系聚合物，宜含有(甲基)丙烯酸系聚合物。使用(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物時，黏著劑層係由例如含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑形成。
A-5-1.(甲基)丙烯酸系聚合物
(甲基)丙烯酸系聚合物宜具有源自於側鏈具有碳數1~30烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯的結構單元。烷基可為直鏈狀，亦可具有支鏈。(甲基)丙烯酸烷基酯可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯((甲基)丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸正十三酯、及(甲基)丙烯酸正十四酯。又，亦可使用(甲基)丙烯酸正十二酯((甲基)丙烯酸月桂酯)等之於側鏈具有長鏈烷基(例如碳數6~30烷基)之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可使用1種或2種以上。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，(甲基)丙烯酸烷基酯之含有比率例如為50重量%以上，宜為60重量%以上，較宜為70重量%以上，更宜為80重量%以上。該含有比率的上限例如可為99.9重量%以下。
(甲基)丙烯酸系聚合物亦可具有源自(甲基)丙烯酸烷基酯之結構單元以外的結構單元。該結構單元係源自可與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之單體(共聚單體)。(甲基)丙烯酸系聚合物亦可具有1種或2種以上源自共聚單體之結構單元。
共聚單體之例可舉含芳香環單體。含芳香環單體亦可為含芳香環(甲基)丙烯酸系單體。含芳香環單體之具體例可舉：(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、氧化乙烯改質壬苯酚(甲基)丙烯酸酯、羥乙基化β-萘酚(甲基)丙烯酸酯、及聯苯(甲基)丙烯酸酯。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，含芳香環單體之含有比率例如為0重量%~50重量%，亦可為1重量%~30重量%、5重量%~25重量%、8重量%~20重量%。
可舉以下化學式(1)所示之(甲基)丙烯酸酯作為共聚單體之另一例。式(1)之R
1為烷基。烷基可為直鏈狀，亦可具有支鏈。R
1宜為直鏈狀烷基。R
1之例為甲基及乙基。式(1)之n為1~15之整數。
[化學式1]
式(1)所示之(甲基)丙烯酸酯之具體例可舉2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、及甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯。藉由使用式(1)之(甲基)丙烯酸酯，可在黏著劑層中摻混有抗靜電劑時以少摻混量實現表面電阻率小之黏著劑層。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，式(1)之(甲基)丙烯酸酯之含有比率例如為5重量%~95重量%，亦可為10重量%~90重量%、20重量%~80重量%、或25重量%~75重量%。
共聚單體亦可為選自含羧基單體、含胺基單體、含羥基單體及含醯胺基單體中之含極性基單體。根據具有極性基之基底聚合物，在摻混有抗靜電劑時可更適宜抑制抗靜電劑流出。含羧基單體之具體例可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、及巴豆酸。含胺基單體之具體例可舉N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、及N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯酸酯。含羥基單體之具體例可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、及(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、以及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯。含醯胺基單體之具體例可列舉：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、及巰乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、及N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；以及N-乙烯吡咯啶酮及N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基內醯胺系單體。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，上述含極性基單體之合計含有比率例如為15重量%以下，宜為0.1重量%~10重量%，較宜為0.1重量%~5重量%。將(甲基)丙烯酸系聚合物與抗靜電劑組合使用時，構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，上述含極性基單體之合計含有比率例如為0.1重量%以上，宜為0.5重量%~10重量%，較宜為0.5重量%~8重量%。
共聚單體亦可為多官能性單體。多官能性單體可列舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯(1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯)、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、及胺甲酸酯丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯；以及二乙烯苯。多官能丙烯酸酯宜可舉1,6-己二醇二丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，多官能性單體之含有比率宜為1重量%以下，較宜為0.9重量%以下，更宜為0.8重量%以下。該合計含有比率的下限例如為0.01重量%以上，亦可為0.015重量%以上或0.02重量%以上。(甲基)丙烯酸系聚合物亦可不含源自多官能性單體之結構單元。
其他共聚單體可列舉：(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯等含環氧基單體；乙烯基磺酸鈉等含磺酸基單體；含磷酸基單體；(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、及異丁烯等烯烴類、或二烯類；乙烯基烷基醚等乙烯基醚類；以及氯乙烯。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，上述其他共聚單體之合計含有比率例如為30重量%以下，宜為10重量%以下，亦可為0重量%。
(甲基)丙烯酸系聚合物可藉由周知的方法將上述1種或2種以上單體聚合而形成。亦可將單體與單體之部分聚合物(寡聚物)聚合。可藉由使用玻璃轉移溫度(Tg)高的單體(例如(甲基)丙烯酸甲酯、丙烯酸苯氧乙酯、丙烯酸苄酯等)及/或Tg高的寡聚物；及，組合所得(甲基)丙烯酸系聚合物與Tg高的添加劑(例如交聯劑)，來獲得高彈性之黏著劑層。聚合例如可藉由溶液聚合、乳化聚合、塊狀聚合、熱聚合、活性能量線聚合(例如UV聚合)來實施。由可形成光學透明性優異之黏著劑層之觀點來看，宜為溶液聚合或活性能量線聚合。
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)例如為100萬~280萬，由黏著劑層之耐久性及耐熱性之觀點來看，宜為120萬以上，較宜為140萬以上。重量平均分子量(Mw)可依GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定之值(聚苯乙烯換算)求出。
黏著劑中之(甲基)丙烯酸系聚合物之含有比率以固體成分比計，例如為50重量%以上，宜為60重量%以上，較宜為70重量%以上，更宜為80重量%以上。含有比率的上限例如可為99.9重量%以下，宜可為99.8重量%以下。
A-5-2.抗靜電劑
如上述，第1黏著劑層及第2黏著劑層中之至少一者包含抗靜電劑。含抗靜電劑之黏著劑層的表面電阻率宜為9.0×10
11Ω/□以下，較宜為1.0×10
8Ω/□~8.0×10
11Ω/□，更宜為5.0×10
8Ω/□~6.0×10
11Ω/□。
抗靜電劑可舉例如鹽等之離子性化合物、導電性聚合物等。抗靜電劑可僅單獨使用一種，亦可併用二種以上。
離子性化合物可例示在常溫(25℃)下為液體之離子液體。離子性化合物摻混於黏著劑層時，與基底聚合物(代表上為(甲基)丙烯酸系聚合物)之相溶性高，而可維持光學透明性。
構成離子性化合物之陽離子可舉金屬離子及鎓離子。金屬離子可舉鹼金屬離子及鹼土族金屬離子。鹼金屬離子例如為鋰離子、鈉離子及鉀離子，亦可為鋰離子。鹼土族金屬離子例如為鎂離子及鈣離子。
鎓離子可舉選自氮原子、磷原子及硫原子中之至少1個原子帶正電(+)之離子。鎓離子可為有機離子，此時可為環狀有機化合物之離子，亦可為鏈狀有機化合物之離子。環狀有機化合物可為芳香族，亦可為脂肪族等非芳香族。鎓離子之具體例可列舉：N-乙基-N,N-二甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨離子、N-乙基-N,N-二甲基-N-丙基銨離子、N-甲基-N,N,N-三辛基銨離子、N,N,N-三甲基-N-丙基銨離子、四丁基銨離子、四甲基銨離子、四己基銨離子、及N-甲基-N,N,N-三丁基銨離子等四級銨離子；經碳數4~16烷基取代之N-烷基吡啶鎓等吡啶鎓離子；經碳數2~10烷基(例如乙基)取代之1,3-烷基甲基咪唑鎓離子、經碳數2~10烷基取代之1,2-二甲基-3-烷基咪唑鎓等咪唑鎓離子；鏻鹽離子、吡咯啶鎓離子、嗒𠯤鎓離子、嘧啶鎓離子、吡𠯤鎓離子、吡唑鎓離子、噻唑鎓離子、㗁唑鎓離子、三唑鎓離子、以及哌啶鎓離子。
構成離子性化合物之陰離子之具體例可列舉：氟離子、氯離子、溴離子、碘離子、過氯酸根離子(ClO
4 -)、氫氧根離子(OH
-)、碳酸根離子(CO
3 2-)、硝酸根離子(NO
3 -)、硫酸根離子(SO
4 -)、甲基苯磺酸根離子(CH
3(C
6H
4)SO
3 -)、對甲苯磺酸根離子(CH
3C
6H
4SO
3 -)、羧基苯基磺酸根離子(COOH(C
6H
4)SO
3 -)、三氟甲磺酸根離子(CF
3SO
2 -)、苯甲酸根離子(C
6H
5COO
-)、乙酸根離子(CH
3COO
-)、三氟乙酸根離子(CF
3COO
-)、四氟硼酸根離子(BF
4 -)、四苯基硼酸根離子(B(C
6H
5)
4 -)、六氟磷酸根離子(PF
6 -)、參(五氟乙基)三氟磷酸根離子(P(C
2F
5)
3F
3 -)、雙(氟磺醯基)醯亞胺(N(SO
2F)
2 -)、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(N(SO
2CF
3)
2 -)、雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺(N(SOC
2F
5)
2 -)、雙(五氟乙烷羰基)醯亞胺(N(COC
2F
5)
2 -)、雙(全氟丁磺醯基)醯亞胺(N(SO
2C
4F
9)
2 -)、雙(全氟丁烷羰基)醯亞胺(N(COC
4F
9)
2 -)、參(三氟甲磺醯基)甲基(C(SO
2CF
3)
3 -)、及參(三氟甲烷羰基)甲基(C(SO
2CF
3)
3 -)。
離子性化合物亦可包含有含硫原子之陰離子。含硫原子之陰離子之具體例可舉雙(氟磺醯基)醯亞胺(N(SO
2F)
2 -)及雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(N(SO
2CF
3)
2 -)。
離子性化合物亦可為有機鹽。又，離子性化合物可為鋰鹽，亦可為分別包含鋰離子及有機離子作為陽離子及陰離子之鋰有機鹽。
離子性化合物之具體例為：1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙氟磺醯基醯亞胺、鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(LiTFSi)、乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(EMP-TFSi)及三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(TBMA-TFSi)。
離子性化合物亦可不含磷原子。含磷原子之離子性化合物傾向於容易腐蝕觸控面板(更具體而言為觸控面板之導電層)。
導電性聚合物可舉聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯、聚喹㗁啉、聚乙炔、聚(伸苯伸乙烯)、聚萘、及該等之衍生物。導電性聚合物宜為聚噻吩、聚苯胺及該等之衍生物，較宜為聚噻吩衍生物。
導電性聚合物亦可具有親水性官能基。親水性官能基可舉磺酸基、胺基、醯胺基、亞胺基、羥基、巰基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基、及該等之鹽(例如四級銨鹽基)。
由導電性及化學穩定性之觀點來看，導電性聚合物宜為聚(3,4-二取代噻吩)。聚(3,4-二取代噻吩)可舉聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)及聚(3,4-二烷氧噻吩)，宜為聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)。聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)例如具有以下式(2)所示之結構單元。
[化學式2]
式(2)之R
2例如為碳數1~4之伸烷基。伸烷基可為直鏈狀，亦可具有支鏈。伸烷基例如為：亞甲基、1,2-伸乙基、1,3-伸丙基、1,4-伸丁基、1-甲-1,2-伸乙基、1-乙-1,2-伸乙基、1-甲-1,3-伸丙基、及2-甲-1,3-伸丙基，宜為亞甲基、1,2-伸乙基、1,3-伸丙基，較宜為1,2-伸乙基。導電性聚合物亦可為聚(3,4-伸乙二氧噻吩)(PEDOT)。
摻雜物可使用多價陰離子。導電性聚合物為聚噻吩(或其衍生物)時，多價陰離子可與聚噻吩(或其衍生物)形成離子對。多價陰離子無特別限定，例如為聚丙烯酸、聚馬來酸、聚甲基丙烯酸等羧酸聚合物類；聚苯乙烯磺酸、聚乙烯磺酸、聚異戊二烯磺酸等磺酸聚合物類。多價陰離子亦可為乙烯基羧酸類或乙烯磺酸類與其他單體類之共聚物。其他單體類可舉(甲基)丙烯酸酯化合物；苯乙烯、乙烯基萘等芳香族乙烯基化合物。多價陰離子宜為聚苯乙烯磺酸(PSS)。屬與摻雜物之複合物的導電性聚合物例如可為聚(3,4-伸乙二氧噻吩)與聚苯乙烯磺酸之複合物(PEDOT/PSS)。
黏著劑層中之抗靜電劑之摻混量代表上為5phr(per hundred resin)以下。具體上，相對於基底聚合物100重量份，黏著劑層中之抗靜電劑之摻混量代表上為5重量份以下，宜為0.05重量份~4重量份，較宜為0.1重量份~3重量份。抗靜電劑之摻混量若大於5phr，抗靜電劑恐會流出至影像顯示面板而造成不良影響。又，黏著劑層會塑化，而有抑制第1相位差層之熱收縮或水分吸收造成之膨潤的效果降低之虞。在一實施形態中，相對於基底聚合物100重量份，黏著劑層中之含磷原子之抗靜電劑之摻混量宜為2.5重量份以下，較宜為2重量份以下，更宜為1.5重量份以下，例如可為0重量份。
A-5-3.添加劑
黏著劑亦可更含有抗靜電劑以外之添加劑。添加劑之具體例可列舉：矽烷耦合劑、交聯劑、抗氧化劑、著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。又，亦可在可控制的範圍內採用添加還原劑的氧化還原系。添加劑之種類、數量、組合、含量等可視目的設定成任意適當之值。
交聯劑可舉有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑之例為異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑及亞胺系交聯劑。交聯劑宜為過氧化物系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑。交聯劑可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。例如，可併用過氧化物系交聯劑與異氰酸酯系交聯劑。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，黏著劑中之交聯劑之摻混量例如為0.01重量份~10重量份，宜為0.1重量份~5重量份，較宜為0.1重量份~3重量份。
矽烷耦合劑代表上可舉含官能基之矽烷耦合劑。官能基可列舉例如：環氧基、巰基、胺基、異氰酸酯基、三聚異氰酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、乙醯乙醯基、脲基、硫脲基、(甲基)丙烯醯基、雜環基、酸酐基及該等之組合。矽烷耦合劑可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，黏著劑中之矽烷耦合劑之摻混量例如為0.01重量份~5重量份，宜為0.01重量份~3重量份，較宜為0.01重量份~1重量份。
第1黏著劑層之厚度代表上為1µm~25µm，宜為2µm~20µm，較宜為3µm~18µm。
第2黏著劑層之厚度代表上為5µm~50µm，宜為7µm~40µm，較宜為10µm~30µm。
A-6.接著劑層
構成接著劑層40之接著劑可採用任意適當之接著劑。接著劑代表上可舉活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑可舉例如紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑。又，由硬化機制之觀點來看，活性能量線硬化型接著劑可舉例如自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型、自由基硬化型與陽離子硬化型之混合型。代表上，可使用自由基硬化型紫外線硬化型接著劑。其係因廣用性優異、及容易調整特性之故。
接著劑代表上含有硬化成分與光聚合引發劑。硬化成分代表上可舉具有(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯醯胺基等官能基之單體及/或寡聚物。硬化成分之具體例可列舉：三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二㗁烷二醇二丙烯酸酯、EO改質二甘油四丙烯酸酯、γ-丁內酯丙烯酸酯、丙烯醯基嗎福林、不飽和脂肪酸羥烷基酯改質ε-己內酯、N-甲基吡咯啶酮、羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺。該等硬化成分可單獨使用，亦可併用2種以上。
接著劑亦可包含具有雜環之硬化成分。具有雜環的硬化成分可舉例如丙烯醯基嗎福林、γ-丁內酯丙烯酸酯、不飽和脂肪酸羥烷基酯改質ε-己內酯、N-甲基吡咯啶酮。
接著劑除上述硬化成分外，亦可更含有寡聚物成分。藉由使用寡聚物成分，可降低硬化前之接著劑的黏度，提高操作性。寡聚物成分之代表例可舉(甲基)丙烯酸系寡聚物。構成(甲基)丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類、(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降𦯉烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-2-降莰基甲酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等)、含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)。(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類之具體例可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲-2-硝丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、正十八基(甲基)丙烯酸酯。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用，亦可併用2種以上。
光聚合引發劑可以業界周知之摻混量使用業界周知之光聚合引發劑，故省略詳細說明。
接著劑層之拉伸彈性模數可藉由調整硬化成分及光聚合引發劑之種類、摻混量等來調整成所期望之值。
接著劑層之厚度(硬化後)代表上為0.1µm~5µm，宜為0.2µm~4µm，較宜為0.3µm~3µm。
A-7.硬塗層
硬塗層70代表上可藉由將含硬化成分與光聚合引發劑之硬塗層形成用組成物塗佈於第1相位差層之第2主面側表面並使其硬化來形成。
硬化成分之代表例可舉活性能量線硬化型(甲基)丙烯酸酯。活性能量線硬化型(甲基)丙烯酸酯可舉例如紫外線硬化型(甲基)丙烯酸酯、電子束硬化型(甲基)丙烯酸酯。宜為紫外線硬化型(甲基)丙烯酸酯。其係因可以簡單的加工操作有效率地形成硬塗層之故。
紫外線硬化型(甲基)丙烯酸酯包含紫外線硬化型之單體、寡聚物、聚合物等。紫外線硬化型(甲基)丙烯酸酯包含較佳具有2個以上、更佳具有3~6個紫外線聚合官能基之單體成分及寡聚物成分。紫外線硬化型(甲基)丙烯酸酯之具體例可舉胺甲酸酯丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基化甘油三丙烯酸酯、聚醚胺甲酸酯二丙烯酸酯。除該等外，亦可使用A-6項中記載之活性能量線硬化型接著劑之硬化成分。硬化成分可單獨使用，亦可併用2種以上。硬化方式可為自由基聚合方式，亦可為陽離子聚合方式。在一實施形態中，亦可使用於(甲基)丙烯酸酯中摻混有二氧化矽粒子或聚矽倍半氧烷化合物等之有機無機混合材料。硬塗層之構成材料及形成方法係記載於例如日本專利特開2011-237789號公報、日本專利特開2020-064236號公報、日本專利特開2010-152331號公報等中。本說明書中即援用該等公報之記載作為參考。
光聚合引發劑可以業界周知之摻混量使用業界周知之光聚合引發劑，故省略詳細說明。
硬塗層之拉伸彈性模數可藉由調整硬化成分及光聚合引發劑之種類、摻混量等來調整成所期望之值。
硬塗層之厚度例如為0.1µm~5µm，宜為0.2µm~4µm，較宜為0.3µm~3µm。
A-8.鄰接層
如上述，鄰接層係第1相位差層30之在第2主面100b側以直接接觸之方式鄰接之層。在一實施形態中，鄰接層係為了貼合第1相位差層30與第2相位差層50而設置之接著劑層40。在另一實施形態中，鄰接層係形成於第1相位差層30之第2主面100b側表面的硬塗層。
鄰接層在110℃下之拉伸彈性模數為1MPa以上，代表上為10MPa以上，宜為20MPa以上，較宜為20MPa~100GPa，更宜為20MPa~10GPa。藉由使具有所述拉伸彈性模數之層密著於第1相位差層來設置，可有助於抑制第1相位差層在高溫高濕下之熱收縮等。結果，可抑制於第1相位差層中產生裂痕，還可抑制碘或抗靜電劑流出至影像顯示面板。
鄰接層在23℃下之拉伸彈性模數宜為10MPa以上，較宜為20MPa以上，更宜為20MPa~100GPa。藉由使具有所述拉伸彈性模數之層密著於第1相位差層來設置，可有助於抑制第1相位差層在高溫高濕下之熱收縮等。結果，可抑制於第1相位差層中產生裂痕，還可抑制碘或抗靜電劑流出至影像顯示面板。
A-9.剝離襯材
剝離襯材可舉例如具有可撓性之塑膠薄膜。該塑膠薄膜可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、及聚酯薄膜。剝離襯材之厚度例如為3µm以上，又例如為200µm以下。剝離襯材之表面經塗覆有剝離劑。剝離劑之具體例可舉聚矽氧系剝離劑、氟系剝離劑、長鏈烷基丙烯酸酯系剝離劑。
B.附相位差層之偏光板之製造方法
A項中記載之附相位差層之偏光板可藉由包含以下步驟之製造方法來製造：(步驟1)透過第1黏著劑層貼合偏光板與第1相位差層；(步驟2)透過接著劑層貼合第1相位差層與第2相位差層；及，(步驟3)於第2相位差層之與設置第1相位差層側相反之側設置第2黏著劑層。步驟1~3之順序無特別限定，例如可透過接著劑層貼合第1相位差層與第2相位差層而製作出積層體(步驟2)，並將該積層體透過第1黏著劑層貼合於偏光板(步驟1)，再於藉此所得之附相位差層之偏光板上積層第2黏著劑層(步驟3)。接著劑層可藉由將接著劑塗敷於任一被黏著體再將另一被黏著體積層於塗佈層上後進行活性能量線照射來形成。照射條件可視接著劑之組成、目的等適當設定。
C.影像顯示裝置
A項中記載之附相位差層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明實施形態亦包含具有所述附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。影像顯示裝置之代表例可舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。本發明實施形態之影像顯示裝置例如如圖3所示，具備：液晶面板、有機EL面板等之影像顯示面板200、及配置於影像顯示面板200之視辨側的A項中記載之附相位差層之偏光板100。此時，附相位差層之偏光板100係以使第2主面100b位在影像顯示面板200側之方式透過第2黏著劑層貼合於影像顯示面板200。又，影像顯示面板200代表上於其表面及/或內部包含顯示元件之驅動用或觸控感測器用等之電極(包含Al層與Ti層之積層結構的導電層等)。在一實施形態中，將影像顯示裝置在110℃85%RH條件下保持36小時後，電極之電阻率變化(保持後之電阻率/保持前之電阻率)為2以下，宜為1.8以下，較宜為1.5以下，更宜為1.2以下。
實施例
以下，藉由實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。
＜厚度＞
10µm以下的厚度係使用掃描型電子顯微鏡(日本電子公司製，製品名「JSM-7100F」)進行測定。大於10μm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製，產品名「KC-351C」)進行測定。
＜拉伸彈性模數＞
根據JIS K 7127，在23℃或110℃下進行拉伸試驗，並從藉此所得之應力-應變曲線之線性回歸算出拉伸彈性模數。拉伸試驗係將形成成厚度成為1mm之接著劑層裁切成寬度10mm之帶狀來調製出測定用試樣，並將該測定用試樣之兩端各20mm夾於萬能拉伸試驗機之夾頭上，在夾頭間距離60mm、拉伸速度150mm/分鐘之條件下進行。
＜儲存彈性模數＞
積層複數層黏著劑層做成厚度約1.5mm者並將其作為測定用試樣，使用Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System (ARES)」，在以下條件下進行動態黏彈性測定，並從測定結果讀取出23℃或110℃下之儲存彈性模數。
(測定條件)
變形模式：扭轉
測定頻率：1Hz
升溫速度：5℃/分鐘
測定溫度：-50~150℃之範圍
形狀：平行板8.0mmφ
＜表面電阻率＞
關於使用於製作附相位差層之偏光板的第1黏著劑層及第2黏著劑層中含抗靜電劑之黏著劑層，係在[剝離襯材/黏著劑層]之積層體之狀態下於室內(溫度25±5℃，相對濕度50±10%)放置1分鐘後，使用高電阻電阻率計(三菱化學Analytech製，Hiresta MCP-HT450)評估其表面電阻率。此外，關於比較例2，係針對第1黏著劑層及第2黏著劑層兩者以與上述相同方式進行表面電阻率之測定。表面電阻率的測定上限為1×10
14Ω/□。
[製造例1：偏光板]
熱塑性樹脂基材係使用長條狀且Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)，並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。
在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，並將所得者溶於水中而調製出PVA水溶液(塗佈液)。
於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。
將所得積層體於130℃之烘箱內往縱向(長邊方向)進行單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。
接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。
接著，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中一邊調整濃度一邊使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光件之單體透射率(Ts)成為所期望之值(染色處理)。
接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%)中，一邊在周速相異之輥間往縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。
之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。
之後，一邊在保持於約90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持於約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。
依上述方式於樹脂基材上形成了厚度約5µm之偏光件。
於所得偏光件之表面(與樹脂基材為相反側的面)透過紫外線硬化型接著劑貼合HC-TAC薄膜(第1保護層)作為保護層。具體而言，是塗敷成硬化型接著劑之厚度為1.0μm，並使用輥軋機進行貼合。之後，從保護層側照射UV光線使接著劑硬化。此外，HC-TAC薄膜係於三醋酸纖維素(TAC)薄膜(厚度25μm)上形成有硬塗(HC)層(厚度7μm)之薄膜，並且係以使TAC薄膜位於偏光件側之方式進行貼合。
將甲基丙烯酸甲酯(MMA，富士薄膜和光純藥公司製，商品名「甲基丙烯酸甲酯單體」)97.0份、下述式(1e)所示之共聚單體3.0份、聚合引發劑(富士薄膜和光純藥公司製，商品名「2,2´-偶氮雙(異丁腈)」)0.2份溶解於甲苯200份中。接著，於氮氣環境下一邊加熱至70℃一邊進行聚合反應5.5小時，而獲得含硼之丙烯酸系樹脂溶液(固體成分濃度：33%)。所得之含硼之丙烯酸系聚合物之Tg為110℃，Mw為80000。將所得之含硼之丙烯酸系樹脂20份溶解於甲基乙基酮80份中，而獲得樹脂溶液(20%)。
從上述偏光件剝離樹脂基材並使用線棒於剝離面塗佈樹脂溶液後，在60℃下將塗佈膜乾燥5分鐘，而形成以樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物之形式構成之第2保護層(厚度400nm)。藉此，獲得具有[附HC層之TAC薄膜(第1保護層)/偏光件/含硼之丙烯酸系樹脂之固化層(第2保護層)]之構成的偏光板。
[化學式3]
[製造例2：第1相位差層]
於由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立型反應器構成之批次聚合裝置中，饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60重量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21重量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28重量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77重量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10
-2重量份(6.78×10
-5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以熱介質加溫，並於內溫達100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將與聚合反應一同副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量之單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。然後，進行聚合至達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並在對所生成之聚酯碳酸酯系樹脂100重量份熔融捏合0.7質量份之PMMA後擠出至水中，裁切束狀物而獲得丸粒。
將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度105μm之長條狀樹脂薄膜。一邊將所得長條狀樹脂薄膜調整成可獲得預定之相位差，一邊於138℃下往寬度方向延伸2.8倍，而獲得厚度38μm的相位差薄膜。所得相位差薄膜之Re(550)為144nm，Re(450)/Re(550)為0.86。
[製造例3：第2相位差層]
將下述化學式(3)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，權宜上以嵌段聚合物表示：重量平均分子量5000)所示之側鏈型液晶聚合物20重量份、展現向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製：商品名PaliocolorLC242)80重量份及光聚合引發劑(Ciba Specialty Chemicals公司製：商品名IRGACURE 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份中，而調製出液晶塗敷液。接著，利用棒塗機將該塗敷液塗敷於已施行垂直定向處理之PET基材後，以80℃加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶定向。對該液晶層照射紫外線使液晶層硬化，藉此於基材上形成展現nz＞nx=ny之折射率特性的液晶定向固化層(厚度3µm)。
[化學式4]
[製造例4A：接著劑]
將5重量份之2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製，商品名「KBM-303」)、35重量份之丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司製)、24重量份之新戊二醇二丙烯酸酯(共榮社化學公司製，商品名「LIGHT ACRYLATE NP-A」)、10重量份之異三聚氰酸EO改質三丙烯酸酯(東亞合成公司製，商品名「ARONIX M-315」)、5重量份之新戊四醇三丙烯酸酯(新中村化學公司製，商品名「A-TMM-3LM-N」)、15重量份之聚胺甲酸酯系丙烯酸寡聚物(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名「UV3000B」)、3重量份之光聚合引發劑(IGM Resins公司製，商品名「Omnirad 184」)、2重量份之光聚合引發劑(San-Apro公司製，商品名「CPI-100P」)及1重量份之硼酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation公司製)混合並攪拌3小時，藉此獲得活性能量線硬化型接著劑4A。
[製造例4B：接著劑]
將20重量份之丙烯醯基嗎福林(興人公司製，商品名：ACMO)、50重量份之不飽和脂肪酸羥烷基酯改質ε-己內酯(DAICEL公司製，商品名：Placcel FA1DDM)、10重量份之PEG400#二丙烯酸酯(共榮社化學公司製，商品名：LIGHT ACRYLATE 9EG-A)、15重量份之丙烯酸丁酯與甲基丙烯酸酯之34/66莫耳比共聚寡聚物(東亞合成公司製，商品名：ARUFON UP-1190)、3重量份之2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎福林基丙-1-酮(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one)(光聚合引發劑)(IGM Resins公司製，商品名「Omnirad 907」)、及2重量份之二乙基9-氧硫□(光聚合引發劑)(日本化藥公司製，商品名：KAYACURE DETX-S)混合並攪拌3小時，藉此獲得活性能量線硬化型接著劑4B。
[製造例5A-5H：黏著劑層]
1.(甲基)丙烯酸系聚合物之合成
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器之四口燒瓶中，以使成為表1記載之組成之方式饋入單體成分，接著加入聚合引發劑，一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣，將燒瓶內進行氮置換後，將燒瓶內之液溫保持在55℃附近進行7小時聚合反應。接著，於所得反應液中添加乙酸乙酯調整成固體成分濃度12重量%，藉此獲得(甲基)丙烯酸系聚合物5A~5H之溶液。
[表1]
2.黏著劑之調製
以使相對於(甲基)丙烯酸系聚合物之固體成分100重量份之摻混量成為表2所示之值之方式，於(甲基)丙烯酸系聚合物5A~5H之溶液中混合交聯劑以及視需要之矽烷耦合劑及/或抗靜電劑，而獲得黏著劑5A~5H。表中，LiTFSi為鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，EMP-TFSi為乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，TBMA-TFSi為三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，MOPy-PF6為甲基辛基吡啶鎓六氟磷酸鹽。
[表2]
3.黏著劑層之形成
對作為剝離面經施行聚矽氧處理之剝離襯材的厚度38µm之PET薄膜(Mitsubishi Polyester Film公司製，MRF38)的剝離面塗佈黏著劑5A~5H後，以設定成預定溫度之空氣循環式恆溫烘箱使其乾燥，而形成具有預定厚度之黏著劑層5A~5H。
[實施例1]
將製造例5A所得之黏著劑層5A(厚度5µm)從剝離襯材轉印至製造例1所得之偏光板之第2保護層表面，並透過該黏著劑層5A將製造例2所得之第1相位差層貼合於偏光板而獲得積層體。此時，第1相位差層的慢軸係配置成相對於偏光件的吸收軸呈45°之角度。
使用MCD塗佈機(富士機械公司製)，將製造例4A所得之活性能量線硬化型接著劑以使硬化後之厚度成為1µm之方式塗敷於製造例3所得之第2相位差層之單面，並以輥軋機貼合於上述積層體之第1相位差層表面。然後，藉由活性能量線照射裝置從第2相位差層側以累積光量成為4500mJ/cm
2之方式照射紫外線使接著劑硬化後，在70℃下進行3分鐘熱風乾燥。
將製造例5E所得之黏著劑層5E(厚度20µm)從剝離襯材轉印至以上所得之積層體的第2相位差層表面，而獲得具有[偏光板/第1黏著劑層(黏著劑層5A)/第1相位差層/接著劑層(接著劑4A之硬化層)/第2相位差層/第2黏著劑層(黏著劑層5E)]之構成的附相位差層之偏光板。
[實施例2~4、比較例1~5]
在實施例2~4及比較例3~5中，將第1黏著劑層及第2黏著劑層變更成如表3所示，除此之外依與實施例1相同方式而獲得附相位差層之偏光板。
又，在比較例1及2中，將第1黏著劑層、接著劑層及第2黏著劑層變更成如表3所示，及，將第1相位差層貼合於偏光板後，於第1相位差層表面塗佈製造例4B所示之接著劑然後貼合第2相位差層，除此之外依與實施例1相同方式而獲得附相位差層之偏光板。從所得附相位差層之偏光板製作超薄切片，進行TEM觀察後，得到於第1相位差層之接著劑層側形成有約100nm厚度之相溶區域的結果。相溶區域可藉由製造例4B所示接著劑中列示之丙烯酸單體、尤其是丙烯醯基嗎福林(興人公司製，商品名：ACMO)形成。
針對實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板評估下述特性。
1.濕熱試驗中之感測器電極的電阻率
製作出假想觸控面板之觸控感測器電極的電阻率評估用試驗物。具體而言係準備附Al蒸鍍層之玻璃板，該附Al蒸鍍層之玻璃板係將PET樹脂薄膜(厚度50µm)之單面設有鋁蒸鍍層(厚度0.05µm)的Al蒸鍍薄膜(TORAY公司製，製品編號「DMS-X42G」)裁切成長度70mm、寬度150mm，並將其PET樹脂薄膜面透過丙烯酸系黏著劑層貼合於玻璃板，從而具有[鋁蒸鍍層/樹脂薄膜/玻璃板]之構成。將實施例及比較例製出之附相位差層之偏光板裁切成長度70mm、寬度150mm，使長度方向及寬度方向之端部對齊後透過第2黏著劑層積層於附Al蒸鍍層之玻璃板的鋁蒸鍍層面。藉此，獲得電阻率評估用試驗物。將該試驗物放置於溫度110℃及相對濕度85%之加熱加濕氣體環境下36小時。接著，使試驗物返回至溫度25℃及相對濕度50%之氣體環境，並使用Napson公司製EC-80(非接觸式電阻測定器)測定鋁蒸鍍層之表面電阻率(Ω/□)。將濕熱試驗後之表面電阻率除以試驗前之表面電阻率並將所得之值作為「感測器電極電阻率變化」顯示於表3。
2.濕熱試驗中之裂痕
將實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板裁切成寬度7cm×長度15cm之尺寸。將裁切出之附相位差層之偏光板透過第2黏著劑層貼合於玻璃板，並於偏光板側透過丙烯酸系黏著劑貼合玻璃板，而製作出具有[玻璃板/附相位差層之偏光板/玻璃板]之構成的被測試樣。
將被測試樣供於在溫度110℃及相對濕度85%之氣體環境下靜置36小時之濕熱試驗。
以顯微鏡觀察濕熱試驗後之被測試樣，並按以下基準進行評估。將結果列示於表3。
○：未產生沿厚度方向貫通第1相位差層之裂痕
×：有產生沿厚度方向貫通第1相位差層之裂痕
[表3]
如表3所示，實施例之附相位差層之偏光板可維持實用上足夠的抗靜電功能，且可抑制在高溫高濕下對影像顯示面板之不良影響。另一方面，比較例1及比較例2之附相位差層之偏光板在濕熱試驗後之感測器電極電阻率變化大。吾等推測其原因在於，從作為第1相位差層之鄰接層的接著劑層在23℃下之拉伸彈性模數為2.6×10
6Pa明顯可知，其在110℃下之拉伸彈性模數小於1MPa，結果無法充分抑制第1相位差層中之裂痕，而發生碘或抗靜電劑之流出。又，比較例3~5之附相位差層之偏光板在濕熱試驗後之感測器電極電阻率變化大於2，吾等推測此係黏著劑層中所含之抗靜電劑造成電極層(Al層)腐蝕之故。
產業上之可利用性
本發明實施形態之積層體例如可用於製造用在影像顯示裝置之附相位差層之偏光板。影像顯示裝置代表上可舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置。
10:偏光板
12:偏光件
14a:第1保護層
14b:第2保護層
20:第1黏著劑層
30:第1相位差層
40:接著劑層
50:第2相位差層
60:第2黏著劑層
70:硬塗層
100,100A,100B:附相位差層之偏光板
100a:第1主面
100b:第2主面
200:影像顯示面板
300:影像顯示裝置
圖1係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。
圖2係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略剖面圖。
圖3係說明本發明一實施形態之附相位差層之偏光板之使用形態的概略圖。
10:偏光板
12:偏光件
14a:第1保護層
14b:第2保護層
20:第1黏著劑層
30:第1相位差層
40:接著劑層
50:第2相位差層
60:第2黏著劑層
100A:附相位差層之偏光板
100a:第1主面
100b:第2主面
Claims (10)
- 一種附相位差層之偏光板，具有相互對向之第1主面及第2主面；且 從該第1主面起朝該第2主面依序包含：含偏光件之偏光板、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層及第2黏著劑層；並且 該附相位差層之偏光板包含含抗靜電劑之黏著劑層； 該附相位差層之偏光板中，該第1相位差層之在該第2主面側鄰接之鄰接層在110℃下之拉伸彈性模數為1MPa以上； 該含抗靜電劑之黏著劑層中之該抗靜電劑的添加量為5phr以下； 將該附相位差層之偏光板貼合於積層體，該積層體包含厚度50µm之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜與設於其一面且厚度0.05µm之鋁層，以該附相位差層之偏光板透過該第2黏著劑層貼合於該積層體之該鋁層表面之狀態在110℃85%RH之條件下保持36小時後，該鋁層之電阻率變化為2以下。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述第1相位差層為樹脂薄膜之延伸薄膜； 前述第1相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1； 前述第1相位差層的慢軸與前述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述第1相位差層之厚度為10µm以上。
- 如請求項2之附相位差層之偏光板，其中前述第2相位差層展現nz＞nx=ny之折射率特性。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述第1黏著劑層及/或前述第2黏著劑層之表面電阻率為9×10 11Ω/□以下。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述抗靜電劑包含離子性化合物，該離子性化合物含雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺作為陰離子。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述鄰接層係前述接著劑層。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板，其中前述鄰接層係直接形成於前述第1相位差層之前述第2主面側表面的硬塗層。
- 一種影像顯示裝置，具有影像顯示面板與配置於該影像顯示面板之視辨側的如請求項1至8中任一項之附相位差層之偏光板。
- 如請求項9之影像顯示裝置，其中前述影像顯示面板包含電極；且 該影像顯示裝置在110℃85%RH條件下保持36小時後，該電極之電阻率變化為2以下。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-089130 | 2022-05-31 | ||
| JP2022089130 | 2022-05-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202411695A true TW202411695A (zh) | 2024-03-16 |
Family
ID=89024776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112119709A TW202411695A (zh) | 2022-05-31 | 2023-05-26 | 附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TW202411695A (zh) |
| WO (1) | WO2023234100A1 (zh) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5729233B2 (ja) * | 2011-09-20 | 2015-06-03 | コニカミノルタ株式会社 | セルロースアシレートフィルム、並びにこれを用いた偏光板および液晶表示装置 |
| JP2015129882A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 |
| CN106489086B (zh) * | 2014-06-18 | 2021-02-02 | 住友化学株式会社 | 偏振片、带有粘合剂的偏振板和图像显示装置 |
| CN110637069B (zh) * | 2017-08-07 | 2021-06-29 | 日东电工株式会社 | 粘合剂层、带粘合剂层的光学膜、光学层叠体及图像显示装置 |
| JP2019091023A (ja) * | 2017-11-10 | 2019-06-13 | 住友化学株式会社 | 円偏光板 |
| WO2020111232A1 (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | 日東電工株式会社 | 粘着剤層付き偏光フィルム及び画像表示装置 |
| JP2022074622A (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-18 | 日東電工株式会社 | 偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
-
2023
- 2023-05-22 WO PCT/JP2023/018935 patent/WO2023234100A1/ja unknown
- 2023-05-26 TW TW112119709A patent/TW202411695A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2023234100A1 (ja) | 2023-12-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105440989B (zh) | 具有压敏粘合剂层的偏光板 | |
| TWI725311B (zh) | 經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜 | |
| US20140300965A1 (en) | Image display device unit having adhesive layer and image display device that uses said unit | |
| KR20100018463A (ko) | 편광판, 광학 부재 및 액정 표시 장치 | |
| TW202206282A (zh) | 附相位差層及黏著劑層之偏光板以及使用其之有機電致發光顯示裝置 | |
| CN107407769B (zh) | 偏光板及包含其的光学显示器件 | |
| TW202128918A (zh) | 附有相位差層及黏著劑層之偏光板及使用其之有機電致發光顯示裝置 | |
| TW202411695A (zh) | 附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 | |
| TWI823030B (zh) | 偏光板及附相位差層之偏光板以及使用該等之影像顯示裝置 | |
| TW202116567A (zh) | 附易接著層之相位差薄膜、附相位差層之偏光板、及附易接著層之相位差薄膜之製造方法 | |
| JP2023176699A (ja) | 位相差層付偏光板および画像表示装置 | |
| JP7461860B2 (ja) | 偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
| KR20160007272A (ko) | 초박형 편광판 및 이를 구비하는 액정표시장치 | |
| TWI843516B (zh) | 附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 | |
| TW202417902A (zh) | 積層體及圖像顯示裝置 | |
| TWI823029B (zh) | 偏光板及附相位差層之偏光板以及使用該等之影像顯示裝置 | |
| TWI823031B (zh) | 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 | |
| TWI850634B (zh) | 附黏著劑層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 | |
| WO2024122315A1 (ja) | 画像表示パネル用セット、画像表示パネル及び画像表示装置 | |
| WO2023037721A1 (ja) | 光学積層体およびそれを用いた画像表示装置 | |
| KR102126055B1 (ko) | 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 | |
| TW202317729A (zh) | 光學積層體及影像顯示裝置 | |
| TW202424610A (zh) | 光學積層體及影像顯示裝置 | |
| TW202429136A (zh) | 光學層疊體和圖像顯示設備 | |
| JP2024063648A (ja) | 位相差層付偏光板および位相差層付偏光板を有する画像表示装置 |